DE60309596T2 - Verfahren zur Herstellung von Tiefdruckplatten - Google Patents

Description

• HINTERGRUND DER ERFINDUNG
• Gebiet der Erfindung
• Diese Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte, das zur Durchführung einer ausgezeichneten Photogravurplattierung unter Anwendung eines positiv arbeitenden thermischