DE60222037T2

DE60222037T2 - Flachdruckplattenträger, Verfahren zu seiner Herstellung und Flachdruckplattenvorläufer

Info

Publication number: DE60222037T2
Application number: DE60222037T
Authority: DE
Inventors: Nishino Haibara-gun Atsuo; Masuda Haibara-gun Yositaka; Sawada Haibara-gun Hirokazu; Uesugi Haibara-gun Akio
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2001-02-20
Filing date: 2002-02-19
Publication date: 2007-12-13
Anticipated expiration: 2022-02-20
Also published as: CN1273649C; EP1232878A3; DE60222037D1; US6780305B2; CN1373048A; EP1232878B1; ATE371541T1; EP1232878A2; US20020160308A1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen eines Trägers für Flachdruckplatten, einen Träger für Flachdruckplatten sowie einen Flachdruckplatten-Vorläufer. Insbesondere betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Erzeugen eines Trägers für Flachdruckplatten, bei dem Aluminiumplatten, die aus Barren aus wieder verwerteten Aluminium, wie jene aus verschrottetem und recylcletem Aluminium, erzeugt worden sind, für das Material verwendet werden können; sie betrifft einen Träger für Flachdruckplatten, der in Übereinstimmung mit dem Verfahren erzeugt wird; und sie betrifft einen Flachdruckplatten-Vorläufer, der durch Ausbilden einer wärmeempfindlichen oder lichtempfindlichen Plattenschicht auf der Oberfläche des Trägers für Flachdruckplatten erzeugt wird.
Im Allgemeinen wird ein Flachdruckplatten-Vorläufer in einem Prozess erzeugt, der das Aufrauen der Oberfläche einer Platte aus reinem Aluminium oder einer Platte aus einer Aluminiumlegierung (im Folgenden wird diese als „Aluminiumplatte" bezeichnet), das anschließende Unterziehen der Oberfläche davon einer anodischen Oxidation, um dadurch einen Oxidfilm darauf auszubilden, um einen Träger für eine Flachdruckplatte zu erzeugen, und das Aufbringen eines lichtempfindlichen oder eines wärmeempfindlichen Harzes auf der Oberfläche des Oxidfilms, der auf dem Träger der Flachdruckplatte ausgebildet ist, um dadurch eine lichtempfindliche oder wärmeempfindliche Schicht darauf auszubilden, umfasst. Die Schicht aus lichtempfindlichem Harz und die Schicht aus wärmeempfindlichem Harz, die optional mit einer Grundierungsschicht und einer Schutzschicht kombiniert werden, sind beispielsweise aus den Dokumenten JP-A 62333/2000, 101651/1984 und 149491/1985 bekannt.
Bilder, die Buchstaben und Bilder enthalten, werden auf die Plattenschicht des Flachdruckplatten-Vorläufers gedruckt, und sie werden darauf entwickelt, um eine Flachdruckplatte fertigzustellen.
Das Dokument EP 1 188 580 beschreibt einen Prozess zum Erzeugen eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte, wobei der Prozess beispielsweise die Schritte des: (a) mechanischen Oberflächen-Aufrauens; (b) des Ätzens; (c) des Nachbeizens; (d) des e lektrochemischen Oberflächen-Aufrauens; (e) des alkalischen Ätzens; (f) des Säureätzens und (g) des Unterziehens der Oberfläche einer anodischen Oxidation umfasst.
Darüber hinaus beschreibt das Dokument EP 0 816 118 einen Aluminiumträger für eine lithographische Druckplatte, bei dem die entsprechende Aluminiumplatte beispielsweise mit Hilfe der folgenden Behandlungsschritte bearbeitet wird: (a) mechanisches Aufrauen; (b) Ätzen; (c) Nachbeizen; (d) Oberflächen-Aufrauen, so beispielsweise durch einen elektrochemischen Oberflächen-Aufrau-Prozess; (e) Ätzen; (f) Nachbeizen und (g) Unterziehen der Oberfläche einer anodischen Oxidation.
Darüber hinaus offenbart das Dokument EP 0 960 743 einen Aluminiumträger für eine lithographische Druckplatte und ein Verfahren zum Erzeugen davon, wobei das Verfahren zum Erzeugen beispielsweise die folgenden Schritte umfasst: (a) mechanisches Granulieren der Oberfläche (der entsprechenden Aluminiumplatte); (b) Ätzen; (c) Nachbeizen; (d) elektrochemisches Oberflächen-Vorgranulieren; (e) Ätzen; (f) Nachbeizen; (g) elektrochemisches Granulieren der Oberfläche; (h) Ätzen; (i) Nachbeizen, (j) Polieren und (k) Unterziehen der Oberfläche einer anodischen Oxidation.
Zum Aufrauen der Oberfläche wird die Oberfläche einer Aluminiumplatte beispielsweise mechanisch mit einer Bürstenwalze, die Nylonborsten oder Ähnliches aufweist, oder mit einer Aufrauwalze, deren Oberfläche mit einem Schleifleinen versehen ist, bearbeitet (mechanische Oberflächen-Aufrauung); oder chemisch in einer Alkalilösung (Ätzen); oder elektrolytisch in einem säurehaltigen Elektrolyt (Elektrolytlösung) durch Anlegen eines Wechselstroms an die Aluminiumplatte, die darin als eine Elektrode fungiert (Wechselstromelektrolyse), bearbeitet.
Um eine ausgeglichene Farb-Wasserbalance beim Drucken sicherzustellen, wird im Allgemeinen die Oberfläche zuerst mechanisch aufgeraut, anschließend geätzt und elektrolytisch aufgeraut.
Nach dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens und dem Schritt des chemischen Oberflächen-Aufrauens der Aluminiumplatte kann die Aluminiumplatte optional nachgebeizt werden, indem sie in eine Säurelösung getaucht wird, um auf diese Weise Oxide, Hydroxide und intermetallische Verbindungen der Elemente zu entfernen, die sich als Ergebnis des Prozesses des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens und des chemischen Oberflächen-Aufrauens möglicherweise auf der Aluminiumplatte abgelagert haben.
Barren aus wieder verwertetem Aluminium, wie beispielsweise jene aus verschrottetem und recyceltem Aluminium, sind kostengünstiger als neu hergestellte, und der Energieverbrauch zum Zeitpunkt der Herstellung davon ist relativ gering. Aus diesem Grund ist das Erzeugen von Flachdruckplatten-Vorläufern aus Aluminiumplatten, die aus solchen Barren aus wieder verwertetem Aluminium hergestellt werden, unter dem Gesichtspunkt der Kosten und des Energiesparens und selbst hinsichtlich der Ressourcenschonung vorzuziehen.
Im Gegensatz zu den neu hergestellten Komponenten wird jedoch eine angemessene Kontrolle der Legierungskomponenten für die Barren aus wieder verwertetem Aluminium kaum durchgeführt (das heißt, ihr Reinheitsgehalt an Aluminium beträgt nicht mehr als 97 Gew.-%), und die Aluminiumbarren enthalten verschiedene Verunreinigungen.
Dementsprechend lagern sich verschiedene intermetallische Verbindungen und Ablagerungen von den Verunreinigungen außen auf der Oberfläche der aus solchen Barren aus wieder verwerteten Aluminium erzeugten Aluminiumplatten ab, und die Flachdruckplatten-Vorläufer, die aus diesem Aluminiumplatten gebildet werden, weisen oftmals Mängel in dem darauf ausgebildeten Oxidfilm, der durch anodische Oxidation ausgebildet wird, auf. Die Mängel verursachen oftmals schwerwiegende Tintenflecke, bei denen Tinte fleckenweise auf der gesamten Oberfläche von Drucksachen haftet.
Ein weiteres Problem bei Aluminiumplatten, die eine Vielzahl von Verunreinigungen, wie jene, die durch Barren aus wieder verwertetem Aluminium erzeugt werden, enthalten, besteht darin, dass ihre Oberflächen in einem elektrochemischen Prozess nur schwer gleichmäßig aufzurauen sind, und dass, wenn sie elektrochemisch bearbeitet werden, ihre Oberflächen ungleichmäßig aufgeraut werden. Wenn dementsprechend solche Aluminiumplatten bei der Herstellung von Druckplatten verwendet werden, und wenn die auf diese Weise hergestellten Druckplatten in Druckeinrichtungen verwendet werden, neigt die Tinte tendenziell dazu, an dem Bezug der Offsetwalze zu haften und diese zu beflecken (Beflecken des Bezuges), wobei diese Flecke anschließend auf die Drucksachen übertragen werden und dort Flecken verursachen.
In dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens in dem Prozess zum Erzeugen der Träger für Flachdruckplatten wird ein Wechselstrom oder ein Gleichstrom verwendet. Insbesondere in dem Fall, in dem ein Wechselstrom in dem Schritt verwendet wird, variiert das Profil der aufgerauten Oberfläche der Träger oftmals in einem hohen Maß, je nach der Wellenform des angelegten Stromes, und wenn die Zusammensetzung des Aluminiummaterials für die Träger variiert wird, erweist es sich oftmals als schwierig, das beabsichtigte Profil der aufgerauten Oberfläche der Träger in einem vorgegebenen Bereich zu halten. Dies stellt ein Problem hinsichtlich des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschrittes dar, und um dieses zu lösen, muss die Wellenform des angelegten Stromes strikt gesteuert werden.
Darüber hinaus variieren, wenn Flachdruckplatten-Vorläufer aus recyceltem Aluminium, verschrottetem Aluminium und aus Barren aus wieder verwertetem Aluminium, wie die voranstehend erwähnten, erzeugt werden, die mechanischen Eigenschaften der Flachdruckplatten-Vorläufer in hohem Maße. Wenn solche Flachdruckplatten-Vorläufer, die durch die Verwendung einer automatischen fotomechanischen Vorrichtung zu Druckplatten entwickelt und bearbeitet werden, belichtet werden, und wenn die resultierende Flachdruckplatte in einem Flachdruck-Offsetdrucker auf den Bezug aufgesetzt wird, kann die Flachdruckplatte verschiedene Probleme aufweisen. Genauer gesagt, bewirkt die in einen Drucker eingesetzte Druckplatte oftmals eine Papiereinzugs-Störung, wie beispielsweise ein Verfangen oder Zusammenziehen des Papiers, und darüber hinaus hebt sie sich von dem Bezug ab und kann nicht richtig auf ihm angelegt werden.
Aluminiumbahnen werden durch Warmwalzen einer Gussbramme aus Aluminium und dem anschließenden Kaltwalzen, um ihr eine vorgegebene Dicke zu verleihen, erzeugt. Im Allgemeinen werden sie in der Form von Rollen gelagert und ausgeliefert, nachdem sie auf Rollenkerne aufgewickelt wurden.
Im Allgemeinen werden Aluminiumbarren so zu Bahnen gewalzt, dass der mittlere Teil der resultierenden Bahnen dicker als die Randbereiche davon sind. Dies wird deshalb so gemacht, um zu verhindern, dass die Kanten der in Rollen aufgewickelten Aluminiumbahn verformt werden, wenn sie grob miteinander in Kontakt gebracht werden.
Wenn Aluminiumbarren jedoch so zu Bahnen ausgewalzt werden, dass der mittlere Bereich der Bahnen dicker ist als die Randbereiche davon, sind die Kanten mehr als der mittlere Bereich verlängert, und als Ergebnis davon sind die Kanten oftmals gewellt, oder sie hängen wellenartig durch (die wellenartigen Verformung an den Kantenbereichen wird im Folgenden als „Kantenverformung" bezeichnet). Wenn die Kantenverformung groß ist, führt diese zu einer Zuführstörung bei der Verarbeitung der Aluminiumbahnen zu Flachdruckplatten-Vorläufern. Zusätzlich dazu führt die Kantenverformung zu einer Papiertransportstörung, wenn die resultierenden Flachdruckplatten-Vorläufer zu Druckplatten weiter verarbeitet werden, und sie führt zu Fehlern bei dem Anliegen an dem Bezug, wenn die Druckplatte in einen Offset-Drucker eingesetzt wird.
In dem Fall, in dem zur Herstellung der Gussbrammen neu hergestellte Barren, Mutterlegierungen und Reinmetallzusatzstoffe verwenndet werden, können für die erhaltenen Brammen im Wesentlichen gleichbleibend dieselben Walzeigenschaften erzielt werden. Dementsprechend kann die Kantenverformung innerhalb eines vorgegebenen Bereiches relativ leicht kontrolliert werden, indem die Walzbedingungen reguliert werden.
Dennoch weisen recyceltes Aluminium, verschrottetes Aluminium und Barren aus wieder verwertetem Aluminium im Allgemeinen eine geringe Aluminiumreinheit auf, und eine angemessene Kontrolle der Legierungskomponenten davon wurde kaum durchgeführt, wie dies voranstehend beschrieben worden ist. Dementsprechend variieren die Walzeigenschaften der Gussbrammen, die aus diesem recycelten Aluminium, verschrotteten Aluminium und aus den Barren aus wieder verwertetem Aluminium hergestellt werden, erheblich. Wenn solche Gussbrammen zu Aluminiumbahnen ausgewalzt werden, ist es im Ergebnis oftmals schwierig, durch einfaches Regulieren der Walzbedingungen ihre Kantenverformung so zu kontrollieren, dass sie in einen vorgegebenen Bereich fällt.
Aus diesen Gründen wurde hierin bereits erwähnt, dass praktikable Flachdruckplatten aus Barren aus wieder verwertetem Aluminium nicht hergestellt werden können.
Um die voranstehend beschriebenen Probleme zu lösen, besteht die Hauptaufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein Verfahren zum Erzeugen eines Trägers für Flachdruckplatten bereitzustellen, bei dem ein Träger (für Flachdruckplatten), der Flachdruckplatten einer guten Druckbeständigkeit, die keine schwerwiegenden Tintenflecke auf Drucksachen und kein Beflecken des Bezuges verursachen, ergibt, selbst dann erzeugt werden kann, wenn Aluminiumplatten verwendet werden, die aus Barren aus wieder verwertetem Aluminium, welche einer Legierungskontrolle unterzogen wurden, hergestellt werden; einen Träger für Flachdruckplatten, der in dem Verfahren erhalten wird, bereitzustellen; und einen Flachdruckplatten-Vorläufer bereitzustellen, der den Träger umfasst.
Der erste Aspekt der Erfindung besteht in einem Verfahren zum Erzeugen eines Trägers für Flachdruckplatten, das einen Schritt des Aufrauens wenigstens einer Oberfläche einer Aluminiumplatte umfasst, wobei der Schritt des Aufrauens der Oberfläche einschließt: (a) einen elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt des elektrolytischen Vor-Aufrauens der Oberfläche der Aluminiumplatte in einer wässrigen Salzsäurelösung, die Salzsäure als den wesentlichen Salzsäurebestandteil enthält, (b) einen Schritt des alkalischen Ätzens, bei dem die Aluminiumplatte, deren Oberfläche in dem vorangehenden elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt elektrolytisch voraufgeraut worden ist, mit einer Alkalilösung in Kontakt gebracht wird, um die Aluminiumplatte zu ätzen, (c ) einen Nachbeizschritt der in dem vorangehenden Schritt des alkalischen Ätzens geätzten Aluminiumplatte mit Schwefelsäure, in dem die Aluminiumplatte mit einer wässrigen Schwefelsäurelösung, die eine Schwefelsäurekonzentration von 250 bis 500 g/Liter und eine Aluminiumionenkonzentration von 1 bis 15 g/Liter aufweist und eine Flüssigkeitstemperatur hat, die zwischen 60 und 90°C fällt, über einen Kontaktzeitraum in Kontakt gebracht wird, der zwischen 1 und 180 Sekunden fällt, und (d) einen Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens, bei dem die in dem vorangehenden Nachbeizschritt nachgebeizte Aluminiumplatte in einer wässrigen Salpeterlösung bearbeitet wird, wobei ein Wechselstrom daran angelegt wird.
In dem Nachbeizschritt dieses Aspektes wird die Aluminiumplatte mit einer Schwefelsäure bearbeitet, die eine vorgegebene Aluminiumkonzentration aufweist, um dadurch die intermetallischen Verbindungen und eine einfache Substanz Si zu entfernen, die auf der Oberfläche der Aluminiumplatte vorhanden sind, und zu bewirken, dass eine un gleichmäßige elektrolytische Oberflächenbehandlung durchgeführt wird, um honigwabenartige Vertiefungen in der aufgerauten Oberfläche auszubilden. Die honigwabenartigen Vertiefungen, auf die sich hierin bezogen wird, sollen beabsichtigterweise anzeigen, dass in der aufgerauten Oberfläche ausgebildete Mikroporen eng aneinander angrenzen, um der aufgerauten Oberfläche ein honigwabenartiges äußeres Erscheinungsbild zu verleihen.
Dementsprechend werden, selbst in dem Fall, in dem Aluminiumplatten, die aus Barren aus wieder verwertetem Aluminium, welche einen relativ hohen Siliziumanteil und Mangananteil aufweisen, die intermetallische Verbindungen bilden, hergestellt werden, und eine einfache Substanz Si in dem Verfahren verwendet werden, die Oberflächen der Aluminiumplatten in dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt, der sich an den Nachbeizschritt mit Schwefelsäure anschließt, in einem guten Maße gleichmäßig bearbeitet, und es werden honigwabenartige Vertiefungen in ihren Oberflächen ausgebildet. Dementsprechend weist der in dem Verfahren erzeugte Träger günstige Eigenschaften für Flachdruckplatten auf.
Ehe sie in dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens bearbeitet wird, wird die Oberfläche der Aluminiumplatte in dem elektrolytischen Vor-Aufrauschritt ihrer Verarbeitung in einer wässrigen Salzsäurelösung elektrolytisch voraufgeraut. Dementsprechend wird der in dem Verfahren erzeugte Träger für Flachdruckplatten gleichmäßig bearbeitet und weist keine Schlieren in seiner Oberfläche auf.
In Übereinstimmung mit dem zweiten Aspekt der Erfindung schließt der Oberflächen-Aufrauschritt einen Ätzschritt vor dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauens ein, bei dem die Aluminiumplatte mit einer Alkalilösung in Kontakt gebracht wird, um die Platte zu ätzen (wobei im Folgenden der Ätzschritt als „der Ätzschritt vor der Pre-Elektrolyse" bezeichnet wird).
Bei dem vorliegenden Aspekt wird der elektrolytische Oberflächen-Voraufrauschritt nach dem Ätzschritt vor der Pre-Elektrolyse durchgeführt. In dem Ätzschritt vor der Pre-Elektrolyse wird die Oberfläche der Aluminiumplatte in einer Alkalilösung aufgelöst, und, insbesondere wird zuerst der Bereich in der Lösung aufgelöst, der Ätzhügel aufweist, die weit aus dem um sie herum liegenden Bereich auf der Oberfläche der Aluminiumplatte hervorstehen. Dementsprechend werden, selbst in dem Fall, in dem die Oberfläche der Aluminiumplatte große Ätzhügel, Vertiefungen und andere Mängel aufweist, solche Erhebungen/Vertiefungen in dem Ätzschritt vor dem elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt gut geglättet.
In Übereinstimmung mit dem vorliegenden Aspekt ist es erstrebenswert, dass die Aluminiumplatte, nachdem sie geätzt worden ist, jedoch bevor sie einer Pre-Elektrolyse unterzogen wird, in einer wässrigen Säurelösung nachgebeizt wird, so dass die Oxide, Hydroxide und intermetallischen Verbindungen der Verunreinigungselemente, die sich auf der geätzten Oberfläche der Aluminiumplatte gebildet haben, durch die Nachbeizbehandlung entfernt werden können.
In Übereinstimmung mit dem dritten Aspekt der Erfindung schließt der Oberflächen-Aufrauschritt einen mechanischen Oberflächen-Aufrauschritt des mechanischen Aufrauens von wenigstens einer Oberfläche der Aluminiumplatte vor dem elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt ein.
In Übereinstimmung mit dem vorliegenden Aspekt erzeugt die mechanische Oberflächen-Aufraubehandlung in dem Schritt gleichmäßige und ungerichtete Körner in der aufgerauten Oberfläche der Aluminiumplatte. Damit weist demzufolge die Oberfläche der in dem Oberflächen-Aufrauschritt aufgerauten Aluminiumplatte ein gutes Wasserrückhaltevermögen auf. Dementsprechend gewährleistet der Träger für Flachdruckplatten, der in Übereinstimmung mit dem Herstellungsverfahren erhalten wird, eine gute Farb-Wasserbalance von Flachdruckplatten.
In Übereinstimmung mit dem vierten Aspekt der Erfindung schließt der Oberflächen-Aufrauschritt ein: einen Ätzschritt des Ätzens der Aluminiumplatte, deren Oberfläche in dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt aufgeraut worden ist, mit einer Alkalilösung (wobei der Ätzschritt im Folgenden als „der Ätzschritt nach der Elektrolyse" bezeichnet wird); und einen abschließenden Nachbeizschritt des Nachbeizens der Aluminiumplatte, die in dem Ätzschritt nach der Elektrolyse geätzt worden ist, in dem die Aluminiumplatte mit einer wässrigen Schwefelsäurelösung in Kontakt gebracht wird.
In dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt wird die Aluminiumplatte einer Elektrolyse durch Anlegen eines Wechselstroms an dieselbe unterzogen. Dabei werden dementsprechend abwechselnd eine Minusspannung und eine Plusspannung in periodischen Zyklen an die Aluminiumplatte angelegt. Währenddessen die Aluminiumplatte eine Minusspannung empfangen hat, durchläuft sie eine anodische Reaktion, und ihre Oberfläche wird dadurch so aufgelöst, dass in ihr honigwabenartige Vertiefungen ausgebildet werden. Im Gegensatz dazu durchläuft die Aluminiumplatte, währenddessen sie eine Plusspannung empfangen hat, eine kathodische Reaktion, wodurch ein Aluminiumhydroxidfilm darauf ausgebildet wird.
Der Aluminiumhydroxidfilm, der durch die kathodische Reaktion auf der Oberfläche der Aluminiumplatte ausgebildet wird, wird aufgelöst und in dem Ätzschritt nach der Elektrolyse, bei dem die Aluminiumplatte mit einer Alkalilösung bearbeitet wird, entfernt.
Der Belag, der sich auf der Oberfläche der Aluminiumplatte in dem Ätzschritt nach der Elektrolyse ausgebildet hat, wird in dem abschließenden Nachbeizschritt entfernt.
Dementsprechend nimmt die Aluminiumplatte, deren Oberfläche in dem Oberflächen-Aufrauschritt der vorliegenden Erfindung aufgeraut worden ist, einen anodischen Oxidfilm gut darauf auf. Mit anderen Worten bedeutet dies, dass in der Aluminiumplatte der vorliegenden Erfindung durch anodische Oxidation ein anodischer Oxidfilm gleichmäßig auf der Aluminiumplatte ausgebildet werden kann.
In Übereinstimmung mit dem fünften Aspekt der vorliegenden Erfindung wird die Aluminiumplatte in dem Ätzschritt nach der Elektrolyse geätzt, so dass 0,01 bis 5 g/m² der Oberfläche der Aluminiumplatte aufgelöst werden.
In Übereinstimmung mit dem vorliegenden Aspekt wird der Ätzschritt nach der Elektrolyse so gesteuert, dass die feinen Ätzhügel und Vertiefungen der Oberfläche der Aluminiumplatte, die in dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt ausgebildet werden, möglicherweise auf eine geeignete Weise nach dem Schritt verbleiben. Es kann ein Flachdruckplatten-Vorläufer, der mit einer geringeren Wahrscheinlichkeit ein Beflecken des Bezuges oder schwerwiegende Tintenflecken auf Drucksachen verursacht, aus dem Träger für Flachdruckplatten, der mit dem vorliegenden Aspekt erzielt wird, erzeugt werden.
In Übereinstimmung mit dem sechsten Aspekt der Erfindung wird die Aluminiumplatte in dem Ätzschritt vor dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt geätzt, wobei 1 bis 15 g/m² der Aluminiumplatte aufgelöst werden.
Um einen Flachdruckplatten-Vorläufer zu erzeugen, wird eine Plattenschicht auf der aufgerauten Oberfläche des Trägers, der in dem Herstellungsprozess in Übereinstimmung mit dem vorliegenden Aspekt erzielt wurde, ausgebildet. Der Vorteil des auf diese Weise erzeugten Flachdruckplatten-Vorläufers besteht darin, dass er nicht das Problem von schwerwiegenden Tintenflecken auf Drucksachen und nicht das Problem des Befleckens des Bezuges aufweist.
In Übereinstimmung mit dem siebenten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird in dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt eine elektrolytische Wechselstromzelle mit einer Gegenelektrode darin zum Anlegen eines Wechselstroms an die Aluminiumplatte verwendet, und der daran anzulegende Wechselstrom wird so gesteuert, dass die Ruhezeit, über die kein Strom zwischen der Aluminiumplatte und der Gegenelektrode fließt, zwischen 0,001 und 0,6 Sekunden fällt, und die Impulsanstiegszeit Tp, während der die Strom-Wellenform ansteigt, fällt zwischen 0,01 und 0,3 Millisekunden.
In Übereinstimmung mit diesem Aspekt werden gleichmäßige honigwabenartige Vertiefungen auf der Oberfläche der Aluminiumplatte, die in dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt bearbeitet worden ist, ausgebildet. Das heißt, der Träger für die Flachdruckplatten, der in diesem Herstellungsprozess hergestellt wurde, weist extrem gute Eigenschaften auf, da seine Oberfläche gleichmäßig aufgeraut ist.
Wenn zwei oder mehr elektrolytische Zellen des Typs für die elektrolytische Behandlung verwendet werden, fließt in einer elektrolytischen Zelle kein Strom zwischen der Aluminiumplatte und der Gegenelektrode, und auch zwischen der Aluminiumplatte und der Gegenelektrode in einer beliebigen anderen der elektrolytischen Zellen, während die Aluminiumplatte, die in der einen elektrolytischen Zelle bearbeitet worden ist, aus ihr herausgenommen und anschließend in die nächste elektrolytische Zelle eingesetzt wird, die an die erste Zelle angrenzt. In diesem Fall ist es dementsprechend erstrebenswert, dass die elektrolytischen Zellen so angeordnet sind, dass die Zeit, über die die Aluminiumplatte zwischen der ersten Zelle und der nächsten Zelle vorhanden ist, und nicht in beide der Zellen eingesetzt wird, zwischen 0,001 und 0,6 Sekunden fällt.
In Übereinstimmung mit dem achten Aspekt der Erfindung schließt das Herstellungsverfahren einen Schritt der anodischen Oxidation ein, um einen Oxidfilm auf der Oberfläche der Aluminiumplatte auszubilden, deren Oberfläche in dem Oberflächen-Aufrauschritt aufgraut worden ist.
In Übereinstimmung mit diesem Aspekt wird die aufgraute Oberfläche der Aluminiumplatte mit einem harten und dichten Oxidfilm, der durch anodische Oxidation ausgebildet wird, beschichtet. Dementsprechend werden mit dem Träger, der in dem Herstellungsverfahren erzeugt wird, Flachdruckplatten einer hohen Beständigkeit erzielt.
In Übereinstimmung mit dem neunten Aspekt der Erfindung schließt der Schritt der anodischen Oxidation einen Schritt ein, in dem der auf der Oberfläche der Aluminiumplatte ausgebildete Oxidfilm hydrophil gemacht wird.
Der Vorteil des Trägers für Flachdrucklatten, der in Übereinstimmung mit dem Herstellungsverfahren dieses Aspektes erzeugt wird, besteht darin, dass die Haftung zwischen dem Oxidfilm und der darauf auszubildenden Plattenschicht gut ist.
In Übereinstimmung mir dem zehnten Aspekt der Erfindung schließt der Schritt der anodischen Oxidation einen Schritt des Versiegelns von Mikroporen ein, die in dem auf der Oberfläche der Aluminiumplatte ausgebildeten Oxidfilm vorhanden sind.
In dem Träger für Flachdruckplatten, der in Übereinstimmung mit dem Herstellungsverfahren diesen Aspektes erzeugt wird, können die Oberflächenmängel in dem Oxidfilm signifikant reduziert werden. Um einen Flachdruckplatten-Vorläufer zu erzeugen, wird eine Plattenschicht auf der aufgerauten Oberfläche des Trägers ausbildet, und der Vorteil des auf diese Weise erzeugten Flachdruckplatten-Vorläufers besteht darin, dass dieser nicht das Problem schwerwiegender Tintenflecken auf Drucksachen und nicht das Problem des Befleckens des Bezuges aufweist.
In Übereinstimmung mit dem elften Aspekt der Erfindung weist die Aluminiumplatte einen Aluminiumgehalt, der zwischen 95 und 99,4, Gew.-% fällt, und einen Siliziumanteil, der zwischen 0,15 und 1 % Gew.-% fällt, auf.
Im Allgemeinen enthalten Barren aus wieder verwertetem Aluminium viel Si oder viel Mn.
Das Verfahren zum Herstellen von Trägern für Flachdruckplatten in Übereinstimmung mit diesem Aspekt entspricht einer Ausführungsform, in der die Erfindung auf Aluminiumplatten angewendet wird, die aus Aluminiumbarren erzeugt werden, die einen hohen Gehalt an Si aufweisen.
In Übereinstimmung mit dem zwölften Aspekt der Erfindung weist die Aluminiumplatte einen Aluminiumgehalt, der zwischen 95 und 99,4 Gew.-% fällt, und einen Mangangehalt, der zwischen 1 und 1,5 Gew.-% fällt, auf.
Das Verfahren zum Herstellen von Trägern für Flachdruckplatten in Übereinstimmung mit diesem Aspekt entspricht einer Ausführungsform, in der die Erfindung auf Aluminiumplatten angewendet wird, die aus Barren aus wieder verwertetem Aluminium erzeugt werden, die einen hohen Gehalt an Mn aufweisen.
Der dreizehnte Aspekt der Erfindung ist der Träger für Flachdruckplatten, der in Übereinstimmung mit einem beliebigen der voranstehend erwähnten Aspekte 1 bis 12 erzeugt wird.
Auf der aufgerauten Oberfläche des Trägers in Übereinstimmung mit diesem Aspekt wird eine lichtempfindliche oder wärmeempfindliche Plattenschicht ausgebildet, um einen Flachdruckplatten-Vorläufer zu erzeugen. Der Vorläufer wird zu einer Druckplatte verarbeitet, und die resultierende Druckplatte weist weder das Problem der schwerwiegenden Tintenflecke auf Drucksachen noch das Problem des Befleckens des Bezugs auf.
Der vierzehnte Aspekt der Erfindung besteht in einem Flachdruckplatten-Vorläufer, der den Träger gemäß dem dreizehnten Aspekt und eine lichtempfindliche oder wärmeemp findliche Plattenschicht aufweist, die auf der aufgerauten Oberfläche des Trägers ausgebildet ist.
Der Vorteil des Flachdruckplatten-Vorläufers in Übereinstimmung mit diesem Aspekt besteht darin, dass damit eine Druckplatte realisiert wird, die keine schwerwiegenden Tintenflecke auf Drucksachen und kein Beflecken des Bezuges verursacht.
1 ist eine Querschnittsdarstellung, die ein Beispiel einer radialen elektrolytischen Wechselstromzelle illustriert, die in dem elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt und in dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt in Übereinstimmung mit der ersten Ausführungsform des Verfahrens zum Erzeugen eines Trägers für Flachdruckplatten verwendet werden soll.
2 ist eine grafische Darstellung, die ein Beispiel der trapezförmigen Wellenform eines Wechselstroms illustriert, der an die in 1 dargestellte radiale elektrolytische Wechselstromzelle angelegt werden soll.
3 ist eine erläuternde Darstellung, die ein Beispiel der Wechselstrom-Wellenform (Sinuswelle) für die dritte Ausführungsform illustriert.
4 ist eine erläuternde Darstellung, die ein Beispiel der Wechselstrom-Wellenform (Trapezwelle) für die dritte Ausführungsform illustriert.
5 ist eine grafische Darstellung, die ein Beispiel der Vorrichtung, die für die elektrolytische Oberflächen-Aufraubehandlung in Übereinstimmung mit der dritten Ausführungsform verwendet werden kann, illustriert.
Die 6A bis 6C sind Darstellungen, die ein Beispiel des Verfahrens in Übereinstimmung mit der vierten Ausführungsform zum Messen der Kantenverformungen einer Aluminiumplatte für Träger für Flachdruckplatten illustrieren, wobei der grobe Ablauf des Prozesses für die Messung dargestellt wird.
7 ist eine perspektivische Darstellung, die ein weiteres Beispiel des in 6 dargestellten Verfahrens zum Messen der Kantenverformungen einer Aluminiumplatte il lustriert, bei dem ein flaches Gewicht auf die Oberfläche der Probe platziert wird, die auf der Proben-Ablagefläche eines Richttisches liegt.
8 ist eine Seitendarstellung, die den Zustand der Probe auf dem Richttisch des in 6 dargestellten Verfahrens zum Messen der Kantenverformungen einer Aluminiumplatte illustriert, bei dem die Probe fest auf der Proben-Ablagefläche eines Richttisches aufliegt.
9 ist eine Querschnittsdarstellung, die ein Beispiel des Querschnittes einer Aluminiumbahn für Träger für Flachdruckplatten in Übereinstimmung mit der vierten Ausführungsform illustriert.
Die 10A bis 10C sind Darstellungen, die ein weiteres Beispiel des Verfahrens in Übereinstimmung mit der vierten Ausführungsform zum Messen der Kantenverformungen einer Aluminiumplatte für Träger für Flachdruckplatten illustriert, wobei der grobe Ablauf des Prozesses für die Messung dargestellt wird.
11 ist eine perspektivische Darstellung eines Beispiels des Verfahrens zum Messen der Kantenverformungen einer Aluminiumplatte für Träger für Flachdruckplatten, das in den 10A bis 10C dargestellt ist, bei dem ein Presszylinder dafür verwendet wird, das Muster mit dem Bezug in Kontakt zu bringen.
12 ist eine Darstellung, die den Seitenrand der Aluminiumplatte für Träger für Flachdruckplatten, die in dem in 11 dargestellte Prüfverfahren geprüft werden, illustriert, bei dem das Muster S um den Bezug 1 gewickelt wird, um es damit in Kontakt zu bringen.
13 ist eine schematische Darstellung, die die wichtigsten Bestandteile einer Plattentransportprüfvorrichtung illustriert, die in den Beispielen der vierten und der fünften Ausführungsform verwendet wird, in denen die Prüfvorrichtung zum Prüfen der Transportfähigkeit der Flachdruckplatten-Vorläufer durch die Verarbeitungsvorrichtungen dient.
Erste Ausführungsform:
1. Aluminiumplatte
Die Aluminiumplatte, die in dieser Ausführungsform zu bearbeiten ist, umfasst herkömmliche gewalzte Aluminiumplatten für Träger für Flachdruckplatten sowie Bleche oder Platten von Aluminiumbarren, die aus verschrottetem Aluminium, recyceltem Aluminium, und so weiter, erzeugt worden sind.
Die gewalzten Aluminiumplatten umfassen beispielsweise jene aus reinen Aluminiumsubstanzen, wie zum Beispiel JIS A-1050, JIS A-1100, und jene aus Aluminiumlegierungen, wie zum Beispiel JIS-A-3003, JIS A-3103 und JIS A-5005.
Wie dies bereits voranstehend hierin erwähnt worden ist, können die Barren aus wieder verwertetem Aluminium für die Verwendung hierin verschiedene Elemente von beispielsweise Fe, Si, Cu, Mg, Mn, Zn, Cr und Ti enthalten, sie weisen jedoch vorzugsweise einen Aluminiumgehalt auf, der zwischen 99,4 und 95 Gew.-% fällt. Einige Barren aus wieder verwertetem Aluminium sind auf dem Markt erhältlich, von denen eines JIS A-3104 ist.
Der Fe-Gehalt der Aluminiumplatte fällt vorzugsweise zwischen 0,3 und 1,0 Gew.-%. Selbst neu hergestellte Aluminiumplatten weisen einen Fe-Gehalt von ungefähr 0,1 bis 0,2 Gew.-% auf, und das Element Fe löst sich nur ein wenig in Aluminium auf, um darin eine feste Lösung zu bilden, wobei hauptsächlich intermetallische Verbindungen darin gebildet werden. Es wird die Aluminiumplatte, deren Fe-Gehalt innerhalb des vorgegebenen Bereiches liegt, bevorzugt, da beim Walzen dieser Platte kaum Risse entstehen und sie darüber hinaus kostengünstig ist. Es wird noch stärker bevorzugt, dass der Fe-Gehalt der Aluminiumplatte zwischen 0,5 und 1,0 Gew.-% fällt.
Der Si-Gehalt der Aluminiumplatte fällt vorzugsweise zwischen 0,15 und 1,0 Gew.-%. Si ist in großen Mengen in Schrottbestandteilen aus Aluminium entsprechend JIS 2000, 4000 und 6000 enthalten. Neu hergestellte Aluminiumbarren weisen einen Si-Gehalt von ungefähr 0,03 bis 0,1 Gew.-% auf. In diesen Aluminiumbarren löst sich Si in Aluminium auf, um darin eine feste Lösung zu bilden, oder es bildet darin intermetallische Verbindungen. Wenn Aluminiumbarren, die übermäßig viel Si enthalten, erhitzt werden, erzeugt die feste Lösung aus Si oftmals einen einfachen Substanzniederschlag von Si.
Es ist bekannt, dass sowohl die einfache Substanz Si als auch die intermetallischen Verbindungen aus FeSi, insofern irgendwelche davon in den Trägern der Flachdruckplatten enthalten sind, dahingehend negative Auswirkungen auf die Druckplatten haben, dass sie schwerwiegende Tintenflecken auf Drucksachen verursachen. Wenn jedoch der Si-Gehalt der Aluminiumplatte in einen vorgegebenen Bereich fällt, und selbst wenn sich die intermetallischen Verbindungen und die einfache Substanz Si in der Platte auf der Oberfläche der Platte ablagern, können die Ablagerungen durch die Behandlung mit Schwefelsäure (in einem Nachbeizschritt) vollständig entfernt werden, was im folgenden Verlauf beschrieben wird. Dementsprechend verursacht Si, das diese Bedingung erfüllt, nicht das Problem der schwerwiegenden Tintenflecke auf Drucksachen, und das Vorhandensein von Si in der Aluminiumplatte unter dieser Bedingung ist in Anbetracht der Produktionskosten der Platte eher wünschenswert. Noch stärker bevorzugt fällt der Si-Gehalt zwischen 0,3 und 1,0 Gew.-%.
Der Cu-Gehalt der Aluminiumplatte fällt vorzugsweise zwischen 0,1 und 1,0 Gew.-%. Cu ist in großen Mengen in Schrottbestandteilen aus Aluminium entsprechend JIS 2000 und 4000 enthalten, und es löst sich relativ leicht in Aluminium auf, um darin eine feste Lösung zu bilden. Wenn sein Gehalt in den vorgegebenen Bereich fällt, könnte Cu, das sich auf der Oberfläche der Aluminiumplatte abgelagert hat, mit Hilfe der Nachbeizbehandlung vollständig entfernt werden, und das Vorhandensein von Cu in der Aluminiumplatte unter dieser Bedingung ist in Anbetacht der Produktionskosten der Platte eher wünschenswert. Noch stärker bevorzugt fällt der Cu-Gehalt zwischen 0,3 und 1,0 Gew.-%.
Der Mg-Gehalt der Aluminiumplatte fällt vorzugsweise zwischen 0,1 und 1,5 Gew.-%. Mg ist in großen Mengen in Schrottbestandteilen aus Aluminium entsprechend JIS 2000, 3000, 5000 und 7000 enthalten. Insbesondere ist in Dosendeckelbestandteilen solcher Schrottbestandteile viel Mg enthalten. Dementsprechend ist Mg ein Hauptelement von unreinen Metallen in Aluminiumschrott. Mg löst sich darüber hinaus relativ leicht in Aluminium auf, um darin eine feste Lösung zu bilden, und es bildet intermetallische Verbindungen mit Si. Sofern jedoch der Mg-Gehalt in den vorgegebenen Bereich fällt, könnten die intermetallischen Verbindungen von Mg mit Hilfe der Nachbeizbehandlung ohne Weiteres entfernt werden. Selbst wenn dementsprechend die Aluminiumplatte für die Verwendung hierin durch Walzen von verschrottetem Aluminium oder wieder verwerte ten Aluminiumbarren hergestellt wird, erzeugt sie Flachdruckplatten-Vorläufer, die mit jenen vergleichbar sind, in denen der Träger aus einer Aluminiumplatte erzeugt ist, die aus neu hergestellten Bestandteilen hergestellt wird. Der Mg-Gehalt fällt stärker bevorzugt zwischen 0,5 und 1,5 Gew.-% und noch stärker bevorzugt zwischen 1,0 und 1,5 Gew.-%.
Der Mn-Gehalt der Aluminiumplatte fällt vorzugsweise zwischen 0,1 und 1,5 Gew.-%. Mn ist in großen Mengen in Schrottbestandteilen aus Aluminium entsprechend JIS 3000 enthalten. Insbesondere befindet sich viel Mn in Dosendeckelbestandteilen solcher Schrottbestandteile. Dementsprechend ist Mn ein Hauptelement von unreinen Metallen in Aluminiumschrott. Darüber hinaus löst sich Mn auch relativ leicht in Aluminium auf, um eine feste Lösung darin zu bilden, und es bildet darüber hinaus intermetallische Verbindungen mit AlFeSi. Der Mn-Gehalt, der in den vorgegebenen Bereich fällt, ist aus denselben Gründen wie denen, die für den Si-Gehalt und den Mg-Gehalt voranstehend beschrieben wurden, erstrebenswert. Der Mn-Gehalt fällt stärker bevorzugt zwischen 0,5 und 1,5 Gew.-% und noch stärker bevorzugt zwischen 1,0 und 1,5 Gew.-%..
Der Zn-Gehalt der Aluminiumplatte fällt vorzugsweise zwischen 0,1 und 0,5 Gew.-%. Zn ist in großen Mengen in Schrottbestandteilen aus Aluminium entsprechend JIS 7000 enthalten, und es löst sich ohne Weiteres in Aluminium auf, um darin eine feste Lösung zu bilden. Insofern sein Gehalt in den vorgegebenen Bereich fällt, könnte Zn mit Hilfe der Nachbeizbehandlung ohne Weiteres entfernt werden. Die Aluminiumplatte, die Zn in diesem Bereich enthält, wird für die Verwendung hierin bevorzugt, da sie kostengünstig ist und Flachdruckplatten-Vorläufer erzeugt, die vergleichbar mit jenen sind, in denen der Träger aus einer Aluminiumplatte hergestellt wird, die aus neu hergestellten Bestandteilen erzeugt wird. Der Zn-Gehalt fällt stärker bevorzugt zwischen 0,3 und 0,5 Gew.-%.
Der Cr-Gehalt der Aluminiumplatte fällt vorzugsweise zwischen 0,01 und 0,1 Gew.-%. Cr ist ein unreines Metall, das oftmals in Schrottbestandteilen aus Aluminium entsprechend JIS 5000, 6000 und 7000 enthalten ist, wobei sein Gehalt jedoch gering ist. Insofern sein Gehalt in den vorgegebenen Bereich fällt, könnte Cr mit Hilfe der Nachbeizbehandlung vollständig entfernt werden, und verursacht dementsprechend nicht das Problem der schwerwiegenden Tintenflecke auf Drucksachen. Zusätzlich dazu ist in Anbet racht der Kosten der Aluminiumplatten das Vorhandensein eines solchen Cr erstrebenswert. Der Cr-Gehalt fällt stärker bevorzugt zwischen 0,05 und 0,1 Gew.-%.
Der Ti-Gehalt der Aluminiumplatte fällt zwischen 0,03 und 0,5 Gew.-%. Gewöhnliche Aluminiumplatten weisen einen Ti-Gehalt von 0,01 bis 0,04 Gew.-% auf, wobei Ti als ein kristall-verfeinerndes Agens dient. Das unreine Metall Ti ist in relativ großen Mengen in Schrottbestandteilen aus Aluminium entsprechend JIS 5000, 6000 und 7000 enthalten. Der Ti-Gehalt, der in den vorgegebenen Bereich fällt, ist aus denselben Gründen wünschenswert, wie jenen, die voranstehend für den Cr-Gehalt und den Zn-Gehalt beschrieben worden sind. Der Ti-Gehalt fällt stärker bevorzugt zwischen 0,05 und 0,5 Gew.-%.
Die Aluminiumplatte für die Verwendung in dieser Ausführungsform wird beispielsweise durch angemessenes Auswalzen und Erhitzen von Gussbrammen, die durch Gießen von Aluminiumbestandteilen, Barren aus verschrottetem Aluminium oder wieder verwertetem Aluminium sowie denen, die voranstehend erwähnt wurden, hergestellt wurden, zu ausgewalzten Platten mit einer Dicke von 0,1 bis 0,7 mm, optional gefolgt durch Richten, erzeugt.
Um die Aluminiumplatte auf die voranstehend beschriebene Art und Weise zu erzeugen, ist beispielsweise ein beliebiges eines Stranggussverfahrens, eines modifizierten Stranggussverfahrens, bei dem wenigstens ein Schritt des Durchtränkens und des Ausglühens weggelassen wird, oder eines kontinuierlichen Gießverfahrens anwendbar.
Die Aluminiumplatte kann in Form einer Bahn aus langen Blechen oder Platten vorliegen, oder sie kann in einer beliebigen anderen Form aus ausgeschnittenen Folien vorliegen, von denen die Größe der Größe der Endprodukte, der Flachdruckplatten-Vorläufer entspricht. Die Dicke der Bahnen und der ausgeschnittenen Folien fällt im Allgemeinen zwischen ungefähr 0,1 mm und 1 mm und vorzugsweise zwischen 0,2 und 0,5 mm.
2. Oberflächen-Aufraubehandlung
Das Verfahren dieser Ausführungsform zum Erzeugen von Flachdruckplatten kann lediglich einen Oberflächen-Aufrauschritt des Aufrauens der Oberfläche der Aluminiumplatte umfassen, oder es kann zusätzlich zu dem Oberflächen-Aufrauschritt einen anodischen Oxidationsschritt des Oxidierens der aufgerauten Oberfläche der Aluminiumplatte umfassen.
Wie dies bereits voranstehend erwähnt worden ist, umfasst der Oberflächen-Aufrauschritt die folgenden Schritte:

(1) einen elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt (Schritt (1));
(2) einen Schritt des alkalischen Ätzens (Schritt (2));
(3) einen Nachbeizschritt mit einer Schwefelsäure (Schritt (3));
(4) einen elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt (Schritt (4)).

Vor den Schritten (1) bis (4) kann der Oberflächen-Aufrauschritt darüber hinaus einen beliebigen eines Ätzschrittes, vor der Oberflächen-Aufrau-Elektrolyse, bei dem die Aluminiumplatte zum Ätzen der Platte mit einer Alkalilösung in Kontakt gebracht wird und einen mechanischen Schritt des mechanischen Aufrauens der Oberfläche der Aluminiumplatte oder auch beide Schritte umfassen.
Nach den Schritten (1) bis (4) kann der Oberflächen-Aufrauschritt darüber hinaus auch einen Ätzschritt des weiteren Ätzens der elektrolytisch aufgerauten Aluminiumplatte mit einer Alkalilösung und einen abschließenden Nachbeizschritt des weiteren Nachbeizens der Aluminiumplatte nach dem zweiten Ätzprozess umfassen.
Der Oberflächen-Aufrauschritt kann den mechanischen Oberflächen-Aufrauschritt, den elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt vor der Elektrolyse, die Schritte (1) bis (4), den Ätzschritt nach der Elektrolyse und den abschließenden Nachbeizschritt umfassen.
Im Folgenden werden die Schritte (1) bis (4) für die Oberflächen-Aufraubehandlung ausführlich beschrieben.
(2-1) Elektrolytischer Oberflächen-Voraufrauschritt:
In dem elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt wird ein Aluminiumplatte, wie die, die voranstehend erwähnt wurde, in einer wässrigen Salzsäurelösung bearbeitet, um ihre Oberfläche mit einem daran angelegten Gleichstrom oder Wechselstrom aufzurauen.
Die Salzsäurekonzentration der Säurelösung fällt vorzugsweise zwischen 1 und 20 g/Liter. Die Säurelösung kann wenigstens ein Chlorid enthalten, das von Aluminiumchlorid, Natriumchlorid und Ammoniumchlorid ausgewählt wird. Der Chloridgehalt der Lösung fällt vorzugsweise zwischen 1 g/Liter und der Chloridsättigung/Liter. Zusätzlich dazu kann die Säurelösung des Weiteren beliebige von Fe-, Si- Cu-, Mg-, Mn-, Zn-, Cr- und Ti-Ionen enthalten.
Es wird am stärksten bevorzugt, dass die Säurelösung durch Hinzufügen von Aluminiumchlorid und Ammoniumchlorid zu der verdünnten Salzsäurelösung so hergestellt wird, dass die Säurekonzentration der Lösung zwischen 5 und 15 g/Liter fallen kann, dass die Aluminiumionenkonzentration davon zwischen 5 und 15 g/Liter fallen kann und dass die Ammoniumionenkonzentration davon zwischen 10 und 300 ppm fallen kann.
Die Temperatur der Lösung fällt vorzugsweise zwischen 10 und 95°C und am stärksten bevorzugt zwischen 30 und 50°C.
In dem elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt kann ein Gleichstrom an die Aluminiumplatte angelegt werden, es wird jedoch ein Wechselstrom gegenüber dem Gleichstrom bevorzugt. Der Wechselstrom kann eine beliebige Wellenform von Sinuswellen, Rechteckwellen, Dreieckswellen oder trapezförmigen Wellen aufweisen. Von den Genannten werden ein rechteckiger Wechselstrom mit einer rechteckigen Wellenform und ein trapezförmiger Wechselstrom mit einer trapezförmigen Wellenform bevorzugt. In dem elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt kann ein kombinierter Strom aus einem Wechselstrom und einem Gleichstrom an die Aluminiumplatte angelegt werden.
Die Frequenz des Wechselstroms fällt aus der Sicht der Kosten zum Konstruieren der Stromversorgungseinheit vorzugsweise zwischen 40 und 120 Hz.
Darüber hinaus wird auch bevorzugt, dass das Verhältnis der Elektrizitätsmenge des Wechselstroms QA, der an die als eine Anode fungierende Aluminiumplatte angelegt wird, zu der Elektrizitätsmenge QC des Wechselstroms, der an die als eine Kathode fungierende Aluminiumplatte angelegt wird, also das Verhältnis QC/QA, zwischen 0,9 und 1 fällt, da die Aluminiumplatte so bearbeitet wird, dass sie gleichmäßige honigwabenartige Vertiefungen darauf ausgebildet hat. Es wird noch stärker bevorzugt, dass das Verhältnis QC/QA zwischen 0,95 und 0,99 fällt. In dem Fall, in dem die elektrolytische Oberflächen-Aufraubehandlung in einer elektrolytischen Wechselstromzelle mit Hilfselektroden darin zum Aufteilen des an die Hauptelektrode angelegten Anodenstroms durchgeführt wird, kann das Verhältnis QC/QA so gesteuert werden, dass es in den vorgegebenen Bereich fällt, indem der Anodenstrom so gesteuert wird, dass er beispielsweise in Richtung der Hilfselektroden aufgeteilt wird, wie dies in den Dokumenten JP-A 43500/1985 und 52098/1989 beschrieben ist.
Es wird am stärksten bevorzugt, dass die Wechselstromlast in der elektrolytischen Oberflächen-Aufraubehandlung bei 0,5 liegt, da unter dieser Bedingung die Aluminiumplatte gleichmäßig aufgeraut werden kann und da so die Stromversorgungseinheit auf einfache Weise konstruiert werden kann. Die Wechselstromlast, auf die in dieser Ausführungsform verwiesen wird, wird durch ta/T dargestellt, wobei T die Wechselstromperiode und ta die Zeit für die anodische Reaktion der Aluminiumplatte (anodische Reaktionszeit) ist.
Durch ihre kathodische Reaktion nimmt die Oberfläche der Aluminiumplatte einen Oxidfilm aus im Wesentlichen Aluminiumhydroxid, der auf ihr ausgebildet wird, auf, und der Oxidfilm wird aufgelöst oder zerrissen. Der aufgelöste oder zerrissene Teil des Oxidfilms kann der Ausgangspunkt für die Vertiefungsausbildungs-Reaktion in der anodischen Reaktion der nächsten Phase der Aluminiumplatte sein. Dementsprechend ist die angemessene Auswahl der Wechselstromlast bei dieser Behandlung von großer Bedeutung für das gleichmäßige Aufrauen der Oberfläche der Aluminiumplatte.
In dem Fall, in dem der an die Aluminiumplatte angelegte Wechselstrom die Form eines Trapezes aufweist, fällt die Zeit tp, in der der Wechselstromwert von dem Wert 0 zu der Plus- oder der Minusspitze reicht, vorzugsweise zwischen 0,01 und 2 Millisekunden und stärker bevorzugt zwischen 0,01 und 0,3 Millisekunden. Wenn die Zeit tp in den vorge gebenen Bereich fällt, werden gleichmäßigere honigwabenartige Vertiefungen in der bearbeiteten Oberfläche der Aluminiumplatte ausgebildet.
Im Gegensatz dazu kann der Spitzenstrom Iap in dem Anodenzyklus des Wechselstroms und der Spitzenstrom Icp in dem Kathodenzyklus davon so vorgegeben werden, dass die Gesamtelektrizitätsmenge für die anodische Reaktion der Aluminiumplatte vom Beginn bis zum Ende der elektrolytischen Oberflächen-Aufraubehandlung zwischen 1 und 300 Coulombs/cm² fällt. Vorzugsweise liegen sie jedoch jeweils zwischen 10 und 200 A/d²m. Darüber hinaus wird bevorzugt, dass das Verhältnis Icp/Iap zwischen 0,9 und 1,5 fällt.
Für die elektrolytische Oberflächen-Aufraubehandlung wird der Wechselstrommodus vorzugsweise so gesteuert, dass er wenigstens eine Ruhezeit, über die kein Wechselstrom zwischen der Aluminiumplatte und der Gegenelektrode fließt, umfasst, und dass die Ruhezeit zwischen 0,001 und 0,6 Sekunden/pro Mal fällt. Unter der vorgegebenen Bedingung werden die honigwabenartigen Vertiefungen auf der gesamten bearbeiteten Oberfläche der Aluminiumplatte ausgebildet. Wenn zwei oder mehr der elektrolytischen Wechselstromzellen in Serie zusammengeschaltet und hierin für die elektrolytische Oberflächen-Aufraubehandlung verwendet werden, werden sie vorzugsweise so angeordnet, dass die Zeit, über die in gar keiner Zelle Strom durch die Aluminiumplatte fließt, während die Aluminiumplatte, die aus einer Zelle herausgeführt worden ist, noch nicht die nächste Zelle erreicht, zwischen 0,001 und 0,6 Sekunden fällt.
Für diese elektrolytische Oberflächen-Aufraubehandlung können verschiedene Typen von elektrolytischen Wechselstromzellen, so beispielsweise vertikale elektrolytische Wechselstromzellen, flache elektrolytische Wechselstromzellen, wie in dem Dokument JP-B 30036/1986 beschrieben, und radiale elektrolytische Wechselstromzellen, wie in dem Dokument JP-A 300843/1996 beschrieben, verwendet werden; es werden jedoch radiale elektrolytische Wechselstromzellen bevorzugt.
Es wird darüber hinaus eine Vorrichtung zum elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauen bevorzugt, die zwei in Serie zusammengeschaltete radiale elektrolytische Wechselstromzellen umfasst, wobei die vorgeschaltete Zelle für die Wechsel strom-Elektrolyse der frühen Phase und die nachgeschaltete Zelle für die Wechselstrom-Elektrolyse der späten Phase verwendet wird.
Ein Beispiel der Vorrichtung zum elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauen ist in 1 dargestellt.
Wie dies in 1 dargestellt ist, umfasst die Vorrichtung zum elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauen eine Einheit für die Wechselstrom-Elektrolyse der frühen Phase 100, die auf der vorgeschalteten Seite angeordnet ist, und eine Einheit für die Wechselstrom-Elektrolyse der späten Phase 102, die auf der nachgeschalteten Seite angeordnet ist.
Beide elektrolytischen Wechselstromeinheiten 100 und 102 sind aus einem Zellengehäuse 2, das darin eine elektrolytische Zelle 2A hat, die mit einer wässrigen Salzsäurelösung gefüllt ist; und einer Zuführwalze 4 gebildet, die innerhalb der Zelle 2A und drehbar um ihre Achse, die sich in horizontaler Richtung erstreckt, angeordnet ist, und die dazu dient, einen langen und dünnen Bahnenstreifen einer Aluminiumplatte W in Richtung des Pfeils a, das heißt, in Richtung von der linken Seite zu der rechten Seite in 1, zuzuführen.
Der gesamte Innenraum der Zelle 2A ist nahezu zylindrisch geformt, um die Zuführwalze 4 zu umgeben, auf der halbzylindrische Gegenelektroden 6A und 6B so bereitgestellt sind, dass sie die Zuführwalze 4 sandwichartig dazwischen angeordnet haben. Die Gegenelektroden 6A und 6B sind jeweils in eine Vielzahl von Elektroden unterteilt, die voneinander mit Hilfe einer isolierenden Abstandsplatte, die zwischen den angrenzenden Elektroden angeordnet ist, beabstandet sind. Die Elektroden können beispielsweise aus Graphit oder Metall hergestellt sein, und die Abstandsplatte kann beispielsweise aus Polyvinylchloridharz hergestellt sein. Die Dicke einer jeden Abstandsplatte fällt vorzugsweise zwischen 1 und 10 mm. Obgleich dies in 1 nicht dargestellt ist, sind all jene voneinander beabstandeten Elektroden von beiden Gegenelektroden 6A und 6B an die Wechselstromquelle AC angeschlossen.
An ihrer Oberseite ist die Zelle 2A geöffnet und weist einen Eingang 2B auf, durch den die Aluminiumplatte W, die der elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen- Aufraubehandlung zu unterziehen ist, in die Zelle 2A hineingeführt und aus ihr herausgeführt wird. In der Nähe des Eingangs 2B der Zelle 2A und zwischen den Gegenelektroden 6A und 6B sind Zuführleitungen für säurehaltige Elektrolytlösung 8A und 8B bereitgestellt, durch die eine säurehaltige Elektrolytlösung, in diesem Fall eine wässrige Salpetersäurelösung, in die Zelle 2A eingefüllt wird.
In der Nähe des Eingangs 2B und oberhalb der Zelle 2A sind vorgeschaltete Führungswalzen 10A zum Führen der Aluminiumplatte W in die Zelle 2A und nachgeschaltete Führungswalzen 10B zum Führen der Aluminiumplatte W, die in der Zelle 2A einer Elektrolyse unterzogen worden ist, aus der Zelle 2A heraus, angeordnet.
In beiden elektrolytischen Wechselstromzelleinheiten 100 und 102 ist das Zellengehäuse 2 mit einer daran angrenzenden Überlaufzelle 2C verbunden. Die Überlaufzelle 2C dient zum Aufnehmen der wässrigen Salpetersäurelösung, die aus der Zelle 2A übergelaufen ist, um dadurch einen beabsichtigten konstanten Flüssigkeitspegel der wässrigen Salpetersäurelösung in der Zelle 2A aufrechtzuerhalten. Die Überlaufzelle 2C ist in der Zelleinheit 100 der Zelle 2A vorgeschaltet angeordnet und in der Zelleinheit 102 der Zelle 2A nachgeschaltet angeordnet.
Die Zelleinheiten 100 und 102 sind jeweils mit einer elektrolytischen Hilfszelle 12 ausgestattet, die an das Zellengehäuse 2 angrenzt. Die elektrolytische Hilfszelle 12 ist dem Zellengehäuse in der Zelleinheit 100 vorgeschaltet angeordnet, und in der Zelleinheit 102 ist sie dem Zellengehäuse 2 nachgeschaltet angeordnet.
Die Hilfszelle 12 ist flacher als die Zelle 2A, und ihre Bodenfläche 12A ist eben. Auf der Bodenfläche 12A ist eine Vielzahl von stängelartigen Hilfselektroden 14 angeordnet.
Die Hilfselektroden 14 sind vorzugsweise aus korrosionsbeständigem Metall, wie beispielsweise Platin oder Ferrit, hergestellt, und sie können eine flache Form aufweisen.
Die Hilfselektroden 14 sind auf der Seite der Stromversorgungsquelle AC, auf der die Hauptelektrode an Wechselstrom AC angeschlossen ist, parallel mit der Hauptelektrode 6B zusammengeschaltet, und ein Thyristor Th1 ist so mit ihnen in der Mitte des Stromes von der Stromversorgungsquelle AC verbunden, dass der Strom von dieser Seite in Richtung der Hilfselektroden 14 fließt, während die Einheit eingeschaltet ist.
Darüber hinaus sind auf der Seite der Stromversorgungsquelle AC, auf der die Hauptelektrode 6A an die Stromversorgungsquelle AC angeschlossen ist, die Hilfselektroden 14 über einen Thyristor Th2, der dazwischen angeordnet ist, auf dieselbe Weise, wie dies voranstehend beschrieben wurde, verbunden. Genauer gesagt bedeutet dies, dass der Thyristor Th2 so verbunden ist, dass der Strom von der Stromversorgungsquelle AC von dieser Seite in Richtung der Hilfselektroden 14 fließt, während die Einheit eingeschaltet ist.
Zu einem beliebigen Zeitpunkt, wenn ein beliebiger der Thyristoren Th1 und Th2 eingeschaltet ist, fließt ein anodischer Strom durch die Hilfselektroden 14. Dementsprechend kann der Wert des anodischen Stromes, der durch die Hilfselektroden 14 hindurchgeleitet wird, über eine Phasensteuerung der Thyristoren Th1 und Th2 gesteuert werden, wodurch das Verhältnis QC/QA auf die gewünschte Weise gesteuert werden kann.
Im Folgenden wird der Mechanismus der Vorrichtung zum elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauen, die in 1 dargestellt ist, beschrieben.
Auf der linken Seite in 1 wird die Aluminiumplatte W, die zu der elektrolytischen Wechselstromzelleinheit 100 geführt wird, zuerst in die elektrolytische Hilfszelle 12 eingeführt, und anschließend wird sie mit Hilfe der vorgeschalteten Führungswalzen 10A in die elektrolytische Zelle 2A eingeführt. Anschließend wird sie mit Hilfe der Zuführwalze 4 von der linken Seite zu der rechten Seite, wie dies in 1 dargestellt ist, bewegt, und anschließend wird sie mit Hilfe der nachgeschalteten Führungswalzen 10B aus der Zelle 2A herausbewegt.
Die Aluminiumplatte W, die auf diese Weise aus der Zelle 2A in der Zelleinheit 100 herausbewegt wird, wird anschließend mit Hilfe der vorgeschalteten Führungswalzen 10A in die Zelle 2A in der Zelleinheit 102 eingeführt, während sie mit Hilfe der Führungswalze 4 von der linken Seite in Richtung der rechten Seite in der Zelle 2A bewegt wird, und schließlich wird sie mit Hilfe der nachgeschalteten Führungswalze 10B in die Hilfszelle 12, die an die Zelleinheit 102 angrenzt, eingeführt.
In den Zellen 2A und in den Hilfszellen 12 in den zwei elektrolytischen Zellen 100 und 102 wird die Aluminiumplatte W auf ihrer Oberfläche, die den Gegenelektroden 6A und 6B gegenüber angeordnet ist, mit Hilfe des Wechselstroms, der an die Gegenelektroden 6A und 6B, und mit Hilfe des anodischen Stroms, der an die Hilfselektroden 14 angelegt wird, aufgeraut.
(2-2) Schritt des alkalischen Ätzens
In dem Schritt des alkalischen Ätzens wird die Oberfläche der Aluminiumplatte, die in dem vorangehenden elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt voraufgeraut worden ist, mit einem alkalischen Mittel in Kontakt gebracht, um sie zu ätzen.
Um die Aluminiumplatte mit einem alkalischen Mittel in Kontakt zu bringen, kann beispielsweise ein Verfahren, bei dem die Aluminiumplatte fortlaufend durch einen Tank geleitet wird, der mit einem alkalischen Mittel gefüllt ist; ein Verfahren, bei dem die Aluminiumplatte in den Tank eingetaucht wird; oder ein Verfahren, bei dem ein alkalischer Agens auf die Oberfläche der Aluminiumplatte aufgesprüht wird, angewendet werden.
Für das alkalische Mittel wird beispielsweise eine Lösung aus einem Alkalihydroxid oder einem alkalischen Metallsalz verwendet. Die Konzentration von Alkalihydroxid oder alkalischem Metallsalz der Lösung fäll vorzugsweise zwischen 0,01 und 30 Gew.-%; und die Temperatur davon fällt vorzugsweise zwischen 20 und 90°C.
Das Alkalihydroxid umfasst beispielsweise Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid.
Das alkalische Metallsalz umfasst beispielsweise alkalische Metallsilikate, wie beispielsweise Natriummetasilikat, Natriumsilikat, Kaliummetasilikat und Kaliumsilikat; alkalische Metalcarbonate, wie beispielsweise Natriumkarbonat und Kaliumkarbonat; alkalische Metallaluminate, wie beispielsweise Natriumaluminat und Kaliumaluminat; alkalische Metallaldonate, wie beispielsweise Natriumglukonat und Kaliumglukonat; und alkalische Metallhydrogenphosphate, wie beispielsweise sekundäres Kaliumphosphat, tertiäres Natriumphosphat und tertiäres Kaliumphosphat. Für das alkalische Mittel werden insbesondere eine Lösung aus einer alkalischen Hydroxidlösung und eine Lösung aus einem alkalischen Hydroxid und einem alkalischen Metallaluminat, wie beispielsweise jene, die voranstehend erwähnt worden sind, bevorzugt, da ihre Ätzkraft sehr hoch ist und sie kostengünstig sind.
Vorzugsweise fällt der Grad des Ätzens der Aluminiumplatte zwischen 0,01 und 1 g/m². Die Ätzzeit fällt vorzugsweise zwischen 1 und 180 Sekunden. So lange der Grad des Ätzens und die Ätzzeit beide in die vorgegebenen Bereiche fallen, können die feinen Ätzhügel, die auf der Oberfläche der Aluminiumplatte mit Hilfe der mechanischen Oberflächen-Aufraubehandlung auszubilden sind, immer noch bis zu einem gewünschten Grad, so wie sie sind, verbleiben. Dementsprechend kann die auf diese Art und Weise bearbeitete Aluminiumplatte ein Träger sein, der Flachdruckplatten einer guten Qualität erzeugt, die ein hohes Wasserrückhaltevermögen in dem Nicht-Bildbereich aufweisen und die in der Lage sind, den Nicht-Bildbereich davor zu schützen, Tinte aufzunehmen, welche ein Problem hinsichtlich des Erscheinungsbildes, wie beispielsweise ein Beflecken des Bezuges, verursacht. Das heißt, mit der Aluminiumplatte, die als ein Träger fungiert, können die Flachdruckplatten-Vorläufer sehr gut zu Flachdruckplatten verarbeitet werden.
Die Ätzbehandlung kann in einer beliebigen gewöhnlichen Ätzzelle für Aluminiumplatten ausgeführt werden. Die Ätzzelle kann für ein beliebiges eines Batchverfahrens oder eines kontinuierlichen Verfahrens verwendet werden. Anstelle des Verwendens einer solchen Ätzzelle kann auch eine gewöhnliche Sprüheinheit zum Besprühen eines alkalischen Mittels auf die Aluminiumplatten verwendet werden.
(2-3) Nachbeizschritt mit Schwefelsäure
In dem Nachbeizschritt mit Schwefelsäure wird die geätzte Aluminiumplatte mit einer wässrigen Schwefelsäurelösung, die eine Säurekonzentration von 250 bis 500 g/Liter und eine Aluminiumionenkonzentration von 1 bis 15 g/Liter aufweist und die eine Flüssigtemperatur von 60 bis 90°C hat, für 1 bis 180 Sekunden in Kontakt gebracht, um dadurch den schwarzen pulverartigen Belag, der sich auf der Oberfläche der Aluminiumplatte gebildet hat, aufzulösen und zu entfernen. Der Belag besteht im Wesentlichen aus Oxiden und Hydroxiden von unreinen Elementen, wie beispielsweise Fe.
Um die Aluminiumplatte mit solch einer wässrigen Schwefelsäurelösung in Kontakt zu bringen, kann beispielsweise ein Verfahren des kontinuierlichen Hindurchziehens der Aluminiumplatte durch einen mit der Säurelösung gefüllten Tank; ein Verfahren des Eintauchens der Aluminiumplatte in den Tank; oder ein Verfahren, bei dem die Säurelösung auf die Oberfläche der Aluminiumplatte aufgesprüht wird, verwendet werden.
Die wässrige Schwefelsäurelösung kann zusätzlich zu der Schwefelsäure beispielsweise eine beliebige andere Säurekomponente, wie beispielsweise eine Phosphorsäure, eine Salzsäure, eine Salpetersure und eine Chromsäure, enthalten.
Die Zeit für die Nachbeizbehandlung kann zwischen 1 und 180 Sekunden fallen, vorzugsweise fällt sie jedoch zwischen 50 und 120 Sekunden.
(2-4) Elektrolytischer Oberflächen-Aufrauschritt
Wie dies voranstehend bereits erwähnt worden ist, wird die nachgebeizte Oberfläche der Aluminiumplatte in einer wässrigen Salpetersäure elektrolytisch aufgeraut, in dem ein Wechselstrom daran angelegt wird.
Die wässrige Salpetersäure, die in dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrau-Behandlungsschritt zu verwenden ist, kann eine verdünnte Salpetersäure sein, die eine Säurekonzentration von 1 bis 20 g/Liter aufweist, und die wenigstens eine Nitratverbindung, wie beispielsweise Aluminiumnitrat, Natriumnitrat und Ammoniumnitrat, bis zu einem Grad enthält, der zwischen 1 g/Liter und die Sättigungskonzentration der Verbindung fällt.
In dem Fall, in dem die Aluminiumplatte zusätzliche Elemente, wie beispielsweise Eisen, Kupfer, Mangan, Nickel, Titan, Magnesium und Silizium, enthält, kann die wässrige Salpetersäurelösung, die zum Bearbeiten der Aluminiumplatte verwendet werden soll, auch beliebige dieser Elemente enthalten.
Vorzugsweise wird die wässrige Salpetersäurelösung durch Hinzugeben von Aluminiumnitrat und Ammoniumnitrat zu einer verdünnten Salpetersäure so hergestellt, dass die Salpetersäurekonzentration der resultierenden Lösung zwischen 5 und 15 g/Liter fällt, die Aluminiumionenkonzentration zwischen 1 und 15 g/Liter fällt und die Ammoniumionenkonzentration davon zwischen 10 und 300 ppm fällt.
Die Aluminiumionenkonzentration und die Ammoniumionenkonzentration der wässrigen Salpetersäurelösung steigt im Allgemeinen an, wenn die Aluminiumplatte in der Lösung einer Wechselstrom-Elektrolyse unterzogen wird.
Hinsichtlich des Wechselstroms, der für die elektrolytische Oberflächen-Aufraubehandlung der Aluminiumplatte an die Aluminiumplatte angelegt werden soll, und hinsichtlich der Wechselstromzelle, die für die Behandlung verwendet werden soll, sind die, auf die verwiesen wird, dieselben wie die, die hierin voranstehend in dem Abschnitt „(2-1) Elektrolytischer Oberflächen-Voraufrauschritt" erwähnt worden sind. Die elektrolytische Oberflächen-Aufraubehandlung in diesem Schritt unterscheidet sich jedoch von der Behandlung in dem elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt lediglich in einem Punkt, und zwar in dem, dass die voranstehend erwähnte wässrige Salpeterlösung und nicht die wässrige Salzsäurelösung, wie in dem elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt, durch die Zuführleitungen für säurehaltige Elektrolytlösungen 8A und 8B eingefüllt wird.
(2-5) Mechanischer Oberflächen-Aufrauschritt:
Wenn dies gewünscht wird, kann die Aluminiumplatte mechanisch auf ihrer Oberfläche aufgeraut werden. In dem mechanischen Oberflächen-Aufrauschritt werden im Allgemeinen eine oder beide Oberflächen der Aluminiumplatte mit einer Bürstenrolle, die eine große Anzahl von Borsten aus Kunstharz, so beispielsweise aus Nylon (Handelsmarke), Polypropylen- oder Polyvinylchloridharz, aufweist, die in der gesamten Oberfläche eines zylindrischen Rollenkörpers eingesetzt sind, abgerieben, um dadurch die Oberflächen auf mechanische Art und Weise aufzurauen. Für die mechanische Oberflächen-Aufraubehandlung kann darüber hinaus anstatt der Bürstenrolle auch eine Abriebrolle mit einer abschleifenden Schicht auf ihrer Oberfläche verwendet werden.
Die Länge der Borstenhaare in der Bürstenrolle können in Abhängigkeit von dem Außendurchmesser der Bürstenrolle auf geeignete Weise bestimmt werden, und sie fällt im Allgemeinen zwischen 10 und 100 mm.
Für das Schleifmaterial können beispielsweise Kieselsand und Bimssteine verwendet werden. Verglichen mit den Bimssteinen ist Kieselsand hart und schwer zu zerdrücken. Dementsprechend wird Kieselsand bevorzugt, da die Oberfläche der Aluminiumplatte damit auf extrem effiziente Weise granuliert werden kann.
Vorzugsweise fällt die durchschnittliche Korngröße des Schleifmaterials zwischen 3 und 40 μm, womit ein effizientes Oberflächen-Aufrauen realisiert wird und womit die Körnervertiefungen reduziert werden können.
So kann das Schleifmittel beispielsweise als seine Aufschlämmung in Wasser verwendet werden. Die Schleifmittelaufschlämmung kann zusätzlich dazu beliebige von einem Verdicker, einem Dispersionsmittel, wie beispielsweise Tensid, sowie einem Konservierungsmittel enthalten.
(2-6) Ätzschritt vor der Pre-Elektrolyse:
Wenn dies auch gewünscht wird, kann die Aluminiumplatte auch geätzt werden, bevor sie der Pre-Elektrolyse unterzogen wird. Um dieses Ätzen durchzuführen, kann die Aluminiumplatte mit derselben Alkalilösung, wie die, die in dem voranstehend erwähnten „Schritt des alkalischen Ätzens (2-2)" verwendet wird, auf dieselbe Weise wie in dem Schritt (2-2) geätzt werden.
Bevor die Aluminiumplatte vor der Elektrolyse geätzt wird, kann die Oberfläche der Aluminiumplatte in dem voranstehend erwähnten Schritt mechanisch aufgeraut werden oder nicht.
Die auf diese Weise geätzte Oberfläche der Aluminiumplatte weist oftmals einen Belag auf, der sich darauf gebildet hat, und es erstrebenswert, diesen Belag nach dem Ätzschritt vor der Elektrolyse nachzubeizen.
Um die Aluminiumplatte nachzubeizen, kann die Aluminiumplatte auf dieselbe Weise bearbeitet werden, wie in dem voranstehend erwähnten „Nachbeizschritt mit Schwefelsäure (2-3)", wobei dieselbe wässrige Schwefelsäurelösung wie in dem Schritt (2-3) verwendet wird. Statt die wässrige Schwefelsäurelösung für die Behandlung zu verwenden, kann auch die wässrige Salpetersäurelösung, wie in dem „Elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt (2-4)", verwendet werden, oder es kann auch die wässrige Salzsäurelösung, wie in dem „Elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt (2-1)", verwendet werden.
(2-7) Ätzschritt nach der elektrolytischen Oberflächen-Aufraubehandlung:
Nachdem die Aluminiumplatte der elektrolytischen Oberflächen-Aufraubehandlung unterzogen worden ist, kann sie optional erneut geätzt werden. In dem Ätzschritt nach der Elektrolyse kann die Aluminiumplatte, deren Oberflächen elektrolytisch aufgeraut worden ist, auf dieselbe Weise geätzt werden, wie in dem voranstehend beschriebenen Schritt des alkalischen Ätzens, wobei dieselbe Alkalilösung verwendet wird, wie in diesem Schritt.
Die geätzte Oberfläche der Aluminiumplatte nach dem zweiten Ätzen weist oftmals einen Belag auf, der sich darauf ausgebildet hat, und es ist erstrebenswert, diesen Belag in dem abschließenden Nachbeizschritt, der sich an den zweiten Ätzschritt anschließt, zu entfernen.
(2-8) Abschließender Nachbeizschritt:
Um die Aluminiumplatte abschließend nachzubeizen, kann sie auf dieselbe Art und Weise bearbeitet werden, wie in dem voranstehend beschriebenen Nachbeizschritt mit Schwefelsäure, wobei dieselbe wässrige Schwefelsäurelösung verwendet werden kann, wie in diesem Schritt. Statt die wässrige Schwefelsäurelösung zu verwenden, kann in dem abschließenden Nachbeizschritt auch dieselbe wässrige Salpetersäurelösung verwendet werden, wie in dem voranstehend beschriebenen elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt, oder es kann auch dieselbe wässrige Salzsäurelösung verwendet werden, wie in dem voranstehend beschriebenen elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt.
(3) Anodische Oxidationsbehandlung:
In dieser Ausführungsform wird die Aluminiumplatte, deren Oberfläche aufgeraut ist, vorzugsweise für die anodische Oxidation bearbeitet.
Für ihre anodische Oxidation wird die Aluminiumplatte, deren Oberfläche aufgeraut ist, auf eine gewöhnliche Art und Weise bearbeitet.
So wird die Aluminiumplatte beispielsweise in einer säurehaltigen Elektrolytlösung, die wenigstens eine Säurekomponente von Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure und Amidoschwefelsäure enthält, bearbeitet, wobei ein Gleichstrom, ein pulsierender Strom oder ein Wechselstrom daran angelegt wird.
Die Bedingung für die anodische Oxidation könnte nicht in einer bestimmten Art und Weise spezifiziert werden, da diese je nach der Zusammensetzung der jeweils verwendeten säurehaltigen Elektrolytlösung variiert. Im Allgemeinen fällt die Säurekonzentration der Elektrolytlösung jedoch vorzugsweise zwischen 1 und 80 Gew.-% und die Temperatur davon fällt vorzugsweise zwischen 5 und 70°C. Die Stromdichte fällt vorzugsweise zwischen 1 und 60 A/dm² und die Spannung fällt vorzugsweise zwischen 1 und 100 V. Die Zeit für die Elektrolyse kann zwischen 10 und 300 Sekunden fallen.
Die Säurekomponente der säurehaltigen Elektrolytlösung ist vorzugsweise Schwefelsäure, wie dies beispielsweise in den Dokumenten JP-A 12853/1979 und 453030/1973 offenbart wird.
Die Schwefelsäurekonzentration der säurehaltigen Elektrolytlösung fällt vorzugsweise zwischen 10 und 300 g/Liter (1 und 30 Gew.-%); und die Aluminiumionenkonzentration davon fällt vorzugsweise zwischen 1 und 25 g/Liter (0,01 und 2,5 Gew.-%) und stärker bevorzugt zwischen 2 und 10 g/Liter (0,2 und 1 Gew.-%). Die säurehaltige Elektrolytlösung des jeweiligen Typs kann beispielsweise durch Hinzugeben von Aluminium zu einer verdünnten Schwefelsäure, die eine Säurekonzentration von 50 bis 200 g/Liter aufweist, hergestellt werden.
Die Badtemperatur der säurehaltigen Elektrolytlösung fällt vorzugsweise zwischen 30 und 60°C.
Wenn die Aluminiumplatte einer anodischen Oxidation in der Schwefelsäure enthaltenden säurehaltigen Elektrolytlösung unterzogen wird, kann ein Gleichstrom oder ein Wechselstrom an die Aluminiumplatte angelegt werden.
In dem Fall, in dem ein Gleichstrom an die Aluminiumplatte angelegt wird, fällt seine Stromdichte vorzugsweise zwischen 1 und 60 A/dm² und stärker bevorzugt zwischen 5 und 30 A/dm².
Wenn die Aluminiumplatte für die anodische Oxidation in einem kontinuierlichen Prozess bearbeitet wird, muss verhindert werden, dass sie „gelb wird", was auf eine lokale Konzentration von Strom in einem Teil davon zurückzuführen wäre. Zu diesem Zweck ist es beispielsweise erstrebenswert, dass die Stromdichte so reduziert wird, dass sie in der anfänglichen Phase der anodischen Oxidation zwischen 5 und 10 A/dm² fällt und anschließend so erhöht wird, dass sie im weiteren Verlauf der anodischen Oxidation zwischen 30 und 50 A/dm² oder mehr fällt.
In diesem Fall ist es darüber hinaus auch erstrebenswert, dass die anodische Oxidation in einem Modus des in die Flüssigkeit eingespeisten Stroms ausgeführt wird, bei dem der Strom über die säurehaltige Elektrolytlösung an die Aluminiumplatte angelegt wird. Für die Elektrode, über die der Strom an die Aluminiumplatte angelegt wird, kann eine beliebige Elektrode, die aus Blei, Iridiumoxid, Platin oder Ferrit hergestellt ist, verwendet werden. Dafür wird besonders eine Elektrode bevorzugt, die im Wesentlichen aus Iridiumoxid hergestellt ist und eine Elektrode, die mit Iridiumoxid beschichtet ist. Für die Basis, die mit Iridiumoxid in der beschichteten Elektrode beschichtet werden soll, werden Wulstmetalle, wie beispielsweise Titan, Tantal, Niobium und Zirkonium, bevorzugt. Noch stärker werden dafür Titan und Niobium bevorzugt. Die Wulstmetalle weisen einen relativ großen elektrischen Widerstand auf. Dementsprechend kann, wenn dies gewünscht wird, ein Kern aus Kupfer mit solch einem Wulstmetall ausgekleidet werden, um die Basis zu bilden. In dem Fall, in dem Kupfer mit solch einem Wulstmetall ausgekleidet wird, erweist es sich als schwierig, eine Basis zu konstruieren, die eine komplexe Struktur aufweist. In diesem Fall kann dementsprechend die Basis, die konstruiert werden soll, in einige Abschnitte unterteilt werden, anschließend werden die Kupferkerne entsprechend den auf diese Weise unterteilten Abschnitten der Basis mit einem Wulstmetall ausge kleidet, und die auf diese Weise ausgekleideten Kerne können zu der beabsichtigten abschließenden Basis kombiniert werden.
Vorzugsweise ist der Grad der anodischen Oxidation auf der Aluminiumplatte ein solcher, dass die Menge des Oxidfilms, der darauf ausgebildet ist, zwischen 1 und 5 g/m² fällt, wobei sie in Anbetracht der Druckbeständigkeit der Flachdruckplatten einen Träger der auf diese Weise bearbeiteten Aluminiumplatte umfasst. Darüber hinaus liegt die Differenz zwischen der Menge des in dem mittleren Teil der Aluminiumplatte ausgebildeten Oxidfilms und der Menge des Oxidfilms, der in dem Bereich um die Randbereiche davon herum angeordnet ist, vorzugsweise bei nahezu 1 g/m².
Darüber hinaus wird die Aluminiumplatte, die auf diese Weise einen Oxidfilm durch eine solche anodische Oxidation darauf ausgebildet hat, vorzugsweise in eine wässrige Lösung eines Alkalimetallsilikats, wie beispielsweise Natriumsilikat oder Kaliumsilikat, getaucht, um dadurch die Oberfläche hydrophil zu machen; oder sie wird mit einer hydrophilen Grundierungsschicht eines hydrophilen Vinylpolymers oder einer beliebigen anderen hydrophilen Verbindung beschichtet.
Für die Einzelheiten des Verfahrens, um die Aluminiumplatte mit einer wässrigen Lösung eines Alkalimetallsilikats, wie beispielsweise Natriumsilikat oder Kaliumsilikat, hydrophil zu machen, wird auf die Offenbarungen in den Dokumenten USP 2.714.066 und 3.181.461 verwiesen; und für die Einzelheiten des Verfahrens zum Ausbilden einer solchen hydrophilen Grundierungsschicht über dem Oxidfilm auf der Aluminiumplatte wird auf die Offenbarungen in den Dokumenten JP-A 101651/1984 und 149491/1985 verwiesen. Das hydrophile Vinylpolymer für die Schicht umfasst beispielsweise Polyvinylsulfonsäure sowie Copolymere der Sulfonsäuregruppe, die Vinylmonomere als eine Sulfonsäuregruppe mit p-Styrolsulfonsäure- und anderen gewöhnlichen Vinylmononeren, wie beispielsweise Alkyl(meth)acrylate aufweisen; und die hydrophile Verbindung für die Schicht umfasst beispielsweise Verbindungen, die wenigstens eine von NH₂, COOH und Sulfongruppen aufweisen.
Wenn dies gewünscht wird, kann die Aluminiumplatte, auf der durch die anodische Oxidation ein Oxidfilm ausgebildet wurde, mit kochendem Wasser, heißem Wasser oder heißem Dampf in Kontakt gebracht werden, um die Mikroporen in dem Oxidfilm zu versiegeln.
3. Flachdruckplatten-Vorläufer
Der Flachdruckplatten-Vorläufer dieser Ausführungsform kann hergestellt werden, indem eine lichtempfindliche oder eine wärmeempfindliche Plattenschicht auf der aufgerauten Oberfläche der Aluminiumplatte, die als der Träger für die Flachdruckplatte fungiert, ausgebildet wird.
Die lichtempfindliche Plattenschicht kann ausgebildet werden, indem eine lichtempfindliche Harzlösung auf die aufgeraute Oberfläche der Aluminiumplatte, gefolgt von einem Trocknen der Platte in Dunkelheit, aufgebracht wird. Im Gegensatz dazu kann die wärmeempfindliche Plattenschicht ausgebildet werden, indem eine wärmeempfindliche Harzlösung auf die aufgeraute Oberfläche der Aluminiumplatte, gefolgt von einem Trocknen der Platte, aufgebracht wird.
Um die lichtempfindliche Harzlösung oder die wärmeempfindliche Harzlösung auf die Aluminiumplatte aufzutragen, können beispielsweise jegliche bekannte Verfahren des Aufschleuderns, des Kabelummantelungsverfahrens, des Eintauchens, des Luftbürsten-Streichverfahrens, des Walzbeschichtens oder des Rakelstreichverfahrens angewendet werden.
Das lichtempfindliche Harz umfasst ein positives lichtempfindliches Harz, das, nachdem es belichtet wird, in einem Entwickler löslich wird; und ein negatives lichtempfindliches Harz, das, nachdem es belichtet wird, in einem Entwickler unlöslich wird.
Ein Beispiel des positiven lichtempfindlichen Harzes ist eine Kombination aus einer Diazidverbindung, wie beispielsweise eine Chinondiazidverbindung oder eine Naphtochinondiazidverbindung, und einem Phenolharz, wie beispielsweise Phenolnovolakharz oder Kresolnovolakharz.
Beispiele des negativen lichtempfindlichen Harzes sind eine Kombination einer Diazoverbindung, beispielsweise ein Diazoharz, wie zum Beispiel ein Kondensat aus aromati schen Diazoniumsalz mit Aldehyd, beispielsweise Formaldehyd oder ein Salz des Diazoharzes mit einer organischen oder einer anorganischen Säure und einem Bindemittel, zum Beispiel (Meth)acrylatharz, Polyamidharz oder Polyurethan; und eine Kombination aus einem Vinylpolymer, wie beispielsweise (Meth)acrylatharz oder Polystyrolharz, einem Vinylmonomer, wie beispielsweise ein (Meth)acrylat oder Styrol, und einem Photopolymerisationsinitiiator, wie beispielsweise einem Benzoinderivat, einem Benzophenonderivat oder einem Thioxanthonderivat.
Das Lösungsmittel für die lichtempfindliche Harzlösung kann ein beliebiges sein, das das lichtempfindliche Harz auflöst und das bis zu einem gewissen Grad bei Zimmertemperatur flüchtig ist, genauer gesagt, gehören dazu beispielsweise Alkohol-Lösungsmittel, Keton-Lösungsmittel, Ester-Lösungsmittel, Ether-Lösungsmittel, Glycolether-Lösungsmittel, Amid-Lösungsmittel und Carbonat-Lösungsmittel.
Zu den Alkohol-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Ethanol, Propanol und Butanol. Zu den Keton-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Aceton, Methylethylketon, Methylisopropylketon und Diethylketon. Zu den Ester-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Ethylacetat, Propylacetat, Methylformat und Ethylformat. Zu den Ether-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Tetrahydrofuran und Dioxan. Zu den Glycolether-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Ethylcellosolve, Methylcellosolve und Butylcellosolve. Zu den Amid-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Dimethylformamid und Dimethylacetamid. Zu den Carbonat-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Ethylencarbonat, Propylencarbonat, Diethylcarbonat und Dibutylcarbonat.
Die lichtempfindliche Harzlösung kann darüber hinaus auch verschiedene Farbstoffe enthalten. Zu den Farbstoffen gehören beispielsweise gewöhnliche Farbstoffe, die ihre Farbe entfalten, nachdem sie belichtet worden sind, sowie Farbstoffe, die ihre Farbe so verlieren, dass sie nahezu oder vollständig farblos sind, nachdem sie belichtet worden sind. Ein Beispiel für die Farbstoffe, die ihre Farbe entfalten, nachdem sie belichtet worden sind, ist der Leucofarbstoff. Im Gegensatz dazu gehören zu den Farbstoffen, die ihre Farbe verlieren, nachdem sie belichtet worden sind, beispielsweise Triphenylmethan-Farbstoffe, Diphenylmethan-Farbstoffe, Oxazin-Farbstoffe, Xanthen-Farbstoffe, Imino-Naphtochinon-Farbstoffe, Azomethin-Farbstoffe und Anthrachinon-Farbstoffe.
Der Flachdruckplatten-Vorläufer, der dementsprechend auf die voranstehend beschriebene Weise hergestellt wird, wird optional in Stücke einer gewünschten Größe geschnitten. In dem Fall, in dem es sich bei seiner Plattenschicht um eine lichtempfindliche Plattenschicht handelt, wird der Vorläufer belichtet und entwickelt, um dadurch ein beabsichtigtes Druckbild darauf auszubilden. Im Gegensatz dazu wird in dem Fall, in dem es sich bei seiner Plattenschicht um eine wärmeempfindliche Plattenschicht handelt, der Vorläufer durch einen Infrarot-(IR) Laser belichtet, um dadurch direkt ein beabsichtigtes Druckbild darauf zu schreiben. Auf diese Weise wird der Flachdruckplatten-Vorläufer zu dem Endprodukt, der Flachdruckplatte verarbeitet.
Beispiele:
Im Folgenden wird diese Ausführungsform in Bezug auf die nachstehenden Beispiele ausführlich beschrieben, wobei diese jedoch nicht den Umfang der Erfindung einschränken sollen.
Beispiel 1:
<<Erzeugung des Trägers für Flachdruckplatten>>
Ein Schmelzprodukt aus einem Barren aus wieder verwertetem Aluminium, das die in Tabelle 1 dargestellte Zusammensetzung aufweist, wurde entgast, gefiltert und anschließend in einem Modus des Stranggussverfahrens zu einer Gussbramme gegossen.
Die Oberfläche der Gussbramme wurde bei einer Tiefe von 10 mm abgeschnitten, anschließend überhitzt und danach bei 400°C ohne ein Durchtränken zu einer Aluminiumlegierungsplatte, die eine Dicke von 4 mm aufweist, warmgewalzt.
Als Nächstes wurde die Aluminiumlegierungsplatte kaltgewalzt, um eine reduzierte Dicke von 1,5 mm aufzuweisen, anschließend wurde sie ausgeglüht und danach einem erneuten Kaltwalzen unterzogen, um eine weiter reduzierte Dicke von 0,24 mm zu erreichen, und anschließend wurde sie zu einer Aluminiumbahn gerichtet.
Tabelle 1 (Einheit: Gew.-%)
Die Aluminiumbahn wurde einem Oberflächen-Aufrauen unterzogen und anschließend in Übereinstimmung mit dem im Folgenden beschriebenen Prozess für die anodische Oxidation bearbeitet.
1. Oberflächen-Aufrauung
Während die Aluminiumbahn kontinuierlich in einer Verarbeitungsvorrichtung transportiert wurde, wurde die Aluminiumbahn in Übereinstimmung mit der folgenden Prozessabfolge einer Oberflächen-Aufrauung unterzogen:

(a) mechanischer Oberflächen-Aufrauschritt
(b) Ätzschritt vor der Pre-Elektrolyse
(c) elektrolytischer Oberflächen-Voraufrauschritt (Schritt (1)),
(d) Schritt des alkalischen Ätzens (Schritt (2)),
(e) Nachbeizschritt mit Schwefelsäure (Schritt (3)),
(f) elektrolytischer Oberflächen-Aufrauschritt (Schritt (4)),
(g) (zweiter) Ätzschritt nach der elektrolytischen Oberflächen-Aufraubehandlung
(h) abschließender Nachbeizschritt.

Nach den Schritten (a) bis (h) wurde die Prozessflüssigkeit durch Verwendung von geriffelten Transportwalzen stets herausgepresst, und die Aluminiumbahn wurde mit Wasser gewaschen, indem die Bahn mit Wasser aus einer Wassersprühdüse besprüht wurde.
In sämtlichen Schritten des Ätzschrittes (b) vor der Pre-Elektrolyse, des Schrittes des alkalischen Ätzens (Schritt (2)), des Nachbeizschrittes (e) mit Schwefelsäure (Schritt (3)), und des (zweiten) Ätzschrittes (g) nach der elektrolytischen Oberflächen-Aufraubehandlung wurde die Prozesslösung auf beide Oberflächen der Aluminiumbahn aufgesprüht. In diesen Schritten wurden Sprühdüsen mit Düsenöffnungen eines Durchmessers von 4 mm verwendet, die in Abständen von 50 mm in dem gesamten Düsenrohr angeordnet waren, und durch die die Prozesslösung über die Aluminiumbahn ge sprüht wurde. Die Sprühdüsen waren so angeordnet, dass der Abstand zwischen jeder Düsenöffnung davon und der Oberfläche der an ihnen vorbeilaufenden Aluminiumbahn 50 mm betrug.
Die Prozesszeit ist die Zeit beginnend mit dem Start des Besprühens der Aluminiumbahn mit der Prozesslösung bis zu dem Ende des Entfernens der Prozesslösung von der Aluminiumbahn mit Hilfe der geriffelten Transportwalzen.
Für das Waschen der Aluminiumbahn, die in den Schritten (a) bis (h) bearbeitet worden ist, wurden Waschdüsen mit Sprühaufsätzen verwendet, um ein fächerartiges Sprühmuster zu bilden, die in Abständen von 100 mm in dem gesamten Düsenrohr angeordnet waren und durch die das Wasser auf beide Oberflächen der Aluminiumbahn aufgesprüht wurde. Die Waschdüsen waren so angeordnet, dass der Abstand zwischen einem jeden Sprühaufsatz davon und der Oberfläche der an ihnen vorbeilaufenden Aluminiumbahn 100 mm betrug.
Die Einzelheiten der Bearbeitungsschritte (a) bis (h) werden im folgenden Verlauf beschrieben.
(a) Mechanischer Oberflächen-Aufrauschritt
Unter Verwendung einer Schleifmittelaufschlämmung, die durch Aufschlämmen von Quarzsand (durchschnittliche Korngröße: 25 μm) mit einem spezifischen Gewicht von 1,12 in Wasser, erzeugt wurde, wurde die Aluminiumbahn mechanisch in einer mechanischen Oberflächen-Aufrauvorrichtung, bei der drei Bürstenrollen oberhalb der Aluminiumbahn in dem Transportweg der Aluminiumbahn angeordnet sind, aufgeraut.
Jede dabei verwendete Bürstenrolle ist so aufgebaut, dass 6.10-Nylonborsten, wobei jede eine Länge von 50 mm und einen Durchmesser von 0,48 mm aufweist, dicht nebeneinander in der gesamten Oberfläche einer Edelstahlwalze, die einen Durchmesser von 300 mm hat, eingepflanzt sind.
Auf der anderen Seite der vorbeilaufenden Aluminiumbahn gegenüber von der Seite davon, auf der die Bürstenrollen angeordnet sind, sind zwei Auflagerollen aus Edelstahl mit einem Durchmesser von 200 mm für jede Bürstenrolle angeordnet, und die Aluminiumbahn wird zwischen den Bürstenrollen und den Auflagerollen bewegt. Die Auflagerollen sind so ausgerichtet, dass der Abstand von Mitte zu Mitte zwischen den aneinander angrenzenden zwei Walzen 300 mm beträgt.
Die Bürstenrollen wurden so gegen die Aluminiumbahn gedrückt, dass die durchschnittliche Oberflächenrauhigkeit der aufgerauten Aluminiumbahn 0,45 μm betragen könnte, während sie in Transportrichtung der Aluminiumbahn gedreht wurden. Der Druck der Bürstenrollen, mit dem sie gegen die Aluminiumbahn gedrückt wurden, wurde auf Basis der Belastung des Antriebsmotors, der die Bürstenrollen antreibt, gesteuert.
Während die Aluminiumbahn mechanisch in der Vorrichtung aufgeraut wurde, wurde die Konzentration von Quarzsand in der Schleifmittelaufschlämmung anhand der Temperatur und des spezifischen Gewichtes der Aufschlämmung überwacht, und es wurden jeweils Wasser und Quarzsand auf geeignete Weise zu der Aufschlämmung hinzugegeben, um die Sandkonzentration der Aufschlämmung stets konstant zu halten. Der Quarzsand, der in diesem Prozess fein gemahlen worden ist, wurde kontinuierlich in einem Zyklonabscheider so entfernt, dass die Verteilung der Korngröße in der Schleifmittelaufschlämmung während der gesamten Zeit nahezu konstant gehalten werden konnte. Während des Prozesses wurde die Korngröße des Quarzsandes in der Schleifmittelaufschlämmung so gehalten, dass sie zwischen 1 und 35 μm fiel.
(b) Ätzschritt vor der Pre-Elektrolyse
(Ätzbehandlung)
Um die Aluminiumbahn vor der Pre-Elektrolyse davon zu ätzen, wurde eine Alkali-Lösung verwendet, die einen Natriumhydroxidgehalt von 27 Gew.-% und einen Aluminiumionengehalt von 6,5 Gew.-% und eine Flüssigkeitstemperatur von 70°C aufwies. Durch die Sprühdüse wurde diese Lösung, so wie dies voranstehend beschrieben wurde, auf beide Oberflächen der Aluminiumbahn aufgesprüht, um diese zu ätzen. Genauer gesagt, wurde das Aufsprühen der ätzenden Alkalilösung so gesteuert, dass der Grad der Auflösung der Oberfläche der Aluminiumbahn, die in dem vorangehenden Schritt einer mechanischen Aufrauung unterzogen wurde, oder anders formuliert, der Grad der Auflösung der Oberfläche der Aluminiumbahn, welche in dem darauffolgenden Schritt einer elektrolytischen Aufrauung zu unterziehen ist, 8 g/m² betragen konnte, während der Grad der Auflösung der gegenüberliegenden Fläche der Aluminiumbahn 2 g/m² betragen konnte.
Die Beziehung zwischen der Temperatur, dem spezifischen Gewicht und der elektrischen Leitfähigkeit der Alkalilösung und der Natriumhydroxidkonzentration und der Aluminiumionenkonzentration davon wurde vorangehend erfasst. Während des Ätzprozesses wurden die Temperatur, das spezifische Gewicht und die elektrische Leitfähigkeit der Alkalilösung, die verwendet wurde, überwacht, und auf Basis dieser entsprechenden Daten, wurden die Natriumhydroxidkonzentration und die Aluminiumionenkonzentration der Lösung erfasst. Es wurden Wasser und eine wässrige Natriumhydroxidlösung mit einem Gehalt von 48 Gew.-% auf geeignete Weise zu der Prozessflüssigkeit hinzugegeben, so dass die Natriumhydroxidkonzentration und die Aluminiumionenkonzentration während dem Prozess stets konstant gehalten werden konnten. Nachdem die beiden Oberflächen der Aluminiumbahn auf diese Weise geätzt worden sind, wurden sie durch Aufsprühen von Wasser durch die Waschdüsen, so wie dies voranstehend beschrieben worden ist, mit Wasser abgewaschen.
(Nachbeizbehandlung)
Beide auf diese Weise geätzten Oberflächen der Aluminiumbahn wurden anschließend für 2 Sekunden mit einer wässrigen Schwefelsäurelösung durch die Sprühdüsen, wie dies voranstehend beschrieben wurde, besprüht. Die Prozesslösung enthielt 300 g/Liter Schwefelsäure und 2 g/Liter Aluminiumionen und ihre Temperatur lag bei 70°C.
(c) Elektrolytischer Oberflächen-Voraufrauschritt
In diesem Schritt wurde die in 1 dargestellte Vorrichtung zum elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauen verwendet. Genauer gesagt, wurde die Aluminiumbahn, die in dem vorangehenden Schritt bearbeitet worden ist, in der Vorrichtung einer elektrolytischen Oberflächen-Aufrauung unterzogen, bei der ein trapezförmiger Wechselstrom, so wie dies in 2 dargestellt ist, auf beide der zwei elektrolytischen Wechselstromzellen angelegt wurde.
Es wurde eine wässrige Salzsäurelösung mit einer Temperatur von 35°C, die durch Hinzugeben von Aluminiumchlorid zu der Salzsäurelösung, um eine Salzsäurekonzentration von 7,5 g/Liter und eine Aluminiumionenkonzentration von 5 g/Liter zu erreichen, erzeugt wurde, in die zwei Wechselstromzellen eingeführt, und die Aluminiumbahn wurde darin einer Wechselstrom-Elektrolyse unterzagen.
Der Wechselstrom wurde so an die Aluminiumbahn, die durch die Vorrichtung hindurchgeleitet wurde, angelegt, dass die Elektrizitätsmenge zum Erzielen der anodischen Reaktion auf der Aluminiumbahn 200 Coulombs/dm² betragen konnte.
Der auf diese Weise an die Zellen angelegte Wechselstrom wies eine Frequenz von 60 Hz auf, und seine Impulsanstiegszeit Tp, die in Anspruch genommen wird, um von seiner Basis (0) zu seiner Plus- oder Minusspitze zu gelangen, betrug 0,1 Millisekunden. Der Spitzenstrom Iap auf der Seite des Anodenzyklus und der Spitzenstrom Icp auf der Seite des Kathodenzyklus lagen beide jeweils bei 50 A/m²; und das Verhältnis Icp/Iap Iag bei 1,0. Die Stromlast betrug 0,5.
Die Ruhezeit in der vorgeschalteten und in der nachgeschalteten elektrolytischen Wechselstromzelleinheit betrug 0,5 Sekunden auf der Seite der Flüssigkeitszuführdüse, und sie betrug 0,017 Sekunden in den Isolatoren. Die zwei elektrolytischen Wechselstromzelleinheiten waren so angeordnet, dass die Zeit, innerhalb derer sich die Aluminiumbahn von der erstgenannten Zelle zu der letztgenannten Zelle bewegt, bei 0,5 Sekunden liegen konnte.
Die Beziehung zwischen der Temperatur und der elektrischen Leitfähigkeit der wässrigen Salzsäurelösung und der Geschwindigkeit der Ultraschallausbreitung durch die Lösung, und der Salzsäurekonzentration sowie der Aluminiumionenkonzentration der Lösung wurde zu erfasst. Während des Prozesses der Elektrolyse wurden eine Salzsäure mit einer Konzentration von 35 Gew.-% und Wasser auf geeignete Weise durch die Zuführdüsen in die zwei Zellengehäuse eingeführt, währenddessen die übermäßige wässrige Salzsäurelösung zum Überlaufen gebracht wurde, um dadurch die Temperatur und die elektrische Leitfähigkeit der verwendeten wässrigen Salzsäurelösung und darüber hinaus die Geschwindigkeit der Ultraschallausbreitung durch die Lösung so zu steuern, dass sie über die gesamte Zeit hinweg konstant gehalten wurde, und um die Salzsäure konzentration und die Aluminiumionenkonzentration des Bades in einer jeden Zelle ebenfalls so zu steuern, dass diese über die gesamte Zeit hinweg konstant waren.
(d) Schritt des alkalischen Ätzens:
Durch die Verwendung einer Alkalilösung, die dieselbe Zusammensetzung hatte, wie die, die in dem Ätzschritt (b) verwendet wurde, jedoch eine Flüssigkeitstemperatur von 45°C aufwies, wurde die Aluminiumbahn, die in dem vorangehenden Schritt (c) bearbeitet worden ist, so unter einer Steuerung geätzt, dass der Grad der Auflösung der Oberfläche der Aluminiumbahn, die in dem vorangehenden Schritt mechanisch aufgeraut worden ist, oder anders formuliert, der Grad der Auflösung der Oberfläche der Aluminiumbahn, die in dem sich anschließenden Schritt einer elektrolytischen Aufrauung unterzogen werden soll, bei 0,3 g/m² liegen konnte, während der Grad der Auflösung der gegenüberliegenden Oberfläche der Aluminiumbahn bei 2 g/m² liegen konnte.
Die Natriumhydroxidkonzentration und die Aluminiumionenkonzentration in der in diesem Schritt verwendeten Alkalilösung wurden auf dieselbe Weise gesteuert, wie in dem Ätzschritt (b) vor der Elektrolyse.
(e) Nachbeizschritt mit Schwefelsäure
Es wurde eine wässrige Schwefelsäurelösung, die dieselbe Zusammensetzung und dieselbe Temperatur aufwies, wie jene der wässrigen Schwefelsäurelösung, die in dem Ätzschritt (b) verwendet wurde, für 60 Sekunden auf beide Oberflächen der Aluminiumbahn aufgesprüht, um sie nachzubeizen.
(f) Elektrolytischer Oberflächen-Aufrauschritt
In einer wässrigen Salpetersäurelösung, die durch Mischen einer verdünnten Salzsäure mit einer Konzentration von 10 g/Liter mit Aluminiumnitrat und Ammoniumnitrat, um eine Aluminiumionenkonzentration von 10 g/Liter und eine Ammoniumionenkonzentration von 140 ppm zu erzielen und durch Vorhandensein einer Badtemperatur von 50°C erzeugt wurde, wurde die Aluminiumbahn anschließend einer elektrolytischen Oberflächenaufrauung unterzogen, indem ein Wechselstrom daran angelegt wurde.
In diesem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt wurde die in 1 dargestellte Vorrichtung zum elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauen verwendet, wie dies in dem elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt (c) der Fall war.
In diesem Schritt wurde derselbe trapezförmige Wechselstrom, wie der, der in dem elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt (c) an die Aluminiumbahn angelegt wurde, an die Aluminiumbahn angelegt, mit der Ausnahme, dass die Impulsanstiegszeit tp in diesem Schritt 0,2 Millisekunden betrug, so dass die Elektrizitätsmenge zum Erzielen der anodischen Reaktion auf der Aluminiumbahn, die durch die Vorrichtung hindurchgeleitet wurde, bei 200 Coulombs/dm² liegen konnte. Die Ruhezeit in diesem Schritt war dieselbe wie die in dem elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt (c).
Es wurde eine Alkalilösung mit einer Natriumhyroxidkonzentration von 26 Gew.-% und mit einer Aluminiumionenkonzentration von 6,5 Gew.-%, die eine Flüssigkeitstemperatur von 45°C aufweist, durch die Sprühdüse auf beide Oberflächen der Aluminiumbahn aufgesprüht, so wie dies voranstehend beschrieben worden ist, um diese zu ätzen. Der Grad der Auflösung der auf diese Weise geätzten Oberflächen der Aluminiumbahn lag bei 1 g/m².
Die Natriumhydroxidkonzentration und die Aluminiumionenkonzentration in der in diesem Schritt verwendeten Alkalilösung wurden auf dieselbe Weise gesteuert, wie jene in der Alkalilösung, die in dem Ätzschritt (b) vor der Elektrolyse verwendet wurde.
(h) Abschließender Nachbeizschritt:
Es wurde eine wässrige Schwefelsäurelösung, die dieselbe Zusammensetzung wie die aufweist, die in der Nachbeizbehandlung in dem Ätzschritt (b) vor der Elektrolyse verwendet worden ist, für 10 Sekunden auf beide Oberflächen der Aluminiumbahn aufgesprüht, um diese einem abschließenden Nachbeizen zu unterziehen.
Die Beziehung zwischen der Schwefelsäurekonzentration und der Aluminiumionenkonzentration in der wässrigen Schwefelsäurelösung, die zu verwenden ist, und der Temperatur, dem spezifischen Gewicht und der elektrischen Leitfähigkeit der wässrigen Schwefelsäurelösung wurden vorangehend erfasst. Während des abschließenden Nachbeizprozesses wurden die Temperatur, das spezifische Gewicht und die elektrische Leitfähigkeit der verwendeten Schwefelsäurelösung überwacht, und auf Basis der entsprechenden Daten wurden Wasser und eine Schwefelsäure mit einer Konzentration von 50 Gew.-% zu der Prozesslösung, der Schwefelsäurelösung, hinzugegeben, so dass die Prozesslösung während des Prozesses über die gesamte Zeit hinweg die vorgegebene, kanstante Schwefelsäurekonzentration und die Aluminiumionenkonzentration beibehalten konnte.
2. Anodische Oxidation
In einer wässrigen Schwefelsäurelösung, die einen Schwefelsäuregehalt von 100 g/Liter und einen Aluminiumionengehalt von 5 g/Liter sowie eine Badtemperatur von 50°C aufwies, wurde die Aluminiumbahn, die in dem vorangehenden Prozess einer Oberflächen-Aufraubehandlung unterzogen worden ist, einer anodischen Oxidation unterzogen, wobei ein Gleichstrom an die Aluminiumbahn angelegt wurde. Die Bedingung für die anodische Oxidation wurde so gesteuert, dass die Menge des Oxidfilms, der auf der Aluminiumbahn ausgebildet wurde, 2,4 g/m² sein konnte.
Die Schwefelsäurekonzentration und die Aluminiumionenkonzentration in der wässrigen Schwefelsäurelösung, die in dieser Behandlung verwendet wurde, wurden auf dieselbe Weise gesteuert, wie in dem abschließendem Nachbeizschritt (h).
Die Oberfläche der auf diese Weise bearbeiteten Aluminiumbahn, die als Träger für Flachdruckplatten dienen soll, wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop abgerastert, wobei das Ausbilden von honigwabenartigen Vertiefungen in der Oberfläche davon bestätigt wurde.
<<Erzeugung der Flachdruckplatten-Vorläufer>>
Auf der Oberfläche des Trägers für Flachdruckplatten, die in Übereinstimmung mit dem vorangehend beschriebenen Prozess aufgeraut worden ist, wurde eine Grundierungsschicht und eine lichtempfindliche Plattenschicht ausgebildet. Die Plattenschicht wurde durch Auftragen einer lichtempfindlichen Harzlösung auf die Grundierungsschicht und durch Trocknen der Lösung darauf ausgebildet. Der positive Flachdruckplatten-Vorläufer, der auf diese Weise erzeugt wurde, wies eine Trockenfilm-Dicke von 2,0 g/m² auf.
Der Vorläufer wurde bildweise belichtet und anschließend zu einer Flachdruckplatte entwickelt. Diese wurde versuchsweise beim Offset-Druck ausprobiert, und es wurde bestätigt, dass die in dem Versuch verwendete Flachdruckplatte guter Qualität war, und weder schwerwiegende Tintenflecken auf Drucksachen noch ein Beflecken des Bezuges verursachte.
Vergleichendes Beispiel 1:
Es wurde derselbe Prozess wie der aus Beispiel 1 wiederholt, mit der Ausnahme, dass die Aluminiumbahn, die in dem Schritt des alkalischen Ätzens (d) nachgebeizt worden ist, mit einer wässrigen Salpetersäurelösung und nicht mit einer Schwefelsäurelösung, wie dies in Schritt (e) in dem Beispiel 1 der Fall war, nachgebeizt wurde. Die wässrige Salpetersäurelösung, die hierin verwendet wurde, wies eine Säurekonzentration von 10 g/Liter und eine Aluminiumionenkonzentration von 5 g/Liter auf, und ihre Flüssigkeitstemperatur lag bei 45°C.
In diesem Prozess wurde die auf diese Weise bearbeitete Aluminiumbahn anschließend einer elektrolytischen Oberflächenaufrauung in Schritt (f) unterzogen. Genauer gesagt, wurde in der in 1 dargestellten Vorrichtung zum elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauen die Aluminiumbahn mit einer wässrigen Salpetersäurelösung bearbeitet, die eine Säurekonzentration von 10 g/Liter, eine Aluminiumionenkonzentration von 5 g/Liter und eine Badtemperatur von 50°C aufwies, wobei ein trapezförmiger Wechselstrom daran angelegt wurde. In der hierin verwendeten Vorrichtung waren die zwei elektrolytischen Wechselstromzelleinheiten jedoch so angeordnet, dass die Aluminiumbahn, die darin bearbeitet worden ist, 10 Sekunden dafür benötigte, um von der vorgeschalteten Zelle zu der nachgeschalteten Zelle transportiert zu werden.
Die Impulsanstiegszeit tp des hierin verwendeten trapezförmigen Wechselstroms betrug 1,5 Millisekunden; die anderen diesbezüglichen Faktoren, die Frequenz, die Spannung, Iap, Icp, das Verhältnis Icp/Iap und die Stromlast, waren jedoch allesamt dieselben, wie jene des trapezförmigen Wechselstroms, der in dem Beispiel 1 verwendet wurde.
Hierbei wurde der an die Aluminiumbahn angelegte Wechselstrom so gesteuert, dass die Elektrizitätsmenge zum Erzielen der anodischen Reaktion auf der Aluminiumbahn in beiden elektrolytischen Wechselstromzellen, während die Aluminiumbahn durch die Zellen hindurchgeleitet wurde, 100 Coulombs/dm² betragen konnte.
Auf dieselbe Weise und unter derselben Bedingung wie in dem Beispiel 1, mit der Ausnahme der voranstehend erwähnten Punkte, wurde eine Aluminiumbahn so bearbeitet, dass sie einen Träger für Flachdruckplatten ergab.
Die Oberfläche der auf diese Weise bearbeiteten Aluminiumbahn, die als Träger für Flachdruckplatten dienen soll, wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop abgerastert, und dadurch wurde bestätigt, dass offensichtlich nicht gleichmäßige honigwabenartige Vertiefungen in der Oberfläche der Aluminiumbahn ausgebildet worden sind, was von dem Beispiel 1 abweicht.
Auf der aufgerauten Oberfläche des Trägers für Flachdruckplatten wurde eine Plattenschicht ausgebildet. Der resultierende Flachdruckplatten-Vorläufer wurde bildweise belichtet und anschließend zu einer Flachdruckplatte entwickelt.
Diese wurde beim Offset-Drucken versuchsweise ausprobiert, wobei die Drucksachen schwerwiegende Tintenflecke in den Nicht-Bildbereichen davon aufwiesen, und wobei der verwendete Bezug befleckt wurde.
Vergleichendes Beispiel 2:
Es wurde ein Träger für Flachdruckplatten auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 1 erzeugt, für den jedoch der elektrolytische Oberflächen-Voraufrauschritt (c), der Schritt alkalischen Ätzens (d) und der Nachbeizschritt (e) mit Schwefelsäure allesamt in dem Prozess der Oberflächen-Aufrauung der Aluminiumbahn weggelassen wurden.
Die Oberfläche des Trägers für Flachdruckplatten wurde mit einem Rasterefektronenmikroskop abgerastert, wodurch bestätigt wurde, dass die honigwabenartigen Vertiefungen, die darauf ausgebildet waren, im Vergleich mit jenen aus dem Beispiel 1 affensichtlich nicht gleichmäßig waren, und es wurden viele Schlieren in der Oberfläche des Trägers erfasst.
Auf der aufgerauten Oberfläche des Trägers für Flachdruckplatten wurde eine Plattenschicht auf dieselbe Weise ausgebildet, wie dies in dem Beispiel 1 der Fall war. Der resultierende Flachdruckplatten-Vorläufer wurde bildweise belichtet und anschließend zu einer Flachdruckplatte entwickelt. Diese wurde beim Offset-Drucken versuchsweise ausprobiert, wobei die Drucksachen schwerwiegende Tintenflecke in den Nicht-Bildbereichen davon aufwiesen, und wobei der verwendete Bezug befleckt wurde.
Beispiel 2:
Es wurde ein Träger für Flachdruckplatten auf dieselbe Weise erzeugt, wie in dem Beispiel 1, und er wurde durch reines kochendes Wasser gezogen, um dadurch die Mikroporen in dem auf dem Träger ausgebildeten Oxidfilm zu versiegeln.
Der Träger, der auf diese Weise der Porenversiegelungsbehandlung unterzogen worden ist, wurde anschließend für 14 Sekunden in eine wässrige Natriumsilikatlösung mit einer Natriumsilikatkonzentration von 2,5 Gew.-% und mit einer Flüssigkeitstemperatur von 70°C getaucht, um dadurch die Oberfläche davon hydrophil zu machen.
Die Beziehung zwischen der Natriumsilikatkonzentration der wässrigen Natriumsilikatlösung, die für diese Behandlung verwendet werden soll, und der Flüssigkeitstemperatur und der elektrischen Leitfähigkeit der Lösung wurde vorangehend erfasst. Während des Prozesses dieser Behandlung wurden die Flüssigkeitstemperatur und die elektrische Leitfähigkeit der wässrigen Natriumsilikatlösung, die verwendet wurde, überwacht, um die Natriumsilikatkonzentration der Lösung zu erfassen; und es wurden Wasser sowie Stamm-Natriumsilikat Nr.3 so zu der Lösung hinzugegeben, dass die Lösung während des Prozesses über die gesamte Zeit hinweg die vorgegebene konstante Natriumsilikatkonzentration aufweisen konnte.
Nachdem die Oberfläche auf diese Weise hydrophil gemacht wurde, wurde eine Plattenschicht auf dieselbe Weise darauf ausgebildet, wie dies in dem Beispiel 1 der Fall war. Der resultierende Flachdruckplatten-Vorläufer wurde so bearbeitet, dass er ein Bild darauf aufwies, und auf diese Weise wurde eine Flachdruckplatte fertiggestellt.
Die Flachdruckplatte wurde auf ihre Druckeigenschaften getestet. Dadurch wurde bestätigt, dass die Druckplatte eine gute Qualität aufwies und weder schwerwiegende Tintenflecken auf Drucksachen noch ein Beflecken des Bezuges verursachte.
Beispiel 3:
Es wurde ein Träger für Flachdruckplatten auf dieselbe Weise erzeugt, wie dies in Beispiel 1 der Fall war, und er wurde anschließend für fünf Sekunden in eine wässrige Natriumsifikatlösung, die eine Natriumsilikatkonzentration von 2,5 Gew.-% und eine Flüssigkeitstemperatur von 70°C aufwies, getaucht, um dadurch die Oberfläche davon hydrophil zu machen. Anschließend wurde der Träger durch Aufsprühen von Wasser gewaschen und anschließend getrocknet.
Nachdem der Träger getrocknet war, wurde er auf dieselbe Weise bearbeitet, wie in dem Beispiel 1, um eine Plattenschicht auf seiner Oberfläche auszubilden. Der resultierende Flachdruckplatten-Vorläufer wurde anschließend so bearbeitet, dass er ein Bild darauf aufwies, und auf diese Weise wurde eine Flachdruckplatte fertiggestellt.
Die Flachdruckplatte wurde anschließend auf ihre Druckeigenschaften getestet. Dadurch wurde bestätigt, dass die Druckplatte eine gute Qualität aufwies und weder schwerwiegende Tintenflecke auf den Drucksachen noch ein Beflecken des Bezuges verursachte.
Beispiel 4:
Es wurde ein Träger für Flachdruckplatten auf dieselbe Weise erzeugt, wie dies in Beispiel 1 der Fall war, und anschließend wurde dieser für fünf Sekunden in eine wässrige Polyvinylsulfonsäurelösung mit einer Konzentration von 1,5 Gew.-%, die eine Flüssig keitstemperatur von 70°C aufwies, getaucht, um die Oberfläche davon hydrophil zu machen.
Die Beziehung zwischen der Konzentration der Polyvinylsuifonsäure der wässrigen Lösung, die für diese Behandlung zu verwenden ist, und der Temperatur und der elektrischen Leitfähigkeit der Lösung wurden vorangehend erfasst. Während dem Prozess dieser Behandlung wurden die Flüssigkeitstemperatur und die elektrische Leitfähigkeit der wässrigen Lösung, die verwendet wurde, überwacht, um die Konzentration der Polyvinylsulfonsäure der Lösung zu erfassen; und es wurden Wasser und Stamm-Polyvinylsulfonsäure zu der Lösung hinzugegeben, so dass die Lösung während des Prozesses stets die vorgegebene konstante Säurekonzentration aufweisen konnte.
Nachdem der Träger auf diese Weise hydrophil gemacht worden ist, wurde er gewaschen, indem Wasser auf ihn gesprüht wurde, und anschließend wurde er getrocknet.
Nachdem er getrocknet worden ist, wurde er auf dieselbe Weise bearbeitet, wie dies in dem Beispiel 1 der Fall war, um eine Plattenschicht auf seiner Oberfäche auszubilden. Der resultierende Flachdruckplatten-Vorläufer wurde anschließend so bearbeitet, dass er ein Bild darauf aufwies, und auf diese Weise wurde eine Flachdruckplatte fertiggestellt.
Die Flachdruckplatte wurde anschließend auf ihre Druckeigenschaften getestet. Dadurch wurde bestätigt, dass die Druckplatte eine gute Qualität aufwies und weder schwerwiegende Tintenflecke auf den Drucksachen noch ein Beflecken des Bezuges verursachte.
Beispiel 5:
Es wurde ein Träger für Flachdruckplatten auf dieselbe Weise erzeugt, wie dies in Beispiel 1 der Fall war, für den jedoch eine Aluminiumplatte, die aus einem Barren aus wieder verwertetem Aluminium hergestellt wurde, die eine Zusammensetzung aufwies, die in der untenstehenden Tabelle 2 dargestellt ist, verwendet wurde. In dem Prozess des Oberflächen-Aufrauens der Aluminiumplatte wurde dafür der mechanische Oberflächen-Aufrauschritt (a) weggelassen.
Tabelle 2 (Einheit: Gew.-%)
Die Oberfläche des Trägers wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop abgerastert, und dadurch wurde bestätigt, dass gleichmäßige honigwabenartige Vertiefungen darauf ausgebildet worden sind.
Auf der aufgerauten Oberfläche des Trägers wurde eine Plattenschicht auf dieselbe Weise, wie dies in Beispiel 1 der Fall war, ausgebildet, und der resultierende Flachdruckplatten-Vorläufer wurde bildweise belichtet und entwickelt, um eine Flachdruckplatte zu erzeugen.
Sie wurde beim Drucken versuchsweise ausprobiert, und es stellte sich heraus, dass die Flachdruckplatte eine gute Qualität aufwies und keine schwerwiegenden Tintenflecke in den Nicht-Bildbereichen der Drucksachen verursachte.
Wie dies ausführlich voranstehend beschrieben worden ist, stellt diese Ausführungsform der Erfindung ein Verfahren zum Erzeugen von Trägern von Flachdruckplatten bereit, mit dem selbst Aluminiumplatten, die aus Barren aus wieder verwertetem Aluminium hergestellt worden sind, verwendet werden können, und mit dem die Träger gute Flachdruckplatten mit einer ausgezeichneten Druckbeständigkeit erzeugen, die weder schwerwiegende Tintenflecken auf Drucksachen noch ein Beflecken des Bezuges verursachen, und darüber hinaus stellt die Ausführungsform die in dem Verfahren erzeugten Träger für Flachdruckplatten sowie die Flachdruckplatten-Vorläufer, die den Träger umfassen, bereit.
Zweite Ausführungsform:
1. Aluminiumplatte:
Die Aluminiumplatte, die in dieser Ausführungsform bearbeitet werden soll, umfasst herkömmliche gewalzte Aluminiumplatten für Träger für Flachdruckplatten sowie Bleche oder Platten von Aluminiumbarren, die aus verschrottetem, recyceltem Aluminium, und so weiter, wieder verwertet wurden.
Die in dieser Ausführungsform zu bearbeitende Aluminiumplatte kann dieselbe sein, wie die, die in der voranstehend beschriebenen ersten Ausführungsform bearbeitet worden ist, und ihre Einzelheiten werden dementsprechend an dieser Stelle weggelassen.
2. Oberflächen-Aufraubehandlung und anodische Oxidation
Das Verfahren dieser Ausführungsform zum Erzeugen eines Trägers für Flachdruckplatten kann lediglich den Schritt des Aufrauens der Oberfläche der Aluminiumplatte oder zusätzlich zu dem Oberfächen-Aufrauschritt einen Schritt anodischer Oxidation des Oxidierens der aufgerauten Oberfläche der Aluminiumplatte umfassen.
Wie dies bereits voranstehend beschrieben worden ist, wird die Aluminiumplatte in einem Modus der Wechselstrom-Elektrolyse einer Oberflächen-Aufrauung in einer wässrigen Salpetersäurelösung, die eine spezifische Zusammensetzung aufweist, unterzogen. Bevor die Aluminiumplatte auf eine solche Weise einem elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauen unterzogen wird, kann die Aluminiumplatte einem mechanischen Oberflächen-Aufrauen unterzogen und geätzt werden; und nach dem die Oberfläche bei einem Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauen elektrolytisch aufgeraut wurde, kann sie erneut geätzt werden. Zusätzlich dazu kann die Aluminiumplatte nach dem Ätzen aber vor dem elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauen nachgebeizt werden, und sie kann nach dem zweiten Ätzen erneut nachgebeizt werden.
In dem Fall, in dem die Aluminiumplatte mit aufgerauter Oberfläche nach dem elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauprozess einer anodischen Oxidation unterzogen wird, kann der Oxidfilm, der in der Behandlung der anodischen Oxidation darauf ausgebildet wird, hydrophil gemacht werden, oder er kann einer Porenversiegelungsbehandlung unterzogen werden, um die Mikroporen darin zu versiegeln.
Im Folgenden werden die Oberflächen-Aufraubehandlung und die anodische Oxidation der Aluminiumplatte ausführlich beschrieben.
(2-1) Elektrolytische Wechselstrom-Oberflächen-Aufraubehandlung
In dem Verfahren dieser Ausführungsform zum Erzeugen eines Trägers für Flachdruckplatten wird eine Aluminiumplatte, wie die, die voranstehend beschrieben wurde, in einer wässrigen Salpetersäurelösung, die eine Salpeterionenkonzentration und eine Aluminiumionenkonzentration von jeweils 5 bis 15 g/Liter aufweist und die eine Ammoniumionenkonzentration von 10 bis 300 ppm aufweist, und die eine Badetemperatur hat, die zwischen 50 und 80°C fällt, bearbeitet, indem ein Wechselstrom daran angelegt wird.
Die Säurelösung kann zusätzlich zu den voranstehend erwähnten Komponenten auch beliebige von Fe-, Si- Cu-, Mg-, Mn-, Zn-, Cr- und Ti-Metallen enthalten, die im Allgemeinen in Aluminiumplatten enthalten sind.
Die Säurelösung, die im Wesentlichen aus Salpetersäure besteht, kann beispielsweise durch Hinzugeben von Aluminiumnitrat und Ammoniumnitrat zu einer verdünnten Salpetersäure, die eine Konzentration von 5 bis 15 g/Liter aufweist, so erzeugt werden, dass die Aluminiumionenkonzentration und die Ammoniumionenkonzentration der resultierenden Lösung in den vorgegebenen Bereich fällt, wie dies voranstehend erwähnt worden ist.
Der Wechselstrom, der in dem elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauschritt an die Aluminiumplatte anzulegen ist, kann eine beliebige Wellenform von Sinuswellen, Rechteckwellen, Dreieckswellen oder trapezförmigen Wellen aufweisen. Von den genannten Wellen werden die Rechteckwellen und die trapezförmigen Wellen bevorzugt.
Die Frequenz des Wechselstroms fällt aus Sicht der Kosten zum Konstruieren der Stromversorgungseinheit vorzugsweise zwischen 40 und 120 Hz.
Darüber hinaus fällt das Verhältnis der Elektrizitätsmenge QA des Wechselstroms, der an die als eine Anode fungierende Aluminiumplatte angelegt wird, zu der Elektrizitätsmenge QC des Wechselstroms, der an die als eine Kathode fungierende Aluminiumplat te angelegt wird, sprich das Verhältnis QC/QA, vorzugsweise zwischen 0,9 und 1, da die Aluminiumplatte so bearbeitet wird, dass sie gleichmäßige honigwabenartige Vertiefungen darauf ausgebildet hat. Das Verhältnis QC/QA fällt stärker bevorzugt zwischen 0,95 und 0,99.
In dem Fall, in dem die elektrolytische Wechselstrom-Oberflächen-Aufraubehandlung in einer elektrolytischen Wechselstromzelle durchgeführt wird, die Hilfsanoden darin ausgebildet hat, ist es erstrebenswert, dass das Verhältnis QC/QA so gesteuert wird, dass es in den vorgegebenen Bereich fällt, indem der Anodenstrom so gesteuert wird, dass er in Richtung der Hilfselektroden unterteilt wird, wie dies beispielsweise in den Dokumenten JP-A 43500/1985 und 52098/1989 offenbart wird.
Es wird am stärksten bevorzugt, dass die Wechselstromlast in der elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufraubehandlung bei 0,5 liegt, da unter dieser Bedingung die Aluminiumplatte gleichmäßig aufgeraut werden kann, und da so die Stromversorgungseinheit leicht zu konstruieren ist. Die Wechselstromlast, auf die in dieser Ausführungsform verwiesen wird, wird durch ta/T dargestellt, wobei T die Wechselstromperiode ist und ta die Zeit für die anodische Reaktion der Aluminiumplatte (anodische Reaktionszeit) ist.
Durch ihre kathodische Reaktion nimmt die Oberfläche der Aluminiumplatte Belag aus im Wesentlichen Aluminiumhydroxid auf, und der Oxidfilm, der darauf ausgebildet ist, wird aufgelöst oder zerrissen. Der aufgelöste oder zerrissene Teil des Oxidfilms kann der Ausgangspunkt für die Vertiefungsbildungsreaktion in der nächsten Phase der anodischen Reaktion der Aluminiumplatte sein. Dementsprechend ist die geeignete Auswahl der Wechselstromlast bei dieser Behandlung von größter Wichtigkeit, um die Oberfläche der Aluminiumplatte gleichmäßig aufrauen zu können.
In dem Fall, in dem der Wechselstrom, der an die Aluminiumplatte angelegt wird, ein trapezförmiger Strom ist, fällt die Impulsanstiegszeit Tp, über die der Wechselstromwert von 0 bis zu der Plus- oder der Minusspitze reicht, vorzugsweise zwischen 0,01 und 0,03 Millisekunden. Wenn die Impulsanstiegszeit Tp in den vorgegebenen Bereich fällt, werden gleichmäßigere honigwabenartige Vertiefungen in der bearbeiteten Oberfläche der Aluminiumplatte ausgebildet.
Im Gegensatz dazu kann der Spitzenstrom Iap in dem Anodenzyklus des Wechselstroms und der Spitzenstrom Icp in dem Kathodenzyklus davon so vorgegeben werden, dass die Gesamtelektrizitätsmenge für die anodische Reaktion der Aluminiumplatte von dem Beginn bis zum Ende der elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufraubehandlung zwischen 1 und 500 Coulombs/cm² fällt. Vorzugsweise liegen sie jedoch jeweils bei 10 und 200 A/dm². Darüber hinaus fällt das Verhältnis Icp/Iap vorzugsweise zwischen 0,9 und 1,5.
Für die elektrolytische Wechselstrom-Oberflächen-Aufraubehandlung wird der Wechselstrommodus vorzugsweise zu gesteuert, dass er wenigstens eine Ruhezeit einschließt, über die kein Wechselstrom zwischen der Aluminiumplatte und der Gegenelektrode fließt, und so, dass die Ruhezeit zwischen 0,001 und 0,6 Sekunden/pro Mal fällt. Unter der vorgegebenen Bedingung werden gleichmäßige honigwabenartige Vertiefungen auf der gesamten Oberfläche der Aluminiumplatte ausgebildet.
Für die elektrolytische Wechselstrom-Oberflächen-Aufraubehandlung kann eine elektrolytische Wechselstromzelleinheit verwendet werden, die eine elektrolytische Zelle, die darin eine wässrige Salpetersäurelösung enthält, und die es einer Aluminiumplatte ermöglicht, durch diese Zelle hinduruchgeleitet zu werden, eine Stromversorgungsquelle zum Anlegen eines Wechselstroms an die Aluminiumplatte, die durch die wässrige Salpetersäurelösung in der elektrolytischen Zelle gezogen wird und eine Gegenelektrode umfasst, die so im Inneren der Zelle angeordnet ist, dass sie der Aluminiumplatte gegenüberliegt, während die Platte darin auf Basis von Wechselstrom elektrolytisch bearbeitet wird.
Für die Behandlung können verschiedene Typen von elektrolytischen Wechselstromzellen verwendet werden, so beispielsweise vertikale elektrolytische Wechselstromzellen, flache elektrolytische Wechselstromzellen, wie in dem Dokument JP-B 30036/1986, und radiale elektrolytische Wechselstromzellen, wie in dem Dokument JP-A 300843/1996 verwendet werden; es werden jedoch radiale elektrolytische Wechselstromzellen bevorzugt.
Ein Beispiel einer radialen elektrolytischen Wechselstromzelle, die hierin verwendet werden kann, umfasst eine Trommel, die im Inneren des Zellengehäuses so angeordnet ist, dass die zu bearbeitende Aluminiumbahn darum gewickelt wird, ein Paar halbzylindrische Elektroden, die im Inneren des Zellengehäuses so angeordnet sind, dass sie die Trommel umgeben und über einen dazwischen angeordneten Isolator miteinander verbunden sind, um einen Zylinder auszubilden, sowie eine Stromversorgungsrolle, als ein Beispiel von Stromversorgungsquellen, die außerhalb des Zellengehäuses angeordnet ist und sich dreht, während sie mit der Aluminiumbahn in Kontakt gebracht wird. So kann die Stromversorgungsrolle beispielsweise durch Homogenisieren einer Gussrolle aus reinem Industriealuminium bei einer hohen Temperatur erzeugt werden, um dadurch die Al-Fe-Kristallsubstanz in wenigstens der Oberfläche davon in eine einzige Phase von im Wesentlichen Al₃Fe umzuwandeln, um die Korrosionsbeständigkeit der Rolle zu verbessern, wie dies in dem Dokument JP-B 50138/1986 beschrieben wird.
(2-2) Mechanische Oberflächen-Aufraubehandlung:
Wenn dies gewünscht wird, kann die Aluminiumplatte auf ihrer Oberfläche mechanisch aufgeraut werden. In dem mechanischen Oberflächen-Aufrauschritt werden im Allgemeinen eine oder beide Oberflächen der Aluminiumplatte mit einer Bürstenrolle, die eine große Anzahl von Borsten aus synthetische Harz, beispielsweise Nylon (Handelsmarke), Polypropylen- oder Polyvinylchloridharz, aufweist, die in der gesamten Oberfläche eines zylindrischen Rollenkörpers eingesetzt sind, abgerieben, um dadurch die Oberflächen auf mechanische Art und Weise aufzurauen. Für die mechanische Oberflächen-Aufraubehandlung kann darüber hinaus anstatt der Bürstenrolle auch eine Schleifrolle mit einer abschleifenden Schicht auf ihrer Oberfläche verwendet werden.
Die mechanische Oberflächen-Aufraubehandlung in dieser Ausführungsform kann dieselbe sein wie die in der voranstehend beschriebenen Ausführungsform, und dementsprechend werden ihre Einzelheiten hierin weggelassen.
(2-3) Ätzbehandlung:
Wenn dies ebenfalls gewünscht wird, kann die Aluminiumplatte auch geätzt werden. Um die Aluminiumplatte zu ätzen, wird diese mit einem alkalischen Mittel in Kontakt gebracht.
Um die Aluminiumplatte mit einem alkalischen Mittel in Kontakt zu bringen, kann beispielsweise ein Verfahren des kontinuierlichen Hindurchziehens der Aluminiumplatte durch einen Tank, der mit einem alkalischen Mittel gefüllt ist; ein Verfahren, bei dem die Aluminiumplatte in den Tank eingetaucht wird; oder ein Verfahren, bei dem ein alkalisches Mittel auf die Oberfläche der Aluminiumplatte aufgesprüht wird, angewendet werden.
Für das alkalische Mittel wird beispielsweise eine Lösung aus einem Alkalihydroxid oder aus einem Alkalimetallsalz verwendet. Die Konzentration von Alkalihydroxid oder von Alkalimetallsalz der Lösung fällt vorzugsweise zwischen 0,01 und 30 Gew.-%; und die Temperatur davon fällt vorzugsweise zwischen 20 und 90°C.
Das Alkalihydroxid umfasst beispielsweise Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid.
Das Alkalimetallsalz umfasst beispielsweise Alkalimetallsilikate, wie beispielsweise Natriummetasilikat, Natriumsilikat, Kaliummetasilikat und Kaliumsilikat; Alkalimetallcarbonate, wie beispielsweise Natriumcarbonat und Kaliumcarbonat; Alkalimetallaluminate, wie beispielsweise Natriumaluminat und Kaliumaluminat; Alkalimetallaldonate, wie beispielsweise Natriumglukonat und Kaliumglukonat; und Alkalimetallhydrogenphosphate, wie beispielsweise sekundäres Natriumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, tertiäres Natriumphosphat und tertiäres Kaliumphosphat. Für das alkalische Mittel werden insbesondere eine Lösung aus einer Alkalihydroxidlösung und eine Lösung aus einem Alkalihydroxid und einem Alkalimetallaluminat, wie beispielsweise jenen, die voranstehend erwähnt worden sind, bevorzugt, da ihre Ätzkraft hoch ist und sie kostengünstig sind.
Vorzugsweise fällt der Grad des Ätzens der Aluminiumplatte zwischen 0,1 und 20 g/m², stärker bevorzugt zwischen 1 und 15 g/m² und noch stärker bevorzugt zwischen 2 und 10 g/m². Die Ätzzeit fällt vorzugsweise zwischen 5 Sekunden und 5 Minuten. Insofern der Grad des Ätzens und die Ätzzeit beide in den vorgegebenen Bereich fallen, verbleiben die feinen Ätzhügel, die auf der Oberfläche der Aluminiumplatte durch die mechanische Oberflächen-Aufraubehandlung ausgebildet sind, immer noch bis zu einem gewünschten Grad wie sie sind. Dementsprechend kann die auf diese Weise bearbeitete Aluminiumplatte ein Träger sein, der gute Flachdruckplatten hervorbringt, die ein hohes Wasserrückhaltevermögen in dem Nicht-Bildbereich aufweisen, und die in der Lage sind, den Nicht-Bildbereich davor zu schützen, Tinte aufzunehmen, wodurch ein Beflecken des Bezuges verursacht werden würde. Mit der Aluminiumplatte, die als ein Träger fungiert, weisen die Flachdruckplatten-Vorläufer ein gutes Erscheinungsbild auf, und sie können ohne Weiteres zu Flachdruckplatten verarbeitet werden.
Die Ätzbehandlung kann in jeder beliebigen gewöhnlichen Ätzzelle für Aluminiumplatten durchgeführt werden. Die Ätzzelle kann für ein beliebiges eines Batch- oder eines kontinuierlichen Verfahrens verwendet werden. Anstatt eine solche Ätzzelle zu verwenden, kann hierin auch eine gewöhnliche Sprüheinheit zum Aufsprühen eines alkalischen Mittels auf die Aluminiumplatten verwendet werden.
(2-4) Nachbeizbehandlung:
Die geätzte Aluminiumplatte kann nachgebeizt werden, um den schwarzen pulverartigen Belag, der sich auf der Oberfläche der Aluminiumplatte ausgebildet hat, zu entfernen. Der Belag besteht im Wesentlichen aus Oxiden und Hydroxiden aus Fe und so weiter.
Um die Aluminiumplatte nachzubeizen, wird die Aluminiumplatte im Allgemeinen in eine wässrige Säurelösung, die wenigstens eine von Schwefelsäure, Salpetersäure, Salzsäure, Phosphorsäure und Chromsäure enthält, eingetaucht; oder die wässrige Säurelösung wird auf die Oberfläche der Aluminiumplatte aufgesprüht.
Die Konzentration der Säurelösung fällt vorzugsweise zwischen 1 und 500 g/Liter.
Die Säurelösung kann Aluminiumionen und andere Metallionen, die von den unreinen Substanzen wie beispielsweise Fe, in der Aluminiumplatte deriviert sind, enthalten, die hierin aufgelöst werden, jedoch fällt die Menge der Aluminiumionen und anderer Metallionen, die in der Lösung aufgelöst sind, vorzugsweise zwischen 0,1 und 15 g/Liter.
Die Temperatur der Säurelösung fällt vorzugsweise zwischen 20 und 90°C und stärker bevorzugt zwischen 30 und 80°C.
Die Zeit für die Nachbeizbehandlung fällt vorzugsweise zwischen 1 und 180 Sekunden.
Für die Nachbeizbehandlung ist es wünschenswert, die wässrige Säurelösung zu verwenden, die für die elektrolytische Oberflächenbehandlung verwendet wird, da die Restmenge in dem Prozess reduziert werden kann.
Als die wässrige Säurelösung für die Nachbeizbehandlung werden insbesondere eine wässrige Schwefelsäurelösung, die im Wesentlichen aus Schwefelsäure besteht; eine wässrige Salpetersäurelösung, die im Wesentlichen aus Salpetersäure besteht; und eine wässrige Salzsäurelösung, die im Wesentlichen aus Salzsäure besteht, bevorzugt.
(a) Wässrige Schwefelsäurelösung
Die Schwefelsäurekonzentration der wässrigen Schwefelsäurelösung fällt vorzugsweise zwischen 250 und 500 g/Liter. Die Temperatur der Lösung fällt vorzugsweise zwischen 60 und 90°C. Die Lösung kann Aluminiumionen und andere Metallionen enthalten, wie dies bereits voranstehend hierin für die wässrige Säurelösung für die Nachbeizbehandlung beschrieben worden ist. Es ist jedoch wünschenswert, dass die Aluminiumionenkonzentration der wässrigen Schwefelsäurelösung auf so einen Wert beschränkt wird, dass die Lösung keine feste Aluminiumsulfatablagerung in der Lösung bei der Temperatur der Lösung, die voranstehend erwähnt wurde, erzeugt. Genauer gesagt bedeutet das, dass die Aluminiumionenkonzentration der Lösung vorzugsweise zwischen 0,1 und 15 g/Liter und stärker bevorzugt zwischen 0,1 und 10 g/Liter fällt.
Die Nachbeizzeit in der wässrigen Schwefelsäurelösung fällt vorzugsweise zwischen 1 und 180 Sekunden. In dem Fall, in dem die Nachbeizbehandlung in der Lösung vor der voranstehend beschriebenen elektrolytischen Oberflächen-Aufraubehandlung durchgeführt wird, fällt die Nachbeizzeit hierin vorzugsweise zwischen 60 und 120 Sekunden; wenn die Nachbeizbehandlung jedoch vor der anodischen Oxidation, die im Folgenden erwähnt wird, durchgeführt wird, fällt die Nachbeizzeit in der Lösung vorzugsweise zwischen 1 und 10 Sekunden.
(b) Wässrige Salpetersäurelösung
Die Salpetersäurekonzentration der wässrigen Salpetersäurelösung fällt vorzugsweise zwischen 1 und 20 g/Liter. Die Lösung kann wenigstens ein Nitrat, das aus Aluminium nitrat, Natriumnitrat und Ammoniumnitrat ausgewählt wird, enthalten. Vorzugsweise fällt der Nitratgehalt der Lösung jedoch zwischen 1 g/Liter und der Nitratsättigung/Liter. Zusätzlich dazu kann die Lösung auch beliebige von Fe-, Si-, Cu-, Mg-, Mn-, Zn-, Cr- und Ti-Ionen enthalten.
Es wird am stärksten bevorzugt, dass die wässrige Salpetersäurelösung durch Hinzugeben von Aluminiumnitrat und Ammoniumnitrat zu der verdünnten Salpetersäure erzeugt wird, so dass sie eine Salpetersäurekonzentration von 5 bis 15 g/Liter, eine Aluminiumionenkonzentration von 5 bis 15 g/Liter und eine Ammoniumionenkonzentration von 10 bis 300 ppm aufweist.
Die Temperatur der Lösung fällt vorzugsweise zwischen 40 und 80°C und stärker bevorzugt zwischen 50 und 70°C.
(c) Wässrige Salzsäurelösung
Die Salzsäurekonzentration der wässrigen Salzsäurelösung fällt vorzugsweise zwischen 1 und 20 g/Liter. Die Lösung kann wenigstens ein Chlorid, das aus Aluminiumchlorid, Natriumchlorid und Ammoniumchlorid ausgewählt wird, enthalten. Vorzugsweise fällt der Chloridgehalt der Lösung jedoch zwischen 1 g/Liter und der Chloridsättigung/Liter. Zusätzlich dazu kann die Lösung auch beliebige von Fe-, Si-, Cu-, Mg-, Mn-, Zn-, Cr- und Ti-Ionen enthalten.
Es wird am stärksten bevorzugt, dass die wässrige Salzsäurelösung durch Hinzugeben von Aluminiumchlorid und Ammoniumchlorid zu der verdünnten Salzsäure erzeugt wird, so dass sie eine Salzsäurekonzentration von 5 bis 15 g/Liter, eine Aluminiumionenkonzentration von 5 bis 15 g/Liter und eine Ammoniumionenkonzentration von 10 bis 300 ppm aufweist.
Die Temperatur der Lösung fällt vorzugsweise zwischen 10 und 95°C und stärker bevorzugt zwischen 30 und 50°C.
(3) Anodische Oxidationsbehandlung
Die Platte mit aufgerauter Oberfäche kann für eine anodische Oxidation in einer gewöhnlichen Weise bearbeitet sind.
Für ihre anodische Oxidation wird die Aluminiumplatte beispielsweise in einer Elektrolytlösung bearbeitet, die wenigstens eine von Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure und Amidosuifonsäure enthält, indem ein Gleichstrom oder ein pulsierender Strom an die Platte angelegt wird.
Abgesehen von der voranstehend beschriebenen Elektrolytlösung kann für die anodische Oxidation auch eine Elektrolytlösung verwendet werden, die wenigstens eine solche Säurekomponente von Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure und Amidosulfonsäure, sowie Aluminiumionen enthält.
Der elektrolytische Gehalt der Elektrolytlösung fällt vorzugsweise zwischen 1 und 80 Gew.-%; und die Temperatur der Lösung fällt vorzugsweise zwischen 5 und 70°C.
Die anodische Oxidation wird vorzugsweise bis zu solch einem Ausmaß durchgeführt, dass die Menge des Oxidfilms, der dadurch ausgebildet wird, zwischen 0,1 und 10 g/m² fällt, was aus Sicht der Abriebfestigkeit der auf diese Weise bearbeiteten Aluminiumplatte, die als ein Träger für Flachdruckplatten dient, und der Beständigkeit der Flachdruckplatten-Vorläufer, die als den Träger die Aluminiumplatte umfassen, resultiert. Es wird auch bevorzugt, dass die Stromdichte für die anodische Oxidation zwischen 0,5 und 60 A/dm² fällt; und dass die Spannung dafür zwischen 1 und 100 V fällt. Die Zeit für die Elektrolyse für die Behandlung fällt vorzugsweise zwischen 1 Sekunden und 5 Minuten.
Vorzugsweise wird die Aluminiumplatte, die auf diese Weise einen Oxidfilm darauf ausgebildet hat, in eine wässrige Lösung eines Alkalimetallsalzes, wie beispielsweise Natriumsilikat oder Kaliumsilikat, getaucht, um dadurch die Oberfläche der Aluminiumplatte hydrophil zu machen; oder sie wird mit einer hydrophilen Grundierungsschicht eines hydrophilen Vinylpolymers oder einer beliebigen anderen hydrophilen Verbindung beschichtet.
Für die Einzelheiten des Verfahrens, um die Oxidschicht der Aluminiumplatte mit einer wässrigen Lösung aus einem Alkalimetallsilikat, wie beispielsweise Natriumsilikat oder Kaliumsilikat, hydrophil zumachen, wird an dieser Stelle auf die Offenbarungen in den Dokumenten USP 2.714.066 und 3.181.461 verwiesen; und für die Einzelheiten des Verfahrens zum Ausbilden einer solchen hydrophilen Grundierungsschicht über den Oxidfilm auf der Aluminiumplatte wird auf die Offenbarungen in den Dokumenten JP-A 101651/1984 und 149491/1985 verwiesen. Zu dem hydrophilen Vinylpolymer für die Schicht gehören beispielsweise Polyvinylsulfonsäure sowie Copolymere der Sulfonsäuregruppe, die Vinylmonomere als eine Sulfonsäuregruppe mit p-Styrolsulfonsäure- und anderen gewöhnlichen Vinylmononeren, wie beispielsweise Alkyl(meth)acrylate, aufweisen; und zu der hydrophilen Verbindung für die Schicht gehören beispielsweise Verbindungen, die wenigstens eine von NH₂, COOH und Sulfongruppen aufweisen.
Wenn dies gewünscht wird, kann die Aluminiumplatte, die durch anodische Oxidation einen Oxidfilm auf sich ausgebildet hat, mit kochendem Wasser, heißem Wasser oder heißem Dampf in Kontakt gebracht werden, um die Mikroporen in dem Oxidfilm zu versiegeln.
3. Flachdruckplatten-Vorläufer
Der Flachdruckplatten-Vorläufer dieser Ausführungsform kann durch Aufbringen einer lichtempfindlichen Harzlösung oder einer wärmeempfindlichen Harzlösung auf die mechanisch aufgeraute Oberfläche der Aluminiumplatte, die als Träger für die Flachdruckplatte dient, gefolgt von einem Trocknen der Harzlösung in Dunkelheit, erzeugt werden.
Um die lichtempfindliche Harzlösung oder die wärmeempfindliche Harzlösung auf die Aluminiumplatte aufzutragen, können beispielsweise jegliche beliebigen bekannten Verfahren des Aufschleuderns, des Kabelummantelungsverfahrens, des Eintauchens, des Luftbürsten-Streichverfahrens, des Walzbeschichtens oder des Rakelstreichverfahrens angewendet werden.
Das lichtempfindliche Harz, das zum Ausbilden der Plattenschicht zu verwenden ist, umfasst ein positives lichtempfindliches Harz, das, nachdem es belichtet wird, in einem Entwickler löslich wird; und ein negatives lichtempfindliches Harz, das, nachdem es belichtet wird, in einem Entwickler nicht löslich wird.
Ein Beispiel des positiven lichtempfindlichen Harzes ist eine Kombination aus einer Diazidverbindung, wie beispielsweise eine Chinondiazidverbindung oder eine Naphtochinondiazidverbindung, und einem Phenolharz, wie beispielsweise Phenolnovolakharz oder Kresolnovolakharz.
Beispiele des negativen lichtempfindlichen Harzes sind eine Kombination einer Diazoverbindung, beispielsweise ein Diazoharz, wie zum Beispiel ein Kondensat aus aromatischen Diazoniumsalz mit Aldehyd, beispielsweise Formaldehyd oder ein Salz des Diazoharzes, mit einer organischen oder einer anorganischen Säure und einem Bindemittel, bei zum Beispiel (Meth)acrylatharz, Polyamidharz oder Polyurethan; und eine Kombination aus einem Vinylpolymer, wie beispielsweise (Meth)acrylatharz oder Polystyrolharz, einem Vinylmonomer, wie beispielsweise ein (Meth)acrylat oder Styrol und einem Photopolymerisierungsinitiiator, wie beispielsweise ein Benzoinderivat, einem Benzophenonderivat oder einem Thioxanthonderivat.
Das Lösungsmittel für die lichtempfindliche Harzlösung kann ein beliebiges sein, das das lichtempfindliche Harz auflöst und das bis zu einem gewissen Grad bei Zimmertemperatur flüchtig ist, genauer gesagt, gehören dazu beispielsweise Alkohol-Lösungsmittel, Keton-Lösungsmittel, Ester-Lösungsmittel, Ether-Lösungsmittel, Glycolether-Lösungsmittel, Amid-Lösungsmittel und Carbonat-Lösungsmittel.
Zu den Alkohol-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Ethanol, Propanol und Butanol. Zu den Keton-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Aceton, Methylethylketon, Methylisopropylketon und Diethylketon. Zu den Ester-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Ethylacetat, Propylacetat, Methylformat und Ethylformat. Zu den Ether-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Tetrahydrofuran und Dioxan. Zu den Glycolether-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Ethylcellosolve, Methylcellosolve und Butylcellosolve. Zu den Amid-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Dimethylformamid und Dimethylacetamid. Zu den Carbonat-Lösungsmitteln gehören beispielsweise Ethylencarbonat, Propylencarbonat, Diethylcarbonat und Dibutylcarbonat.
Die lichtempfindliche Harzlösung kann darüber hinaus auch verschiedene Farbstoffe enthalten. Zu den Farbstoffen gehören beispielsweise gewöhnliche Farbstoffe, die ihre Farbe entwickeln, nachdem sie belichtet worden sind, sowie Farbstoffe, die ihre Farbe so verlieren, dass sie nahezu oder vollständig farblos sind, nachdem sie belichtet worden sind. Ein Beispiel für die Farbstoffe, die ihre Farbe entwickeln, nachdem sie belichtet worden sind, ist der Leucofarbstoff. Im Gegensatz dazu gehören zu den Farbstoffen, die ihre Farbe verlieren, nachdem sie belichtet worden sind, beispielsweise Triphenylmethan-Farbstoffe, Diphenylmethan-Farbstoffe, Oxazin-Farbstoffe, Xanthene-Farbstoffe, Imino-Naphtochinon-Farbstoffe, Azomethin-Farbstoffe und Anthrachinon-Farbstoffe.
Der Flachdruckplatten-Vorläufer, der dementsprechend auf die voranstehend beschriebene Weise hergestellt wird, wird optional in Stücke einer gewünschten Größe geschnitten. Anschließend wird der Vorläufer belichtet und entwickelt, oder er wird durch Infrarot-(IR) Laser belichtet, um dadurch direkt ein beabsichtigtes Druckbild darauf zu schreiben. Auf diese Weise wird der Flachdruckplatten-Vorläufer zu dem Endprodukt, der Flachdruckplatte, verarbeitet.
Im Folgenden wird diese Ausführungsform ausführlich in Bezug auf die folgenden Beispiele beschrieben, die jedoch den Umfang der Erfindung nicht einschränken sollen.
Beispiel 1:
<<Erzeugung des Trägers für Flachdruckplatten>>
Ein Schmelzprodukt aus einem Barren aus wieder verwerteten Aluminium, das die in Tabelle 3 dargestellte Zusammensetzung aufweist, wurde entgast, gefiltert und anschließend in einem Modus des Stranggussverfahrens zu einer Gussbramme gegossen.
Die Oberfläche der Gussbramme wurde bei einer Tiefe von 10 mm abgeschnitten, anschließend überhitzt und danach bei 400°C ohne ein Durchtränken zu einer Aluminiumlegierungsplatte, die eine Dicke von 4 mm aufweist, warmgewalzt.
Als Nächstes wurde die Aluminiumlegierungsplatte kaltgewalzt, um eine reduzierte Dicke von 1,5 mm aufzuweisen, anschließend wurde sie ausgeglüht und danach einem erneuten Kaltwalzen unterzogen, um eine weiter reduzierte Dicke von 0,24 mm zu erreichen, und anschließend wurde sie zu einer Aluminiumbahn gerichtet.
Tabelle 3 (Einheit: Gew.-%)
Während die Aluminiumbahn kontinuierlich durch eine Verarbeitungsvorrichtung hindurchgeleitet wurde, wurde die Aluminiumbahn so bearbeitet, dass sie den folgenden Behandlungen in der aufgeführten Reihenfolge unterzogen wurde.

(1) mechanische Oberflächen-Aufrauung
(2) erstes Ätzen
(3) erstes Nachbeizen
(4) elektrolytische Oberflächen-Aufrauung
(5) zweites Ätzen
(6) zweites Nachbeizen
(7) anodische Oxidation

Nach den Schritten (1) bis (7) wurde die Prozessflüssigkeit stets durch Verwendung von geriffelten Transportwalzen herausgepresst, und die Aluminiumbahn wurde mit Wasser gewaschen, indem die Bahn mit Wasser aus einer Wassersprühdüse besprüht wurde.
In den Schritten (2), (3), (5) und (6) der voranstehend erwähnten Schritte (1) bis (7) wurde die Prozesslösung durch Sprühdüsen, die auf beiden Seiten des Transportweges der Aluminiumbahn angeordnet sind, auf beide Oberflächen der Aluminiumbahn aufgesprüht. Die Sprühdüsen hatten Düsenöffnungen mit einem Durchmesser von 4 mm, die in Abständen von 50 mm in Richtung des Düsenrohrs angeordnet sind, und durch die die Prozesslösung über die Aluminiumbahn gesprüht wurde. Die Sprühdüsen waren so angeordnet, dass der Abstand zwischen jeder Düsenöffnung davon und der Oberfläche der an ihnen vorbeilaufenden Aluminiumbahn 50 mm betrug. Die Prozesszeit ist die Zeit beginnend mit dem Start des Besprühens der Aluminiumbahn mit der Prozesslösung bis zu dem Ende des Entfernens der Prozesslösung von der Aluminiumbahn mit Hilfe der geriffelten Transportwalzen.
Für das Waschen der Aluminiumbahn mit Wasser wurden Waschdüsen verwendet, die auf beiden Seiten des Transportweges der Aluminiumbahn angeordnet waren und durch die das Wasser auf beide Oberflächen der Aluminiumbahn, die zwischen ihnen bewegt wurde, aufgesprüht wurde. Die Waschdüsen hatten Sprühaufsätze um ein fächerartiges Sprühmuster zu bilden und sie wurden in Abständen von 100 mm in Richtung des Düsenrohrs angeordnet. Die Waschdüsen waren so angeordnet, dass der Abstand zwischen einem jeden Sprühaufsatz davon und der Oberfläche der an ihnen vorbeilaufenden Aluminiumbahn 100 mm betrug.
Im Folgenden werden die Einzelheiten der Verarbeitungsschritte (1) bis (7) beschrieben.
(1) Mechanische Oberflächen-Aufrauung:
Unter Verwendung einer Schleifmittelaufschlämmung, die durch Aufschlämmen von Quarzsand (durchschnittliche Körnergröße: 25 μm) mit einem spezifischen Gewicht von 1,12 in Wasser, erzeugt wurde, wurde die Aluminiumbahn mechanisch in einer mechanischen Oberflächen-Aufrauvorrichtung, bei der drei Bürstenrollen oberhalb der Aluminiumbahn in dem Transportweg der Aluminiumbahn angeordnet waren, aufgeraut.
Jede dabei verwendete Bürstenrolle ist so aufgebaut, dass 6.10-Nylonborsten, wobei jede eine Länge von 50 mm und einen Durchmesser von 0,48 mm aufweist, dicht nebeneinander in der gesamten Oberfläche einer Edelstahlwalze, die einen Durchmesser von 300 mm hat, eingepflanzt sind.
Auf der anderen Seite der vorbeilaufenden Aluminiumbahn gegenüber von der Seite davon, auf der die Bürstenrollen angeordnet sind, sind zwei Auflagerollen aus Edelstahl mit einem Durchmesser von 200 mm für jede Bürstenrolle angeordnet, und die Aluminiumbahn wurde zwischen den Bürstenrollen und den Auflagerollen bewegt. Die Auflagerollen waren so ausgerichtet, dass der Abstand von Mitte zu Mitte zwischen den aneinander angrenzenden zwei Rollen 300 mm betrug.
Die Bürstenrollen wurden so gegen die Aluminiumbahn gedrückt, dass die durchschnittliche Oberflächenrauhigkeit der aufgerauten Aluminiumbahn 0,45 μm betragen konnte, während sie in Transportrichtung der Aluminiumbahn gedreht wurden. Der Druck der Bürstenrollen, unter dem sie gegen die Aluminiumbahn gedrückt wurden, wurde auf Basis der Belastung des Antriebsmotors, der die Bürstenrollen antreibt, gesteuert.
Während die Aluminiumbahn mechanisch in der Vorrichtung aufgeraut wurde, wurde die Konzentration von Quarzsand in der Schleifmittelaufschlämmung anhand der Temperatur und dem spezifischen Gewicht der Aufschlämmung kontinuierlich überwacht, und es wurden jeweils Wasser und Quarzsand zu der Aufschlämmung hinzugegeben, um die Sandkonzentration der Aufschlämmung stets konstant zu halten. Der Quarzsand, der in diesem Prozess fein gemahlen worden ist, wurde kontinuierlich in einem Zyklonabscheider so entfernt, dass die Verteilung der Korngröße in der Schleifmittelaufschlämmung während der gesamten Zeit nahezu konstant gehalten werden konnte.
(2) Erstes Ätzen
Um die Aluminiumbahn vor der Pre-Elektrolyse davon zu ätzen, wurde eine Alkalilösung verwendet, die einen Natriumhydroxidgehalt von 27 Gew.-% und einen Aluminiumionengehalt von 6,5 Gew.-% sowie eine Flüssigkeitstemperatur von 70°C aufwies. Diese Lösung wurde auf beide Oberflächen der Aluminiumbahn aufgesprüht, um diese zu ätzen. Genauer gesagt, wurde das Aufsprühen der ätzenden Alkalilösung so gesteuert, dass der Grad der Auflösung der Oberfläche der Aluminiumbahn, die einer mechanischen Aufrauung unterzogen wurde, 8 g/m² betragen konnte, während der Grad der Auflösung der gegenüberliegenden Fläche der Aluminiumbahn 2 g/m² betragen konnte.
Die Beziehung zwischen Temperatur, dem spezifischen Gewicht und der elektrischen Leitfähigkeit der Alkalilösung und der Natriumhydroxidkonzentration und der Aluminiumionenkonzentration davon wurde vorangehend erfasst. Während des Ätzprozesses wurden die Temperatur, das spezifische Gewicht und die elektrische Leitfähigkeit der Alkalilösung, die verwendet wurde, überwacht, und auf Basis dieser entsprechenden Daten, wurden die Natriumhydroxidkonzentration und die Aluminiumionenkonzentration der Lösung erfasst. Es wurden Wasser und eine wässrige Natriumhydroxidlösung mit einem Gehalt von 48 Gew.-% auf geeignete Weise zu der Prozessflüssigkeit hinzugegeben, so dass die Natriumhydroxidkonzentration und die Aluminiumionenkonzentration während des Prozesses stets konstant gehalten werden konnten.
(3) Erstes Nachbeizen
Beide auf diese Weise geätzten Oberflächen der Aluminiumbahn wurden anschließend für 2 Sekunden mit einer wässrigen Schwefelsäurelösung besprüht. Die Prozesslösung enthielt 300 g/Liter Schwefelsäure und 2 g/Liter Aluminiumionen, und ihre Temperatur lag bei 70°C.
(4) Elektrolytische Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauung
In diesem Schritt wurde die Aluminiumbahn in einer wässrigen Saipetersäurelösung, die durch Hinzufügen von Aluminiumnitrat und Ammoniumnitrat zu einer verdünnten Salzsäure (Konzentration: 10 g/Liter), um eine Salpetersäurekonzentration von 10 g/Liter und eine Aluminiumionenkonzentration von 10 g/Liter sowie eine Ammoniumionenkonzentration von 140 ppm zu erhalten, erzeugt wurde, bearbeitet, wobei ein Wechselstrom an die Aluminiumbahn angelegt wurde. Die Temperatur der hierin verwendeten Säurelösung betrug 55°C.
Die radiale elektrolytische Wechselstromzelle, die in dem Abschnitt „(2-1) Elektrolytische Wechselstrom-Oberflächen-Aufraubehandlung" beschrieben wurde, wurde auch hierin verwendet, und sie war mit einer Flüssigkeitszuführdüse in der Bodenfläche des Zellengehäuses ausgestattet.
Der Wechselstrom wurde so an die Aluminiumbahn, die durch die elektrolytische Wechselstromzelle hindurchgeleitet wurde, angelegt, dass die Elektrizitätsmenge zum Erzielen der anodischen Reaktion an der Aluminiumbahn 200 Coulombs/dm² sein konnte.
Der an die Zelle angelegte Wechselstrom wies eine trapezförmige Wellenform auf und hatte eine Frequenz von 60 Hz, und seine Impulsanstiegszeit Tp betrug 0,2 Millisekunden. Der Spitzenstrom Iap auf der Seite des Anodenzyklus und der Spitzenstrom Icp auf der Seite des Kathodenzyklus betrugen beide jeweils 50 A/dm²; und das Verhältnis Icp/Iap betrug 1,0. Die Stromlast lag bei 0,5.
In der elektrolytischen Wechselstromzelle betrug die Ruhezeit 0,5 Sekunden in der Flüssigkeitszuführdüse und 0,017 Sekunden in dem Isolator.
Anhand der Temperatur und der elektrischen Leitfähigkeit der wässrigen Salpetersäurelösung in der Zelle und anhand der Geschwindigkeit der Ultraschallausbreitung durch die darin enthaltene Lösung wurde die Salpetersäurekonzentration, die Aluminiumionenkonzentration und die Ammoniumionenkonzentration der Lösung überwacht. Während des Prozesses der Elektrolyse wurden Salpetersäure mit einer Konzentration von 67 Gew.-% und Wasser auf geeignete Weise durch die Flüssigkeitszuführdüse in Übereinstimmung mit der an die Zellen angelegten Elektrizitätsmenge in die Zelle eingeführt, während dafür gesorgt wurde, dass überschüssige wässrige Salpetersäurelösung aus ihr überlief, um dadurch die Salpetersäurekonzentration, die Aluminiumionenkonzentration und die Ammoniumionenkonzentration des Bades in der Zelle so zu steuern, dass sie die ganze Zeit über konstant waren.
(5) Zweites Ätzen
Es wurde eine wässrige Alkalilösung mit einer Natriumhydroxidkonzentration von 26 Gew.-% und einer Aluminiumionenkonzentration von 6,5 Gew.-% und mit einer Flüssigkeitstemperatur von 45°C bis zu einen solchen Ausmaß auf beide Oberflächen der Aluminiumbahn aufgesprüht, dass die Menge der Auflösung der Aluminiumbahn 1 g/m² sein konnte.
In diesem Schritt wurden die Natriumhydroxidkonzentration und die Aluminiumionenkonzentration der verwendeten Alkalilösung auf dieselbe Weise gesteuert wie in dem ersten Ätzschritt (2).
(6) Zweites Nachbeizen:
Es wurde dieselbe Schwefelsäurelösung wie die, die in dem ersten Nachbeizschritt (3) verwendet wurde, für 10 Sekunden auf beide Oberflächen der Aluminiumplatte aufgesprüht.
Die Beziehung zwischen der Schwefelsäurekonzentration und der Aluminiumionenkonzentration der wässrigen Schwefelsäurelösung und der Temperatur, dem spezifischen Gewicht und der elektrischen Leitfähigkeit der Lösung wurde vorangehend erfasst. Während dieses zweiten Nachbeizprozesses wurden die Temperatur, das spezifische Ge wicht und die elektrische Leitfähigkeit der verwendeten wässrigen Schwefelsäurelösung überwacht, und auf Basis dieser entsprechenden Daten wurden Wasser und Schwefelsäure mit einer Konzentration von 50 Gew.-% so zu der Prozesslösung hinzugegeben, dass die Schwefelsäurekonzentration und die Aluminiumionenkonzentration der Lösung während des Prozesses stets konstant gehalten werden kannten.
(7) Anodische Oxidation:
In einer wässrigen Schwefelsäurelösung, die 100 g/Liter an Schwefelsäure und 5 g/Liter an Aluminiumionen enthält und die eine Badtemperatur von 50°C aufweist, wurde die Aluminiumbahn, die in dem vorangehenden Schritt (6) abschließend nachgebeizt wurde, einer anodischen Oxidation unterzogen, wobei ein Gleichstrom an die Aluminiumbahn angelegt wurde. Die Bedingung für die anodische Oxidation wurde so gesteuert, dass die Menge des Oxidfilms, der auf der Aluminiumbahn ausgebildet wurde, 2,4 g/m² sein konnte.
Die Schwefelsäurekonzentration und die Aluminiumionenkonzentration in der wässrigen Schwefelsäurelösung, die in dieser Behandlung verwendet wurde, wurden auf dieselbe Weise gesteuert wie in dem zweiten Nachbeizschritt (6).
<<Erzeugung von Flachdruckplatten-Vorläufern>>
Auf der Oberfläche des Trägers für Flachdruckplatten, die in Übereinstimmung mit dem voranstehend beschriebenen Prozess aufgeraut worden ist, wurde eine Grundierungsschicht und eine lichtempfindliche Plattenschicht ausgebildet. Die Plattenschicht wurde durch Aufbringen einer lichtempfindlichen Harzlösung auf die Grundierungsschicht und durch Trocknen darauf ausgebildet. Der positive Flachdruckplatten-Vorläufer, der auf diese Weise erzeugt worden ist, weist eine Trockenfilm-Dicke von 2,0 g/m² auf.
Der Vorläufer wurde bildweise belichtet und anschließend zu einer Flachdruckplatte entwickelt.
Der Nicht-Bildbereich der Flachdruckplatte wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop abgerastert, und dadurch wurde bestätigt, dass gleichmäßige honigwabenartige Vertiefungen darauf ausgebildet waren.
<<Bewertung>>
Die Flachdruckplatte wurde beim Drucken versuchsweise verwendet. Nachdem sie auf diese Weise ausprobiert worden ist, wurde ihre Oberfläche visuell dahingehend überprüft, wie sehr sie befleckt war, und anschließend wurde die Fleckenresistenz der Druckplatte bewertet. Das Ergebnis wird in der untenstehenden Tabelle 5 angeführt.
Vergleichendes Beispiel 1:
Es wurde ein Träger für Flachdruckplatten auf dieselbe Weise erzeugt, wie dies in dem Beispiel 1 der Fall war, mit Ausnahme der folgenden Punkte.
Die erste Nachbeizbehandlung (3) wurde in einer wässrigen Salpetersäurelösung mit einer Salpetersäurekonzentration von 10 g/Liter durchgeführt. Die Temperatur der Lösung betrug 40°C.
Für die elektrolytische Wechselstrom-Oberflächen-Aufraubehandlung (4) wurden zwei gleiche radiale elektrolytische Wechselstromzellen wie die, die in dem Beispiel 1 verwendet wurden, in Serie geschalten und für die Wechselstromelektrolyse verwendet.
Für die Wechselstromelektrolyse wurde eine wässrige Salpetersäurelösung mit einer Salpetersäurekonzentration von 10 g/Liter und einer Aluminiumionenkonzentration von 5 g/Liter verwendet. Ihre Temperatur betrug 40°C.
In jeder radialen elektrolytischen Wechselstromzelle wurde ein trapezförmiger Wechselstrom zwischen der Kohlenstoff Gegenelektrode und der Aluminiumbahn angelegt. Seine Impulsanstiegszeit Tp betrug 1,5 Millisekunden.
Die Zeit, die die Aluminiumbahn benötigte, um von der vorgeschalteten Zeile zu der nachgeschalteten Zelle transportiert zu werden, betrug 10 Sekunden, über die die Aluminiumbahn keinen Wechselstrom empfangen hat.
In sowohl der vorgeschalteten als auch der nachgeschalteten Zelle wurde der an die Aluminiumbahn angelegte Wechselstrom so gesteuert, dass die Elektrizitätsmenge zum Erzielen der anodischen Reaktion auf der Aluminiumbahn, die durch die zwei Zellen bewegt wird, 100 Coulombs/dm² betragen konnte.
Mit Ausnahme des Obenstehenden waren der Prozess und die Bedingung zum Erzeugen des Trägers hierin dieselben wie die in dem Beispiel 1. Auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 1 wurde eine Plattenschicht auf der aufgerauten Oberfläche des Trägers ausgebildet, um einen Flachdruckplatten-Vorläufer zu erzeugen.
Der Vorläufer wurde bildweise belichtet und anschließend zu einer Flachdruckplatte entwickelt.
Der Nicht-Bildbereich der Flachdruckplatte wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop abgerastert, und dadurch wurde bestätigt, dass die darauf ausgebildeten honigwabenartigen Vertiefungen, verglichen mit denen aus dem Beispiel 1, offensichtlich nicht gleichmäßig waren.
Zusätzlich dazu wurde, wie dies anhand der in der Tabelle 5 aufgeführten Ergebnisse zu sehen ist, der Nicht-Bildbereich der Flachdruckplatte, nachdem er beim Drucken ausprobiert wurde, sehr mit Tinte befleckt.
Beispiel 2:
Es wurde ein Träger für Flachdruckplatten auf dieselbe Art und Weise erzeugt, wie dies für Beispiel 1 der Fall war, und er wurde durch reines kochendes Wasser gezogen, um dadurch die Mikroporen in dem auf dem Träger ausgebildeten Oxidfilm zu versiegeln.
Der Träger, der auf diese Weise der Mikroporenversiegelungsbehandlung unterzogen worden ist, wurde anschließend für 14 Sekunden in eine wässrige Natriumsilikatlösung getaucht, die eine Natriumsilikatkonzentration von 2,5 Gew.-% und eine Flüssigkeitstemperatur von 70°C aufwies, um dadurch die Oberfläche davon hydrophil zu machen.
Die Beziehung zwischen der Natriumsilikatkonzentration der wässrigen Natriumsilikatlösung, die für diese Behandlung zu verwenden ist, und der Flüssigkeitstemperatur und der elektrischen Leitfähigkeit der Lösung wurde vorangehend erfasst. Während des Prozesses dieser Behandlung wurden die Flüssigkeitstemperatur und die elektrische Leitfähigkeit der wässrigen Natriumsilikatlösung, die verwendet wurde, überwacht, um die Natriumsilikatkonzentration der Lösung zu kennen; und es wurden Wasser und Stamm-Natriumsilikat Nr. 3 so zu der Lösung hinzugegeben, dass die Lösung während des Prozesses die ganze Zeit über die vorgegebene konstante Natriumsilikatkonzentration haben konnte.
Nachdem die Oberfläche des Trägers auf diese Weise hydrophil gemacht worden ist, wurde eine Plattenschicht auf dieselbe Weise darauf ausgebildet, wie dies in dem Beispiel 1 der Fall war. Der resultierende Flachdruckplatten-Vorläufer wurde so bearbeitet, dass er ein Bild darauf aufwies, und auf diese Weise wurde eine Flachdruckplatte fertiggestellt.
Der Nicht-Bildbereich der Flachdruckplatte wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop abgerastert, wodurch bestätigt wurde, dass gleichmäßige honigwabenartige Vertiefungen darauf ausgebildet sind.
Auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 1 wurde die Flachdruckplatte auf ihre Druckeigenschaften getestet. Dadurch wurde bestätigt, dass die Qualität der Druckplatte gut ist. Das Ergebnis wird in Tabelle 5 dargestellt.
Beispiel 3:
Es wurde ein Träger für Flachdruckplatten auf dieselbe Weise erzeugt, wie dies in Beispiel 1 der Fall war, und er wurde für 5 Sekunden in eine wässrige Natriumsilikatlösung mit einer Natriumsilikatkonzentration von 2,5 Gew.-% und mit einer Flüssigkeitstemperatur von 70°C getaucht, um dadurch die Oberfläche davon hydrophil zu machen. An schließend wurde der Träger gewaschen, indem Wasser auf ihn gesprüht wurde, und anschließend wurde er getrocknet.
Nachdem er getrocknet wurde, wurde der Träger auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 bearbeitet, um eine Plattenschicht auf seiner Oberfläche auszubilden. Der resuitierenden Flachdruckplatten-Vorläufer wurde anschließend so bearbeitet, dass er ein Bild darauf ausgebildet hatte, und auf diese Weise wurde die Flachdruckplatte fertiggestellt. Der Nicht-Bildbereich wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop abgerastert, und dadurch wurde bestätigt, dass gleichmäßige honigwabenartige Vertiefungen darauf ausgebildet sind.
Auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 wurde die Flachdruckplatte auf ihre Druckeigenschaften getestet. Dadurch wurde bestätigt, dass die Qualität der Druckplatte wie in den Beispielen 1 und 2 gut ist. Das Ergebnis ist in Tabelle 5 dargestellt.
Beispiel 4:
Es wurde ein Träger für Flachdruckplatten auf dieselbe Weise erzeugt, wie dies in Beispiel 1 der Fall war, und dieser Träger wurde anschließend für 5 Sekunden in eine wässrige Polyvinylsulfonsäurelösung mit einer Konzentration von 1,5 Gew.-%, die eine Flüssigkeitstemperatur von 70°C aufweist, getaucht, um auf diese Weise die Oberfläche der Platte hydrophil zu machen.
Die Beziehung zwischen der Polyvinylsulfonsäurekonzentration der wässrigen Lösung, die für diese Behandlung verwendet werden soll, und der Temperatur und der elektrischen Leitfähigkeit der Lösung wurde vorangehend erfasst. Während des Prozesses dieser Behandlung wurden die Flüssigkeitstemperatur und die elektrische Leitfähigkeit der wässrigen Lösung, die verwendet wurde, überwacht, um die Polyvinylsulfonsäurekonzentration der Lösung zu erhalten; und es wurden auf geeignete Weise Wasser und Polyvinylsulfonsäure so zu der Lösung hinzugegeben, dass die Lösung während des Prozesses die ganze Zeit über die vorgegebene Säurekonzentration aufweisen konnte.
Nachdem der Träger auf eine solche Weise hydrophil gemacht worden ist, wurde der Träger gewaschen, indem er mit Wasser besprüht wurde, und anschließend wurde er getrocknet.
Nachdem er getrocknet worden ist, wurde dieser Träger auf dieselbe Weise bearbeitet, wie dies in Beispiel 1 der Fall war, um eine Plattenschicht auf seiner Oberfläche auszubilden. Der resultierende Flachdruckplatten-Vorläufer wurde anschließend so bearbeitet, dass er ein Bild darauf aufwies, und auf diese Weise wurde eine Flachdruckplatte fertiggestellt.
Der Nicht-Bildbereich der Flachdruckplatte wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop abgerastert, und dadurch wurde bestätigt, dass gleichmäßige honigwabenartige Vertiefungen darauf ausgebildet waren.
Auf dieselbe Weise wie dies in dem Beispiel 1 der Fall war, wurde die Flachdruckplatte auf ihre Druckeigenschaften getestet. Dadurch wurde bestätigt, dass die Flachdruckplatte so eine gute Qualität, wie jene aus den Beispielen 1 und 2 aufwies. Das Ergebnis ist in Tabelle 5 dargestellt.
Beispiel 5:
Es wurde ein Träger für Flachdruckplatten auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 1 erzeugt, für den jedoch eine Aluminiumplatte verwendet wurde, die aus einem Barren aus wieder verwertetem Aluminium, dessen Zusammensetzung in der untenstehenden Tabelle 4 dargestellt ist, hergestellt wurde. In dem Prozess der Schritte (1) bis (7) für die Oberflächen-Aufrauung der Aluminiumplatte wurde dafür der mechanische Oberflächen-Aufrauschritt (1) weggelassen.
Tabelle 4 (Einheit: Gew.-%)
Die Oberfläche des Trägers wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop abgerastert, und dadurch wurde bestätigt, dass gleichmäßige honigwabenartige Vertiefungen darin ausgebildet waren.
Auf der aufgerauten Oberfläche des Trägers wurde auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 ein Plattenschicht ausgebildet, und der resultierende Flachdruckplatten-Vorläufer wurde bildweise belichtet und entwickelt, um eine Flachdruckplatte zu erzeugen.
Auf dieselbe Weise, wie dies in dem Beispiel 1 der Fall war, wurde die Flachdruckplatte auf ihre Druckeigenschaften getestet. Ihre Druckbarkeit war gut, und ihr Nicht-Bildbereich war nicht schwerwiegend mit Tintenflecken befleckt. Das Ergebnis ist in Tabelle 5 dargestellt. Tabelle 5

A: ausgezeichnet, B: gut, C: durchschnittlich

Wie dies bereits voranstehend ausführlich beschrieben worden ist, stellt diese Ausführungsform ein Verfahren zum Erzeugen von Trägern für Flachdruckplatten bereit, bei dem selbst Aluminiumplatten, die aus Barren aus wieder verwertetem Aluminium hergestellt wurden, verwendet werden können, und die erzeugten Träger erzeugen gute Flachdruckplatten einer ausgezeichneten Druckbeständigkeit, die weder schwerwiegende Tintenflecke auf Drucksachen noch ein Beflecken des Bezuges verursachen.
Dritte Ausführungsform:
<<Verfahren zum Erzeugen von Trägern für Flachdruckplatten>>
In dieser Ausführungsform werden Träger für Flachdruckplatten durch Herstellen einer bahnartigen Aluminiumplatte oder einer Aluminiumlegierungsplatte durch anschließendes Bearbeiten derselben für wenigstens die Oberflächen-Aufrauung und eine anodische Oxidation erzeugt.
Genauer gesagt, umfasst die Oberflächen-Aufraubehandlung in dem Verfahren vorzugsweise wenigstens (1) einen Entfettungsschritt des Entfernens von Walzöl von der Aluminiumlegierungsplatte, (2) einen mechanischen Oberflächen-Aufrauschritt und einen Schritt des alkalischen Ätzens, (3) einen elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt, und (4) einen Nachbeizschritt. Nachdem die Oberfläche auf diese Weise aufgeraut worden ist, wird die Platte anschließend einer (5) anodischen Oxidation unterzogen, um schließlich ein Träger für Flachdruckplatten zu sein. Das Verfahren zum Erzeugen von Trägern für Flachdruckplatten wird im Folgenden ausführlich beschrieben.
<Material für die Aluminiumlegierungsplatte>
Das Material für die Aluminiumlegierungsplatte, die hierin zu bearbeiten ist, kann ein beliebiges bekanntes Material sein, das beispielsweise in dem Aluminium Handbook, 4. Ausgabe (1990, von der Light Metal Association of Japan) beschrieben ist. Dazu gehören beispielsweise Aluminiumlegierungen von JIS1050, JIS1100, JIS3003, JIS3103 und JIS3005. Für die Verwendung hierin werden jedoch Aluminiumlegierungsplatten aus neu hergestellten Aluminiumlegierungen, Aluminiumschrott oder sekundären Aluminiumbarren bevorzugt, die einen Aluminiumgehalt (Al) von 95 bis 99,4 Gew.-% aufweisen und wenigstens fünf von Eisen (Fe), Silizium (Si), Kupfer (Cu), Magnesium (Mg), Mangan (Mn), Zink (Zn), Chrom (Cr) und Titan (Ti) enthalten.
Für die Verwendung in dieser Ausführungsform werden Aluminiumlegierungsplatten bevorzugt, die einen Al-Gehalt von 95 bis 99 Gew.-% aufweisen. Diejenigen, von denen der Al-Gehalt größer als 99 Gew.-% ist, sind nicht erwünscht, da ihre Toleranz für Verunreinigungen reduziert ist und ihr Effekt zum Senken der Produktionskosten geringer sein wird. Diejenigen, von denen der Al-Gehalt jedoch geringer als 95 Gew.-% ist, sind ebenfalls nicht erwünscht, da ihr Verunreinigungsgehalt zunimmt, und sie während des Walzens Risse bilden oder beschädigt werden. Es wird stärker bevorzugt, dass der Al-Gehalt der Aluminiumlegierungsplatten für die Verwendung hierin zwischen 95 und 99 Gew.-% fällt, es wird noch stärker bevorzugt, dass er zwischen 95 und 97 Gew.-% fällt.
Die anderen Bestandteile der Aluminiumlegierungsplatten für die Verwendung hierin, einschließlich des Gehaltes an Verunreinigungen wie beispielsweise Fe, Si und Cu sind dieselben wie jene der Aluminiumlegierungsplatten für die Verwendung in der voranstehend erwähnte erste Ausführungsform, und ihre Einzelheiten werden hierin weggelassen.
<Elektrolytischer Oberflächen-Aufrauschritt>
Dieser Schritt dient dem elektrolytischen Aufrauen der Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte in einer Säurelösung mit einem Wechselstrom, der an die Platte, die als eine Elektrode dient, angelegt wird, und er unterscheidet sich von dem mechanischen Oberflächen-Aufraubehandlung, die im Folgenden erwähnt werden wird.
Die Säurelösung, die in dieser Ausführungsform verwendet werden soll, kann eine beliebige gewöhnliche Säurelösung sein, die für die elektrochemische Oberflächen-Aufraubehandlung mit einem Gleichstrom oder einem Wechselstrom verwendet wird, für die jedoch eine Säurelösung bevorzugt wird, die im Wesentlichen aus Salzsäure oder Salpetersäure besteht. Die Formulierung „im Wesentlichen bestehend aus", die hierin verwendet wird, bedeutet, dass die Komponente, auf die dadurch in der wässrigen Lösung verwiesen wird, wenigstens 30 Gew.-% ergibt, vorzugsweise wenigstens 50 Gew.-% für sämtliche Komponenten, die die Lösung bilden. Dasselbe trifft auf die anderen Komponenten der Lösung zu.
Wie dies bereits voranstehend erwähnt worden ist, kann die Säurelösung, die im Wesentlichen aus Salpetersäure besteht, eine beliebige und eine jede von denjenigen sein, die im Allgemeinen für die elektrochemische Oberflächen-Aufraubehandlung mit einem Gleichstrom oder einem Wechselstrom verwendet wird. So kann sie beispielsweise durch Hinzugeben von wenigstens einer Nitratkomponente, wie beispielsweise Aluminiumnitrat, Natriumnitrat und Ammoniumnitrat zu einer wässrigen Salpetersäurelösung, die eine Salpetersäurekonzentration von 5 bis 15 g/Liter aufweist, bis zu einem Grad, der zwischen 0,01 g/Liter und der Sättigungskonzentration der Verbindung fällt, hergestellt werden. Die Säurelösung, die im wesentlichen aus Salpetersäure besteht, kann darüber hinaus Metalle enthalten, die im Allgemeinen Aluminiumlegierungen sind, wie beispielsweise Eisen, Kupfer, Mangan, Nickel, Titan, Magnesium und Silizium, die darin aufgelöst werden.
Vorzugsweise enthält die Säurelösung, die im Wesentlichen aus Salpetersäure besteht, Salpetersäure, ein Aluminiumsatz und ein Nitrat und wird durch Hinzugeben von Aluminiumnitrat und Ammoniumnitrat zu einer wässrigen Salpetersäurelösung, die eine Salpetersäurekonzentration von 5 bis 15 g/Liter aufweist, so dass die resultierende Lösung eine Konzentration von 1 bis 15 g/Liter, und stärker bevorzugt, von 1 bis 10 g/Liter an Aluminiumionen und von 10 bis 300 ppm an Ammoniumionen enthalten kann, hergestellt. Die Aluminiumionen und die Ammoniumionen in der Lösung vermehren sich spontan während die Lösung für die elektrochemische Oberfläche, die für die Behandlung verwendet wird, vorzugsweise zwischen 10 und 95°C fällt und, noch stärker bevorzugt, zwischen 40 und 80°C fällt.
So wie die Lösung aus im Wesentlichen Salpetersäure, kann die Säurelösung, die im Wesentlichen aus Salzsäure für die Verwendung hierin besteht, eine beliebige von einer jeden sein, die im Allgemeinen für die elektrochemische Oberflächen-Aufraubehandlung mit einem Gleichstrom oder einem Wechselstrom verwendet wird. So kann die Lösung beispielsweise durch Hinzugeben von wenigstens einer Chloridverbindung, wie beispielsweise Aluminiumchlorid, Natriumchlorid zu einer wässrigen Salzsäurelösung, die eine Salzsäurekonzentration von 5 bis 15 g/Liter aufweist, bis zu einem Grad hergestellt werden, der zwischen 0,01 g/Liter und der Sättigungskonzentration der Verbindung fällt. Die Säurelösung, die im Wesentlichen aus Salzsäure besteht, kann des Weiteren auch Metalle enthalten, die im Allgemeinen in Aluminiumlegierungen enthalten sind, wie beispielsweise Eisen, Kupfer, Mangan, Nickel, Titan, Magnesium und Silizium, die darin aufgelöst sind.
Die Wellenform des Wechselstroms für die elektrochemische Oberflächen-Aufraubehandlung ist so eingerichtet, dass die Zeit Tp, über die ihr Strom von 0 (Null) auf die Spitze ansteigt, zwischen 1,5 und 6 Millisekunden fällt. Wenn die Zeit Tp kürzer ist als 1,5 Millisekunden, erweist es sich als schwierig, kraterähnliche Vertiefungen in der aufgerauten Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte auszubilden; wenn die Zeit Tp jedoch länger als 6 Millisekunden ist, wird das Profil der aufgrauten Oberfläche davon ungleichmäßig sein. Vorzugsweise fällt die Zeit Tp zwischen 2 und 5 Millisekunden, noch stärker bevorzugt, fällt sie zwischen 2,5 Millisekunden und 4,5 Millisekunden.
Um die Bedingung von Tp wie voranstehend zu erfüllen, kann hierin ein Wechselstrom eines beliebigen Typs von Sinuswelle (50 Hz oder 60 Hz handelsüblich Gleichstroms) rechteckiger Welle, trapezförmiger Welle und dreieckiger Welle verwendet werden. Besonders bevorzugt wird jedoch der Wechselstrom einer Sinuswellenform oder einer trapezförmigen Welle. In dem Fall, in dem ein Wechselstrom einer Sinuswelle (handelsüblicher Wechselstrom) hierin verwendet wird, kann seine Wellenform durch Grenzwinkelsteuerung mit einem Thyristor modifiziert werden. Durch Verwendung des auf diese Weise modifizierten Wechselstroms mit Form einer Sinuswelle, kann die aufgeraute Oberfläche jedes beliebige Profil aufweisen, das für die industrielle Verwendung vorteilhaft ist. Der handelsübliche Wechselstrom für die Verwendung hierin kann ein einzelphasiger oder ein dreiphasiger Wechselstrom sein. Bevorzugt wird ein Wechselstrom mit Form einer Sinuswelle, der durch Phasenwinkelsteuerung modifiziert wurde. In dem Fall, in dem ein Wechselstrom mit trapezförmiger Wellenform hierin verwendet wird, kann seine Impufsanstiegszeit modifiziert werden. Unter Verwendung des auf diese Weise modifizierten Wechselstroms mit trapezförmiger Wellenform kann die aufgraute Oberfläche jedes beliebige gewünschte Profil aufweisen, das für die industrielle Nutzung vorteilhaft ist.
Die Frequenz des Wechselstroms für die Verwendung hierin fällt vorzugsweise zwischen 40 und 150 Hz, und sie fällt noch stärker bevorzugt zwischen 50 und 120 Hz, und noch stärker bevorzugt, fällt die Frequenz zwischen 50 und 60 Hz. Die 3 und 4 zeigen ein Beispiel von jeweils Sinuswellenformen und trapezförmigen Wellenformen, die vorzugsweise in dieser Ausführungsform verwendet werden. Die Sinuswellenform und die trapezförmige Wellenform haben beide eine längere Anstiegszeit, und die Spannung für sie kann beim Entwerfen von Stromversorgungsquellen reduziert werden. Die Niederspannungs-Stromversorgungsquellen sind kostengünstig.
Der Wechselstrom für die Oberflächen-Aufraubehandlung in dieser Ausführungsform wird vorzugsweise so gesteuert, dass das Verhältnis der Elektrizitätsmenge QA des Wechselstroms, der an die als eine Anode fungierende Aluminiumlegierungsplatte angelegt wird, zu der Elektrizitätsmenge QC des Wechselstroms, der an die als eine Kathode fungierende Aluminiumplatte angelegt wird, sprich das Verhältnis QC/QA zwischen 0,9 und 1 fällt und vorzugsweise zwischen 0,95 und 0,99 fällt.
Die Wechselstromlast in der elektrochemischen Oberflächen-Aufraubehandlung kann zwischen 0,25 und 0,5 fallen, sie fällt vorzugsweise jedoch zwischen 0,33 und 0,55 für eine einfache Konstruktion der Stromversorgungsquellen. Die Wechselstromlast, auf die in dieser Ausführungsform verwiesen wird, wird durch ta/T dargestellt, wobei T die Wechselstromperiode ist und ta die Zeit für die anodische Reaktion der Aluminiumlegierungsplatte ist.
Durch ihre kathodische Reaktion nimmt die Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte eine Belagskomponente von im Wesentlichen Aluminiumhydroxid auf, die darauf ausgebildet wird, und zusätzlich dazu wird der darauf ausgebildete Oxidfilm aufgelöst oder zerrissen. Der aufgelöste oder zerrissene Teil des Oxidfilms kann der Ausgangspunkt für die Vertiefungsbildungsreaktion in der nächsten Phase der anodischen Reaktion der Aluminiumlegierungsplatte sein. Dementsprechend nimmt die geeignete Auswahl der Wechselstromlast in dieser Behandlung einen großen Einfluss auf die Gleichmäßigkeit der aufgerauten Oberfläche der Platte. Vom Standpunkt der Produzierbarkeit der Stromversorgungsquellen für die Verwendung hierin, fällt der bevorzugtere Bereich der Wechselstromlast jedoch zwischen 0,33 und 0,5.
Hinsichtlich der Stromdichte der trapezförmigen oder sinuswellenförmigen rechteckigen Wechselstromwellen, die hierin verwendet werden, fällt der Spitzenstrom Ia in dem Anodenzyklus des Wechselstroms und der Spitzenstrom Is in dem Kathodenzyklus davon vorzugsweise jeweils zwischen 10 und 200 A/dm². Das Vefiältnis Ic/Ia fällt vorzugsweise zwischen 0,9 und 1,5. Auch die Gesamtelektrizitätsmenge für die anodische Reaktion der Aluminiumplatte von dem Beginn bis zum Ende der elektrochemischen Oberflächenbehandlung fällt zwischen 50 und 800 C/dm².
Die elektrolytische Wechselstromzelle für die elektrochemische Oberflächen-Aufraubehandlung in dieser Ausführungsform kann eine beliebige bekannte Zelle sein, einschließlich beispielsweise vertikalen, flachen und radialen Zellen. Das Stromversorgungssystem für die in der Zelle zu bearbeitenden Aluminiumlegierungsplatte kann ein Gleichstrom-Versorgungssystem mit einer Stromrolle oder ein Flüssigstrom-Versorgungssystem (indirektes Versorgungssystem) ohne Stromrolle sein.
Die elektrolytische Lösung, die durch die elektrolytische Zelle geleitet wird, kann dadurch in Richtung parallel zu oder entgegengesetzt von der sich da hindurch bewegenden Aluminiumbahn (Aluminiumlegierungsplatte) verlaufen. Es können zwei oder mehr elektrolytische Zellen für die Behandlung verwendet werden.
In dem indirekten Stromversorgungssystem ist es wünschenswert, dass das Verhältnis der Elektrizitätsmenge, die an die als eine Anode fungierende Aluminiumlegierungsplatte angelegt wird, zu der Elektrizitätsmenge, die an die als eine Kathode fungierende Aluminiumlegierungsplatte angelegt wird, in Übereinstimmung mit dem Verfahren für das Verwenden von Hilfsanoden gesteuert wird, das in den Dokumenten JP-B 37716/1994 und 42520/1993 beschrieben wird. Insbesondere wird dabei bevorzugt, dass dabei der Strom, der durch die Hilfsanoden geleitet wird, durch Kollektoren wie beispielsweise Thyristoren, Dioden und GTO-Thyristoren (Gate Turn-Off Thyristor) gesteuert wird. In Übereinstimmung mit dem Verfahren, das in dem Dokument JP-B 37716/1994 beschrieben ist, ist es einfach, sowohl die Elektrizitätsmenge (Strom) des an die Aluminiumlegierungsplatte, deren Oberfläche elektrochemisch aufgeraut wird, während die Platte als eine Anode relativ zur Haupt-Karbonelektrode agiert, angelegten Wechselstroms zu der Elektrizitätsmenge, die daran angelegt wird, als auch die Elektrizitätsmenge, die daran angelegt wird, während die Platte als eine Kathode agiert, zu steuern. Ein weiterer Vorteil des Verfahrens besteht darin, dass die Stromversorgungseinrichtungen dafür kostengünstig in der Herstellung sind, da sie wenig Einfluss aufgrund von magnetischer Abweichung in den Transformators aufnehmen.
Um den Stromwert in der elektrochemischen Oberflächen-Aufraubehandlung mit einem sinuswellenförmigen Wechselstrom zu steuern, können ein beliebiger von Transformatoren und variablen Induktionsreglern verwendet werden. In diesem Fall wird der Stromwert für die Elektrolyse zu dem verwendeten Induktivitätsregler zurückgekoppelt. Um den Stromwert in diesem Fall zu steuern, kann ein Thyristor für die Phasensteuerung verwendet werden, wie dies in dem Dokument JP-A 25381/1980 beschrieben wird.
Wenn in der elektrochemischen Oberflächen-Aufraubehandlung der Abstand zwischen der Aluminiumlegierungsplatte, die bearbeitet wird, und der Gegenelektrode und darüber hinaus auch die Flüssigkeitsfließrate nicht bei einem Wert konstant gehalten werden, wird der Stromfluss lokalisiert, und wenn dies der Fall ist, wird die Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte ungleichmäßig bearbeitet. Die Aluminiumlegierungsplatten, die auf diese Weise ungleichmäßig bearbeitet werden, sind für Träger für Flachdruckplatten ungeeignet. Um dieses Problem zu lösen, kann in der Anlage eine Kammer zum Speichern von Prozessflüssigkeit darin bereitgestellt werden, und die Prozessflüssigkeit kann durch eine Flüssigkeitssprühdüse, die 1 bis 5 mm breite Schlitze aufweist, die in Längsrichtung der Aluminiumbahn angeordnet sind, auf die Aluminiumbahn aufgesprüht werden. Es wird noch stärker bevorzugt, dass zwei oder mehr solcher Flüssigkeitsspeicherkammern in der Leitung bereitgestellt sind, und dass diese über ein Rohr, das mit einem Ventil und einem Flüssigkeitsmessgerät bereitgestellt ist, durch das die Menge der Prozessflüssigkeit, die durch die Schlitze der Flüssigkeitszuführdüse auf die Aluminiumbahn aufgesprüht werden soll, gesteuert wird, miteinander verbunden sind.
Vorzugsweise fällt der Abstand zwischen der Aluminiumlegierungsplatte und der Elektrode in der elektrolytischen Zelle zwischen 5 und 100 mm, und es wird noch stärker bevorzugt, dass der Abstand zwischen 8 und 15 mm fällt. Um den Abstand konstant zu halten, kann das System, das in dem Dokument JP-B 30036/1986 beschrieben wird, verwendet werden, bei dem die sich bewegende Aluminiumlegierungsplatte hydrostatisch gegen eine gleitende Oberfläche gedrückt wird, auf der die Platte gleitet, währenddessen sie durch die elektrolytische Zelle bewegt wird. Zu diesem Zweck kann auch das Verfahren, das in dem Dokument JP-A 300843/1996 beschrieben ist, bei dem der Abstand zwischen Elektrode und Aluminiumlegierungsplatte durch die Verwendung einer Rolle mit großem Durchmesser konstant gehalten wird, verwendet werden.
Für die elektromechanische Oberflächen-Aufrauung der Aluminiumlegierungsplatte in einem Gleichstromsystem wird die Verwendung der Stromrolle, die in dem Dokument JP-A 177441/1983 beschrieben wird, in der in dem Dokument JP-A 123400/1981 beschriebenen Vorrichtung bevorzugt. Die Stromrolle kann entweder über oder unter der Aluminiumlegierungsplatte bereitgestellt werden, es ist jedoch wünschenswert, die Stromrolle über der Aluminiumplatte auf eine solche Weise bereitzustellen, dass die auf diese Weise angeordnete Stromrolle mit Hilfe einer Quetschwalze gegen die Aluminiumlegierungsplatte gedrückt wird. Die Länge, für die die Aluminiumlegierungsplatte in Kontakt mit der Stromrolle gehalten wird, fällt vorzugsweise zwischen 1 mm und 300 mm in Maschinenrichtung. Eine Profilwalze wird auf der anderen Seite gegenüberliebend von der Seite der Stromrolle so bereitgestellt, dass die Aluminiumlegierungsplatte zwischen den zwei Rollen verläuft. Der Druck der Stromrolle und die Härte der Gummiwalze sind auf eine gewünschte Art und Weise definiert, so dass keine Brennflecken in der bearbeiteten Aluminiumlegierungsplatte verursacht werden. Durch Bereitstellen der Stromrolle oberhalb der Aluminiumlegierungsplatte wird das Austauschen und die Instandhaltung der Rolle erleichtert. Vorzugsweise ist die Stromrolle so eingerichtet, dass der Rotor an seiner Kante von einer Stromversorgungsbürste, die sich in Kontakt mit dem Rotor befindet, angetrieben wird.
Darüber hinaus wird die Stromrolle, die gegen die Aluminiumlegierungsplatte gedrückt wird, die ganze Zeit über mit einer Elektrolytlösung, von der die Zusammensetzung und die Temperatur dieselben sind, wie jene der Elektrolytlösung, die für die elektrochemische Oberflächen-Aufraubehandlung der Platte verwendet wird, gekühlt gehalten, um zu verhindern, dass die Platte Brennflecke auf ihrer aufgerauten Oberfläche hat. Wenn die Elektrolytlösung, die auf die Stromrolle aufgebracht wird, um diese zu kühlen, mit Verunreinigungen verunreinigt wird, wird diese Brennflecke auf der aufgerauten Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte verursachen. Um dieses Problem zu verhindern, ist es wünschenswert, dass das Kühlflüssigkeitsspray durch ein Filtergewebe oder Ähnliches oder einen feinmaschigen Filter, der in der Leitung, die der Sprühdüse vorgeschaltet ist, geschützt wird.
Die elektrolytische Vorrichtung für die Oberflächen-Aufraubehandlung kann eine beliebige bekannte Vorrichtung, einschließlich von beispielsweise einer vertikalen, einer flachen und einer radialen elektrolytischen Vorrichtung sein. Besonders bevorzugt wird eine radiale elektrolytische Vorrichtung, wie die, die in dem Dokument JP-A 165300/1993 beschrieben wird. 5 ist eine schematische Ansicht, die die in dieser Ausführungsform verwendete radiale elektrolytische Vorrichtung darstellt. Wie dies in 5 dargestellt ist, wird die Aluminiumlegierungsplatte W, die in die radiale elektrolytische Zelle eingeführt wird, um die radiale Trommelwalze 12, die in der elektrolytischen Hauptzelle 10 angeordnet ist, herumgewickelt, und während die Platte W durch die Zelle 10 hindurchbewegt wird, wird die Platte W durch die Aktion der Hauptelektroden 13a, 13b, die mit der Wechselstromversorgungsquelle 11 verbunden sind, elektrolysiert. Eine Säurelösung 15 wird durch die Flüssigkeitszuführöffnung 14 in die Flüssigkeitszuführeinheit eingespeist, und anschließend wird sie über den Schlitz 16 in den Flüssigkeitspfad 17 zwischen der radialen Trommelwalze 12 und den Hauptelektroden 13a, 13b transportiert. Anschließend wird die Aluminiumlegierungsplatte W, die auf diese Weise in der elektrolytischen Hauptzelle 10 bearbeitet wurde, erneut in der Anoden-Hilfszelle 20 elektrolysiert. In der Zelle 20 sind Hilfsanoden 21 angeordnet, die der sich auf ihnen vorbeibewegenden Aluminiumlegierungsplatte W gegenüber angeordnet befinden. Die Säurelösung 15 wird so in die Zelle 20 eingespeist, dass sie zwischen den Hilfsanoden 21 und der Aluminiumlegierungsplatte W fließt. Die Hilfsanoden 21 können aus bekannten Sauerstoff erzeugenden Elektroden, beispielsweise jenen aus Ferrit, Iridiumoxid oder Platin oder jenen, die mit Platin oder mit einem Wulstmetall, wie beispielsweise Titan, Niob oder Zirconium, ausgekleidet sind, ausgewählt werden. Die Hauptelektroden 13a, 13b können aus Kathoden aus Kohlenstoff, Platin, Titan, Niobium, Zirconium oder Edelstahl ausgewählt werden, oder sie können aus jenen für Brennstoffzellen ausgewählt werden. Besonders bevorzugt wird Kohlenstoff. Der Kohlenstoff für die Elektroden kann das im Handel erhältliche undurchlässige Graphit für chemische Vorrichtungen sein, oder es kann Graphit mit Harzgehalt sein.
Die Fließrichtung der Säurelösung, die in die elektrolytische Hauptzelle 10 und in die Anoden-Hilfszelle 20 eingeführt wird, kann parallel oder entgegengesetzt zu der Bewegungsrichtung der Aluminiumlegierungsplatte W sein. Die relative Fließrate der Säurelösung zu der Aluminiumlegierungsplatte fällt vorzugsweise zwischen 10 und 1000 cm/Sekunde.
Es können eine oder mehrere Wechselstromquellen mit einer elektrolytischen Vorrichtung verbunden sein. Wenn dies gewünscht wird, können zwei oder mehr elektrolytische Vorrichtungen verwendet werden, und die elektrolytische Bedingung kann in jeder Vorrichtung dieselbe oder jeweils eine andere sein.
Nachdem die Aluminiumlegierungsplatte auf diese Weise einer Elektrolyse unterzogen worden ist, wird sie vorzugsweise zwischen einem Paar geriffelter Transportwalten hin- und hergeleitet, um die Prozesslösung von ihr zu entfernen, und anschließend wird sie mit Wasser besprüht, damit die Platte die Prozesslösung nicht in den nächsten Schritt mitnimmt.
In dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt ist es darüber hinaus auch wünschenswert, dass die Salpetersäure und das Wasser auf geeignete Weise zu der Prozess-Säurelösung hinzugegeben werden, und zwar im Verhältnis zu dem an die Säurelösung angelegten Strom, wobei die Säurelösung anodisch mit der Aluminiumlegierungsplatte in der Vorrichtung reagiert, wodurch die Konzentration der Säurelösung in der Vorrichtung während des Prozesses die ganze Zeit über konstant gehalten wird. Zu diesem Zwecke werden beispielsweise auf Basis der Daten der Salpetersäurekonzentration und der Aluminiumionenkonzentration der Säurelösung, die anhand der (i) elektrischen Leitfähigkeit der Säurelösung, anhand (ii) der Geschwindigkeit der Ultraschallausbreitung durch die Lösung und anhand (iii) der Temperatur der Lösung, die in dem Prozess überwacht wurden, hergeleitet werden, wobei die Menge der Salpetersäure und des Wassers, die zu der Prozesslösung hinzuzugeben sind, gesteuert wird, und dasselbe Volumen der Säurelösung wie das der Salpetersäure und des Wassers, die hinzugegeben werden sollen, wird aufeinanderfolgend zum Überlaufen aus der Vorrichtung veranlasst.
Vor der elektrolytischen Oberflächen-Aufraubehandlung wird die Aluminiumlegierungsplatte vorzugsweise in eine wässrige Dimethylaminoboran-Lösung getaucht, um ihre Oberfläche zu aktivieren, wie dies in dem Dokument JP-A 239852/2000 beschrieben ist. Wenn eine Kupferkomponente teilweise auf der Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte, die elektrolytisch aufgeraut werden soll, abgeschieden wird, könnte der Teil, der die Kupferkomponente darauf aufweist, nicht gut aufgeraut werden und würde dementsprechend Mängel in der Oberfläche aufweisen. Um dieses Problem zu lösen, wird die Aluminiumlegierungsplatte vorher in eine wässrige Dimethylaminoboran-Lösung getaucht, um ihre Oberfläche zu aktivieren. Die auf diese Weise aktivierte Oberfläche wird einheitlich ohne Oberflächenmängel aufgeraut, und die auf diese Weise bearbeitete Aluminiumlegierungsplatte weist günstige Eigenschaften für Flachdruckplatten-Vorläufer auf.
In der Behandlung fungiert Dimethylaminoboran als ein Reduzierungsagens zum Aktivieren von Kupfer, das auf der Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte vorhanden ist. Seine Menge, die auf die Platte aufzubringen ist, fällt vorzugsweise zwischen 1,0 und 10 g/Liter.
Die Lösung des Aktivierungsagens, wie voranstehend beschrieben, kann beliebige andere Komponenten enthalten, wie beispielsweise Aluminiumsalz, Tensid. Die Temperatur fällt vorzugsweise zwischen 20 und 60°C; und die Zeit für das Eintauchen der Aluminiumlegierungsplatte in die Lösung oder für das Besprühen der Platte mit der Lösung kann zwischen 1 und 30 Sekunden fallen.
<Mechanischer Oberflächen-Aufrauschritt, Schritt des alkalischen Ätzens, Nachbeizschritt>
Vorzugsweise wird die Aluminiumlegierungsplatte für die mechanische Oberflächen-Aufrauung, für den Schritt des alkalischen Ätzens und für das Nachbeizen bearbeitet, bevor sie der elektrolytischen Oberflächen-Aufrauung unterzogen wird (was im Folgenden als „Behandlung der ersten Phase" bezeichnet wird) und/oder nachdem sie der elektrolytischen Oberflächen-Aufrauung unterzogen wurde, bevor sie jedoch für die anodische Oxidation (was im Folgenden als die „Behandlung der zweiten Phase" bezeichnet wird) bearbeitet wird. Wenn dies gewünscht wird, kann die Aluminiumlegierungsplatte mit Säure geätzt werden. Diese Bearbeitungsschritte dienen jedoch lediglich dem Demonstrieren von einigen Beispielen des Prozesses dieser Ausführungsform, auf die dementsprechend die Erfindung in keinem Sinne beschränkt ist. Es versteht sich von selbst, dass diese Bearbeitungsschritte so wie die im folgenden Verlauf erwähnten Schritt optionale Schritte sind.
(Mechanischer Oberflächen-Aufrauschritt)
Die Aluminiumlegierungsplatte wird optional für das mechanische Aufrauen ihrer Oberfläche bearbeitet. Zu diesem Zweck wird die Platte beispielsweise mit einer Bürste oder Ähnlichem aufgeraut. Vorzugsweise ist die mechanische Oberflächen- Aufraubehandlung die Behandlung der ersten Phase, die vor der voranstehend beschriebenen elektrolytischen Oberflächen-Aufraubehandlung auszuführen ist.
Um die Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte mechanisch aufzurauen, wird die Aluminiumlegierungsplatte vorzugsweise mit einer rotierenden Nylon-Bürstenrolle, die einen Borstendurchmesser von ungefähr 0,07 bis 0,57 mm aufweist, bearbeitet, während eine Schleifmittelaufschlämmung auf die Oberfläche der Platte aufgetragen wird. Das Schleifmittel, das verwendet werden soll, kann ein beliebiges bekanntes sein. Zu diesem Zweck werden beispielsweise Quarzsand, Quarz, Aluminiumhydroxid und ihre Gemische bevorzugt, wie dies in dem Dokument JP-A 135175/1994 und in dem Dokument JP-B 40047/1875 beschrieben ist.
Das spezifische Gewicht der Schleifmittelaufschlämmung fällt vorzugsweise zwischen 1,05 und 1,3. Um die Schleifmittelaufschlämmung auf die Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte aufzutragen, kann beispielsweise ein Verfahren des Aufsprühens der Aufschlämmung auf die Platte; oder ein Verfahren des Aufbringens der Aufschlämmung mit einer Drahtbürste auf die Platte angewendet werden. Für die mechanische Oberflächen-Aufrauung der Aluminiumlegierungsplatte ist darüber hinaus auch ein Verfahren des Übertragens des Oberflächenprofils einer geprägten Druckwalze auf die Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte anwendbar. Darüber hinaus sind weitere anwendbare Verfahren in den Dokumenten JP-A 074898/1980, 162351/1986 und 104889/1988 beschrieben. Abgesehen von den genannten Verfahren ist darüber hinaus auch ein Verfahren des Bürstens der Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte in einer wässrigen Aufschlämmung, die ein Gemisch aus Aluminium- und Quarzkörnern in einem Gewichtsverhältnis, das zwischen 95/5 und 5/95 fällt, enthält, anwendbar, wie dies in der Internationalen Patentveröffentlichung No. 509108/1997 beschrieben ist. Bei diesem Verfahren fällt die volumengemittelte Korngröße der Körner, die die Gemische bilden, vorzugsweise zwischen 1 und 40 μm, und noch stärker bevorzugt, fällt sie zwischen 1 und 20 μm.
Die Wasseradsorptionsfähigkeit der Nylonbürste für die Verwendung hierin ist vorzugsweise niedrig. Zu diesem Zweck wird beispielsweise Toray's Nylonborste 200 T mit 6,10-Nylon bevorzugt. Sie besitzt einen Erweichungspunkt bei 180°C; einen Schmelzpunkt, der zwischen 212 und 124°C fällt; ein spezifisches Gewicht, das zwischen 1,08 und 1,09 fällt; einen Wassergehalt, der zwischen 1,4 und 1,8 bei 20°C und 65 % relativer Luftfeuchtigkeit und zwischen 2,2 und 2,8 bei 20°C und 100 % relativer Luftfeuchtigkeit fällt; eine Zugfestigkeit in trockenem Zustand, die zwischen 4,5 und 6 g/d fällt; eine Zugverlängerung in trockenem Zustand, die zwischen 20 und 35 % fällt; ein Schrumpfen bei kochendem Wasser, das zwischen 39 und 45 g/d fällt; und einen Young-Modulus (Elastizitätsmodul) (im trockenem Zustand), der zwischen 380 und 440 kg/mm² fällt.
(Schritt des alkalischen Ätzens)
Es ist wünschenswert, dass die Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte in einer wässrigen Alkalilösung sowohl in der Behandlung der ersten Phase als auch in der Behandlung der zweiten Phase chemisch geätzt wird. Die Konzentration der wässrigen Alkalilösung, die verwendet werden soll, fällt vorzugsweise zwischen 1 und 30 Gew.-%, und die Lösung kann nicht nur Aluminium- sondern auch jegliche beliebige andere Legierungskomponenten enthalten, die in der Aluminiumlegierungsplatte vorhanden sind. Der zusätzliche Metallgehalt der Lösung kann zwischen 0,5 und 10 Gew.-% fallen.
Für diese wässrige Alkalilösung wird besonders eine wässrige Lösung bevorzugt, die im Wesentlichen aus Natriumhydroxid besteht.
Die Flüssigkeitstemperatur der wässrigen Alkalilösung für die Alkaliätzbehandlung, die vor der elektrolytischen Oberflächen-Aufraubehandlung oder nach der mechanischen Oberflächen-Aufraubehandlung auszuführen ist, fällt vorzugsweise zwischen die Zimmertemperatur und 95°C; und die Zeit für die Behandlung fällt vorzugsweise zwischen 1 und 120 Sekunden. Die Menge der Auflösung der Aluminiumlegierungsplatte, die in dieser Behandlung geätzt wird, fällt vorzugsweise zwischen 1 und 15 g/m², und noch stärker bevorzugt, fällt sie zwischen 3 und 10 g/m². In dem Fall, in dem die chemischen Ätzmittel gemischt werden, um die wässrige Alkalilösung herzustellen, ist es wünschenswert, ein flüssiges Natriumhydroxid und Natriumaluminat für die Ätzmittel zu verwenden.
Nachdem die Aluminiumlegierungsplatte auf diese Weise mit der Alkalilösung geätzt worden ist, wird die Aluminiumlegierungsplatte vorzugsweise zwischen einem Paar ge riffelter Transportwalzen hin- und hergeleitet, um die Prozesslösung von ihr zu entfernen, und anschließend wird sie mit Wasser besprüht, damit die Platte die Prozesslösung nicht mit in den nächsten Schritt nimmt.
(Säure-Ätzschritt)
Wenn dies gewünscht wird, kann die Aluminiumlegierungsplatte auch mit einer Säurelösung chemisch geätzt werden. Vorzugsweise wird die Säureätzbehandlung in der Behandlung der zweiten Phase durchgeführt. Es wird auch bevorzugt, dass die Säureätzbehandlung nach der Alkaliätzbehandlung durchgeführt wird. Genauer gesagt, wird die Aluminiumlegierungsplatte, die mit einer Alkalilösung geätzt worden ist, weiter mit einer Säurelösung geätzt, wobei Silizium und andere intermetallische Verbindungen und auch eine einzelne Substanz Si, die auf der Oberfläche vorhanden sind, entfernt werden. Dies ist dahingehend günstig, dass die Mängel des Oxidfilms, der in der darauffolgenden Behandlung der anodischen Oxidation auf der Platte ausgebildet werden soll, reduziert wird.
Die Säure, die für die Säureätzbehandlung verwendet werden kann, umfasst beispielsweise Phosphorsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure, Chromsäure, Salzsäure und ihre gemischten Säuren. Bevorzugt wird eine wässrige Schwefelsäure. Die Konzentration der Säurelösung fällt vorzugsweise zwischen 300 und 500 g/Liter, und die Lösung kann nicht nur Aluminium- sondern auch jegliche beliebige andere Legierungskomponenten der Aluminiumlegierungsplatte enthalten.
Vorzugsweise fällt die Flüssigkeitstemperatur für die Säureätzbehandlung zwischen 60 und 90°C, und noch stärker bevorzugt, fällt sie zwischen 70 und 80°C; und die Zeit für die Behandlung fällt vorzugsweise zwischen 1 und 10 Sekunden. Die Menge an Auflösung der Aluminiumlegierungsplatte, die in dieser Behandlung geätzt werden soll, fällt vorzugsweise zwischen 0,01 und 0,2 g/m². Es wird darüber hinaus auch bevorzugt, dass die Säurekonzentration, wie beispielsweise die Schwefelsäurekonzentration, und die Aluminiumionenkonzentration der Säurelösung so festgelegt sind, dass sie keine Kristalle bei Zimmertemperatur ausbildet. Die bevorzugte Aluminiumionenkonzentration der Säurelösung fällt vorzugsweise zwischen 0,1 und 15 g/Liter, und noch stärker bevorzugt, fällt sie zwischen 5 und 15 g/Liter.
Nachdem die Aluminiumlegierungsplatte auf diese Weise mit Säure geätzt worden ist, wird die Aluminiumlegierungsplatte vorzugsweise zwischen einem Paar an geriffelten Transportwalzen hin- und hergeleitet, um die Prozesslösung davon zu entfernen, und anschließend wird sie mit Wasser besprüht, damit die Platte nicht die Prozesslösung in den nächsten Schritt nimmt.
(Nachbeizschritt)
In dem Fall, in dem die Aluminiumlegierungsplatte chemisch mit einer wässrigen Alkalilösung geätzt wird, nimmt sie im Allgemeinen einen Belag auf, der sich auf ihrer Oberfläche bildet. Vorzugsweise wird demzufolge die auf diese Weise geätzte Aluminiumlegierungsplatte nachgebeizt, indem sie mit einer Säurelösung, die eine beliebige von Phosphorsäure, Salpetersäure, Chromsäure, Salzsäure oder gemischten Säure aus zwei oder mehreren solcher Säuren enthält, bearbeitet wird. Vorzugsweise wird die Nachbeizbehandlung auf geeignete Weise in sowohl der Behandlung der ersten Phase als auch der Behandlung der zweiten Phase durchgeführt. Es wird stärker bevorzugt, dass die Nachbeizbehandlung nach der Alkaliätzbehandlung durchgeführt wird.
Die Konzentration der Säurelösung (genauer gesagt, die Schwefelsäurekonzentration in dem Fall, in dem die Säurelösung eine Schwefelsäurelösung ist) fällt vorzugsweise zwischen 250 und 500 g/Liter. Es wird darüber hinaus bevorzugt, dass die Säurelösung von 1 bis 15 g/Liter an Aluminium enthält. Zusätzlich dazu kann die Lösung von 0,001 bis 15 g/Liter an den anderen Legierungskomponenten (mit der Ausnahme von Aluminium) der Aluminiumlegierungsplatte enthalten, die darin aufgelöst werden.
Die Flüssigkeitstemperatur der Säurelösung für die Nachbeizbehandlung fällt vorzugsweise zwischen 60 und 90°C, noch stärker bevorzugt, fällt sie zwischen 60 und 70°C. Die Bearbeitungszeit für die Behandlung fällt vorzugsweise zwischen 1 und 180 Sekunden, noch stärker bevorzugt, fällt sie zwischen 1 und 120 Sekunden, und sogar noch stärker bevorzugt, fällt sie zwischen 2 und 60 Sekunden.
Nachdem die Aluminiumlegierungsplatte auf diese Weise nachgebeizt worden ist, wird sie vorzugsweise zwischen einem Paar an geriffelten Transportwalzen hin- und hergelei tet, um die Prozesslösung davon zu entfernen, und sie wird anschließend mit Wasser besprüht, damit die Platte die Prozesslösung nicht in den nächsten Schritt mitnimmt.
Für die Nachbeizlösung (Säurelösung) wird vorzugsweise der Rest der Säurelösung verwendet, die in dem vorangehenden Oberflächen-Aufrauschritt verwendet worden ist, da dadurch der Abfall in dem Prozess reduziert werden kann.
Vorzugsweise umfasst die Behandlung der ersten Phase, die vor der Oberflächen-Aufraubehandlung dieser Ausführungsform durchzuführen ist, das mechanische Oberflächen-Aufrauen der Aluminiumlegierungsplatte und/oder das Ätzen der Aluminiumlegierungsplatte mit einer Alkalilösung in solch einem Ausmaß, dass die Menge an Auflösung der geätzten Platte zwischen 1 und 15 g/m² (noch stärker bevorzugt, zwischen 3 und 10 g/m²) fällt, gefolgt von dem Nachbeizen der Platte mit einer Säurelösung, wie beispielsweise der voranstehend erwähnten.
Darüber hinaus wird es bevorzugt, dass die Behandlung der zweiten Phase, die nach der Oberflächen-Aufraubehandlung und vor der anodischen Oxidation ausgeführt werden soll (dies wird ausführlich im folgenden Verlauf der Beschreibung beschrieben), das Ätzen der Aluminiumlegierungsplatte mit einer Säurelösung umfasst, beispielsweise mit einer wässrigen Schwefelsäurelösung bei 60 bis 90°C für 1 bis 10 Sekunden, oder das Ätzen der Aluminiumlegierungsplatte mit einer wässrigen Alkalilösung bis zu solch einem Ausmaß, dass die Menge an Auflösung der geätzten Platte zwischen 0,01 und 5 g/m² fällt, und das anschließende Nachbeizen der Platte in einer Säurelösung, wie solch eine, die voranstehend erwähnt wurde, oder das Ätzen der Platte mit einer wässrigen Schwefelsäurelösung bei 60 bis 90°C für 1 bis 10 Sekunden. Wenn die Aluminiumplatte mit einer Alkalilösung geätzt wird, ist es wünschenswert, dass die auf diese Weise geätzte Platte des Weiteren mit einer Säurelösung für 1 bis 10 Sekunden bei 60 bis 90°C geätzt wird, um Silizium oder andere intermetallische Verbindungen ebenso wie die einfache Substanz Si von der Oberfläche der Platte zu entfernen. Wie dies bereits voranstehend erwähnt wurde, weist die mit Säure geätzte Platte nicht das Problem von Oberflächenmängeln des durch die anodische Oxidation der späteren Behandlung auf der Platte ausgebildeten Oxidfilms auf. Als Ergebnis weist die auf diese Weise bearbeitete Platte, wenn sie für einen Träger für Druckplatten verwendet wird, nicht das Problem von fleckenähnlichen Tintenflecken in dem Nicht-Bildbereich von Drucksachen auf.
Nachdem die Aluminiumlegierungsplatte in einer wässrigen Säure- oder Alkalilösung bearbeitet oder die Oberfläche mechanisch mit einem Schleifmittel aufgeraut wurde, ist es erstrebenswert, die Platte zu waschen, um die Chemikalien und das Schleifmittel von der Oberfläche der bearbeiteten Platte zu entfernen. Zum Waschen der Platte kann beispielsweise Wasser oder Trockeneis verwendet werden.
Im Allgemeinen wird die in dieser Ausführungsform bearbeitete Aluminiumlegierungsplatte vor ihrer Bearbeitung mit verschiedenen Typen von Chemikalien oder in verschiedenen Bearbeitungstanks stets gewaschen. Die Zeit, die die Platte benötigt, nachdem sie in einem Tank bearbeitet wurde und bevor sie gewaschen wird, oder die sie benötigt, nachdem sie gewaschen wurde und bevor sie in den nächsten Tank eingebracht wird, beträgt vorzugsweise 10 Sekunden oder weniger, und fällt stärker bevorzugt zwischen 0,1 und 10 Sekunden. Wenn die Zeit mehr als 10 Sekunden beträgt, wird die bearbeitete Oberfläche chemisch geändert und wird in den nachfolgenden Schritten ungleichmäßig bearbeitet werden.
Der Zeitabstand zwischen einem Bearbeitungstank und der nächsten Bearbeitungszeit, in dem die Aluminiumlegierungsplatte gewaschen wird, beträgt vorzugsweise 15 Sekunden oder weniger und stärker bevorzugt 5 Sekunden oder weniger in Bezug auf die Zeit, die benötigt wird, um die Platte von einem vorherigen Tank zu einem nächsten Tank zu transportieren. Wenn die Zeit mehr als 15 Sekunden beträgt, unterliegt die bearbeitete Oberfläche einer chemischen Änderung und kann in den nachfolgenden Schritten nicht gleichmäßig aufgeraut werden.
Zum Waschen der Aluminiumlegierungsplatte, die bearbeitet wird, werden vorzugsweise die im Folgenden genannten Verfahren eingesetzt. Zum Verringern der Menge an Waschrückständen wird das Verfahren des Waschens der Platte mit Trockeneispulver besonders bevorzugt.
(1) Waschen mit Wasser:
Zum Waschen der Aluminiumlegierungsplatte für Flachdruckplatten wird die Platte im Allgemeinen, nachdem sie zwischen einem Paar von geriffelten Transportwalzen passiert ist, um die Prozesslösung von ihr zu entfernen, Wasserstrahlen aus Sprühaufsätzen ausgesetzt. Bei diesem Verfahren werden die Wasserstrahlen vorzugsweise in einem Winkel von 45 bis 90 Grad in der Abwärtsrichtung der Transportrichtung der Platte gerichtet. Der Strahldruck des Waschwassers kann im Allgemeinen zwischen 0,5 und 5 kg/cm² an dem Aufsatz der Strahldüse fallen; und die Temperatur davon liegt vorzugsweise zwischen 10 und 80°C. Bei dem auf diese Weise durchgeführten Waschvorgang fällt die Transportgeschwindigkeit der Aluminiumlegierungsplatte vorzugsweise zwischen 20 und 200 m/min. Die Wassermenge, die auf die Aluminiumlegierungsplatte in einer Waschbehandlung anzuwenden ist, beträgt vorzugsweise zwischen 0,1 und 10 Liter/m². In einem Waschtank wird das Waschwasser in Richtung der Aluminiumlegierungsplatte durch wenigstens zwei auf die Oberseite der Platte gerichtete Sprühdüsen und durch wenigstens zwei auf die Rückseite der Platte gerichtete Sprühdüsen gestrahlt. Eine Sprühdüse weist zwischen 5 und 30 Sprühaufsätzen in Abstandsintervallen zwischen 50 bis 200 mm auf. Der Strahlwinkel jedes Sprühaufsatzes beträgt vorzugsweise zwischen 10 und 15 Grad, und der Abstand zwischen der Aluminiumlegierungsplatte und der Sprühaufsatzstrahlfläche beträgt vorzugsweise zwischen 10 und 250 mm. Das Sprühmuster von jedem Sprühaufsatz kann ringförmig, kreisförmig, oval, quadratisch oder rechteckig sein, es ist jedoch vorzugsweise kreisförmig, oval, quadratisch oder rechteckig. Die Mengenverteilung (die den Zustand der gesprühten Wassers auf der Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte angibt) kann eine ringförmige Verteilung, eine gleichmäßige Verteilung oder eine hügelartige Verteilung sein. Wenn viele Sprühaufsätze durch eine Sprühdüse ausgerichtet sind, ist die Mengenverteilung aus einem jeden vorzugsweise eine hügelartige Verteilung, die die gleichmäßige Mengenverteilung auf der gesamten Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte insgesamt erleichtert. Die Mengenverteilung variiert in Abhängigkeit von dem Sprühdruck und dem Abstand zwischen den Sprühaufsätzen und der Aluminiumlegierungsplatte. Die Tropfengröße des Sprühwassers variiert ebenfalls in Abhängigkeit von der Struktur der Sprühaufsätze, dem Sprühdruck sowie der Menge des Sprühwassers, sie fällt jedoch vorzugsweise zwischen 10 und 10000 μm und stärker bevorzugt zwischen 100 und 1000 μm. Die Sprühdüsen bestehen vorzugsweise aus einem Material, das druckfest gegenüber der Flüssigkeit ist, die mit einer hohen Geschwindigkeit durch sie fließt, so dass sie nicht durch die Flüssigkeit abgeschliffen werden. Bevorzugte Beispiele des Materials sind Messing, Edelstahl, Keramik; wobei Keramik besonders bevorzugt wird.
Die Sprühdüsen mit den Sprühaufsätzen können in einem Winkel zwischen 45 und 90 Grad relativ zu der Transportrichtung der Aluminiumlegierungsplatte angeordnet sein. Vorzugsweise sind sie so angeordnet, dass die längere Mittellinie des Sprühmusters von jedem Sprühaufsatz senkrecht zu der Transportrichtung der Aluminiumlegierungsplatte ist.
Die Waschzeit beträgt aus der Sicht der industriellen Vorteile vorzugsweise nicht mehr als 10 Sekunden und stärker bevorzugt zwischen 0,5 und 5 Sekunden.
(2) Waschen mit Trockeneispulver:
Zum Waschen der Aluminiumlegierungsplatte durch Strahlen von Trockeneispulver auf beide Oberflächen der Platte sind jegliche Abstrahlvorrichtungen, wie beispielsweise die in dem Dokument JP-A 66905/1998 beschriebenen, einsetzbar. In der Vorrichtung können jegliche bekannten Strahldüsen, wie beispielsweise die in den Dokumenten JP-A 28901/1998 und in 28902/1998 beschriebenen, an beiden Seiten der Aluminiumlegierungsplatte, die die Vorrichtung durchläuft, ausgerichtet sein. Beispielsweise können die Strahldüsen geradlinig in der Bewegungsrichtung der Platte angeordnet sein. Vorzugsweise sind sie jedoch schräg ausgerichtet, so dass sich ihre Strahlmuster auf der Platte in der Querrichtung der Platte überlappen können. Der Abstand zwischen den Strahldüsen und der Aluminiumplatte beträgt vorzugsweise zwischen 1 und 100 mm und stärker bevorzugt zwischen 10 und 50 mm.
Zum Herstellen des hierin verwendeten Trockeneispulvers kann die in dem Dokument J-UM-A 38104/1995 beschriebene Vorrichtung eingesetzt werden. Das Strahlgas kann N₂ oder Luft sein. Die volumengemittelte Partikelgröße des Trockeneispulvers fällt vorzugsweise zwischen 1 und 1000 μm und stärker bevorzugt zwischen 10 und 100 μm. Die Zuführmenge an CO₂ (in Bezug auf das Feststoffgewicht davon) von einer Strahldüse fällt vorzugsweise zwischen 0,1 und 1 kg/min; und der CO₂-Druck fällt vorzugsweise zwischen 1 und 20 MPa. Der Waschdruck auf die Aluminiumlegierungsplatte fällt vorzugsweise zwischen 1 und 20 MPa.
<Schritt der anodischen Oxidation>
Bei dem Verfahren zum Herstellen eines Trägers dieser Ausführungsform wird die Aluminiumlegierungsplatte vorzugsweise der anodischen Oxidation nach der Oberflächen-Aufraubehandlung oder nach der Behandlung der zweiten Phase unterzogen, um die Abriebfestigkeit ihrer Oberfläche weiter zu verbessern. Das heißt konkret, dass die Aluminiumlegierungsplatte in eine Elektrolytlösung eingetaucht wird, in der die Platte als eine Anode dient, und darin elektrolysiert wird, um einen Oxidfilm darauf durch die anodische Oxidation der Platte auszubilden.
Nachdem die Bearbeitung durch die anodische Oxidation auf diese Weise durchgeführt wurde, kann der auf der Aluminiumlegierungsplatte ausgebildete Oxidfilm, wenn gewünscht, hydrophil gemacht oder weiter bearbeitet werden, um die darin vorhandenen Mikroporen zu versiegeln.
Die Elektrolytlösung, die für die anodische Oxidation der Aluminiumlegierungsplatte zu verwenden ist, kann jegliche oder jede sein, die reagiert, um einen porösen Oxidfilm auf der Platte auszubilden. Im Allgemeinen ist es Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure oder deren Gemische. Die Konzentration der Elektrolytlösung kann in Abhängigkeit von dem Typ des Elektrolyts darin bestimmt werden.
Die Bedingung für die anodische Oxidation kann nicht auf eine bestimmte Art und Weise bestimmt werden, da sie in Abhängigkeit von dem Typ der verwendeten Elektrolytlösung variiert. Im Allgemeinen kann die Konzentration der Elektrolytlösung zwischen 1 und 80 Gew.-% fallen; die Temperatur davon kann zwischen 5 und 70°C fallen; die Stromdichte kann zwischen 1 und 60 A/cm² fallen; die Spannung kann zwischen 1 und 100 V fallen, und die Elektrolysezeit kann zwischen 10 Sekunden und 300 Sekunden fallen.
In dem Fall, in dem die anodische Oxidation entsprechend einem Schwefelsäureverfahren ausgeführt wird, bei dem die verwendete Elektrolytlösung eine wässrige Schwefelsäurelösung ist, wird im Allgemeinen ein Gleichstrom an das System angelegt, es kann jedoch auch ein Wechselstrom angelegt werden. Die Menge des durch die anodische Oxidation auszubildenden Oxidfilms kann zwischen 1 und 10 g/m² jedoch vorzugsweise zwischen 1 und 5 g/m² fallen. Wenn sie weniger als 1 g/m² beträgt, verschlechtert sich die Druckbeständigkeit der Flachdruckplatten, die die Aluminiumlegierungsplatte umfassen, die als ein Träger dient, und der Nicht-Bildbereich der Druckplatten wird schnell zerkratzt werden. Wenn dies der Fall ist, bleibt Tinte in den Kratzern haften, wodurch häufig Tintenflecke auf den Drucksachen verursacht werden. Wenn demgegenüber die Menge des Oxidfilms mehr als 10 g/m² beträgt, wird sich der Oxidfilm lokal an den Kanten der Aluminiumlegierungsplatte konzentrieren.
Die Differenz zwischen der Menge des an den Kanten ausgebildeten Oxidfilms und dem in dem Mittelteil der Aluminiumlegierungsplatte beträgt vorzugsweise höchstens 1 g/m².
Die Elektrolytlösung für die anodische Oxidation ist vorzugsweise eine wässrige Schwefelsäurelösung. Einzelheiten über diese Lösung werden in JP-A 128453/1979 und 45303/1973 beschrieben. Die wässrige Schwefelsäurelösung, die hierin verwendet wird, weist eine Schwefelsäurekonzentration auf, die vorzugsweise zwischen 10 und 300 g/Liter fällt, sowie eine Aluminiumionenkonzentration, die zwischen 1 und 25 g/Liter fällt. Stärker bevorzugt wird sie durch Hinzufügen von Aluminiumsulfat zu einer wässrigen Schwefelsäurelösung mit einer Konzentration zwischen 50 und 200 g/Liter hergestellt, um dadurch eine Aluminiumionenkonzentration aufzuweisen, die zwischen 2 und 10 g/Liter fällt. Die Badtemperatur bei der Behandlung fällt vorzugsweise zwischen 30 und 60°C.
Bei dem Gleichstromverfahren, bei dem ein Gleichstrom verwendet wird, fällt die Stromdichte vorzugsweise zwischen 1 und 60 A/cm² und stärker bevorzugt zwischen 5 und 40 A/cm².
In dem Fall, in dem die Aluminiumlegierungsplatte (in der Form eines Bleches) kontinuierlich durch die anodische Oxidation bearbeitet wird, wird das Profil der daran angelegten Stromdichte vorzugsweise so gesteuert, dass die Stromdichte niedrig gehalten wird und zwischen 5 und 10 A/cm² in der Anfangsphase fällt und anschließend schrittweise in der letzten Phase erhöht wird, um 30 bis 50 A/cm² oder mehr zu erreichen, um eine lokale Stromkonzentration zu verhindern, durch die die bearbeitete Platte teilweise gelb wird. In diesem Modus ist es erstrebenswert, dass die Stromdichte in 5 bis 15 Schritten schrittweise erhöht wird. Des Weiteren wird bevorzugt, dass eine unabhängige Stromquelle in jedem Schritt bereitgestellt wird und dass die an die Aluminiumlegierungsplatte anzulegende Stromdichte auf geeignete Weise gesteuert wird, um das wie vorangehend vorgesehene Profil zu erhalten, indem der Strom von den unabhängigen Stromversorgungsquellen gesteuert wird. Als Stromversorgung wird ein Stromversorgungssystem mit Flüssigkeitseinspeisung bevorzugt. Im Allgemeinen kann die Anode Iridiumoxid oder Blei sein; und die Kathode ist Aluminium. Ein Beispiel der Vorrichtung für die anodische Oxidation wird in der japanischen Patentanmeldung Nr. 178624/1999 beschrieben.
Die wässrige Schwefelsäurelösung für die anodische Oxidation kann geringfügige darin gelöste Bestandteile enthalten, die in der Aluminiumlegierungsplatte vorhanden sind. Während der anodischen Oxidation löst sich das Aluminium in der bei dem Vorgang verwendeten wässrigen Schwefelsäurelösung auf. Zur Prozesssteuerung müssen die Schwefelsäurekonzentration und die Aluminiumionenkonzentration der Prozesslösung überwacht werden. Bei dem Prozess muss, wenn die Aluminiumionenkonzentration der Prozesslösung, der wässrigen Schwefelsäurelösung, zu gering eingestellt ist, die Lösung häufig ausgetauscht werden. Wenn dies der Fall ist, erhöht sich der Abfall und das Verfahren ist aus Sicht des Umweltschutzes unökonomisch und problematisch. Wenn demgegenüber die Aluminiumionenkonzentration der Prozesslösung zu hoch eingestellt ist, erhöht sich die Spannung für die Elektrolyse, so dass dies unökonomisch ist, da sich die Stromkosten erhöhen.
Hinsichtlich der Beziehung zwischen der Schwefelsäurekonzentration und der Aluminiumionenkonzentration der Prozesslösung für die anodische Oxidation und der Temperatur davon ist es erstrebenswert, dass (i) die Schwefelsäurekonzentration der Lösung zwischen 100 und 200 g/Liter und stärker bevorzugt zwischen 130 und 180 g/Liter fällt, die Aluminiumionenkonzentration davon zwischen 2 und 10 g/Liter und stärker bevorzugt zwischen 3 und 7 g/Liter fällt und die Temperatur davon zwischen 30 und 40°C und stärker bevorzugt zwischen 33 und 38°C fällt, oder dass (ii) die Schwefelsäurekonzentration der Lösung zwischen 50 und 125 g/Liter und stärker bevorzugt zwischen 80 und 120 g/Liter fällt, die Aluminiumionenkonzentration davon zwischen 2 und 10 g/Liter und stärker bevorzugt zwischen 3 und 7 g/Liter fällt und die Temperatur davon zwischen 40 und 70°C und stärker bevorzugt zwischen 50 und 60°C fällt.
Als Stromversorgung für das Aluminiumlegierungsblech, das durch die anodische Oxidation bearbeitet wird, ist eine jegliche eines direkten Stromversorgungssystems, bei dem der Strom direkt über eine Stromrolle an die Platte angelegt wird, sowie eines Stromversorgungssystems mit Flüssigkeitseinspeisung anwendbar, bei dem der Strom indirekt über die darin befindliche Elektrolytlösung an die Platte angelegt wird.
Als das direkte Stromversorgungssystem wird im Allgemeinen eine Niedergeschwindigkeitsvorrichtung für die anodische Oxidation mit geringer Stromdichte verwendet, in der die Aluminiumlegierungsplatte bei einer relativ niedrigen Maschinengeschwindigkeit von 30 m/min oder weniger transportiert wird; und als das indirekte Stromversorgungssystem wird im Allgemeinen eine Hochgeschwindigkeitsvorrichtung für die anodische Oxidation mit hoher Stromdichte verwendet, in der die Platte bei einer hohen Maschinengeschwindigkeit von mehr als 30 m/min transportiert wird.
Als das indirekte Stromversorgungssystem kann ein hügelartiges oder geradliniges Zellenlayout angewendet werden, wie dies beispielsweise in Continuous Surface Processing Technology (von dem General Technology Center of Japan, 30. September 1986), Seite 289, aufgeführt ist. Hochgeschwindigkeits-Hochstromvorrichtungen sind für das indirekte Stromversorgungssystem mit einer Stromrolle nicht geeignet, da zwischen der Stromrolle und der um die Rolle verlaufenden Aluminiumlegierungsplatte Funken erzeugt werden.
Um zu verhindern, dass die Stromrolle Funken bildet und die Aluminiumlegierungsplatte heiß wird, ist es erstrebenswert, dass die Stromrolle und der Teil der Aluminiumlegierungsplatte, der in der Luft verläuft, mit einer Elektrolytlösung besprüht werden, die dieselbe Zusammensetzung und dieselbe Temperatur wie die der für die anodische Oxidation verwendeten Elektrolytlösung aufweist. Die Stromrolle kann über oder unter der Aluminiumlegierungsplatte angeordnet sein.
Wenn zwei oder mehrere Zellen für die anodische Oxidation verwendet werden und die Zellen entsprechend dem direkten Stromversorgungssystem, wie vorangehend beschrieben, betrieben werden, bestehen die darin zu verwendenden Stromrollen im Allgemeinen aus Aluminium. Um deren Lebensdauer zu verlängern, ist es erstrebenswert, dass die Rollen durch das Homogenisieren von Gussrollen aus reinem Industriealuminium bei einer hohen Temperatur hergestellt werden, um dadurch das Al-Fe-Kristallmaterial in der Oberfläche davon in ein einphasiges Al₃Fe umzuwandeln, um die Korrosionsbeständigkeit der Rollen, wie in dem Dokument JP-B-50138/1986 offenbart, zu verbessern.
Ein hoher Strom wird an die Aluminiumlegierungsplatte in dem Schritt der anodischen Oxidation der Platte angelegt. In dem Schritt wirkt aus diesem Grund die Lorentzkraft von dem magnetischen Feld auf die Aluminiumlegierungsplatte, die durch den durch die Stromschiene in der Vorrichtung fließenden Strom erzeugt wird. Ein damit verbundenes Problem unter dieser Bedingung ist, dass die Aluminiumlegierungsplatte bei der Bearbeitung durch die anodische Oxidation schlingert. Um dieses Problem zu lösen, wird das in dem Dokument JP-A 51290/1982 beschriebene Verfahren bevorzugt.
Darüber hinaus empfängt die Aluminiumlegierungsplatte von dem magnetischen Feld, das durch den dadurch fließenden hohen Strom erzeugt wird, des Weiteren die Lorentzkraft, die in Richtung der Mitte der Platte in der Querrichtung davon wirkt. Demzufolge wird die Aluminiumlegierungsplatte unter dieser Bedingung häufig gebogen, wenn sie der Bearbeitung durch die anodische Oxidation unterzogen wird. Um das Problem zu lösen, ist es erstrebenswert, viele Durchlaufrollen mit einem Durchmesser von 100 bis 200 mm in jeder Zelle für die anodische Oxidation in Abstandsintervallen von 100 bis 3000 mm auf eine solche Weise bereitzustellen, dass sie sich bei einem Winkel von 1 bis 15 Grad überlappen und dadurch verhindern, dass die Aluminiumlegierungsplatte infolge der Lorentzkraft, die die Platte empfangen hat, gebogen wird.
Die Menge des auf der Aluminiumlegierungsplatte durch die anodische Oxidation ausgebildeten Films variiert in der Querrichtung der Platte. Das heißt insbesondere, dass die Menge an den Kanten der Platte größer ist, und der um die Kanten der Platte ausgebildete Oxidfilm dicker ist. Ein damit einhergehendes Problem ist, dass die Aluminium-Regierungsplatte in einer Aufwickelvorrichtung nicht gut aufgewickelt werden kann. Um dieses Problem zu lösen, wird die Prozesslösung in der Vorrichtung für die anodische Oxidation gerührt, wie beispielsweise in den Dokumenten JP-B 30275/1987 und 21840/1980 beschrieben. Wenn das Problem selbst durch dieses Verfahren nicht gut gelöst werden kann, ist es erstrebenswert, die Plattenaufwicklungsvorrichtung in der Querrichtung der Platte bei einer Frequenz zwischen 0,1 und 10 Hz bis zu einer Schwingungsbreite zwischen 5 und 50 mm schwingen zu lassen. Durch das Kombinie ren des Verfahrens des Rührens der Lösung und des Verfahrens des Schwingens der Vorrichtung wird insbesondere angestrebt, das Problem vollständig zu lösen.
Die Aluminiumlegierungsplatte für die Flachdruckplatten-Träger kann entweder auf einer ihrer Oberflächen oder auf beiden Oberflächen aufgeraut werden. In dem ersten Fall werden eine aufgeraute Oberfläche der Platte mit einer Grundierungsschicht beschichtet, und eine lichtempfindliche Schicht und Mattenschicht wird darauf ausgebildet, um die Endprodukte fertigzustellen (einseitige Flachdruckplatten-Vorläufer). In dem zweiten Fall werden die beiden aufgerauten Oberflächen der Platte mit einer Grundierungsschicht beschichtet und eine lichtempfindliche Schicht und eine Mattenschicht darauf ausgebildet, um die Endprodukte herzustellen (zweiseitige Flachdruckplatten-Vorläufer).
Um effizient verwendet werden zu können, muss die Zelle für die anodische Oxidation so gestaltet sein, dass sie in beiden der zwei Fälle angewendet werden kann, zum einen für das Bearbeiten von lediglich einer Oberfläche der Platte und zum anderen für das gleichzeitige Bearbeiten von beiden Oberflächen der Platte. Um diese Anforderung zu erfüllen, ist es erstrebenswert, dass die Gegenelektrode in der Zelle für die anodische Oxidation eine U-Form aufweist, so dass die in der Zelle zu bearbeitende Aluminiumlegierungsplatte entlang der U-förmigen Gegenelektrode verlaufen kann. In dem ersten Fall des Bearbeitens von lediglich einer Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte in der auf diese Weise gestalteten Zelle kann die andere Oberfläche der Platte einen Oxidfilm von 0,1 bis 1 g/m² darauf ausgebildet haben, und der so ausgebildete Oxidfilm soll verhindern, dass die andere Oberfläche der Platte zerkratzt wird. Die Platte erfordert keinen dickeren Oxidfilm auf der anderen Oberfläche davon. Um das Energiesparproblem in beiden Fällen zu lösen, wird die in dem Dokument JP-B 58233/1988 beschriebene Zellenstruktur bevorzugt, die speziell so gestaltet ist, dass ein isolierendes Material zwischen einem Streifen der Metallplatte, von dem lediglich eine Oberfläche zu elektrolysieren ist, und der Gegenelektrode angeordnet ist, die der anderen Oberfläche des Streifens, die nicht zu elektrolysieren ist, gegenüberliegt, und das isolierende Material wird von seiner ursprünglichen Position bewegt, wenn die beiden Oberflächen des Metallplattenstreifens elektrolysiert werden sollen. In der auf diese Weise gestalteten Zellenstruktur fließt der Strom nicht in Richtung der isolierten Oberfläche des Metallplattenstreifens in dem ersten Fall, er fließt jedoch in Richtung der beiden Oberflächen davon, wenn das isolierende Material in dem zweiten Fall entfernt wird.
In der Zelle für die anodische Oxidation für die einseitige Elektrolyse mit einem Gleichstrom ist es ferner erstrebenswert, dass die Gegenelektrode, Kathode, über der Aluminiumlegierungsplatte angeordnet ist (beispielsweise in Form einer Bahn) und eine isolierende Platte aus Polyvinylchlorid unter der Platte angeordnet und durch einen Abstand von der Platte von 5 bis 20 mm dazwischen beabstandet ist.
Nachdem die Aluminiumlegierungsplatte auf diese Weise durch die anodische Oxidation bearbeitet worden ist, um einen Oxidfilm darauf auszubilden, kann sie bearbeitet werden, um den Oxidfilm zu ätzen und kann anschließend weiter mit Dampf, heißem Wasser oder einer heißen wässrigen Lösung, die wenigstens eine Verbindung ausgewählt aus organischen Lösungen, Aminoverbindungen, organischen Säuren, Oxyphosphaten und Borsäure enthält, wie in dem Dokument JP-B 12518/1981, bearbeitet werden. Wenn die Aluminiumlegierungsplatte auf diese Weise bearbeitet wird, ist sie vorteilhafter für die Flachdruckplatten-Träger. Es muss nicht erwähnt werden, dass der Ätzvorgang nach der anodischen Oxidation nicht zwingend für diese Ausführungsform ist.
Es ist erstrebenswert, dass die für den Vorgang des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens, den Vorgang des mechanischen Oberflächen-Aufrauens, den Nachbeizvorgang, den Vorgang des chemischen Ätzens (den Vorgang des alkalischen Ätzens), die anodische Oxidation und die Hydrophilisierung verwendeten Chemikalien so gut wie möglich recycelt werden.
In der wässrigen Natriumhydroxidlösung, die darin gelösten Aluminiumionen enthält, kann Aluminium durch die Kristallisation von dem Natriumhydroxid getrennt werden. In der wässrigen Schwefelsäurelösung, der wässrigen Salpetersäurelösung oder der wässrigen Salzsäurelösung, die darin gelöste Aluminiumionen enthält, können Schwefelsäure, Salpetersäure oder Salzsäure durch die Elektrodialyse oder die Behandlung mit Ionenaustauscherharz zurückgewonnen werden.
Die wässrige Salzsäurelösung mit darin gelöste Aluminiumionen kann bedampft werden, um die Säure zurückzugewinnen, wie beispielsweise in JP-A 282272/2000.
In Bezug auf die Werte der Oberflächeneigenschaften der Aluminiumlegierungsplatte, deren Oberfläche in dieser Ausführungsform aufgeraut worden ist, ist es erstrebenswert, dass die Oberflächenfaktoren davon, die mit einem Messgerät für die Kontakt-Oberflächenrauhigkeit gemessen werden, in die im Folgenden genannten Bereiche fallen.
Die Faktoren umfassen die mittlere Oberflächenrauhigkeit (Ra); die mittlere 10-Punkt-Rauhigkeit (Rz) – dafür wird der Querschnitt der Platte abgetastet, um eine vorgegebene Länge zu erhalten, eine gerade Linie, die parallel zu der mittleren Linie der gebogenen Oberflächenlinie des Querschnittes ist, jedoch die gebogene Oberflächenlinie nicht schneidet, wird auf dem Querschnitt gezeichnet und die Summe der mittleren Höhe der fünf höchsten Berge in der vertikalen Richtung der gerade Linie und die mittlere Tiefe der fünf tiefsten Täler in derselben Richtung gibt die mittlere 10-Punkte-Rauhigkeit (Rz) in der Einheit μm an; die maximale Höhe (Rmax) – dafür werden der höchste Berg und das tiefste Tal in dem Querschnitt zwischen zwei geraden Linien eingeschlossen, die beide parallel zu der geraden Linie sind, die parallel zu der mittleren Linie ist und der Abstand zwischen den zwei geraden Linien gibt die maximale Höhe (Rmax) in der Einheit μm an; die mittlere Tiefe (Rp) – diese wird durch den Abstand zwischen dem höchsten Berg und der geraden Linie parallel zu der mittleren Linie in dem Querschnitt angegeben; der mittlere Berg-zu-Berg-Abstand (Sm) – dafür wird die Welle der Oberflächenkurve gefiltert und mit einem Rauhigkeitsmessgerät gemessen und abgetastet, um eine vorgegebene Länge zu erhalten, der Abstand zwischen einem Punkt, an dem die Kurve durch die mittlere Linie geschnitten wird und von einem Berg in Richtung des benachbarten Tales verläuft und dem nächsten Punkt, an dem die Kurve durch die mittlere Linie geschnitten wird und von dem nächsten Berg in Richtung des benachbarten Tales verläuft, wird für jeden Berg gemessen, und die Daten werden gemittelt, um den mittleren Berg-zu-Berg-Abstand (Sm) anzugeben, wie dies in JIS 0601-1982 offenbart ist.
In dieser Ausführungsform sind die bevorzugten Bereiche dieser Faktoren folgenden: Ra fällt zwischen 0,3 und 0,6 μm; Rz fällt zwischen 2 und 5 μm; Rmax fällt zwischen 2 und 5 μm; Rp fällt zwischen 0,5 und 1,5 μm; und Sm fällt zwischen 20 und 70 μm. Des Weiteren fällt die Porenfreiheit (%), die auf Basis der Abbott-Kurve bestimmt wird, die bei einer Schnitttiefe Cv von dreimal der Höhe Ra der Platte gezeichnet wird, vorzugsweise zwischen 15 und 35. Der Traganteil (tpmi) in der Schnitttiefe von dreimal der Höhe von Ra der Platte liegt ebenfalls vorzugsweise zwischen 10 und 50 %, wobei sich auf die Offenbarung in dem Dokument JP-A 150353/1987 bezogen wird.
Der Weißgrad der Platte fällt ebenfalls vorzugsweise zwischen 0,14 und 0,45 und wird mit einem Macbeth-Densitometer gemessen, nachdem die Platte durch die anodische Oxidation bearbeitet wurde.
Bei dem Verfahren der anodischen Oxidation der Aluminiumlegierungsplatte in dieser Ausführungsform können alle bekannten plattierten oder überzogenen Stahleinheiten, Plattierungseinheiten, elektrolytischen Kondensatoren sowie gewöhnlichen Metallrollen, Harzrollen, Gummirollen und Vliesrollen, die im Allgemeinen in kontinuierlichen Fertigungsanlagen für Flachdruckplatten verwendet werden, genutzt werden.
Beispielsweise werden die Material- und Oberflächeneigenschaften der Rollen (beispielsweise Durchlaufrollen), die in der Vorrichtung zum Herstellen des Flachdruckplattenträgers dieser Ausführungsform zu verwenden sind, in Abhängigkeit von den bei dem Vorgang zu verwendenden Chemikalien sowie in Abhängigkeit von dem Oberflächenzustand der in dem Prozess zu bearbeitenden Aluminiumlegierungsplatte entsprechend ausgewählt und bestimmt, wobei die Abriebfestigkeit, die Wärmebeständigkeit sowie die chemische Beständigkeit der Rollen berücksichtigt werden. Als die Metallrollen werden im Allgemeinen hartverchromte Rollen verwendet. Als Gummirollen können diejenigen aus Naturkautschuk, Isopren-Kautschuk, Styrol-Butadien-Kautschuk, Butadien-Kautschuk, Butyl-Kautschuk, Chloroprenkautschuk, chlorsulfoniertem Kautschuk, Nitrilkautschuk, Acrylkautschuk, Epichlorhydrin-Kautschuk, Urethan-Kautschuk, Polysulfidkautschuk, Fluorkautschuk sowie diejenigen solcher Materialien, die geringe Zusatzstoffe enthalten, verwendet werden. Die Härte der Kautschukrollen fällt vorzugsweise zwischen 60 und 90.
Bei dem Prozess des Oberflächen-Aufrauens des Flachdruckplattenträgers und ebenfalls bei dem Prozess des Ausbildens einer lichtempfindlichen Schicht auf dem Träger und des Trocknens der Schicht darauf, die im Folgenden beschrieben werden, ist es erstrebenswert, keine siliziumhaltigen Materialien für die Vorrichtungen, für die Schmieröle und für die Arbeitsbekleidung, Messinstrumente und andere Arbeitsinstrumente zu verwenden. Dies liegt daran, dass, wenn einige Siliziumkomponenten an der bei diesen Prozessen bearbeiteten Aluminiumlegierungsplatte haften bleiben, dadurch Punktdefekte mit einem Durchmesser vom 0,1 bis 5 mm gebildet werden und das Ergebnis guter Produkte dadurch erheblich verringert wird. Darüber hinaus ist es ebenfalls erstrebens wert, dass sämtliche Kosmetika, Frisier- und Drucksachen, die in der Arbeitsumgebung vorhanden sein können, siliziumfrei sind.
<Hydrophilisierungsschritt>
Nachdem die Aluminiumlegierungsplatte durch die anodische Oxidation wie oben bearbeitet wurde, wird sie optional jedoch vorzugsweise hydrophil gemacht (das heißt, ihre Oberfläche wird hydrophil gemacht). Für die Hydrophilisierung werden vorzugsweise Alkalimetallsilikate (beispielsweise die wässrige Natriμmsilikatlösung), wie in den Dokumenten 2.714.066, 3.181.461, 3.280.734 und 3.902.734, verwendet. Bei diesem Verfahren wird die Aluminiumlegierungsplatte konkret in eine wässrige Natriumsilikatlösung eingetaucht, oder sie wird in der wässrigen Lösung elektrolysiert. Weitere bevorzugte Verfahren für die Hydrophilisierung werden in dem Dokument JP-B 22063/1961, bei dem Kaliumfluorozirkonat verwendet wird, und in den Dokumenten USP 3.276.868, 4.153.461 und 4.689.272 beschrieben, bei denen Polyvinylphosphonsäure verwendet wird. Davon werden besonders die Verfahren der Hydrophilisierung des Oxidfilms auf der Aluminiumlegierungsplatte mit einer wässrigen Lösung aus Natriumsilikat und Polyvinylphosphonsäure bevorzugt.
<Schritt des Versiegelns von Poren>
In dieser Ausführungsform ist es erstrebenswert, dass die Aluminiumlegierungsplatte, nachdem sie durch die anodische Oxidation, wie vorangehend beschrieben, bearbeitet wurde, weiter bearbeitet wird, um die Mikroporen zu versiegeln, die in dem auf der Platte ausgebildeten Oxidfilm vorhanden sind. Zum Versiegeln der Mikroporen wird die Platte beispielsweise in heißes Wasser oder in eine heiße wässrige Lösung eingetaucht, die organisches oder anorganisches Salz enthält, oder sie wird Dampf in einem Dampfbad ausgesetzt. Nachdem die Platte auf diese Weise zum Versiegeln der Mikroporen bearbeitet wurde, ist es darüber hinaus erstrebenswert, dass die Platte auf die vorangehend beschriebene Art und Weise hydrophil gemacht wird. Das anorganische Salz enthält beispielsweise Silikate, Borate, Phosphate und Nitrate; und das organische Salz enthält beispielsweise Carboxylate.
<<Vorrichtungen für das Herstellungsverfahren dieser Ausführungsform>>
Im Folgenden werden die Vorrichtungen für das Herstellungsverfahren dieser Ausführungsform zum Herstellen von Aluminiumträgern für Flachdruckplatten beschrieben.
Das Herstellungsverfahren dieser Ausführungsform zum Herstellen der Träger umfasst vorzugsweise (1) das Zuführen einer aufgerollten und gewickelten Aluminiumlegierungsplatte von einer Abwickelvorrichtung, die mit einem Mehrwellendrehkreuz ausgestattet ist, in die nächste Bearbeitungsvorrichtung, (2) das Bearbeiten der Platte durch das mechanische Oberflächen-Aufrauen, das alkalische Ätzen, das Ätzen mit Säure, das Nachbeizen, das elektrochemische Oberflächen-Aufrauen, die anodische Oxidation, das Versiegeln der Poren und die Hydrophilisierung, wie vorangehend beschrieben, in den entsprechenden Vorrichtungen sowie das anschließende Trocknen der auf diese Weise bearbeiteten Platte, und (3) das Aufwickeln der Platte zu Rollen in einer Aufwickelvorrichtung, die mit einem Mehrwellendrehkreuz ausgestattet ist, oder das Richten der Platte, das anschließende Schneiden in Stücke mit einer vorgegebenen Länge und das Stapeln dieser. Wenn gewünscht, kann der Prozess darüber hinaus einen Schritt des Ausbildens einer Grundierungsschicht, einer lichtempfindlichen Schicht und einer Mattenschicht auf der bearbeiteten Oberfläche der Platte sowie einen Schritt des Trocknens der Schichten darauf umfassen, und die auf diese Weise fertig bearbeiteten Flachdruckplatten-Vorläufer können in einer Aufwickelvorrichtung zu Rollen aufgewickelt werden.
Darüber hinaus wird die Aluminiumlegierungsplatte während ihrer Bearbeitung mit dem Herstellungsverfahren dieser Ausführungsform vorzugsweise kontinuierlich mit einer Fehlererfassungsvorrichtung auf Oberflächenfehler geprüft. Zu diesem Zweck umfasst das Verfahren wenigstens einen Schritt des Prüfens der Platte auf Oberflächenfehler und des Kennzeichnens der fehlerhaften Platte durch Anbringen eines Aufklebers an der Kante der fehlerhaften Platte. Des Weiteren ist die Produktionsanlage dieser Ausführungsform vorzugsweise mit einer Ausgleichsvorrichtung in dem Schritt des Abwickelns der Platte und in dem Schritt des Aufwickelns der Platte ausgestattet, wobei die Ausgleichsvorrichtung die Funktion hat, die Transportgeschwindigkeit der Aluminiumlegierungsplatte stets konstant zu halten, selbst wenn die Anlage zum Herausnehmen der fertiggestellten Plattenrollen aus der Anlage angehalten wird. Darüber hinaus umfasst der Herstellungsprozess dieser Ausführungsform vorzugsweise ebenfalls einen zusätzli chen Schritt des Schweißens der Aluminiumlegierungsplatten durch Ultraschallwellen oder Bögen nach dem Schritt des Abwickelns der Platte.
Die Produktionsanlage dieser Ausführungsform ist vorzugsweise mit wenigstens einer Vorrichtung zum Erfassen der Transportposition der Aluminiumlegierungsplatte und zum Korrigieren dieser ausgestattet. Darüber hinaus ist sie vorzugsweise ebenfalls mit einer Treibervorrichtung zum Verringern der Plattenspannung und zum Steuern der Transportgeschwindigkeit der Platte und mit wenigstens einer Tänzerwalzenvorrichtung zum Steuern der Plattenspannung bereitgestellt.
Es ist ferner erstrebenswert, eine Nachführvorrichtung in jedem Schritt der Produktionsanlage bereitzustellen. Die Nachführvorrichtung erfasst, ob die in jedem Schritt bearbeitete Platte in einem gewünschten Zustand ist oder nicht und zeichnet dies auf; und bevor die fertiggestellte Platte aufgewickelt wird, wird ein Aufkleber an der Kante der Platte an dem Prüfpunkt angebracht. Auf Basis des angebrachten Aufklebers wird die fertiggestellte Platte dahingehend beurteilt, ob sie in einem gewünschten Zustand ist oder nicht.
Die fertiggestellte Aluminiumlegierungsplatte wird vorzugsweise statisch elektrisiert zusammen mit einem Blatt Papier, das zwischen die angrenzenden Platten einzufügen und daran zu adsorbieren ist und anschließend in Stücke mit einer vorgegebenen Länge geschnitten und/oder zerschnitten. Auf Basis der Informationen des an der Kante der fertiggestellten Aluminiumlegierungsplatte angebrachten Aufklebers ist es erstrebenswert, dass die Platten vor und nach deren Zerschneiden in Stücke mit einer vorgegebenen Länge in fehlerfreie und fehlerhafte Platten unterteilt werden und lediglich fehlerfreie Platten gesammelt werden.
In der Produktionsanlage, die den oben beschriebenen Schritt des Abwickelns umfasst, ist es von Bedeutung, dass die optimale Spannung der Aluminiumlegierungsplatte unter unterschiedlichen Bedingungen in Abhängigkeit von der Größe (Dicke und Breite) der Platte, deren Material sowie deren Transportgeschwindigkeit eingestellt wird. Zu diesem Zweck können beispielsweise eine Antriebsvorrichtung zum Verringern der Plattenspannung und zum Steuern der Transportgeschwindigkeit der Platte sowie eine Tänzerrolle zum Steuern der Plattenspannung verwendet werden, und es ist erstrebenswert, mehrere Spannungssensoren und Spannungssteuereinrichtungen in der Produktionsanlage bereitzustellen. Hierbei werden die Signale von den Spannungssensoren zu den Spannungssteuereinrichtungen zurückgegeben, und die Plattenspannung sowie die Transportgeschwindigkeit der Platte werden dadurch auf angemessene Weise gesteuert. Im Allgemeinen umfasst die Treibervorrichtung zur Transportsteuerung eine Kombination eines Gleichstrommotors und einer Hauptantriebsrolle. Die Hauptantriebsrolle ist im Allgemeinen aus einem Gummimaterial hergestellt. Wenn jedoch die zu bearbeitende Aluminiumlegierungsplatte nass ist, kann die Rolle aus einem Laminat aus Vliesgeweben hergestellt werden. Die Durchlaufrollen sind im Allgemeinen aus Gummi oder Metall hergestellt. In dem Bereich jedoch, in dem die Aluminiumlegierungsplatte darauf gleitet, können die Durchlaufrollen einzeln mit einem Motor oder Untersetzungsgetriebe und einigen zusätzlichen Antriebsvorrichtungen verbunden sein, die sich bei einer konstanten Geschwindigkeit drehen, wobei sie durch das Signal von der Hauptantriebsvorrichtung, das den Durchlaufrollen bereitgestellt wird, gesteuert werden.
Darüber hinaus wird das Oberflächenrauhigkeitsprofil des Flachdruckplattenträgers dieser Ausführungsform vorzugsweise so gesteuert, dass seine arithmetische mittlere Oberflächenrauhigkeit (Ra), die durch die Differenz zwischen der mittleren Oberflächenrauhigkeit (R¹) in der Maschinenrichtung und der mittleren Oberflächenrauhigkeit R²) in der Richtung senkrecht zu der Maschinenrichtung angeben wird, (R1-R2), nicht mehr als 30 % von der mittleren Oberflächenrauhigkeit (R¹) in der Maschinenrichtung beträgt, dass die mittlere Wölbung in der Maschinenrichtung nicht mehr als 1,5 × 10^–3 mm^–1 beträgt, dass die Wölbungsverteilung in der Querrichtung nicht mehr als 1,5 × 10^–3 mm^–1 beträgt, und dass die Wölbung in der Richtung senkrecht zu der Maschinenrichtung nicht mehr als 1,0 × 10^–3 mm^–1, wie in dem Dokument JP-A-114046/1998, beträgt.
Darüber hinaus wird der Flachdruckplattenträger dieser Ausführungsform, der durch den vorangehend beschriebenen Oberflächen-Aufrauvorgang hergestellt wurde, vorzugsweise durch die Verwendung einer Korrigier-Rolle, die einen Rollendurchmesser von 20 mm bis 80 mm und eine Gummihärte von 50 bis 95 Grad aufweist, korrigiert. Wenn die Aluminiumlegierungsplatten auf diese Weise korrigier werden, sind sie gut abgeflacht und stellen gute Flachdruckplatten-Vorläufer dar, die in einer automatischen Plattenherstellungsmaschine gut bearbeitet werden können, wobei keine Belichtungsabweichung auftritt. In diesem Zusammenhang offenbart das Dokument JP-A 194093/1997 ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Messen des Aushärtungsgrades von Alumini umbahnen, ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Korrigieren von ausgehärteten Aluminiumbahnen und eine Vorrichtung zum Schneiden der korrigierten Aluminiumbahnen.
In der Produktionsanlage, in der der Flachdruckplattenträger kontinuierlich hergestellt wird, kann jeder Schritt elektrisch dahingehend überwacht werden, ob die Vorrichtungen unter geeigneten Bedingungen angetrieben werden oder nicht, und die Bedingung von jedem Schritt kann in einer Nachführeinrichtung dahingehend aufgezeichnet werden, ob dies der gewünschte Zustand ist oder nicht. Bevor die fertiggestellte Aluminiumlegierungsplatte zu Rollen in der kontinuierlichen Produktionsanlage aufgewickelt wird, kann ein Aufkleber an der Kante der Platte angebracht werden, und auf Basis des auf diese Weise angebrachten Aufklebers wird die fertiggestellte Platte dahingehend beurteilt, ob sie entsprechend dem Aufkleber unter der gewünschten Bedingung bearbeitet wurde oder nicht. Die fertiggestellten Platten können deshalb, bevor sie geschnitten und gesammelt werden, in fehlerfreie und fehlerhafte Platten unterteilt werden, und lediglich die fehlerfreien Platten können gesammelt werden.
Bei dem Vorgang des Oberflächen-Aufrauens der Aluminiumlegierungsplatte auf die vorangehend beschriebene Art und Weise ist es erstrebenswert, wenigstens eines von der Temperatur, dem spezifischen Gewicht und der elektrischen Leitfähigkeit der Flüssigkeit, die durch die Anlage fließt und der Geschwindigkeit der Ultraschallausbreitung durch die fließende Flüssigkeit zu überwachen. Auf Basis der Daten von den Überwachungsgeräten wird die Zusammensetzung der fließenden Flüssigkeit bestimmt, und deren Konzentration kann jederzeit durch die Rückkopplung und/oder die Vorwärtskopplung der Daten konstant gehalten werden.
Beispielsweise enthält die in der Leitung fließende Säurelösung Aluminiumionen, und die Bestandteile der in der Anlage bearbeiteten Aluminiumlegierungsplatte lösen sich in der fließenden Lösung. Dasselbe gilt für die in der Anlage fließende Alkalilösung. Aus diesem Grund ist es, um die Aluminiumionenkonzentration und die Säure- oder Alkalikonzentration der fließenden Lösung jederzeit konstant zu halten, erstrebenswert, periodisch Wasser und die Säure oder Wasser und das Alkali zu der fließenden Lösung hinzuzufügen, um dadurch die Zusammensetzung der Lösung in der Anlage jederzeit kon stant zu halten. Die Konzentration der Säure oder des Alkali, die zu der fließenden Lösung hinzuzufügen sind, fällt zwischen 10 und 98 Gew.-%.
Zum Steuern der Säure- oder Alkalikonzentration der fließenden Lösung werden beispielsweise die im Folgenden beschriebenen Verfahren bevorzugt.
Die elektrische Leitfähigkeit oder das spezifische Gewicht der Prozesslösung, deren Konzentration vorgegeben ist und die in der Anlage zu verwenden ist, oder die Geschwindigkeit der Ultraschallausbreitung durch die Lösung werden zuvor bei verschiedenen Temperaturen gemessen, und die temperaturabhängigen Daten werden in einer Tabelle aufgezeichnet. In der Anlage, in der die Aluminiumlegierungsplatte bearbeitet wird, werden die elektrische Leitfähigkeit oder das spezifisches Gewicht der Bearbeitungslösung oder die Geschwindigkeit der Ultraschallausbreitung durch die Bearbeitungslösung überwacht und deren Daten werden mit den Daten in der Datentabelle verglichen, um die Echtzeitkonzentration der Bearbeitungslösung festzustellen. Ein Beispiel des genauen und beständigen Messens der Ultraschallausbreitungszeit wird in dem Dokument JP-A 235721/1994 offenbart. Ein System zur Messung der Konzentration auf Basis der Ultraschallausbreitungsgeschwindigkeit wird in dem Dokument JP-A 77656/1983 offenbart. Ein Verfahren zum Erstellen von Datentabellen, die die Korrelation zwischen den bestandteilabhängigen physikalischen Daten der Lösungen und den Bestandteilen davon offenbaren und zum Bestimmen der Konzentration jedes Bestandteils der Lösungen mit mehreren Bestandteilen wird in dem Dokument JP-A 19559/1992 offenbart.
Wenn das Verfahren der Konzentrationsmessung auf Basis der Ultraschallausbreitungsgeschwindigkeit mit dem Verfahren des Überwachens der Daten der elektrischen Leitfähigkeit und der Temperatur der Bearbeitungsflüssigkeit kombiniert wird und auf den Prozess des Oberflächen-Aufrauens der Aluminiumlegierungsplatte für Flachdruckplattenträger angewendet wird, wird die genaue Echtzeit-Prozesskontrolle sichergestellt. Auf diese Weise können Produkte mit gleichbleibender Qualität hergestellt werden und die Leistung der guten Produkte wird erhöht. Es können nicht nur die Daten der vorangehenden Kombination von Temperatur, Ultraschallausbreitungsgeschwindigkeit und elektrischer Leitfähigkeit der Bearbeitungslösungen sondern auch die Daten von anderen konzentrations- und temperaturabhängigen physikalischen Eigenschaften von Bearbei tungslösungen, wie beispielsweise diejenigen der Kombination aus Temperatur und spezifischem Gewicht der Bearbeitungslösungen, diejenigen der Kombination von Temperatur und elektrischer Leitfähigkeit davon oder diejenigen der Kombination von Temperatur, elektrischer Leitfähigkeit und spezifischem Gewicht davon in Datentabellen erstellt werden, und auf Basis der Datentabellen kann die Echtzeitkonzentration jedes Bestandteils der Mehrfachbestandteil-Bearbeitungslösung bestimmt werden. Wenn das Verfahren auf den Prozess des Oberflächen-Aufrauens der Aluminiumlegierungsplatte für Flachdruckplattenträger dieser Ausführungsform angewendet wird, werden dieselben Ergebnisse wie vorstehend erzeugt.
Darüber hinaus können das spezifische Gewicht und die Temperatur der Bearbeitungslösungen in dem Prozess dieser Ausführungsform überwacht werden, und die Daten können mit der Datentabelle verglichen werden, die, wie vorangehend beschrieben, zuvor erstellt wird, um die Aufschlämmungskonzentration der Bearbeitungslösungen zu bestimmen. Auf diese Weise ist es möglich, die Aufschlämmungskonzentration der Bearbeitungslösungen schnell und genau zu bestimmen.
Die Ultraschallausbreitungsgeschwindigkeit durch die Bearbeitungsflüssigkeiten wird häufig durch Blasen in den Flüssigkeiten beeinflusst. Aus diesem Grund ist es erstrebenswert, die Messung in einem vertikalen Rohr durchzuführen, in dem die zu messende Flüssigkeit von unten nach oben fließt. Der Innendruck des vertikalen Rohrs, in dem die Ultraschallausbreitungsgeschwindigkeit durch die Flüssigkeit gemessen wird, fällt vorzugsweise zwischen 1 und 10 kg/cm²; und die Frequenz der Ultraschallwellen fällt zwischen 0,5 und 3 MHz.
Darüber hinaus werden das spezifische Gewicht und die elektrische Leitfähigkeit der Bearbeitungsflüssigkeiten und ebenfalls die Ultraschallausbreitungsgeschwindigkeit durch die Flüssigkeiten häufig durch die Umgebungstemperatur beeinflusst. Aus diesem Grund ist es erstrebenswert, dass die Messung dieser in einem Rohr erfolgt, das warm gehalten wird und in dem die Temperaturschwankung ± 0,3°C nicht übersteigt. Des Weiteren ist es erstrebenswert, dass die elektrische Leitfähigkeit und das spezifische Gewicht oder die elektrische Leitfähigkeit und die Ultraschallausbreitungsgeschwindigkeit bei derselben Temperatur gemessen werden. Aus diesem Grund ist es besonders erstrebenswert, dass die Messung dieser in demselben Rohr oder in derselben Strom bahn durchgeführt wird. Die Druckänderung bei der Messung bewirkt die Temperaturänderung darin. Demzufolge ist die Druckänderung so gering wie möglich. Darüber hinaus ist die Fließgeschwindigkeitsverteilung in dem Rohr, in dem die Messung durchgeführt wird, so gering wie möglich. Darüber hinaus sind in den Flüssigkeiten Verunreinigungen und Blasen vorhanden, da die Messung häufig durch die Aufschlämmungen beeinflusst wird. Deshalb ist es erstrebenswert, dass die Flüssigkeiten zuvor gefiltert oder entgast werden.
<<Flachdruckplattenträger>>
<Grundierungsschicht>
Der Flachdruckplattenträger, der in Übereinstimmung mit dem Herstellungsverfahren dieser Ausführungsform hergestellt wird, kann optional mit einer (organischen) Grundierungsschicht beschichtet werden, bevor er mit einer lichtempfindlichen Schicht beschichtet wird, um einen Flachdruckplatten-Vorläufer herzustellen.
Die organische Verbindung für die organische Grundierungsschicht wird beispielsweise aus Carboxymethylcellulose, Dextrin, Gummiarabikum; organischen Phosphonsäuren, wie beispielsweise aminogruppenhaltigen Phosphonsäuren (zum Beispiel 2-Aminoethylphosphonsäure), und anderen weiteren optional substituierten Phenylphosphonsäuren, Naphthylphosphonsäuren, Alkylphosphonsäuren, Glycerophosphonsäuren, Methylendiphosphonsäuren und Ethylendiphosphonsäuren; organischen Phosphorsäuren, wie beispielsweise optional substituierten Phenylphosphorsäuren, Naphthylphosphorsäuren, Alkylphosphorsäuren, Glycerophosphorsäuren; organischen Phosphinsäuren, wie beispielsweise optional substituierten Phenylphosphinsäuren, Naphthylphosphinsäuren, Alkylphosphinsäuren, Glycerophosphinsäuren; Aminosäuren, wie beispielsweise Glycin und β-Alanin; und hydroxylgruppenhaltigen Aminhydrochloriden, wie beispielsweise Triethanolaminhydrochlorid, ausgewählt. Zwei oder mehr davon können für die Schicht kombiniert werden.
Die organische Grundierungsschicht kann beispielsweise in Übereinstimmung mit den im Folgenden beschriebenen Verfahren ausgebildet werden.

(a) Die vorangehend erwähnte organische Verbindung wird in Wasser oder in einem organischen Lösungsmittel, wie beispielsweise Methanol, Ethanol oder Methylethylketon, oder in einem gemischten Lösungsmittel davon gelöst; und die sich ergebende Lösung wird auf den Träger dieser Ausführungsform aufgebracht und darauf getrocknet; oder
(b) die vorangehend erwähnte organische Verbindung wird in Wasser; oder in einem organischen Lösungsmittel, wie beispielsweise Methanol, Ethanol oder Methylethylketon, oder in einem gemischten Lösungsmittel davon gelöst; der Träger dieser Ausführungsform wird in die sich ergebende Lösung eingetaucht, um dadurch zu bewirken, dass der Träger die organische Verbindung adsorbiert; und dieser wird mit Wasser oder Ähnlichem gewaschen und dann getrocknet, um die vorgesehene organische Grundierungsschicht auf dem Träger zu erhalten.

Bei dem Verfahren (a) kann die Lösung, die 0,005 bis 10 Gew.-% einer organischen Verbindung enthält, auf eine jegliche der bekannten Weisen auf den Träger aufgebracht werden. Beispielsweise kann sie durch eine Art Rollrakelstreichen, Rotationsbeschichten, Spritzen oder Florstreichen darauf aufgebracht werden.
Bei dem Verfahren (b) kann die Konzentration der organischen Verbindung der Eintauchlösung zwischen 0,01 und 20 Gew.-%, vorzugsweise zwischen 0,05 und 5 Gew.-% fallen; die Temperatur davon kann zwischen 20 und 90°C und vorzugsweise zwischen 25 und 50°C fallen und die Eintauchzeit kann zwischen 0,1 Sekunden und 20 Minuten und vorzugsweise zwischen 2 Sekunden und 1 Minute fallen. Der pH-Wert der Lösung kann durch das Hinzufügen einer basischen Substanz, wie beispielsweise Ammoniak, Triethylamin oder Kaliumhydroxid, oder einer sauren Substanz, wie beispielsweise Salzsäure oder Phosphorsäure, gesteuert werden, und er kann zwischen 1 und 12 fallen. Zum Verbessern der Tonreproduzierbarkeit des herzustellenden lichtempfindlichen Flachdruckplatten-Vorläufers kann eine gelbe Farbe zu der Eintauchlösung hinzugefügt werden.
Nach dem Trocknen fällt die Menge der ausgebildeten organischen Grundierungsschicht zwischen 2 und 200 mg/m² und vorzugsweise zwischen 5 und 100 mg/m². Wenn sie geringer als 2 mg/m² oder größer als 200 mg/m² ist, ist die Druckbeständigkeit der hierin schließlich herzustellenden Druckplatte schlecht.
<Rückseiten-Beschichtungsschicht>
An der Rückseite (die nicht mit einer lichtempfindlichen Schicht beschichtet ist) des Flachdruckplatten-Vorläufers, der den Träger dieser Ausführungsform umfasst, kann, falls gewünscht, eine Beschichtungsschicht aus einer organischen Polymerverbindung (die als Rückseiten-Beschichtungsschicht bezeichnet wird) ausgebildet werden. Dies erfolgt, um das Zerkratzen der lichtempfindlichen Schicht der anderen Flachdruckplatten-Vorläufer zu verhindern, wenn die Vorläufer gestapelt werden.
Der wesentliche Bestandteil der Rückseiten-Beschichtungsschicht ist vorzugsweise wenigstens ein Harz, der aus gesättigten Copolyesterharzen, Phenoxyharzen, Polyacetalharzen und Vinylidenchlorid-Kopolymerharzen mit einer Glasübergangstemperatur von nicht weniger als 20°C ausgewählt wird.
Die gesättigten Copolyesterharze umfassen Dicarbonsäureeinheiten und Diol-Einheiten. Die Dicarbonsäureeinheiten für die Polyester zur Verwendung in dieser Ausführungsform umfassen beispielsweise diejenigen der aromatischen Carbonsäuren, wie beispielsweise Phthalsäure, Terephthalsäure, Isophthalsäure, Tetrabromphthalsäure, Tetrachlorphthalsäure, und diejenigen der gesättigten aliphatischen Dicarbonsäuren, wie beispielsweise Adipinsäure, Azelainsäure, Bernsteinsäure, Oxalsäure, Korksäure, Sebacinsäure, Malonsäure und 1,4-Cyclohexandicarbonsäure.
Die Rückseiten-Beschichtungsschicht kann optional jegliche Farbstoffe und Pigmente zur Färbung; Silanisierungsreagenzien, Diazoharze von Diazoniumsalzen, organische Phosphonsäuren, organische Phosphorsäuren und kationische Polymere zur Verbesserung der Haftung der Schicht an dem Träger; sowie herkömmlichen Wachs, höhere Fettsäuren, höhere Fettsäureamide, Siliziumverbindungen aus Dimethylsiloxan, modifiziertem Dimethylsiloxan und Polyethylenpulver, die als ein Schmiermittel dienen, enthalten.
Die Dicke der Rückseiten-Beschichtungsschicht kann grundlegend derart sein, dass sie die lichtempfindlichen Schichten der anderen Flachdruckplatten-Vorläufer vor dem Zerkratzen schützt, wenn die Vorläufer geschichtet werden, selbst wenn kein Pufferblech zwischen den aneinander angrenzenden geschichteten Vorläufern vorhanden ist. Die Dicke fällt vorzugsweise zwischen 0,01 und 8 μm. Wenn die Dicke kleiner als 0,01 μm ist, kann die Rückseiten-Beschichtungsschicht die lichtempfindlichen Schichten der anderen Flachdruckplatten-Vorläufer nicht vor dem Zerkratzen schützen, wenn die Vorläufer geschichtet werden. Wenn jedoch die Dicke mehr als 8 μm beträgt, schwellt die Rückseiten-Beschichtungsschicht durch die bei der Bearbeitung der Vorläufer zu Druckplatten verwendeten Chemikalien an, und seine Dicke variiert. Wenn dies der Fall ist, variiert die Druckkraft, die auf die Druckplatten angewendet wird und die Eigenschaften der Drucksachen werden verschlechtert.
Zum Beschichten der Rückseite des Trägers mit Rückseiten-Beschichtungsschicht können mehrere Verfahren angewendet werden. Beispielsweise werden die Bestandteile der Rückseiten-Beschichtungsschicht in einem geeigneten Lösungsmittel gelöst und die sich ergebende Lösung wird auf die Rückseite des Trägers aufgebracht und getrocknet; oder die Bestandteile werden zu einer Emulsion ausgebildet und die sich ergebende Emulsion wird darauf aufgebracht und getrocknet; oder die Bestandteile werden zu einem Film ausgebildet, und der Film wird mit einem Klebemittel oder unter Hitze an dem Träger befestigt; oder die Bestandteile werden unter Verwendung eines Extruders auf dem Träger per Schmelzextrusion aufgebracht, um einen Film darauf auszubilden. Um die vorangehend aufgeführte gewünschte Dicke der Schicht sicherzustellen, wird das Verfahren des Auflösens der Bestandteile in einem geeigneten Lösungsmittel gefolgt von dem Aufbringen der sich ergebenden Lösung auf dem Träger und deren Trocknen darauf am stärksten bevorzugt. Organische Lösungsmittel, die bei dem Verfahren angewendet werden können, werden in dem Dokument JP-A 251739/1987 beschrieben. Eine oder mehrere dieser Lösungsmittel können entweder einzeln oder in Kombination verwendet werden.
Bei der Herstellung der Flachdruckplatten-Vorläufer können die auf der Rückseite des Trägers aufzubringende Rückseitenbeschichtungsschicht und die auf der Vorderseite davon aufzubringende lichtempfindliche Schicht in jeglicher gewünschten Reihenfolge ausgebildet werden. Die beiden Schichten können gleichzeitig ausgebildet werden.
<<Flachdruckplatten-Vorläufer>>
Eine im Folgenden beschriebene lichtempfindliche Schicht wird auf dem Träger ausgebildet, um den Flachdruckplatten-Vorläufer dieser Ausführungsform herzustellen. Wenn der Vorläufer belichtet und entwickelt wird, weist er ein darauf ausgebildetes Bild auf. Mit dem darauf ausgebildeten Bild dient er als eine Flachdruckplatte.
<[I] Ausführungsform der lichtempfindlichen Schicht, die o-Naphthochinondiazidsulfonat sowie aus Phenol/Kresol gemischten Novolakharz enthält>
Eine lichtempfindliche Schicht, die ein o-Naphthochinondiazidsulfonat sowie aus Phenol/Kresol gemischten Novolakharz enthält, kann auf dem Träger dieser Ausführungsform ausgebildet werden.
Die o-Naphthochinondiazid-Verbindung ist ein Typ von o-Chinondiazidverbindungen, und dieser wird beispielsweise in den Dokumenten USP 2.766.118, 2.767.092, 2.772.972, 2.859.112, 3.102.809, 3.106.465, 3.635.709, 3.647.443 und vielen anderen Publikationen beschrieben. Sämtliche der in diesen Publikationen offenbarten Verbindungen sind für die Erfindung von Vorteil.
Von diesen werden o-Naphthochinondiazidosulfonate und o-Naphthochinondiazidocarboxylate der aromatischen Hydroxyverbindungen, sowie o-Naphthochinondiazidosulfonamide und o-Naphthochinondiazidocarbonamide der aromatischen Aminoverbindungen für die Verwendung hierin besonders bevorzugt. Insbesondere werden o-Naphthochinondiazidosulfonate mit Kondensaten aus Pyrogallol und Azeton, wie beispielsweise die in dem Dokument USP 3.635.709 beschriebenen; o-Naphthochinondiazidosulfonate und o-Naphthochinondiazidocarboxylate mit Polyestern mit OH-Endgruppen, wie beispielsweise die in dem Dokument USP 4.028.111 beschriebenen; o-Naphthochinondiazidosulfonate und o-Naphthochinondiazidocarboxylate mit Homopolymeren aus p-Hydroxystyrol oder mit Copolymeren daraus mit anderen Comonomeren, wie beispielsweise den in dem Dokument BP 1.494.043 beschriebenen; und o-Naphthochinondiazidosulfonamide und o-Naphthochinondiazidocarbonamide mit Copolymeren aus p-Aminostyrol mit anderen Comonomeren insbesondere bevorzugt.
Die o-Chinondiazidverbindungen können allein verwendet werden, sie werden jedoch vorzugsweise mit alkalilöslichen Harzen kombiniert. Als die alkalilöslichen Harze werden Phenolharze des Novolak-Typs bevorzugt. Konkret umfassen sie Phenol-Formaldehyd-Harze und m-Kresol-Formaldehyd-Harze. Es wird stärker bevorzugt, wenn die Phenolharze mit Kondensaten aus C_3-8, alkylsubstituiertem Phenol oder Kresol und Formaldehyd, wie beispielsweise t-Butylphenol-Formaldehydharz, wie in dem Dokument USP 4.028.111, kombiniert werden.
Zum Ausbilden von sichtbaren Bildern durch Belichten können beispielsweise jegliche von o-Naphthochinondiazido-4-sulfonylchlorid, Salze von p-Diazodiphenylamin mit anorganischen Anionen, Trihalomethyloxadiazol-Verbindungen oder benzofuranhaltigen Trihalomethyloxadiazol-Verbindungen zu den o-Chinondiazidverbindungen hinzugefügt werden.
Die lichtempfindliche Schicht kann einen Bildfarbstoff enthalten. Als Bildfarbstoff können beispielsweise Triphenylmethanfarbstoffe, wie beispielsweise Victoria Blau BOH, Kristallviolett, Ölblau, verwendet werden. Dafür werden insbesondere Farbstoffe bevorzugt, die in dem Dokument JP-A 293247/1987 beschrieben werden. Darüber hinaus kann die Schicht als einen Lipo-Sensibilisator sämtliche der Novolakharze, die durch die Kondensation von C_3-15, alkylsubstituiertem Phenol, wie beispielsweise t-Butylphenol, n-Octylphenol oder t-Butylphenol, mit Formaldehyd, wie beispielsweise den in dem Dokument JP-B 23253/1992 beschriebenen, hergestellt werden; und o-Naphthochinondiazido-4- oder -5-sulfonate mit derartigen Novolakharzen, wie beispielsweise die in dem Dokument JP-A 242446/1986 beschriebenen, enthalten.
Zum Verbessern der Entwicklungsfähigkeit kann die lichtempfindliche Schicht darüber hinaus ein Niotensid, wie in dem Dokument JP-A 251740/1987, enthalten. Die vorangehend genannten Bestandteile können in Lösungsmitteln gelöst werden, die in der Lage sind, sie zu lösen, und die sich ergebende Zusammensetzung kann auf den Träger dieser Ausführungsform aufgebracht werden. Die Lösungsmittel umfassen beispielsweise Ethylendichlorid, Cyclohexan, Methylethylketon, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, Methylacetat, Ethylacetat, Dimethylsulfoxid, Dimethylacetamid, Diemethylformamid, Wasser, N-Methylpyrrolidon, Tetrahydrofurfurylalkohol, Aceton, Diacetonal kohol, Methanol, Ethanol, Isopropanol, Diethylenglykoldimethylether. Diese können entweder einzeln oder kombiniert verwendet werden.
<[II] Ausführungsform der lichtempfindlichen Schicht, die Diazoharz und eine wasserunlösliche oleophile Polymerverbindungen aufweist>
Eine lichtempfindliche Schicht, die einen Diazoharz und eine wasserunlösliche oleophile Polymerverbindung enthält, kann auf dem Träger dieser Ausführungsform ausgebildet werden.
Der Diazoharz enthält beispielsweise anorganische Salze der Diazoharze, die in organischem Lösungsmittel lösliche Reaktionsprodukte der Kondensate von p-Diazodiphenylamin mit Formaldehyd oder Acetaldehyd, und Hexafluorophosphaten oder Tetrafluoroboraten sind; und in organischem Lösungsmittel lösliche organische Säuresalze der Diazoharze, die Reaktionsprodukte der Kondensate wie oben und der Sulfonsäuren sind, wie beispielsweise der p-Toluolsulfonsäure oder ihrer Salze, oder Phosphinsäuren, wie beispielsweise Benzolphosphinsäure oder ihre Salze, oder Hhydroxylverbindungen, wie beispielsweise 2,4-Dihydroxybenzophenon, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure oder ihre Salze, wie in dem Dokument USP 3.300.309. Weitere für die Verwendung in dieser Ausführungsform vorteilhafte Diazoharze sind Cokondensate, die strukturelle Einheiten aus aromatischen Verbindungen mit wenigstens einer organischen Gruppe, die aus der Gruppe der Carboxylgruppe, der Sulfonsäuregruppe, der Sulfinsäuregruppe, der Phosphor-Sauerstoffsäuregruppe und der Hydroxylgruppe ausgewählt wird, sowie strukturelle Einheiten der Diazonium-Verbindungen, vorzugsweise aromatische Diazonium-Verbindungen, enthalten. Der aromatische Ring ist vorzugsweise eine Phenylgruppe und eine Naphthylgruppe. Verschiedene aromatische Verbindungen, die wenigstens eine einer Carboxylgruppe, einer Sulfonsäuregruppe, einer Sulfinsäuregruppe, einer Phosphor-Sauerstoffsäuregruppe und einer Hydroxylgruppe aufweisen, sind bekannt. Für die Verwendung hierin werden die 4-Methoxybenzoesäure, die 3-Chlorbenzoesäure, die 2,4-Dimethoxybenzoesäure, die p-Phenoxybenzoesäure, die 4-Anilinobenzoesäure, die Phenoxyessigsäure, die Phenylessigsäure, die p-Hydroxybenzoesäure, die 2,4-Dihydroxybenzoesäure, die Benzolsulfonsäure, die p-Toluolsulfinsäure, die 1-Naphthalinsulfonsäure, die Phenylphosphorsäure, die Phenylphosphonsäure bevorzugt.
Als die aromatischen Diazoniumverbindungen zum Ausbilden der strukturellen Einheiten der Cokondensat-Diazoharze können beispielsweise die in dem Dokument JP-B 48001/1974 beschriebenen Diazoniumsalze verwendet werden. Besonders bevorzugt werden Diphenylamin-4-diazoniumsalze. Sie werden von 4-Aminodiphenylaminen abgeleitet, die beispielsweise 4-Aminodiphenylamin, 4-Amino-3-methoxydiphenylamin, 4-Amino-2-methoxydiphenylamin, 4'-Amino-2-methoxydiphenylamin, 4'-Amino-4-methoxydiphenylamin, 4-Amino-3-methyldiphenylamin, 4-Amino-3-ethoxydiphenylamin, 4-Amino-3-β-hydroxyethoxydiphenylamin, 4-Amino-diphenylamin-2-sulfonsäure, 4-Amino-diphenylamin-2-carbonsäure, 4-Amino-diphenylamin-2'-carbonsäure einschließen. Besonders bevorzugt sind 3-Methoxy-4-amin-4-diphenylamin und 4-Aminodiphenylamin.
Weitere Diazoharze mit Ausnahme der Cokondensat-Diazoharze mit säuregruppenhaltigen aromatischen Verbindungen sind beispielsweise Diazoharze, die mit säuregruppenhaltigem Aldehyd oder seinen Acetalverbindungen, wie den in Dokumenten JP-A 18559/1992, 163551/1991 und 253857/1991 beschriebenen, kondensiert wurden; und diese werden für die Verwendung hierin bevorzugt. Das Anionenpaar für die Diazoharze sind diejenigen, die stabile Salze mit Diazoharzen bilden und die Harze in organischen Lösungsmitteln löslich machen.
Diese schließen organische Carboxylsäuren, wie beispielsweise Decansäure und Benzoesäure; organische Phosphorsäure, wie beispielsweise Phenylphosphorsäure; und Sulfonsäuren ein. Typische Beispiele der Verbindungen sind aliphatische und aromatische Sulfonsäuren, wie beispielsweise Methansulfonsäure, Fluoralkansulfonsäuren (zum Beispiel Trifluormethansulfonsäure), Laurylsulfonsäure, Dioctylsulfosuccinat, Dicyclohexylsulfosuccinat, Camphersulfonsäure, Tolyloxy-3-propansulfonsäure, Nonylphenoxy-3-propansulfonsäure, Nonylphenoxy-4-butansulfonsäure, Dibutylphenoxy-3-propansulfonsäure, Diamylphenoxy-3-propansulfonsäure, Dinonylphenoxy-3-propansulfonsäure, Dibutylphenoxy-4-butansulfonsäure, Dinonylphenoxy-4-butansulfonsäure, Benzolsulfonsäure, Toluolsulfonsäure, Mesitylensulfonsäure, p-Chlorbenzolsulfonsäure, 2,5-Dichlorbenzolsulfonsäure, Sulfosalicylsäure, 2,5-Dimethylbenzolsuffonsäure, p-Acetylbenzolsulfonsäure, 5-Nitro-o-toluolsulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure, 3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Chlor-5- nitrobenzolsulfonsäure, Butylbenzolsulfonsäure, Octylbenzolsulfonsäure, Decylbenzolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, Butoxybenzolsulfonsäure, Dodecyloxybenzolsulfonsäure, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure, Isopropylnaphthalinsulfonsäure, Butylnaphthalinsulfonsäure, Hexylnaphthalinsulfonsäure, Octylnaphthalinsulfonsäure, Butoxynaphthalinsulfonsäure, Dodecyloxynaphthalinsulfonsäure, Dibutylnaphthalinsulfonsäure, Dioctylnaphthalinsulfonsäure, Triisopropylnaphthalinsulfonsäure, Tributylnaphthalinsulfonsäure, 1-Naphthol-5-sulfonsäure, Naphthalin-1-sulfonsäure, Naphthalin-2-sulfonsäure, 1,8-Dinitro-naphthalin-3,6-disulfonsäure, Dimethyl-5-sulfoisophthalat, OH-haltige aromatische Verbindungen, wie beispielsweise 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon, 1,2,3-Trihydroxybenzophenon, 2,2',4-Trihydroxybenzophenon, Halogeno-Lewissäuren, wie beispielsweise Hexafluorphosphorsäure, Tetrafluorborsäure; Perhalogensäuren, wie beispielsweise HClO₄, HIO₄. Diese Verbindungen sind jedoch nicht im einschränkenden Sinne zu betrachten. Von diesem Verbindungen werden Butylnaphthalinsulfonsäure, Dibutylnaphthalinsulfonsäure, Hexafluorphosphorsäure, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophen-5-sulfonsäure und Dodecylbenzolsulfonsäure besonders bevorzugt.
Die Diazoharze, die bei dieser Ausführungsform verwendet werden, können sämtliche Molekulargewichte in Abhängigkeit von dem Molverhältnis der einzelnen Monomere und von der Bedingung für die Kondensation aufweisen. Für eine effiziente Verwendung weisen die Diazoharze in dieser Ausführungsform jedoch ein Molekulargewicht auf, das zwischen 400 und 100.000 oder so und stärker bevorzugt zwischen 800 und 8.000 oder so fällt.
Die wasserunlöslichen oleophilen Polymerverbindungen sind beispielsweise Copolymere, die strukturelle Einheiten von jeglichen der folgenden Monomere (1) bis (17) aufweisen. Im Allgemeinen weisen sie ein Molekulargewicht zwischen 1.000 und 200.000 oder so auf.

(1) Aromatische OH-haltige Acrylamide, Methacrylamide, Acrylate, Methacrylate und Hydroxystyrole, wie beispielsweise N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid, o-, m- oder p-Hydroxystyrol, o-, m-, oder p-Hydroxyphenylacrylat und Methacrylat.
(2) Aliphatische OH-haltige Acrylate und Methacrylate, wie beispieisweise 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat.
(3) ungesättigte Carbonsäuren, wie beispielsweise Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinanhydrid, Itaconsäure.
(4) (substituierte) Alkylacrylate, wie beispielsweise Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Cyclohexylacrylat, Octylacrylat, Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat, Glycidylacrylat, N-Dimethylaminoethylacrylat.
(5) (substituierte) Alkylmethacrylate, wie beispielsweise Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, Glycidylmethacrylat, N-Dimethylaminoethylmethacrylat.
(6) Acrylamide und Methacrylamide, wie beispielsweise Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Methylolmethacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid, N-Ethyl-N-phenylacrylamid.
(7) Vinylether, wie beispielsweise Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether, Hydroxyethylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether, Phenylvinylether.
(8) Vinylester, wie beispielsweise Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutyrat, Vinylbenzoat.
(9) Styrole, wie beispielsweise Styrol, α-Methylstyren, Chlormethylstyren.
(10) Vinylketone, wie beispielsweise Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon, Phenylvinylketon.
(11) Olefine, wie beispielsweise Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien, Isopren.
(12) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylnitril, Methacrylnitril.
(13) ungesättigte Imide, wie beispielsweise Maleimid, N-Acryloylacrylamid, N-Acetylmethacrylamid, N-Propionylmethacrylamid, N-(p-Chlorbenzoyl)methacrylamid.
(14) ungesättigte Sulfonamide, zum Beispiel Methacrylamid, wie beispielsweise N-(o-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(m-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(p-Amino)sulfonylphenylmethacrylamid, N-(1-(3-Aminosulfonyl)naphthyl)methacryiamid, N-(2-Aminosutfonylethyf)methacrylamid, und Acrylamide mit denselben Bestandteilen wie vorstehend; und Methacrylate, wie beispielsweise o-Aminosulfonylphenylmethacrylat, m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, p-Aminosulfonylphenylmethacrylat, 1-(3-Aminosulfonylnaphthyl)methacrylat sowie Acrylate mit denselben Bestandteilen wie vorstehend.
(15) ungesättigte Monomere, die eine vernetzbare Gruppe in der Seitenkette, wie beispielsweise N-(2-(Methacryloyloxy)ethyl)-2,3-dimethylmaleimid, Vinylcinnamat, aufweisen. Die Monomere können mit Comonomeren copolymerisiert werden.
(16) Phenolharze und Polyvinylacetalharze, wie beispielsweise Polyvinylformalharze, Polyvinylbutyralharze, die in dem Dokument USP 3.751.257 beschrieben sind.
(17) Alkaligelöste Polyurethanverbindungen, die in den Dokumenten JP-B 19773/1979, JP-A 904747/1982, 182437/1985, 58242/1987, 123452/1987, 123453/1987, 113450/1988, 146042/1990 beschrieben werden.

Zu den Copolymeren können, wenn gewünscht, jegliche der Polyvinylbutyralharze, Polyurethanharze, Epoxidharze, Novolakharze und Naturharze hinzugefügt werden.
Um sichtbare Bilder direkt durch das Belichten zu erhalten und um sichtbare Bilder nach dem Entwickeln zu erhalten, können Farbstoffe zu der lichtempfindlichen Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht in dieser Ausführungsform hinzugefügt werden. Die Farbstoffe schließen beispielsweise Triphenylmethanfarbstoffe, Diphenylmethanfarbstoffe, Oxazinfarbstoffe, Xanthenfarbstoffe, Iminonaphthochinonfarbstoffe, Azomethinfarbstoffe und Anthrachinonfarbstoffe, wie beispielsweise typischerweise Victoria Pure Blue BOH (von Hodogaya Chemical), Oil Blue #603 (von Orient Chemical), Patent Pure Blue (von Sumitomo-Mikuni Chemical), Kristallviolett, Brillantgrün, Ethylviolett, Me thylviolett, Methylgrün, Erythrosin B, Fuchsin basisch, Malachitgrün, Ölrot, m-Kresolpurpur, Rhodamin B, Auramin, 4-p-Diethylaminophenyliminaphthochinon, Zyan-p-Diethylaminophenylacetanilid ein. Dies sind Beispiele der Farbmittel, die ihre Farbe verlieren, um farblos zu sein, oder die ihre Farbe in verschiedene Farben ändern.
Farbmittel für die Farbstoffe, die ursprünglich farblos sind, ihre Farbe jedoch nach der Bearbeitung bilden, sind Leukofarbstoffe. Beispiele davon sind primäre oder sekundäre Arylaminfarbstoffe, wie typischerweise Triphenylamin, Diphenylamin, o-Chloranilin, 1,2,3-Triphenylguanidin, Naphthylamin, Diaminodiphenylmethan, p,p'-bis-Dimethyllaminodiphenylamin, 1,2-Dianilinoethylen, p,p',p''-Trisdimethylaminotriphenylmethan, p,p'-bis-Dimethylaminodiphenylmethylimin, p,p',p''-Triamino-o-methyltriphenylmethan, p,p'-bis-Dimethylaminodiphenyl-4-anilinonaphthylmethan, p,p',p''-Triaminotriphenylmethan. Für die Verwendung hierin werden besonders Triphenylmethanfarbstoffe, Diphenylmethanfarbstoffe bevorzugt, wobei Triphenylmethanfarbstoffe stärker bevorzugt werden. Noch stärker bevorzugt wird Victoria Blue BOH.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung der lichtempfindlichen Schicht in dieser Ausführungsform kann darüber hinaus weitere verschiedene Zusatzstoffe enthalten. Als Zusatzstoffe werden beispielsweise Alkylether (zum Beispiel Ethylcellulose, Methylcellulose), fluorhaltige Tenside und nichtionische Tenside (fluorhaltige Tenside werden insbesondere bevorzugt), die zur Verbesserung der Beschichtbarkeit der Zusammensetzung dienen; Weichmacher zur Verbesserung der Flexibilität und der Abriebfestigkeit des Films der Zusammensetzung (zum Beispiel Butylphthalylpolyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Trikresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurturyloleat, Acryl- oder Methacrylsäureoligomere und -polymere – von denen speziell Trikresylphosphat bevorzugt wird); Lipo-Sensibilisatoren zur Verbesserung der Lipo-Sensibilität des Bildbereiches des Films (wie beispielsweise Alkoholhalbester aus Styrol-Maleinanhydrid-Copolymeren, wie beispielsweise die in dem Dokument JP-A 527/1980 beschriebenen, Novolakharze, wie beispielsweise p-t-Butylphenolformoldehydharze, 50 % Fettsäureester aus p-Hydroxystyrol); Stabilisierungsmittel {wie beispielsweise Phosphorsäure, phosphorige Säure, organische Säuren (Zitronensäure, Oxalsäure, Dipicolinsäure, Benzolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, Sulfosalicylsäure, 4-Methoxy-2-hydroxybenzophenon-5- sulfonsäure, Weinsäure)}; und Entwicklungskatalysatoren (wie beispielsweise höhere Alkohole, Säureanhydride) bevorzugt.
Zum Ausbilden der lichtempfindlichen Schicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung auf dem Träger dieser Ausführungsform werden eine vorgegebene Menge des Diazoharzes, die oleophile Polymerverbindung und optional weitere verschiedene Zusatzstoffe in einem geeigneten Lösungsmittel (wie beispielsweise Methylcellosolve, Ethylcellosolve, Dimethoxyethan, Diethylenglykolmonomethylether, Diethylenglykoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol, Methylcellosolveacetat, Aceton, Methylethylketon, Methanol, Dimethylformamid, Dimethylacetamid, Cyclohexanon, Dioxan, Tetrahydrofuran, Methyllactat, Ethyllactat, Ethylendichlorid, Dimethylsulfoxid, Wasser oder deren Gemische) gelöst, um eine Beschichtungsflüssigkeit für die lichtempfindliche Zusammensetzung herzustellen, und diese wird auf den Träger aufgebracht und darauf getrocknet. Das zu verwendende Lösungsmittel kann ein einzelnes Lösungsmittel sein, jedoch wird dafür ein Gemisch eines Lösungsmittels mit einem hohen Siedepunkt, wie beispielsweise Methylcellosolve, 1-Methoxy-2-propanol oder Methyllactat, und eines Lösungsmittels mit einem niedrigen Siedepunkt, wie beispielsweise Methanol oder Methylethylketon, bevorzugt.
Die Feststoffkonzentration der lichtempfindlichen Zusammensetzung, die auf den Träger dieser Ausführungsform aufzubringen ist, fällt vorzugsweise zwischen 1 und 50 Gew.-%.
[Negatives IR-Laseraufzeichnungsmaterial]
In dem Fall, in dem der Flachdruckplatten-Vorläufer dieser Ausführungsform ein Typ negatives IR-Laseraufzeichnungsmaterial ist, das mit dem IR-Laser zum Ausbilden eines Bildes darauf belichtet wird, besteht seine lichtempfindliche Schicht vorzugsweise aus einem negativen lichtempfindlichen Material, das mit IR-Laser belichtet wird. Ein bevorzugtes Beispiel des negativen lichtempfindlichen Materials umfasst (A) eine Verbindung, die sich bei Licht oder unter Hitze zersetzen kann, um eine Säure freizugeben, (B) ein Vernetzungsmittel, der bei dem Vorhandensein einer Säure reagiert, (C) einen alkalilöslichen Harz, (D) ein IR-Absorbens und (E) eine Verbindung einer allgemeinen Formel (R₁-X)_n-Ar-(OH)_m, wobei R1 eine Alkyl- oder eine Alkenylgruppe angibt, die 6 bis 32 Carbonatome aufweist, X eine Einfachbindung, oder O, S, COO oder CONH angibt, Ar eine aromatische Hydrocarbongruppe, eine aliphatische Hydrocarbongruppe oder eine heterocyclische Gruppe angibt, n = 1 bis 3 und m = 1 bis 3.
Der Nachteil des negativen Flachdruckplatten-Vorläufers besteht darin, dass er leicht Fingerabdrücke nach dem Entwickeln aufnehmen kann und dass die mechanische Festigkeit seines Bildbereiches niedrig ist. Die lichtempfindliche Schicht der vorstehenden bevorzugten Zusammensetzung überwindet jedoch diesen Nachteil. Die Bestandteile der lichtempfindlichen Schicht des negativen Flachdruckplatten-Vorläufers werden im Folgenden ausführlich beschrieben.
Die Verbindung (A), die sich bei Licht und unter Hitze zersetzen kann, um eine Säure freizugeben, kann eine Verbindung sein, die eine Säure freigibt, wenn sie mit 200 bis 500 nm Strahlen belichtet wird oder mit 100°C oder mehr erhitzt wird. Diese Verbindung umfasst Verbindungen, die in der Lage sind, sich bei Licht zu zersetzen, um eine Sulfonsäure freizugeben, zum Beispiel Iminosulfonate, wie beispielsweise diejenigen, die in der japanischen Patentanmeldung Nr. 140109/1991 beschrieben werden. Bevorzugte Beispiele des Säuregenerators sind optische Kationen-Polymerisationsinitiatoren, optische Radikal-Polymerisationsinitiatoren sowie optische entfärbende Wirkstoffe oder farbändernde Wirkstoffe für Farbstoffe. Die Menge des Säuregenerators, der in der lichtempfindlichen Bildaufzeichnungszusammensetzung vorhanden sein muss, fällt vorzugsweise zwischen 0,01 und 50 Gew.-% des gesamten Feststoffgehaltes der Zusammensetzung.
Das Vernetzungsmittel (B), das bei Vorhandensein einer Säure reagiert, ist vorzugsweise jegliches von (i) einer Alkoxymethyl- oder hydroxylsubstituierten aromatischen Verbindung, (ii) einer Verbindung mit N-Hydroxymethyl, N-Alkoxymethyl oder N-Acyloxymethyl oder (iii) einer Epoxidverbindung.
Der alkalilösliche Harz (C) umfasst Novolakharze sowie verzweigte Hydroxyarylpolymere.
Das IR-Absorbens (D) absorbiert 760 bis 1200 nm IR-Strahlen und es umfasst Azofarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe und Phthalocyaninfarbstoffe, die auf dem Markt erhältlich sind, sowie Schwarzpigmente, Rotpigmente, Metallpulverpigmente und Phthalocya ninpigmente, die in dem Farbindex aufgelistet sind. Zur Verbesserung der Sichtbarkeit des Bildes der bearbeiteten Platte ist es erstrebenswert, einen Bildfarbstoff, wie beispielsweise Ölgelb und Ölblau #603, zu der lichtempfindlichen Schicht hinzuzufügen. Zur Verbesserung der Flexibilität der Schicht kann ein Weichmacher, wie beispielsweise Polyethylenglykol oder Phthalat, zu der Schicht hinzugefügt werden.
[Positives IR-Laseraufzeichnungsmaterial]
In dem Fall, in dem der Flachdruckplatten-Vorläufer dieser Ausführungsform ein Typ eines positiven IR-Laseraufzeichnungsmaterials ist, der mit dem IR-Laser belichtet wird, um ein Bild darauf zu bilden, besteht seine lichtempfindliche Schicht vorzugsweise aus einem positiven lichtempfindlichen Material zur Belichtung durch den IR-Laser. Ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel eines positiven lichtempfindlichen Materials umfasst (A) ein alkalilösliches Polymer, (B) eine Verbindung, die mit dem alkalilöslichen Polymer interagiert, um die Löslichkeit des Polymers in Alkali zu verringern, sowie (C) eine IR-absorbierende Verbindung.
Der Vorteil des Flachdruckplatten-Vorläufers, der eine lichtempfindliche Schicht der vorstehenden bevorzugten Zusammensetzung umfasst, besteht darin, dass die Löslichkeit des Nicht-Bildbereiches der Schicht in dem Alkalientwickler verbessert wird, dass die Schicht kaum zerkratzt wird, und dass die Alkalibeständigkeit des Bildbereiches der Schicht gut ist. Folglich ist die Stabilität des Vorläufers bei dem Entwickeln gut.
Als das alkalilösliche Polymer (A) werden beispielsweise (i) phenolische OH-haltige Polymerverbindungen, wie zum Beispiel typische phenolische Harze, Kresolharze, Novolakharze und Pyrogallolharze, (ii) Homopolymere, die durch die Homopolymerisation von sulfonamidhaltigen polymerisierenden Monomeren hergestellt werden, oder Copolymere, die durch die Copolymerisation der Monomere mit jeglichen anderen Comonomeren hergestellt werden, (iii) Verbindungen, die eine aktive Imidogruppe in dem Molekül aufweisen, wie beispielsweise N-(p-Toluolsulfonyl)methacrylamid und N-(p-Toluolsulfonyl)acrylamid, bevorzugt.
Der Bestandteil (B) ist eine Verbindung, die mit dem Bestandteil (A) interagiert, wie beispielsweise Sulfonverbindungen, Ammoniumsalze, Sulfoniumsalze und Amidverbindun gen. Wenn beispielsweise der Bestandteil (A) ein Novolakharz ist, ist der Bestandteil (B) vorzugsweise ein Cyaninfarbstoff.
Der Bestandteil (C) absorbiert 750 bis 1200 nm IR-Strahlen und hat vorzugsweise die Funktion der photothermischen Wandlung. Beispiele der Verbindung mit der Funktion sind Squalilium-Farbstoffe, Pyryliumsalzfarbstoffe, Kohlenschwarz, nichtlösliche Azofarbstoffe sowie Anthrachinonfarbstoffe. Die Größer dieser Pigmente fällt vorzugsweise zwischen 0,01 μm und 10 μm. Farbstoffe werden zu diesen hinzugefügt und in einem organischen Lösungsmittel, wie beispielsweise Methanol oder Methylethylketon, gelöst, und die sich ergebende Lösung wird auf die Aluminiumlegierungsplatte in einem solchen Maß aufgebracht, dass das Trockengewicht der auf der Platte auszubildenden Schicht zwischen 1 und 3 g/m² fallen kann. Der auf diese Weise beschichtete Träger wird getrocknet.
[Photopolymerisieren von photopolymerhaltigem IR-Laseraufzeichnungsmaterial]
Als der durch das Belichten durch den IR-Laser zu bearbeitende negative Flachdruckplatten-Vorläufer wird ein photopolymerisierendes photopolymerhaltiges lichtempfindliches Material stärker bevorzugt.
Wenn die lichtempfindliche Schicht aus dem photopolymerisierenden photopolymerhaltigen lichtempfindlichen Material hergestellt wird, ist es erstrebenswert, dass der Träger dieser Ausführungsform vor dem Beschichten mit der lichtempfindlichen Schicht zuvor mit einer Klebeschicht beschichtet wird, die eine Silikonverbindung mit einer reaktiven Funktionsgruppe, wie in den Dokumenten JP-A 56177/1991 und 320551/1996, enthält. Die Klebeschicht dient zur Verbesserung der Haftung zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht. Dies bedeutet konkret, dass eine Silanverbindung, wie beispielsweise Ethylentetramethoxysilan oder Ethylentetraethoxysilan, in einem Lösungsmittel, wie beispielsweise Methanol oder Ethanol, in einem Verhältnis von 1 bis 20 Gew.-gelöst wird, und diese darin unter dem Vorhandensein eines Säurekatalysators, wie beispielsweise Salzsäure, Salpetersäure, Phosphorsäure oder Sulfonsäure, hydrolisiert wird. Mit der Ausbildung einer Verbindung aus -Si-O-Si- in dem sich darin ergebenden Hydrolysat wird die Lösung demzufolge in ein Sol umgewandelt, und das Sol wird auf den Träger aufgebracht, um die vorgesehene Klebeschicht darauf auszubilden.
In diesem Schritt ist es erstrebenswert, dass die Viskosität der Lösung der Silanverbindung in einem geeigneten Lösungsmittel, wie beispielsweise Methanol, gesteuert wird, um so zwischen 0,2 mPa·s (0,2 Centipoise) und 2000 mPa·s (20 Poise) zu fallen und das Trockengewicht der ausgebildeten Klebeschicht wird so gesteuert, dass es zwischen 1 und 100 mg/m² fällt.
Auf der Klebeschicht wird die lichtempfindliche Schicht ausgebildet. Das photopolymerisierende photopolymerhaltige lichtempfindliche Material für die lichtempfindliche Schicht enthält eine zusätzliche polymerisierbare polymerisierende Verbindung, die eine ungesättigte Bindung aufweist (zum Beispiel die photopolymerisierbare ethylenterminierte Verbindung). Die lichtempfindliche Schicht kann sämtliche von einem Photopolymerisationsinitiator, einem organischen Polymerbinder, einem Farbstoff, einem Weichmacher und thermischen Polymerisationsinhibitor enthalten.
Die ethylenische ungesättigte bindungsterminierte Verbindung umfasst beispielsweise Ester aus ungesättigten Carboxylsäuren mit aliphatischen Polyalkoholen (wie beispielsweise Acrylaten, Methacrylaten, Itaconaten, Maleaten) und Amide aus ungesättigten Carboxylsäuren mit aliphatischen Polyaminen (wie beispielsweise Methylenbisacrylamid, Xylylenbisacrylamid).
Photopolymerisationsinitiatoren umfassen beispielsweise Titanocenverbindungen sowie Sensibilisatoren des Triazintyps, des Benzophenontyps und des Benzimidazoltyps. Es können darüber hinaus weitere Sensibilisatoren, wie beispielsweise Cyaninfarbstoffe, Merocyaninfarbstoffe, Xanthenfarbstoffe und Coumarinfarbstoffe, verwendet werden.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung dieses Typs wird auf den Träger dieser Ausführungsform aufgebracht und getrocknet, um darauf eine lichtempfindliche Schicht mit einem Trockengewicht von 1 bis 3 g/m² auszubilden. Der auf diese Weise hergestellte negative Flachdruckplatten-Vorläufer kann durch einen IR-Laser belichtet werden, um ein Bild darauf zu bilden.
[Photovernetzung von photopolymerhaltigem Laseraufzeichnungsmaterial]
In der lichtempfindlichen Schicht kann ebenfalls ein photovernetztes Photopolymer verwendet werden.
Als das photovernetzte Photopolymer werden beispielsweise Polyesterverbindungen, die in dem Dokument JP-A 96696/1977 offenbart sind; sowie Polyvinylcinnematharze bevorzugt, die in dem Dokument GP 1.112.277 beschrieben sind. Stärker bevorzugt werden verzweigte Maleimidpolymere, die in dem Dokument JP-A 78544/1987 beschrieben sind.
[Sulfonathaltiges IR-Laseraufzeichnungsmaterial]
In der lichtempfindlichen Schicht kann ebenfalls eine Suffonatverbindung verwendet werden, die empfindlich gegenüber IR-Strahlen ist.
Als die IR-empfindliche Sulfonatverbindung können beispielsweise die in dem Dokument JP 2.704.480 und 2.704.872 offenbarten verwendet werden. Ebenso können lichtempfindliche Substanzen verwendet werden, die, wenn sie durch den IR-Laser belichtet werden, Sulfonsäure aufgrund der durch das Belichten durch den IR-Laser erzeugten Hitze freigeben, und die wasserlöslich werden; sowie lichtempfindliche Substanzen, die durch Verfestigen von Styrolsulfonaten durch die Sol-Gel-Umwandlung hergestellt werden und deren Oberflächenpolarität sich aufgrund der Belichtung mit dem IR-Laser ändert; und lichtempfindliche Substanzen, deren hydrophobe Oberfläche durch die Belichtung mit dem IR-Laser hydrophil gemacht wird, wie beispielsweise diejenigen, die in den japanischen Patentanmeldungen mit den Nummern 89816/1997, 22406/1998 und 027655/1998 beschrieben werden.
Um die Eigenschaften der lichtempfindlichen Schicht, die die Polymerverbindung umfasst, die unter Hitze Sulfonsäure freigeben kann, weiter zu verbessern, werden die folgenden Verfahren bevorzugt: (1) Kombinieren der Polymerverbindung und eines Säure- oder Basengenerators, wie in der japanischen Patentanmeldung Nr. 7062/1998; (2) Bereitstellen einer spezifischen Zwischenschicht, wie in der japanischen Patentanmeldung Nr. 340358/1997; (3) Kombinieren der Polymerverbindung und eines spezifischen Vernetzungsmittels, wie in der japanischen Patentanmeldung Nr. 248994/1997; (4) Ausbilden einer spezifischen Schichtbeschaffenheit, wie in der japanischen Patentanmeldung Nr. 43921/1998; (5) Verwenden einer Technik der Modifizierung der festen Kornoberfläche, wie in der japanischen Patentanmeldung Nr. 115354/1998.
Weitere Beispiele der Zusammensetzung, die die Fähigkeit der Umwandlung der Hydrophilie/Hydrophobie der lichtempfindlichen Schicht durch Verwenden der durch die Laserbelichtung erzeugten Hitze aufweist, sind eine Zusammensetzung, die einen Wernerkomplex umfasst und in der Lage ist, unter Hitzeeinwirkung hydrophob zu werden, wie in dem Dokument USP 2.764.085; eine Zusammensetzung, die ein spezifisches Saccharid und einen Melaminformaldehydharz umfasst und durch die Belichtung hydrophil wird, wie in dem Dokument JP-B 27219/1971; eine Zusammensetzung, die durch Hitzeeinwirkung hydrophob wird, wie in dem Dokument JP-A 63704/1976; eine Zusammensetzung, die ein Polymer umfasst, das durch die Dehydration unter Hitze hydrophob wird, wie beispielsweise Phthalylhydrazidpolymer, wie in dem Dokument USP 4.081.572; eine Zusammensetzung, die eine Tetrazoliumsalzstruktur aufweist und in der Lage ist, unter Hitze hydrophil zu werden, wie in dem Dokument JP-B 58100/1991; eine Zusammensetzung, die ein sulfonsäuremodifiziertes Polymer umfasst und in der Lage ist, durch Belichtung hydrophob zu werden, wie in dem Dokument JP-A 132760/1985; eine Zusammensetzung, die ein Imidvorläuferpolymer umfasst und in der Lage ist, durch Belichtung hydrophob zu werden, wie in dem Dokument JP-A 3543/1989; sowie eine Zusammensetzung, die ein Fluorcarbonpolymer umfasst und in der Lage ist, durch Belichtung hydrophil zu werden, wie in dem Dokument JP-A 74706/1976.
Darüber hinaus werden dafür eine Zusammensetzung erwähnt, die ein hydrophobes kristallines Polymer umfasst und in der Lage ist, durch Belichtung hydrophil zu werden, wie in dem Dokument JP-A 197190/1991; eine Zusammensetzung, die ein Polymer, dessen nichtlösliche Zweige in hydrophile Zweige umgewandelt werden, wenn sie Hitze ausgesetzt werden, sowie ein photothermisches Umwandlungsmittel umfasst, wie in dem Dokument JP-A 186562/1995; eine Zusammensetzung, die Mikrokapseln und einen dreidimensionalen vernetzten hydrophilen Binder umfasst, und in der Lage ist, durch Belichtung hydrophob zu werden, wie in dem Dokument JP-A 1849/1995; eine Zusammensetzung, die der Valenzisomerisierung oder der Protonenübergangsisomerisierung unterzogen wird, wie in JP-A 3463/1996; eine Zusammensetzung, die einer Zwischenschichtphasen-Strukturänderung (Kompatibilisierung) durch das Einwirken von Hitze unterzogen wird, um eine Hydrophilie/Hydrophobie-Änderung zu bewirken, wie in dem Doku ment JP-A 141819/1996; und eine Zusammensetzung, die der Änderung der Oberflächenmorphologie sowie der Änderung der Hydrophilie/Hydrophobie der Oberfläche durch das Einwirken von Hitze unterzogen wird; wie in dem Dokument JP-B 228/1985.
Ein weiteres bevorzugtes Beispiel der Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht ist eine Zusammensetzung mit der Fähigkeit, die Haftung zwischen der lichtempfindlichen Schicht/dem Träger durch den Hitzeeinwirkungsmodus des Verwendens der Hitze, die durch die Hochleistungs-Laserstrahlen hoher Dichte, welche auf die Schicht angewendet werden, erzeugt wird, umzuwandeln. Konkret umfasst sie eine wärmeschmelzende oder wärmereaktive Substanz, wie in JP-B 22957/1969.
[Elektrofotografisches harzhaltiges Laseraufzeichnungsmaterial]
Die lichtempfindliche Schicht des Flachdruckplatten-Vorläufers dieser Ausführungsform kann ebenfalls eine lichtempfindliche ZnO-haltige Schicht, wie in dem Dokument USP 3.001.872; oder eine elektrofotografische harzhaltige lichtempfindliche Schicht, wie in den Dokumenten JP-A 161550/1981, 186847/1985, 238063/1986, sein. Die Menge der lichtempfindlichen Schicht, die auf dem Träger dieser Ausführungsform auszubilden ist, kann zwischen 0,1 und 7 g/m² oder so und vorzugsweise zwischen 0,5 und 4 g/m² oder so in Bezug auf deren Trockengewicht fallen.
Eine grundlegende Erfindung der Elektrofotografie wird in dem Dokument JP-B 17162/1962 offenbart. Elektrofotografie-Verfahren werden außerdem in den Dokumenten JP-A 107246/1981 und in JP-B 36259/1984 offenbart. Der elektrofotografische Harz besteht im Wesentlichen aus einer fotoleitenden Verbindung und einem Binder und kann, wenn gewünscht, jegliche der bekannten Pigmente, Farbstoffe, chemischen Sensibilisatoren und weitere erforderliche Zusatzstoffe zum Erhöhen der Empfindlichkeit der Harzschicht und zum Steuern des beabsichtigten Wellenlängenbereiches enthalten, auf die die Schicht empfindlich ist.
Wenn gewünscht, können Zwischenschichten in dem Flachdruckplatten-Vorläufer dieser Ausführungsform bereitgestellt werden, um die Haftung zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht zu erhöhen, um zu verhindern, dass die lichtempfindliche Schicht in der entwickelten Platte verbleibt, und um den Lichthof zu verhindern. Als die Zwischenschicht zum Erhöhen der Haftung zwischen dem vorangehend genannten Träger und der lichtempfindlichen Schicht werden im Allgemeinen adsorptive Aluminiumphosphatverbindungen, Aminoverbindungen und Carboxylatverbindungen bevorzugt. Als die Zwischenschicht, die verhindert, dass die lichtempfindliche Schicht in der entwickelten Platte verbleibt, werden hochlösliche Substanzen, wie beispielsweise hochlösliche Polymere oder wasserlösliche Polymere, bevorzugt. Als die Zwischenschicht für den Lichthofschutz werden Farbstoffe oder UV-Absorbentien bevorugt.
Die Dicke jeder Zwischenschicht kann jegliche gewünschte sein, sie muss jedoch derart sein, dass die Zwischenschicht gleichmäßig mit der aufliegenden lichtempfindlichen Schicht verbunden ist, wenn der Vorläufer belichtet wird. Im Allgemeinen fällt die Trockendicke vorzugsweise zwischen 1 und 100 mg/m² oder so und stärker bevorzugt zwischen 5 und 40 mg/m² oder so.
Auf der lichtempfindlichen Schicht ist optional eine Mattenschicht bereitgestellt, die unabhängige feine Hügelchen auf ihrer Oberfläche aufweist. Die Aufgabe der Mattenschicht besteht darin, die Vakuumhaftung zwischen dem lichtempfindlichen Flachdruckplatten-Vorläufer und dem daran befestigten Negativ-Bildfilm für die Kontaktbelichtung des Vorläufers durch den Film zu verbessern, um dadurch die Zeit für das Vakuumtiefziehen zu verkürzen und Feinrastertehler zu verhindern, die durch den unzureichenden Kontakt bei der Belichtung bewirkt werden.
Zum Ausbilden der Mattenschicht kann beispielsweise ein Verfahren des Thermoaufschmelzens von Feststoffpulver auf die lichtempfindliche Schicht, wie in dem Dokument JP-A 12974/1980, oder ein Verfahren des Sprühens eines feuchten Polymers auf die Schicht mit dem anschließenden Trocknen darauf, wie in dem Dokument JP-A 182636/1983, angewendet werden. Die Mattenschicht ist vorzugsweise in einem wässrigen Alkalientwickler löslich, der im Wesentlichen kein organisches Lösungsmittel enthält, oder kann durch den Entwickler entfernt werden.
Mit Ausnahme des elektrofotografischen harzhaltigen Laseraufzeichnungsmaterials beträgt das Trockengewicht der auf dem Träger in der vorstehenden Art und Weise ausgebildeten lichtempfindlichen Schicht jeweils für die positiven lichtempfindlichen Materia lien als auch für die negativen lichtempfindlichen Materialien vorzugsweise zwischen 1 und 3 g/m², wobei zwischen 1,5 und 2,5 g/m² stärker bevorzugt wird.
Vorzugsweise wird eine bekannte Mattenschicht auf der lichtempfindlichen Schicht der Reihe nach ausgebildet. Ihr Trockengewicht kann zwischen 0,001 und 1 g/m² und vorzugsweise zwischen 0,005 und 0,2 g/m² fallen.
Darüber hinaus fällt die mittlere Oberflächenrauhigkeit (Ra – JIS B0601-1994) des Flachdruckplatten-Vorläufers vorzugsweise zwischen 0,3 und 0,6 μm und stärker bevorzugt zwischen 0,35 und 0,55 μm. Der Wert L* davon fällt vorzugsweise zwischen 50 und 95 und stärker bevorzugt zwischen 60 und 90. Delta Eab* davon beträgt vorzugsweise höchstens 2 und fällt stärker bevorzugt zwischen 0 und 1.
Der Wert L* und das Delta Eab*, auf die sich hierin bezogen wird, werden in dem Dokument JIS Z8729-1980 definiert.
Die mittlere Oberflächenrauhigkeit (Ra), der Wert L* und das Delta Eab* des Flachdruckplatten-Vorläufers geben sämtlich diejenigen des Trägers des Vorläufers so an, dass die lichtempfindliche Schicht und die anderen Schichten noch nicht darauf aufgebracht sind.
<<Flachdruckplatte>>
Der Flachdruckplatten-Vorläufer dieser Ausführungsform, der durch Ausbilden einer lichtempfindlichen Schicht auf dem Träger in der vorangehenden Art und Weise hergestellt ist, wird mit dem IR-Laser oder Ähnlichem belichtet und anschließend mit einem Alkalientwickler oder Ähnlichem entwickelt, um eine Flachdruckplatte zu sein. Als die Lichtquelle für die Belichtung kann ein 700 bis 1200 nm IR-Laser verwendet werden. Bei der gegenwärtigen Technik des Plattenherstellens und Druckens werden weit verbreitet automatische Entwicklungsmaschinen für Druckplatten zum Rationalisieren und Standardisieren des Plattenherstellungsvorgangs verwendet. Bei dem Plattenherstellungsvorgang dieser Ausführungsform werden vorzugsweise solche automatischen Entwicklungsmaschinen verwendet.
Zum Entwickeln des belichteten Flachdruckplatten-Vorläufers der Erfindung können ein Entwickler, der im Wesentlichen aus einem Alkalisilikat, wie beispielsweise Natriumsilikat oder Kaliumsilikat besteht, wie in dem Dokument JP-A 62004/1979; sowie ein Entwickler verwendet werden, der im Wesentlichen aus einem nicht-reduzierenden Zucker, wie beispielsweise Saccharose oder Trehalose besteht, der keine freie Aldehydgruppe und Ketongruppe sowie keine Reduzierbarkeit aufweist.
Zu dem Entwickler werden optional jegliche eines Alkalimittels, wie beispielsweise Kaliumhydroxid; eines Entwicklungsstabilisiermittels, wie beispielsweise Glykoalkoholpolyethylenglykoladdukt, wie in dem Dokument JP-A 282079/1994; eines Reduktionsmittels, wie beispielsweise Hydrochinon; eines Wasserenthärters, wie beispielsweise Ethylenediamin; eines nichtionischen, anionischen oder amphoteren Tensids; und eines Polyoxyethylenpolyoxypropylenblockcopolymertensids, wie in dem Dokument JP-B 54339/1991, hinzugefügt.
In dem Entwickler, der ein Alkalisilikat enthält, fällt das Molverhältnis von SiO₂/M₂O (M ist ein Alkalimetall) vorzugsweise zwischen 0,3 und 3,0. Damit entwickelt, kann die Platte Si, haftend an seiner Oberfläche, aufweisen. Die auf der Oberfläche der Platte vorhandene Si-Menge kann durch die ESCA (Elektronenspektroskopie zur chemischen Analyse) gemessen werden. Die Menge an C, Al, O, S, Si und Ca auf der Oberfläche wird einzeln gemessen und in Atomprozent (Atom-%) angegeben.
Die Menge an Si fällt vorzugsweise zwischen 1 und 25 Atom-% und stärker bevorzugt zwischen 5 und 20 Atom-%. Wenn Si in den Bereich fällt, wirkt Si als Lichthofschutz bei der IR-Laserbelichtung.
Demgegenüber muss, wenn ein Entwickler, der im Wesentlichen aus einem nichtreduzierenden Zucker besteht, verwendet wird, die Oberfläche des Aluminiumträgers, beispielsweise durch eine Silikatbehandlung, hydrophil gemacht werden. Auch in diesem Fall fällt die Menge an Si, die an der Oberfläche der entwickelten Platte haftet, vorzugsweise zwischen 1 und 25 Atom-%. In dieser Ausführungsform ist es erstrebenswert, dass der Vorläufer in einer automatischen Entwicklungsmaschine bearbeitet wird. Eine Nachfülllösung mit einer höheren Alkalikonzentration als der in der Maschine fließende Entwickler kann zu dem Entwickler hinzugefügt werden, um dadurch die Entwicklung für einen langen Zeitraum zu stabilisieren. Ein anionisches Tensid kann zu der Nachfülllösung hinzugefügt werden, um das Bearbeitungssediment gut zu verteilen und um die Druckfarbenaffinität des Bildteils der entwickelten Druckplatte zu verbessern. Wenn gewünscht, können ebenfalls ein Entschäumer sowie ein Wasserenthärter zu der Nachfülllösung hinzugefügt werden.
Die entwickelte Oberfläche der Flachdruckplatte wird vorzugsweise mit einer Spüllösung, die ein Tensid enthält, und mit einer Lipo-Desensibilisatorlösung, die Gummiarabikum und Stärkederivat enthält, nachbehandelt. In dem Fall, in dem eine wässrige Lösung 5 bis 15 Gew.-% in Bezug auf den Feststoffgehalt enthält, und das Gummiarabikum und ein Stärkederivat als Lipo-Desensibilisator verwendet werden, wird die entwickelte Oberfläche der Platte damit so geschützt, dass das Nassgewicht der darauf angewendeten Lösung zwischen 1 und 10 ml/m² fallen kann. Das Trockengewicht des Lipo-Desensibilisator auf der entwickelten Oberfläche der Platte fällt vorzugsweise zwischen 1 und 5 g/m².
Wenn es erforderlich ist, dass die auf die vorangehend beschriebene Weise fertig bearbeitete Druckplatte eine höhere Druckbeständigkeit aufweisen soll, wird sie vorzugsweise gebrannt, wie beispielsweise in dem Dokument JP-B 2518/1986. Zu diesem Zweck kann ein Egalisiermittel, wie das in dem Dokument JP-B 28062/1980 offenbarte, mit einem Schwamm oder einer Verbandwatte auf die Oberfläche der Druckplatte oder unter Verwendung einer Auftragmaschine aufgebracht werden. Die Menge (Trockengewicht) des Egalisiermittels, das auf die Druckplatte aufzutragen ist, kann im Allgemeinen zwischen 0,3 und 0,8 g/m² fallen.
Wie vorangehend beschrieben, wird der Flachdruckplatten-Vorläufer der Erfindung, nachdem er bildweise belichtet wurde, auf eine herkömmliche Weise entwickelt, um eine Flachdruckplatte zu sein, die ein darauf ausgebildetes Harzbild aufweist. Beispielsweise wird der Flachdruckplatten-Vorläufer, der eine lichtempfindliche Schicht des vorangehend erwähnten Typs [I] aufweist, nach der bildweisen Belichtung mit einer wässrigen Alkalilösung, wie in dem Dokument USP 4.259.434, entwickelt, wodurch der belichtete Teil der Schicht entfernt wird und die vorgesehene Flachdruckplatte fertiggestellt wird. Demgegenüber wird der Flachdruckplatten-Vorläufer, der eine lichtempfindliche Schicht des vorangehend erwähnten Typs [II] aufweist, nach der bildweisen Belichtung mit ei nem Entwickler entwickelt, wie in dem Dokument USP 4.186.006, wodurch der nichtbelichtete Teil der Schicht entfernt wird und die vorgesehene Flachdruckplatte fertiggestellt wird. Wässrige Alkalientwickler zu Entwickeln von positiven Flachdruckplatten-Vorläufern, wie die in den Dokumenten JP-A 84241/1984, 192952/1982 und in dem Dokument 24263/1987 beschriebenen, können ebenfalls hierin verwendet werden.
Beispiele:
Diese Ausführungsform wird in Bezug auf die folgenden Beispiele ausführlich beschrieben, die jedoch nicht zum Zwecke der Beschränkung des Umfangs der Erfindung dienen sollen.
Beispiel 1:
Eine Aluminiumlegierungsplatte, welche die in Tabelle 6 dargestellte Zusammensetzung aufweist, wurde durch <1> alkalisches Ätzen, <2> Nachbeizen, <3> elektrolytisches Oberflächen-Aufrauen, <4> alkalisches Ätzen, <5> Nachbeizen und <6> anodische Oxidation in dieser Reihenfolge bearbeitet, um einen Träger für Flachdruckplatten herzustellen.
Tabelle 6 (Einheit: Gew.-%)
<1> alkalisches Ätzen:
Durch Sprühdüsen wird eine wässrige Alkalilösung (NaOH: 27 Gew.-%, Aluminiumion: 6,5 Gew.-%) mit 70°C auf die Aluminiumlegierungsplatte gesprüht, um diese zu ätzen. Der Auflösungsgrad der Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte, die in dem späteren Schritt elektrolytisch aufgeraut werden soll, beträgt 6 g/m² und der Auflösungsgrad der gegenüberliegenden Oberfläche davon beträgt 1 g/m².
Die Daten der NaOH-Konzentration, der Aluminiumionenkonzentration, der Temperatur, des spezifischen Gewichtes und der elektrischen Leitfähigkeit der bei diesem Vorgang verwendeten wässrigen Alkalilösung wurden zuvor erhalten. Die Konzentration der in der Vorrichtung fließenden wässrigen Alkalilösung wurde anhand der Temperatur, des spezifischen Gewichtes und der elektrischen Leitfähigkeit davon in der Datentabelle erhalten. Durch die Rückkopplungsregelung der Daten konnte die Konzentration der wässrigen Alkalilösung während des Vorgangs durch Hinzugeben von Wasser und von 48 Gew.-% NaOH zu der Lösung stets konstant gehalten werden.
Nachdem die Aluminiumlegierungsplatte auf diese Weise geätzt wurde, wird die Platte durch Aufsprühen von Wasser gewaschen. Der Wasserstrahldruck betrug 2 kg/cm², die Transportgeschwindigkeit der Platte betrug 30 m/min und die Menge des aufgesprühten Wassers betrug 5 Liter/m².
<2> Nachbeizen
Anschließend wurde die auf diese Weise geätzte Aluminiumlegierungsplatte mit einer wässrigen Salzsäurelösung nachgebeizt. Die für die Nachbeizbehandlung verwendete Lösung ist der Rest der Salzsäurelösung, die in dem nächsten Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens verwendet wurde. Ihre Temperatur (bei der die Platte bearbeitet wird) betrug 45°C und ihre Salzsäurekonzentration betrug 7,5 g/Liter. Ihre Aluminiumkonzentration betrug 5 g/Liter. Die Säurelösung wurde für 2 Sekunden auf die Platte gesprüht, um diese nachzubeizen. Anschließend wurde die Platte auf dieselbe Weise wie in dem vorherigen Schritt gewaschen.
<3> elektrolytisches Oberflächen-Aufrauen:
Die nachgebeizten Aluminiumlegierungsplatte wurde anschließend in einem kontinuierlichen elektrolytischen Wechselstrom-Prozess dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauen unterzogen. Ein handelsüblicher Wechselstrom von 60 Hz wurde durch einen Transformator und einen Induktionsregler zu einem Wechselstrom in Sinuswellenform geregelt und an die Aluminiumlegierungsplatte angelegt. Das Verhältnis der an die als Anode fungierende Aluminiumlegierungsplatte angelegten Elektrizitätsmenge QA zu der an die Gegenkathode angelegten Elektrizitätsmenge QC, QC/QA, beträgt 1; und die Wechselstromlast beträgt 1. Der Impulsanstieg von 0 bis zu dem Maximum beträgt 4,15 ms.
Die elektrolytische Zelleneinheit von 5 wurde verwendet, in der die Hauptelektrode eine Kohleelektrode war. Das Verhältnis QC/QA betrug, während die Platte die Zelle 10 in 5 durchlief, 0,95. Die für die Behandlung verwendete Elektrolytlösung wurde durch Hinzufügen von Aluminiumchlorid zu einer wässrigen Lösung mit einer Salzsäurekonzentration von 7,5 g/Liter hergestellt, um eine Aluminiumkonzentration von 5 g/Liter zu erhalten. Ihre Temperatur betrug 45°C.
Die Spitzenstromdichte betrug sowohl für die anodische Reaktion als auch für die kathodische Reaktion der Aluminiumlegierungsplatte 50 A/dm². Die an die als eine Anode fungierende Aluminiumlegierungsplatte angelegte Gesamtelektrizitätsmenge betrug 400 C/dm². Nachdem die Platte auf diese Weise dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauen unterzogen wurde, wurde die Platte auf dieselbe Art und Weise wie in den vorherigen Schritten mit Wasser gewaschen.
Die Konzentration der wässrigen Salzsäurelösung, die bei diesem Vorgang verwendet wurde, wurde folgendermaßen geregelt: 35 Gew.-% Stamm-HCl und Wasser wurden zu der Lösung im Verhältnis zu dem an das System angelegten Strom hinzugefügt, wobei dasselbe Volumen der sauren Elektrotytlösung wie das Volumen der Salzsäurelösung und des Wassers, die zu der Bearbeitungslösung hinzugefügt wurden, so gehalten wurde, dass es aus dem System auslief. Demgegenüber wurden die Daten der Salzsäurekonzentration, der Aluminiumionenkonzentration, der Temperatur und der elektrischen Leitfähigkeit der in diesem Prozess verwendeten wässrigen Salzsäurelösung und die Geschwindigkeit der Ultraschallausbreitung durch die Lösung zuvor erhalten. Die Konzentration der in der elektrolytischen Wechselstrom-Zelleneinheit fließenden wässrigen Salzsäurelösung wurde anhand der Temperatur sowie der elektrischen Leitfähigkeit der Lösung und der Geschwindigkeit der Ultraschallausbreitung durch die Lösung in der Datentabelle erhalten. Durch die Rückkopplungsregelung der Daten wurde die Konzentration der wässrigen Salzsäurelösung während des Vorgangs durch Hinzugeben von Wasser und von Stammsalzsäure zu der Lösung stets konstant gehalten. Der Überlauf aus der Einheit wurde aus dem System herausgenommen.
<4> alkalisches Ätzen:
Durch Sprühdüsen wurde eine wässrige Alkalilösung (NaOH: 5 Gew.-%, Aluminiumion: 0,5 Gew.-%) mit 45°C auf die auf diese Weise elektrolysierte Aluminiumlegierungsplatte gesprüht, um diese zu ätzen. Der Auflösungsgrad der Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte, die in dem vorherigen Schritt elektrolytisch aufgeraut worden ist, betrug 0,1 g/m² und der Auflösungsgrad der entgegensetzten Oberfläche davon betrug 0,1 g/m².
Die Daten der NaOH-Konzentration, der Aluminiumionenkonzentration, der Temperatur, des spezifischen Gewichtes und der elektrischen Leitfähigkeit der bei diesem Vorgang verwendeten wässrigen Alkalilösung wurden zuvor erhalten. Die Konzentration der in der Vorrichtung fließenden wässrigen Alkalilösung wurde anhand der Temperatur, des spezifischen Gewichtes und der elektrischen Leitfähigkeit davon in der Datentabelle erhalten. Durch die Rückkopplungsregelung der Daten wurde die Konzentration der wässrigen Alkalilösung während des Vorgangs durch Hinzufügen von Wasser und von 48 Gew.-% NaOH zu der Lösung stets konstant gehalten. Nachdem die Aluminiumlegierungsplatte auf diese Weise geätzt wurde, wurde sie auf dieselbe Weise wie in den vorherigen Schritten gewaschen.
<5> Nachbeizen:
Anschließend wurde die auf diese Weise geätzte Aluminiumlegierungsplatte mit einer wässrigen Schwefelsäurelösung nachgebeizt. Die Schwefelsäurekonzentration der Lösung betrug 300 g/Liter und die Aluminiumionenkonzentration davon betrug 5 g/Liter. Die Temperatur der Lösung betrug 70°C. Die Säurelösung wurde für 2 Sekunden auf die Platte gesprüht, um diese nachzubeizen. Die Konzentration der durch die Vorrichtung fließenden Säurelösung wurde folgendermaßen geregelt: Die Daten der Schwefelsäurekonzentration, der Aluminiumionenkonzentration, der Temperatur, des spezifischen Gewichtes und der elektrischen Leitfähigkeit der in diesem Prozess verwendeten Schwefelsäurelösung wurden zuvor erhalten. Die Konzentration der durch die Vorrichtung fließenden Säurelösung wurde anhand der Temperatur, des spezifischen Gewichtes und der elektrischen Leitfähigkeit davon in der Datentabelle erhalten. Durch die Rückkopplungsregelung der Daten wurde die Konzentration der Säurelösung während des Vorgangs durch Hinzufügen von Wasser und von 50 Gew.-% Schwefelsäure zu der Lösung stets konstant gehalten werden. Nachdem die Aluminiumlegierungsplatte auf diese Weise nachgebeizt wurde, wurde sie auf dieselbe Weise wie in den vorherigen Schritten gewaschen.
<6> anodische Oxidation:
In einer elektrolytischen wässrigen Schwefelsäurelösung, die 100 g/Liter Schwefelsäure und 5 g/Liter Aluminiumionen enthält und eine Badtemperatur von 50°C aufweist, wurde die in den vorherigen Schritten bearbeitete Aluminiumlegierungsplatte der anodischen Oxidation unterzogen, wobei ein Gleichstrom daran angelegt wurde. Die Bedingung für die anodische Oxidation wurde so geregelt, dass die Menge des auf der Bahn ausgebildeten Oxidfilms 2,4 g/m² sein konnte. Die Spannung betrug 20 V; die Stromdichte betrug 10 A/dm²; und die Bearbeitungszeit für die Elektrolyse betrug 30 Sekunden. Die Konzentration der durch die Vorrichtung fließenden Elektrolytlösung wurde folgendermaßen geregelt: Die Daten der Schwefelsäurekonzentration, der Aluminiumionenkonzentration, der Temperatur, des spezifischen Gewichtes und der elektrischen Leitfähigkeit der bei diesem Vorgang verwendeten Schwefelsäurelösung wurden zuvor erhalten. Die Konzentration der in der Vorrichtung fließenden Säurelösung wurde anhand der Temperatur, des spezifischen Gewichtes und der elektrischen Leitfähigkeit davon in der Datentabelle erhalten. Durch die Rückkopplungsregelung der Daten wurde die Konzentration der Säurelösung während des Vorgangs durch Hinzufügen von Wasser und von 50 Gew.-% Schwefelsäure zu der Lösung stets konstant gehalten. Nachdem die Aluminiumlegierungsplatte auf diese Weise durch die anodische Oxidation bearbeitet wurde, wurde sie auf dieselbe Weise wie in den vorherigen Schritten gewaschen.
Durch den vorangehenden Vorgang wurde ein Träger für Flachdruckplatten hergestellt.
Dieser wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop (× 750) abgerastert. Es wurde festgestellt, dass die Oberfläche des Trägers gleichmäßig aufgeraut und vorteilhaft für Flachdruckplatten ist.
Beispiel 2:
Ein Träger für Flachdruckplatten wurde auf dieselbe Art und Weise wie in dem Beispiel 1 hergestellt, jedoch wurde hier ein Wechselstrom mit trapezförmiger Wellenform an die Aluminiumlegierungsplatte in dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens angelegt. In dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens betrug die Wechselstromfrequenz 60 Hz und der Impulsanstiegszeit von Null auf den Höchstwert, Tp, betrug 2 ms. Die Spitzenstromdichte betrug sowohl für die anodische Reaktion als auch für die kathodische Reaktion der Aluminiumlegierungsplatte 50 A/dm². Die an die als eine Anode fungierende Aluminiumlegierungsplatte angelegte Gesamtelektrizitätsmenge betrug 400 C/dm².
Der auf diese Weise hierin hergestellte Träger wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop (× 750) abgerastert. Es wurde festgestellt, dass die Oberfläche des Trägers gleichmäßig aufgeraut und vorteilhaft für Flachdruckplatten ist.
Beispiel 3:
Ein Träger für Flachdruckplatten wurde auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 1 hergestellt, jedoch wurde hier die Aluminiumlegierungsplatte dem mechanischen Oberflächen-Aufrauen vor dem Schritt des alkalischen Ätzens <1> unterzogen und die Gesamtelektrizitätsmenge, die an die Aluminiumlegierungsplatte angelegt wurde, die bei dem Vorgang des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens in der wässrigen Salzsäurelösung als eine Anode fungiert, betrug 50 C/dm².
Hierbei wurde die Aluminiumlegierungsplatte auf die folgende Weise dem mechanischen Oberflächen-Aufrauen unterzogen. Mit einer Schleifmittelaufschlämmung, die durch Aufschlämmen von Quarzsand mit einem spezifischen Gewicht von 1,12 in darauf angewendeten Wasser hergestellt wurde, wurde die Oberfläche der Platte mit drehenden Nylonbürstenrollen gescheuert. Jede Nylonbürstenrolle, Nr. 3, war aus 6,10-Nylon hergestellt und die Länge der Nylonborsten betrug 50 mm. Die Nylonborsten waren dicht in den Löchern in der gesamten Oberfläche eines rostfreien Rolle mit einem Durchmesser von 300 mm befestigt. Es wurden 3 derartige Nylonbürstenrollen verwendet. Zwei Auflagerollen (200 mmΦ) waren unter den Bürstenrollen mit einem Abstand von 300 mm von ihnen angeordnet. Die Last des Leistungsmotors zum Antreiben der Bürstenrollen wurde relativ zu der Last der Aluminiumlegierungsplatte gesteuert, bevor die Bürstenrollen daran gedrückt wurden. Dies bedeutet konkret, dass die Bürstenrollen so an die Aluminiumlegierungsplatte gedrückt wurden, dass die mittlere Obetflächenrauhigkeit (Ra) der aufgerauten Oberfläche der Platte zwischen 0,3 und 0,4 μm (Mittelwert: 0,35 μm) fallen konnte. Die Richtung der Bürstenrotation war dieselbe wie die Transportrichtung der Aluminiumlegierungsplatte. Nachdem die Platte auf diese Weise dem mechanischen Oberflächen-Aufrauen unterzogen wurde, wurde berflächen-Aufrauen unterzogen wurde, wurde sie mit Wasser gewaschen. Die Konzentration der während des Vorgangs verwendeten Schleifmittelaufschlämmung wurde folgendermaßen geregelt: Die Daten der Schleifmittelkonzentration, der Temperatur und des spezifischen Gewichtes der bei diesem Vorgang verwendeten Schleifmittelaufschlämmung wurden zuvor erhalten. Die Konzentration der durch die Vorrichtung fließenden Schleifmittelaufschlämmung wurde anhand der Temperatur und des spezifischen Gewichtes davon in der Datentabelle erhalten. Durch die Rückkopplungsregelung der Daten wurde die Konzentration der Schleifmittelaufschlämmung während des Vorgangs durch Hinzugeben von Wasser und von Quarzsandschleifmittel zu der Aufschlämmung stets konstant gehalten werden. Während der Verwendung wird der Quarzsand gerieben und seine Korngröße verkleinert. Wenn solche feinen Quarzsandkörner bei dem Vorgang weiter verwendet werden, variiert das Profil der aufgrauten Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte. Um das Problem zu umgehen, wurden die feinen Körner des Quarzsandschleifmittels, die bei diesem Vorgang verwendet wurden, sukzessive durch einen Zyklonabscheider aus dem System entfernt. Während des Vorgangs wurde die Korngröße des Quarzsandes in der Schleifmittelaufschlämmung zwischen 1 und 15 μm gehalten. Die volumengemittelte Korngröße der bei diesem Vorgang verwendeten Schleifmittelaufschlämmung betrug 8 μm.
Der auf diese Weise hierin hergestellte Träger wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop (× 750) abgerastert. Es wurde festgestellt, dass die Oberfläche des Trägers gleichmäßig aufgeraut und vorteilhaft für Flachdruckplatten ist.
Beispiel 4:
Ein Träger für Flachdruckplatten wurde auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, bei dem jedoch ein Aluminiummaterial JIS 1050H als die Aluminiumlegierungsplatte verwendet wurde.
Der auf diese Weise hierin hergestellte Träger wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop (× 750) abgerastert. Es wurde festgestellt, dass die Oberfläche des Trägers gleichmäßig aufgeraut und vorteilhaft für Flachdruckplatten ist.
Beispiel 5:
Ein Träger für Flachdruckplatten wurde auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 3 hergestellt, wobei jedoch die Stromdichte bei dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens 5 A/dm², die an die als eine Anode fungierende Aluminiumlegierungsplatte angelegte Elektrizitätsmenge 100 C/dm² und der Grad der Aluminiumauflösung in dem Schritt des alkalischen Ätzens nach dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens (auf der elektrolytisch aufgerauten Oberfläche der Platte) 0,3 g/m² betrug.
Der auf diese Weise hierin hergestellte Träger wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop (× 750) abgerastert. Es wurde festgestellt, dass die Oberfläche des Trägers gleichmäßig aufgeraut und vorteilhaft für Flachdruckplatten ist.
Beispiel 6:
Ein Träger für Flachdruckplatten wurde auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch die Aluminiumlegierungsplatte aktiviert wurde, indem sie vor dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens mit einer wässrigen Lösung, die 2,0 g/Liter Dimethylaminoboran enthielt, mit 40°C für 5 Sekunden besprüht wurde und anschließend auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 1 mit Wasser gewaschen wurde.
Der auf diese Weise hierin hergestellte Träger wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop (× 750) abgerastert. Es wurde festgestellt, dass die Oberfläche des Trägers gleichmäßig aufgeraut und vorteilhaft für Flachdruckplatten ist.
Beispiel 7:
Ein Träger für Flachdruckplatten wurde auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 3 hergestellt, wobei jedoch die Aluminiumlegierungsplatte aktiviert wurde, indem sie vor dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens mit einer wässrigen Lösung, die 2,0 g/Liter Dimethylaminoboran enthält, mit 40°C für 5 Sekunden besprüht wurde und anschließend auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 3 mit Wasser gewaschen wurde.
Der auf diese Weise hierin hergestellte Träger wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop (× 750) abgerastert. Es wurde festgestellt, dass die Oberfläche des Trägers gleichmäßig aufgeraut und vorteilhaft für Flachdruckplatten ist.
Beispiel 8:
Die in den Beispielen 1 bis 7 hergestellten Flachdruckplattenträger wurden jeweils mit einer Grundierungsschicht (Trockengewicht: 0,01 g/m²) und einer positiven lichtempfindlichen Schicht (Trockengewicht: 1,0 g/m²), wie in dem Beispiel 1 des Dokumentes JP-A 149491/1985, beschichtet und getrocknet, um Flachdruckplatten-Vorläufer herzustellen. Wie in dem Beispiel 1 des Dokumentes JP-A 149491/1985 beschrieben, wurden diese belichtet und entwickelt, um Flachdruckplatten zu erzeugen. Die auf diese Weise hergestellten Druckplatten wurde auf Druckfähigkeit geprüft. Es wurde festgestellt, dass sie alle guter Qualität sind und weder ein Beflecken des Bezuges noch schwerwiegende Tintenflecke auf den Drucksachen verursacht haben.
Ihre Druckfähigkeit wurde folgendermaßen bewertet: Nach dem Druckfähigkeitstest wurde der Bezug dahingehend geprüft, wie und in welchem Umfang Tinte darauf haftete. Dadurch wird das Beflecken des Bezuges angegeben. Die Drucksachen wurden dahingehend geprüft, wie und in welchem Umfang Tintenflecke in dem Nicht-Bildbereich darauf zu sehen waren. Dadurch wird das Vorhandensein oder Nichtvorhandensein von schwerwiegenden Tintenflecken auf den Drucksachen angegeben. Die Druckplatten, die ein geringfügiges Beflecken des Bezuges und wenige Tintenflecke auf den Drucksachen verursacht haben, wurden als gut bewertet (dasselbe soll im Folgenden gelten).
Beispiel 9:
Die Flachdruckplattenträger, die in den Beispielen 1 bis 7 hergestellt wurden, wurden jeweils hydrophil gemacht, indem sie in eine wässrige Lösung, die 2,5 Gew.-% des Nr. 3 Natriumsilikats enthielt, mit 70°C für 10 Sekunden eingetaucht wurden und anschließend mit einer Grundierungsschicht (Trockengewicht: 0,05 g/m²) und einer negativen lichtempfindlichen Schicht (Trockengewicht: 2,0 g/m²), wie in dem Beispiel 1 des Dokumentes JP-A 101651/1984, beschichtet und getrocknet wurden, um Flachdruckplatten-Vorläufer herzustellen. Wie in dem Beispiel 1 des Dokumentes JP-A 101651/1984 wur den diese belichtet und entwickelt, um Flachdruckplatten zu werden. Die auf diese Weise hergestellten Druckplatten wurden auf Druckfähigkeit geprüft. Es wurde festgestellt, dass sie alle guter Qualität sind und weder ein Beflecken des Bezuges noch schwerwiegende Tintenflecke auf den Drucksachen verursacht haben.
Beispiel 10:
Die Flachdruckplattenträger, die in den Beispielen 1 bis 7 hergestellt wurden, wurden jeweils hydrophil gemacht, indem sie in eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% des Nr. 3 Natriumsilikats enthält, mit 30°C für 10 Sekunden eingetaucht wurden und anschließend mit einer Grundierungsschicht (Trockengewicht: 0,01 g/m²) und einer positiven mit einem IR-Laser belichtbaren lichtempfindlichen Schicht (Trockengewicht: 1,8 g/m²), wie in dem Beispiel 1 des Dokumentes JP-A 62333/2000, beschichtet und getrocknet wurden, um Flachdruckplatten-Vorläufer herzustellen. Wie in dem Beispiel 1 des Dokumentes JP-A 62333/2000 wurden diese belichtet und entwickelt, um Flachdruckplatten zu werden. Die auf diese Weise hergestellten Druckplatten wurden auf Druckfähigkeit geprüft. Es wurde festgestellt, dass sie alle guter Qualität sind und weder ein Beflecken des Bezuges noch schwerwiegende Tintenflecke auf den Drucksachen verursacht haben.
Beispiel 11:
Die Flachdruckplattenträger, die in den Beispielen 1 bis 7 hergestellt wurden, wurden jeweils mit einer Grundierungsschicht (Trockengewicht: 0,11 g/m²) und einer negativen mit einem IR-Laser belichtbaren lichtempfindlichen Schicht (Trockengewicht: 1,5 g/m²), wie in dem Beispiel 2 des Dokumentes JP-A 62333/2000, beschichtet und getrocknet, um Flachdruckplatten-Vorläufer herzustellen. Wie in dem Beispiel 2 des Dokumentes JP-A 62333/2000 beschrieben, wurden diese belichtet und entwickelt, um Flachdruckplatten zu werden. Die auf diese Weise hergestellten Druckplatten wurden auf Druckfähigkeit geprüft. Es wurde festgestellt, dass sie alle guter Qualität sind und weder ein Beflecken des Bezuges noch schwerwiegende Tintenflecke auf den Drucksachen verursacht haben.
Beispiel 12:
Die Flachdruckplattenträger, die in den Beispielen 1 bis 7 hergestellt wurden, wurden jeweils mit einer Grundierungsschicht (Trockengewicht: 0,02 g/m², einer photopolymerhaltigen mit Laser belichtbaren lichtempfindlichen Schicht (Trockengewicht: 1,5 g/m²) und einer Schutzschicht (Trockengewicht: 2 g/m²), wie in dem Beispiel 3 des Dokumentes JP-A 62333/2000, beschichtet und getrocknet, um Flachdruckplatten-Vorläufer herzustellen. Wie in dem Beispiel 3 des Dokumentes JP-A 62333/2000 beschrieben, wurden diese belichtet und entwickelt, um zu Flachdruckplatten zu werden. Die auf diese Weise hergestellten Druckplatten wurden auf Druckfähigkeit geprüft. Es wurde festgestellt, dass sie alle guter Qualität sind und weder ein Beflecken des Bezuges noch schwerwiegende Tintenflecke auf den Drucksachen verursacht haben.
Beispiel 13:
Vor dem Beschichten mit einer lichtempfindlichen Schicht wurden die in den Beispielen 1 bis 3 hergestellten Flachdruckplattenträger hinsichtlich ihrer physikalischen Eigenschaften analysiert. Die mittlere Oberflächenrauhigkeit Ra betrug 0,5 μm, 0,55 μm und 0,35 μm; der Wert L* betrug 80, 85 und 75; und das Delta Eab* betrug jeweils 0,5, 0,8 und 0,5. Die Oberflächenprofile der Träger waren alle gut und vorteilhaft für Druckplatten. Mit einem derartig guten und gleichmäßigen Erscheinungsbild bestanden alle Platten den Plattenprüftest.
Hinsichtlich der mittleren Oberflächenrauhigkeit (Ra) wurden die Träger mit dem Surfcom 575A (Sondendurchmesser: 2 μmR) von Tokyo Precision Instruments gemäß JIS B 0601-1982 analysiert; und hinsichtlich der Werte L* und Delta Eab* wurden sie mit dem SM-3-SCH von Suga Test Instruments gemäß JIS Z 8729-1980 beziehungsweise JIS 8730-1980 analysiert.
Beispiel 14:
Ein Träger für Flachdruckplatten wurde auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch die bearbeitete Aluminiumlegierungsplatte mit Trockeneispuiver und nicht mit Wasser gewaschen wurde.
Die Bedingungen für den Waschvorgang mit Trockeneispulver waren konkret wie folgt: Das verwendete Trockeneispulver hatte eine volumengemittelte Korngröße von 100 μm. Die CO₂-Zufuhr (in Bezug auf das Feststoffgewicht) je Sprühdüse betrug 0,24 kg/min und der Zuführdruck betrug 6 MPa.
Der auf diese Weise hergestellte Träger wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop (× 750) abgerastert. Es wurde festgestellt, dass die Oberfläche des Trägers gleichmäßig aufgeraut und vorteilhaft für Flachdruckplatten ist. Ein weiterer Vorteil dieses Vorgangs besteht darin, dass der Abfall im Vergleich zu dem Waschvorgang mit Wasser signifikant verringert wurde und die Kosten für die Abfallbehandlung reduziert wurden.
Beispiel 15:
Ein Träger für Flachdruckplatten wurde auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 2 hergestellt, wobei jedoch die bearbeitete Aluminiumplatte mit Trockeneispulver und nicht mit Wasser gewaschen wurde.
Die Bedingungen für dem Waschvorgang waren konkret wie folgt: Das verwendete Trockeneispulver hatte eine volumengemittelte Korngröße von 50 μm. Die CO₂-Zufuhr (in Bezug auf das Feststoffgewicht) je Sprühdüse betrug 0,12 kg/min, und der Zuführdruck betrug 3 MPa.
Der auf diese Weise hergestellte Träger wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop (× 750) abgerastert. Es wurde festgestellt, dass die Oberfläche des Trägers gleichmäßig aufgeraut und vorteilhaft für Flachdruckplatten ist. Ein weiterer Vorteil dieses Vorgangs besteht darin, dass der Abfall im Vergleich zu dem Waschvorgang mit Wasser signifikant verringert wurde und die Kosten für die Abfallbehandlung reduziert wurden.
Beispiel 16:
Ein Träger für Flachdruckplatten wurde auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 2 hergestellt, wobei jedoch die bearbeitete Aluminiumplatte mit Trockeneispulver und nicht mit Wasser gewaschen wurde.
Die Bedingungen für den Waschvorgang waren konkret wie folgt: Das verwendete Trockeneispulver hatte eine volumengemittelte Korngröße von 80 μm. Die CO₂-Zufuhr (in Bezug auf das Feststoffgewicht) je Sprühdüse betrug 0,18 g/min und der Zuführdruck betrug 7 MPa.
Der auf diese Weise hergestellte Träger wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop (× 750) abgerastert. Es wurde festgestellt, dass die Oberfläche des Trägers gleichmäßig aufgeraut und vorteilhaft für Flachdruckplatten ist. Ein weiterer Vorteil dieses Vorgangs besteht darin, dass der Abfall im Vergleich zu dem Waschvorgang mit Wasser signifikant verringert wurde und die Kosten für die Abfallbehandlung reduziert wurden.
Vergleichsbeispiel 1:
Ein Träger für Flachdruckplatten wurde auf dieselbe Weise wie in dem Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch ein Wechselstrom mit trapezförmiger Wellenform an die Aluminiumlegierungsplatte in dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens angelegt wurde. In diesem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens betrug das Verhältnis der an die als eine Anode fungierende Aluminiumlegierungsplatte angelegten Gesamtelektrizitätsmenge QA zu der an die Kathode angelegten Elektrizitätsmenge QC, QC/QA, 0,85; die Wechselstromlast betrug 0,25 und die Impulsanstiegszeit von Null auf den Maximalwert betrug 0,05 ms.
Der auf diese Weise hergestellte Träger wurde mit einem Rasterelektronenmikroskop (× 750) abgerastert. Es wurde festgestellt, dass der Träger tiefe und große Vertiefungen ungleichmäßig verteilt in seiner bearbeiteten Oberfläche aufwies, was nicht vorteilhaft für Flachdruckplatten ist.
Wie dies ausführlich vorangehend beschrieben wurde, ermöglicht es diese Ausführungsform, sämtliche rauen Aluminiumlegierungsplatten für Flachdruckplattenträger zu verwenden, selbst wenn die Legierungsbestandteile nicht speziell reguliert werden, und sie stellt ein Verfahren des stetigen und kostengünstigen Herstellens von Flachdruckplatten-Vorläufern aus rauen Aluminiumlegierungsplatten; die Flachdruckplatten-Vorläufer, die bei dem Verfahren hergestellt werden; sowie Flachdruckplatten-Vorläufer, die den Trä ger umfassen, bereit. Die Druckplatten aus den Vorläufern sind guter Qualität und verursachen keine schwerwiegenden Tintenflecke auf den Drucksachen.
Vierte Ausführungsform:
Die vierte Ausführungsform stellt ein Verfahren zum Prüfen von Aluminiumplatten für Flachdruckplattenträger bereit. Ein Beispiel des Verfahrens wird in den 6A bis 6C dargestellt.
Wie in 6A dargestellt ist, ist die Aluminiumrolle 2 an einem Ende abgewickelt und wird entlang der Strichpunktlinie geschnitten, die in der Querrichtung der abgewickelten Platte eingezeichnet ist, das heißt, senkrecht zu der Wickelrichtung der Rolle 2, um eine Probe S für die Prüfung zu erhalten. Die Länge der Probe S in der Wickelrichtung der Rolle 2, das heißt, in der Maschinenrichtung x der Aluminiumplatte, beträgt 1,5 m. Die Länge der Probe S ist jedoch nicht auf 1,5 m, wie in dem dargestellten Beispiel, beschränkt, sie kann hingegen auf geeignete Weise in Übereinstimmung mit der Größe des bei dem Prüfverfahren verwendeten Richttisches 4 bestimmt werden. Die Breite der Aluminiumplatte beträgt 1 m und demzufolge beträgt die Breite der Probe S ebenfalls 1 m. Die Breite der zu prüfenden Aluminiumplatte ist jedoch nicht auf 1 m, wie in dem dargestellten Fall, beschränkt. Im Allgemeinen kann die Breite der Aluminiumplatte zwischen 0,65 m und 1,6 m fallen.
Die Probe S ist im Allgemeinen nach innen in der Richtung senkrecht zu der Maschinenrichtung der Rolle 2 gewölbt. Aus diesem Grund wird, wie dies in 6B dargestellt ist, die Probe S so auf die Prüffläche 4A des Richttisches 4 gelegt, dass deren nach außen gewölbte Fläche nach oben zeigt. Der Richttisch 4 ist ein Beispiel eines Probenstandes in dieser Ausführungsform, dessen Prüffläche 4A der Proben-Auflagefläche des Probenstandes entspricht.
Anschließend werden, wie dies in 6C dargestellt ist, lange rechteckige Gewichte 6 auf die Probe S parallel zu der Maschinenrichtung x gelegt, um die Gesamtlänge der Probe S in dieser Richtung x zu bedecken.
In dieser Ausführungsform werden zwei derartige Gewichte 6 auf eine solche Weise auf die Probe S gelegt, dass sie parallel zueinander sind und die äußere Seitenkante jedes Gewichtes 25 cm innerhalb der angrenzenden Seitenkante der Probe S liegt, wobei die Position der äußeren Seitenkante jedes Gewichtes 6 jedoch nicht auf die illustrierte Konfiguration beschränkt ist. Die Gewichte 6 werden jedoch vorzugsweise so positioniert, dass die äußere Seitenkante jedes Gewichtes zwischen 0,1 w bis 0,3 w innerhalb der angrenzenden Seitenkante der Probe S liegt, wobei w die Breite der Probe S angibt.
In dem illustrierten Beispiel dieser Ausführungsform wiegt jedes Gewicht 6 200 g. Insofern jedoch das Mittelteil der Probe S durch die Gewichte 6 dicht auf der Prüffläche 4A des Richttisches 4 gehalten werden kann, ist die Last jedes Gewichtes 6 nicht speziell definiert.
Anstatt zwei, relativ schmale Gewichte 6 auf die Probe S zu legen, kann lediglich ein relativ breites Gewicht 8 auf den Mittelteil der Probe S gelegt werden, der die Gesamtlänge der Probe S in der Maschinenrichtung x davon, wie in 7 dargestellt, bedeckt. In dem Fall, in dem die Breite des Gewichtes 8 vorzugsweise zwischen 0,4 w und 0,8 w fällt, ist die Länge des Gewichtes 8 vorzugsweise länger als die Maschinenrichtungslänge der Probe S. Des Weiteren befinden sich die Seitenkanten des Gewichtes 8 vorzugsweise 0,1 w bis 0,3 w innerhalb der Seitenkante der Probe S.
8 ist eine Seitenansicht der Probe S, wobei die Gewichte 6 oder das Gewicht 8 darauf gelegt sind. Wenn die Kante der Probe 6 verformt ist und eine gewellte Verformung, Kantenverformung s, aufweist, wie in 8, erhebt sich die Kantenverformung s von der Prüffläche 4A wie eine Welle oder eine Sinuskurve. Die Höhe der Kantenverformung s wird durch den Abstand d zwischen der Prüffläche 4A und der Spitze des sich erhebenden Teils angegeben, das heißt, der Spitze der Kantenverformung s. Um den Abstand d zu erhalten, wird beispielsweise eine Kegellehre in den Abstand zwischen der Kantenverformung s und der Prüffläche 4A eingeführt und an der Position, an der die Kegellehre die Hinterseite der Kantenverformung s der Probe S kontaktiert, wird die Skala der Kegellehre abgelesen. Dadurch wird der Abstand d angegeben. Die auf diese Weise von der Papierlehre abgelesene Skala von nicht mehr als 0,2 mm, das heißt, die Verformung der Probe S, die nicht mehr als 0,2 mm in Bezug auf die Höhe von der Prüffläche 4A beträgt, führt nicht zu einer beinahen Störung der Plattenzuführung oder zu einem Druckversagen, und die Plattenverformung in einem solchen Ausmaß kann in Anbetracht der Kantenverformung s vernachlässigt werden.
In dem Fall, in dem eine Aluminiumplatte oder -bahn, wie beispielsweise die vorangehend erwähnte, auf ihrer Oberfläche aufgeraut und durch die anodische Oxidation darauf bearbeitet wurde, um einen Träger für Flachdruckplatten herzustellen, ist es erstrebenswert, dass ihre Probe S die folgenden Bedingungen hinsichtlich der Anzahl der Kantenverformungen in der Richtung senkrecht zu der Richtung, in der die Probe S aus der bearbeiteten Bahn herausgeschnitten wurde, der Gesamthöhe sämtlicher Kantenverformungen und der maximalen Höhe der Kantenverformungen erfüllt. Dies bedeutet insbesondere, dass auf einer Seitenkante der Probe in der Maschinenrichtung die Anzahl der Kantenverformungen/1,5 m vorzugsweise höchstens 5 beträgt; die Gesamthöhe sämtlicher Kantenverformungen vorzugsweise höchstens 4 mm beträgt; und die maximale Höhe der Kantenverformungen vorzugsweise höchstens 2 mm beträgt. Hinsichtlich der Länge der Einheit, 1 m der Probe S, beträgt die bevorzugte Anzahl der Kantenvertormungen s 3,334, und die bevorzugte Gesamthöhe sämtlicher Kantenverformungen beträgt 2,666 mm. Die Gesamthöhe sämtlicher Kantenverformungen s wird durch Messen der Höhe jeder Kantenverformung in der vorangehend beschriebenen Art und Weise erhalten, wonach die Daten der auf diese Weise gemessenen Höhe sämtlicher Kantenverformungen in der vorgegebenen Länge der Probe S in der Maschinenrichtung davon summiert werden.
Wenn die vorangehend genannten Bedingungen hinsichtlich der Anzahl der Kantenverformungen s an einer Seitenkante der Probe, die in ihrer Maschinenrichtung x geschnitten wurde, um eine Länge von 1,5 mm zu erhalten, der Gesamthöhe sämtlicher Kantenverformungen und der maximalen Höhe der Kantenvertormungen erfüllt werden, dann ist die Aluminiumplatte oder -bahn besonders vorteilhaft für Flachdruckplattenträger, da sie nicht schlingert und keine anderen Zuführstörungen einschließt, wenn sie zu Flachdruckplattenträgern und zu Flachdruckplatten-Vorläufern verarbeitet wird.
Das Querschnittsprofil der Aluminiumlegierungsplatte oder -bahn wird vorzugsweise derart gesteuert, dass ihr Mittelteil dick und der Bereich um ihre Kanten dünn ist, wie dies in 9 dargestellt ist. Dies rührt daher, dass dadurch verhindert wird, dass sich die Aluminiumplate oder -bahn an den straff aufgewickelten Kanten verformt, wenn sie zu Rollen aufgewickelt wird.
In diesem Zusammenhang betragen der Wert a und der Wert pc, die durch die folgenden Gleichungen definiert werden, vorzugsweise höchstens 1 % beziehungsweise höchstens 2 %. Wenn die definierten Grenzen nicht überschritten werden, ist die Dicke des Mittelteils der Aluminiumplatte oder -bahn ist nicht zu groß, und die Dicke des Bereiches um die Kanten davon ist nicht zu gering im Vergleich zu der mittleren Dicke der Gesamtbreite der Aluminiumplatte oder -bahn. Der Wert a und der Wert pc werden wie folgt definiert: a = h/c, pc = c/tmax,wobei h = t_min – t_Kante; C = t_max – t_min; t_max = die maximale Dicke des Mittelteils der Aluminiumplatte oder -bahn; und t_min= die minimale Dicke des Mittelteils der Aluminiumplatte oder -bahn ist.
Fünfte Ausführungsform:
Die fünfte Ausführungsform dient zum Bereistellen eines weiteren Verfahrens zum Prüfen von Aluminiumplatten für Flachdruckplattenträger. Ein Beispiel des Verfahrens wird in den 10A bis 10C dargestellt, wobei dieselben Referenznummern wie in den 6 bis 8 dieselben Bedeutungen wie in den 6 bis 8 haben.
Auch bei dem Prüfverfahren der fünften Ausführungsform ist die Aluminiumrolle 2 an einem Ende abgewickelt und wird entlang der Strichpunktlinie geschnitten, die in der Querrichtung der abgewickelten Platte eingezeichnet ist, das heißt, in der Richtung senkrecht zu der Wickelrichtung der Rolle 2, um eine Probe S für die Prüfung zu erhalten, wie dies in 10 dargestellt ist. Die Länge der Probe S in der Maschinenrichtung x der Aluminiumplatte beträgt 1,5 m. Dieser Schritt ist derselbe wie bei dem Prüfverfahren der vorangehend aufgeführten vierten Ausführungsform.
Anschließend wird ein Ende der Probe S auf der Oberfläche des Bezuges 10 eines Offset-Druckers unter Verwendung einer Befestigungsvorrichtung 10A befestigt, wobei ihre gewölbte Fläche innenliegend ist, wie dies in 10B dargestellt ist.
Auf diese Weise wird die Probe S unter Spannung um den Bezug 10 gewickelt, so dass ihre gewölbte Fläche straft an die Oberfläche des Bezuges 10 angelegt wird, und das andere freie Ende der Probe S wird an der Oberfläche des Bezuges 10 unter Verwendung einer Befestigungsvorrichtung 10B, die der Befestigungsvorrichtung 10A ähnlich ist, wie dies in der 10C dargestellt ist, befestigt.
Bei dem Prüfverfahren der fünften Ausführungsform kann die Probe S straft an die Oberfläche des Bezuges 10 angelegt werden, indem sie mit einem Presszylinder 12 in der Maschinenrichtung x der Probe S an ihrem Mittelteil bedeckt wird und der Presszylinder 12, wie dies in 11 dargestellt ist, angedrückt wird, anstatt die Probe S unter Spannung um den Bezug 10, wie dies in 10 dargestellt, zu wickeln. Die Struktur des Presszylinders ist beispielsweise wie folgt: Der Außendurchmesser des Presszylinders 12 ist in einem gewissen Maß kleiner als der des Bezuges 10, der Presszylinder 12 ist entlang seiner Länge geschnitten und die Schnittkanten weisen ein Paar Flansche 12A auf, durch die der Presszylinder 12 an der Probe S befestigt wird. Nachdem die Probe S mit dem Presszylinder 12 bedeckt ist, wird der Presszylinder 12 durch Festziehen der Schrauben 12B, die sich in den Flanschen 12A befinden, angedrückt, wodurch der Mittelteil der Probe S straft an den Bezug 10 unter der inneren Umfangsfläche des Presszylinders 12, wie dies in 11 dargestellt ist, angelegt wird.
Die Länge des Presszylinders 12 fällt vorzugsweise zwischen 0,4 w und 0,8 w, wobei w die Breite der Probe S angibt. Der Presszylinder 12 kann aus einer dünnen und robusten Metallplatte, wie beispielsweise aus einer dünnen Edelstahlplatte oder einen nicht-nachgiebigen Kunstharzplatte, hergestellt werden. Der Presszylinder 12 ist vorzugsweise so um die Probe S herum befestigt, dass er die Kanten der Probe S, wie in 11 dargestellt, nicht erreicht.
12 zeigt die Probe S, die straft um den Bezug 10 herum anliegend ist. Wie in 12 dargestellt ist, liegt der Mittelteil der Probe S luftdicht an der Oberfläche des Bezuges 10 an. Wenn jedoch die Kanten der Probe S verformt sind und so wellenartige Kanten verformungen s aufweisen, erheben sich die Kantenverformungen s von der Oberfläche des Bezuges 10 wie eine Welle oder eine Sinuskurve. Die Höhe der Kantenverformung s wird durch den Abstand d zwischen der Oberfläche des Bezuges 10 und der Spitze des sich erhebenden Teils angegeben, das heißt, der Spitze der Kantenverformung s. Um den Abstand d zu erhalten, wird beispielsweise eine Kegellehre in den Abstand zwischen der Kantenverformung s und dem Bezug 10 eingeführt und an der Position, an der die Kegellehre die Hinterseite der Kantenverformung s der Probe S kontaktiert, wird die Skala der Kegellehre abgelesen. Dadurch wird der Abstand d angegeben. Die auf diese Weise von der Papierlehre abgelesene Skala von nicht mehr als 0,2 mm, das heißt, die Verformung der Probe S, die nicht mehr als 0,2 mm in Bezug auf die Höhe von des Bezuges 10 beträgt, kann unter Berücksichtigung der Kantenverformung s aus denselben wie vorangehend in dem vierten Ausführungsbeispiel aufgeführten Gründen vernachlässigt werden. Die bevorzugten Bereiche der Anzahl von Kantenverformungen s in einer vorgegebenen Länge in der Maschinenrichtung x einer Kante der Probe S, beispielsweise in 1,5 m davon, der Gesamthöhe sämtlicher Kantenverformungen darin und der maximalen Höhe der Kantenverformungen darin sind dieselben wie in der vierten Ausführungsform.
Beispiele:
Diese Ausführungsform wird ausführlich in Bezug auf die folgenden Beispiele beschrieben, die jedoch nicht zum Zwecke der Einschränkung des Umfangs der Erfindung dienen sollen.
Beispiele 1 und 2, Vergleichsbeispiele 1 bis 3:
Zwei Materialien mit unterschiedlichen Zusammensetzungen wie in der folgenden Tabelle 7 wurden in Aluminiumbahnproben der Beispiele und Vergleichsbeispiele eingearbeitet.
Tabelle 7 (Einheit: Gew.-%)
Genauer gesagt, wurden die Materialien separat zu Brammen stranggegossen, die abgekantet und anschließend bei 550°C für 5 Stunden durchtränkt wurden. Nachdem ihre Temperatur auf 400°C verringert wurde, wurden die Brammen warmgewalzt, anschließend kaltgewalzt, um eine geringere Dicke von 2 mm zu erhalten und im Anschluss daran kontinuierlich bei 500°C ausgeglüht. Danach wurden sie weiter kaltgewalzt, um eine endgültige Dicke von 0,24 mm zu erhalten, im Anschluss daran wurden sie mit einem Streckrichter gerichtet und mit einer Längsschneidevorrichtung in lange Aluminiumbahnen mit einer Breite von 1030 mm geschnitten. Bei dem Schneiden wurde jede Bahn zu Rollen aufgewickelt. Die Kaltwalzbedingung wurde durch Ändern der Walzbiegebedingung und der Streckrichtbedingung variiert und verschiedene Rollen des Beispiels 1, des Beispiels 2 und der Vergleichsbeispiele 1 bis 3 wurden auf diese Weise hergestellt.
Jede Rolle wurde an ihrem Ende abgewickelt und eine flache Probe mit einer Länge von 1500 mm wurde daraus ausgeschnitten. Diese wurde in Übereinstimmung mit dem vorangehend in dem Abschnitt der vierten Ausführungsform beschriebenen Prozess hinsichtlich der Anzahl von Kantenverformungen s, der Gesamthöhe aller Kantenverformungen und der maximalen Höhe der Kantenverformungen getestet. Darüber hinaus wurde eine Probe-Platte mit einer Länge von 4 m aus jeder Rolle ausgeschnitten, auf einen Stand mit einer flachen Fläche gelegt und auf Wölbungen geprüft. Die Daten sind in der Tabelle 8 aufgeführt.
Tabelle 8
<Herstellung von Flachdruckplatten-Vorläufern>
Anschließend wurde jede Aluminiumrolle im abgewickelten Zustand dem Oberflächen-Aufrauen, der anodischen Oxidation und der Nachbehandlung in Übereinstimmung mit dem in der folgenden Tabelle 9 dargestellten Prozess unterzogen, um einen Träger für Flachdruckplatten zu erhalten.
Tabelle 9
In den Ätzschritten (1) und (2) war das verwendete Ätzmittel eine Alkalilösung aus Na-OH mit einer NaOH-Konzentration von 26 Gew.-% und einer Aluminiumionenkonzentration von 6,5 Gew.-%. Ihre Temperatur betrug 65°C.
In dem Schritt des elektrolytischen Wechselstrom-Oberflächen-Aufrauens wurde eine säurehaltige Elektrolytlösung aus Salpetersäure mit einer Salpetersäurekonzentration von 1 Gew.-% und einer Aluminiumionenkonzentration von 0,5 Gew.-% verwendet.
In dem Schritt der anodischen Oxidation war die verwendete Elektrolytlösung eine Schwefelsäurelösung von 15 Gew.-%. Ein Gleichstrom wurde an die Aluminiumplatte angelegt, um durch die anodische Oxidation einen Oxidfilm darauf auszubilden. Anschließend wurde die Aluminiumlegierungsplatte mit einer wässrigen 3 Gew.-%- Natriumsilikatlösung mit 20°C für 10 Sekunden bearbeitet, um dadurch ihre Oberfläche hydrophil zu machen, wie in dem Dokument EP-A 904.954, Abschnitt [0153].
In dem anschließenden Grundierungsschichtschritt wurde eine Lösung in Methanol und Wasser eines Polymers mit Sytroleinheiten mit dem Benzolring der Einheit, die mit jeglicher Karboxylgruppe, quaternärer Ammoniumgruppe, Phosphoniumgruppe und Phosphonsäuregruppe substituiert war, auf die Oberfläche der Aluminiumplatte, die hydrophil gemacht wurde, mit 80°C für 15 Sekunden aufgebracht, um dadurch eine Grundierungsschicht darauf, wie in demselben Abschnitt des vorangehend genannten Dokumentes EP-A, auszubilden. Die Trockendicke der Grundierungsschicht betrug 15 mg/m².

Die aufgeraute Oberfläche des langen bahnartigen Trägers für Flachdruckplatten, der in Übereinstimmung mit dem vorangehend beschriebenen Prozess hergestellt wurde, wurde mit einer Beschichtungsflüssigkeit für eine im Folgenden erwähnte lichtempfindliche Schicht beschichtet, und der sich ergebende Flachdruckplatten-Vorläufer wurde zu Rollen aufgewickelt und 2 Wochen gelagert. <Zusammensetzung der Beschichtungsflüssigkeit für die lichtempfindliche Schich>

Rußdispergierung	10 g
4-Diazodiphenylaminformaldehydkondensathexalfluorphosphat	0,5 g
Methacrylsäure/2-Hydroxyethylacrylat/Benzyl	5,0 g
Methacrylat/acrylonitrilradikales Copolymer (Monomer-Mol-
Verhältnis, 15:30:40:15; Gewichtsmittel des Molekulargewichts,
100.000

Hydroxybernsteinsäure	0,05 g
Fluorhaltiges Tensid (3M's FC-430^TM)	0,05 g
1-Methoxy-2-propanol	80,0 g
Ethyllactat	15,0 g
Wasser	5,0 g

Die Aluminiumptatte des Vergleichsbeispiels 2 war sehr gewellt. Aus diesem Grund kam es dazu, dass sie, während sie zu einem Träger bearbeitet wurde und während der Träger zu einem Flachdruckplatten-Vorläufer bearbeitet wurde, schlingerte und nicht stabil in der Bearbeitungsanlage transportiert werden konnte.
Nachdem jede Vorläuferrolle 2 Wochen gelagert wurde, wurde sie in abgewickeltem Zustand durch eine Längsschneidevorrichtung geschnitten, um die Kanten abzuschneiden, und die sich ergebende Vorläuferplatte mit einer Breite von 1.000 mm wurde mit einer Schneidevorrichtung in Stücke mit einer Länge von 800 mm geschnitten. Dies sind Flachdruckplatten-Vorläuferbleche.
Jede Vorläuferbahn wurde getestet, um die Anzahl der MD-Kantenverformungen einer Kante davon (pro 1000 mm), die maximale Höhe der Kantenverformungen und die Gesamthöhe sämtlicher der Kantenverformungen zu messen. Der Test des Messens der Anzahl der Kantenverformungen, der maximalen Höhe davon und der Gesamthöhe davon wurde entsprechend dem vorangehend in der vierten Ausführungsform beschriebenen Prozess durchgeführt, wobei jedoch ein Glasrichttisch mit einer Prüffläche aus Glas anstatt eines Richttisches 4, der in den 6 bis 8 dargestellt ist, verwendet wurde. Darüber hinaus wurde die Höhe der Schnittgrate, die an den Schnittkanten jeder Vorläuferbahn gebildet waren, mit einem Oberflächenrauhigkeitsmessgerät (Surfcom^TM von Tokyo Precision Instruments) gemessen. Die Daten sind in der nachstehenden Tabelle 10 aufgeführt.
Des Weiteren durchlief jede Vorläuferbahn eine im Folgenden beschriebene Plattentransportprüfvorrichtung, um zu prüfen, ob sie problemlos die Prüfvorrichtung durchlaufen kann oder nicht. Dieser Test dient zum Prüfen der Vorläuferbahnen dahingehend, ob sie eine Plattenherstellungsvorrichtung, die eine Belichtungseinheit umfasst, und eine Entwicklungsvorrichtung problemlos durchlaufen kann oder nicht, ohne sich darin zu verfangen oder darin zu schlingern. Der Aufbau der Plattentransportprüfvorrichtung ist in 13 dargestellt.
Wie in 13 dargestellt ist, umfasst die Plattentransportprüfvorrichtung die Transportbänder A, B und C zum Transportieren der zu prüfenden Vorläuferbahn sowie ein Gehäuse D. Hierbei ist das Gehäuse D so konstruiert, dass das mittlere Transportband B durch den unteren Halbteil davon verläuft und die durch das Transportband B transportierte Vorläuferbahn in das Gehäuse D über seinen Eingang D2 und aus dem Gehäuse über seinen Ausgang D4 bewegt wird.
Genauer gesagt, sind sowohl der Eingang D2 als auch der Ausgang D4 flache rechteckige Öffnungen; der Eingang D2 ist so dimensioniert, dass der Abstand zwischen der Oberseite des Transportbandes B und der Decke des Eingangs D2 beispielsweise 1 mm beträgt, und der Ausgang D4 ist so dimensioniert, dass der Abstand zwischen der Oberseite des Transportbandes B und der Decke des Ausgangs D4 beispielsweise 2 mm beträgt.
Unter Verwendung der in 13 dargestellten Plattentransportprüfvorrichtung wurde jede Vorläuferbahn entsprechend dem im Folgenden beschriebenen Prozess auf ihre Transportfähigkeit hin geprüft.
Zunächst werden die Transportbänder A, B und C angetrieben und sobald ihre Antriebsgeschwindigkeit konstant ist, wird eine zu prüfende Vorläuferbahn auf das Transportband A gelegt.
Die Vorläuferbahn auf dem Transportband A wird zu dem Transportband B transportiert, auf dem sie in das Gehäuse D hinein, durch das Gehäuse D hindurch und aus dem Gehäuse D heraus transportiert wird.
In dieser Phase bleibt, wenn die Vorläuferbahn keine großen Kantenverformungen aufweist, sie nicht an der Decke des Eingangs D2 und nicht an der Decke des Ausgangs D4 hängen und stößt nicht gegen die Seitenwände des Eingangs D2 und des Ausgangs D4, und aus diesem Grund kann sie problemlos ohne Schlingern durch das Gehäuse D transportiert werden.
Wenn jedoch die Vorläuferbahn einige große Kantenverformungen aufweist, bleiben die Kantenverformungen an der Decke des Eingangs D2 und an der Decke des Ausgangs D4 hängen und stoßen gegen die Seitenwände des Eingangs D2 und/oder des Ausgangs D4, und aus diesem Grund schlingert die Vorläuferbahn durch das Gehäuse D. Ausgehend davon wird angenommen, dass die Vorläuferbahn schlingert und sich ver fängt, wenn sie eine Plattenherstellungsvorrichtung und eine Entwicklungsvorrichtung durchläuft.
Die Vorläuferbahnen der Beispiele und Vergleichsbeispiele wurden hinsichtlich ihrer Transportfähigkeit anhand von fünf Stufen A bis E entsprechend der im Folgenden aufgeführten Kriterien geprüft und bewertet. Die Prüfergebnisse sind in Tabelle 10 aufgeführt.

A: In der Prüfvorrichtung von 8 geprüft, wobei die Bahnen darin weder schlingerten noch sich darin verfangen haben.
B: In der Prüfvorrichtung geprüft, wobei die Bahnen darin in einem gewissen Maße schlingerten, sich jedoch nicht darin verfangen haben. Sie werden akzeptiert.
C: In der Prüfvorrichtung geprüft, wobei die Bahnen darin offensichtlich schlingerten, sich jedoch nicht darin verfangen haben. Sie werden akzeptiert.
D: In der Prüfvorrichtung geprüft, wobei die Bahnen darin sehr schlingerten, sich jedoch nicht darin verfangen haben. Sie werden nicht akzeptiert.
E: In der Prüfvorrichtung geprüft, wobei die Bahnen darin sehr schlingerten und sich darin verfangen haben. Sie werden nicht akzeptiert.

Darüber hinaus wurde jede Vorläuferbahn an dem Bezug eines Offset-Druckers befestigt und geprüft, wie und zu welchem Maß sie sich von dem Bezug erhoben hat. Die Vorläuferbahnen wurden nach dieser Prüfung mit fünf Stufen, A bis E, geprüft. Das Prüfergebnis ist in Tabelle 10 aufgeführt.
Tabelle 10
Bei dem Prüfverfahren der vierten Ausführungsform sind die bevorzugten Daten für die Kantenverformungen der gewickelten Aluminiumbahnen die Folgenden: Die Anzahl der Kantenverformungen/1,5 m beträgt höchstens 5, die maximale Höhe der Kantenvertormungen beträgt höchstens 2 mm, und die Gesamthöhe sämtlicher der Kantenverformungen beträgt höchstens 4 mm. In den Beispielen 1 und 2 wurden die Aluminiumbahnen, die bei der Prüfung entsprechend dem Prüfverfahren in die zulässigen Bereiche hinsichtlich der Anzahl der Kantenverformungen, der maximalen Höhe und der Gesamthöhe davon fielen, zu Flachdruckplatten-Vorläufern verarbeitet. Die Vorläufer der Beispiele 1 und 2 wiesen wenige kleine Schnittgrate auf, und sowohl deren Transportstabilität als auch deren Anliegen an dem Bezug waren gut. In den Vergleichsbeispielen 1 bis 3 jedoch wurden die Aluminiumbahnen, die bei der Prüfung entsprechend dem Prüfverfahren nicht in die zulässigen Bereiche in Bezug auf einen der Punkte der Anzahl der Kantenverformungen, der maximalen Höhe und der Gesamthöhe davon fielen, zu Flachdruckplatten-Vorläufern verarbeitet. Die Vorläufer der Vergleichsbeispiele 1 bis 3 sind alle nicht gut, da sowohl deren Transportstabilität als auch deren Anliegen an dem Bezug schlecht sind. Insbesondere der Vorläufer des Vergleichsbeispiels 2 weist viele große Schnittgrate auf, obwohl seine Kantenvertormungen nicht so groß sind, und seine Transportstabilität schlecht ist. Dies rührt daher, dass seine Schnittgrate an den Transportbändern hängen bleiben und die Vorläuferbahn schlingert, wenn sie zu dem nächsten Transportband bewegt wird.
Ausgehend von dem vorangehend Beschriebenen ist offensichtlich, dass die Aluminiumplatte für Flachdruckplattenträger der vierten und der fünften Ausführungsform bei der Bearbeitung durch das Oberflächen-Aufrauen und die anodische Oxidation ein wenig schlingert, dass die Flachdruckplatten-Vorläufer, die den Aluminiumplattenträger umfassen, die Plattenherstellungsvorrichtung problemlos durchlaufen können, wenn sie darin bearbeitet werden, und dass die Flachdruckplatten aus den Vorläufern gut an den Bezügen in den Druckern anliegen.
In der vierten und der fünften Ausführungsform können speziell kostengünstige Materialien, wie beispielsweise Altaluminium, zum Herstellen von Aluminiumplatten für Flachdruckplattenträger verwendet werden, und die Aluminiumplatten werden gut zu Trägern und Vorläufern der Flachdruckplattenträger verarbeitet, ohne dass Zuführstörungen oder ein Schlingern in der Produktionsanlage auftreten, in der sie durch das Oberflächen- Aufrauen, anodische Oxidation und die Plattenherstellung bearbeitet werden. Die Transportstabilität der Flachdruckplatten-Vorläufer, die in diesen Ausführungsformen in der Anlage hergestellt werden, in der diese zu Flachdruckplatten verarbeitet werden, ist äußerst gut.

Claims

Verfahren zum Erzeugen eines Trägers für Flachdruckplatten, das den Schritt des Aufrauens wenigstens einer Oberfläche einer Aluminiumplatte umfasst, wobei der Schritt des Aufrauens der Oberfläche einschließt: a) einen elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt des elektrolytischen Vor-Aufrauens der Oberfläche der Aluminiumplatte in einer wässrigen Salzsäurelösung, die Salzsäure als den wesentlichen Säurebestandteil enthält, b) einen Schritt des alkalischen Ätzens, bei dem die Aluminiumplatte, deren Oberfläche in dem vorangehenden elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauschritt elektrolytisch voraufgeraut worden ist, mit einer Alkalilösung in Kontakt gebracht wird, um die Aluminiumplatte zu ätzen, c) einen Nachbeizschritt des Nachbeizens der in dem vorangehenden Schritt des alkalischen Ätzens geätzten Aluminiumplatte mit Schwefelsäure, in dem die Aluminiumplatte mit einer wässrigen Schwefeisäurelösung, die eine Schwefelsäurekonzentration von 250 bis 500 g/Liter und eine Aluminiumionenkonzentration von 1 bis 15 g/Liter aufweist und eine Flüssigkeitstemperatur hat, die zwischen 60 und 90°C fällt, über einen Kontaktzeitraum in Kontakt gebracht wird, der zwischen 1 und 180 Sekunden fällt, und d) einen Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens, bei dem die in dem vorangehenden Nachbeizschritt nachgebeizte Aluminiumplatte in einer wässrigen Salpetersäurelösung bearbeitet wird, wobei ein Wechselstrom daran angelegt wird.
Verfahren zum Herstellen eines Trägers für Flachdruckplatten nach Anspruch 1, wobei der Oberflächen-Aufrauschritt einen Ätzschritt vor dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauens einschließt, bei dem die Aluminiumplatte mit einer Alkalilösung in Kontakt gebracht wird, um die Platte zu ätzen.
Verfahren zum Herstellen eines Trägers für Flachdruckplatten nach Anspruch 1, wobei der Oberflächen-Aufrauschritt einen mechanischen Oberflächen-Aufrau- Schritt des mechanischen Aufrauens wenigstens einer Oberfläche der Aluminiumplatte vor dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauens einschließt.
Verfahren zum Herstellen eines Trägers für Flachdruckplatten nach Anspruch 1, wobei der Oberflächen-Aufrauschritt einschließt: einen zweiten Ätzschritt des Ätzens der Aluminiumplatte, deren Oberfläche in dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt aufgeraut worden ist, mit einer Alkalilösung, und einen abschließenden Nachbeizschritt des Nachbeizens der in dem zweiten Ätzschritt geätzten Aluminiumplatte, in dem die Aluminiumplatte mit einer wässrigen Schwefelsäurelösung in Kontakt gebracht wird.
Verfahren zum Herstellen eines Trägers für Flachdruckplatten nach Anspruch 4, wobei die Aluminiumplatte, nachdem sie in dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Aufrauens bearbeitet worden ist, so geätzt wird, dass von 0,01 bis 5 g/m² ihrer Oberfläche gelöst wird.
Verfahren zum Herstellen eines Trägers für Flachdruckplatten nach Anspruch 2, wobei die Aluminiumplatte, ehe sie in dem Schritt des elektrolytischen Oberflächen-Voraufrauens bearbeitet wird, so geätzt wird, dass von 1 bis 15 g/m² ihrer Oberfläche gelöst wird.
Verfahren zum Herstellen eines Trägers für Flachdruckplatten nach Anspruch 1, wobei: eine elektrolytische Wechselstromzelle mit einer Gegenelektrode darin zum Anlegen eines Wechselstroms an die Aluminiumplatte bei dem elektrolytischen Oberflächen-Aufrauschritt verwendet wird, und der an die Aluminiumplatte anzulegende Wechselstrom so gesteuert wird, dass die Ruhezeit, während der kein Strom zwischen der Aluminiumplatte und der Gegenelektrode fließt, zwischen 0,001 und 0,6 Sekunden fällt, und dass die Impulsanstiegszeit Tp, während der die Strom-Wellenform ansteigt, zwischen 0,01 und 0,3 Millisekunden fällt.
Verfahren zum Herstellen eines Trägers für Flachdruckplatten nach Anspruch 1, das einen Schritt anodischer Oxidation zum Ausbilden eines Oxidfilms auf der Oberfläche der Aluminiumplatte einschließt, deren Oberfläche in dem Oberflächen-Aufrauschritt aufgeraut worden ist.
Verfahren zum Herstellen eines Trägers für Flachdruckplatten nach Anspruch 8, wobei der Schritt der anodischen Oxidation einen Schritt einschließt, in dem der auf der Oberfläche der Aluminiumplatte ausgebildete Oxidfilm hydrophil gemacht wird.
Verfahren zum Herstellen eines Trägers für plane Druckplatten nach Anspruch 8, wobei der Schritt der anodischen Oxidation einen Schritt des Versiegelns von Mikroporen einschließt, die in dem auf der Oberfläche der Aluminiumplatte ausgebildeten Oxidfilm vorhanden sind.
Verfahren zum Herstellen eines Trägers für Flachdruckplatten nach Anspruch 1, wobei die Aluminiumplatte einen Aluminiumgehalt, der zwischen 95 und 99,4 Gew.-% fällt, und einen Siliziumgehalt hat, der zwischen 0,15 und 1 Gew.-% fällt.
Verfahren zum Herstellen eines Trägers für Flachdruckplatten nach Anspruch 1, wobei die Aluminiumplatte einen Aluminiumgehalt, der zwischen 95 und 99,4 Gew.-% fällt, und einen Mangangehalt hat, der zwischen 0,1 und 1,5 Gew.-% fällt.
Träger für Flachdruckplatten, der nach Anspruch 1 hergestellt wird.
Flachdruckplatten-Vorläufer, der den Träger nach Anspruch 13 und eine lichtempfindliche oder wärmeempfindliche Plattenschicht umfasst, die auf der aufgerauten Oberfläche des Trägers ausgebildet ist.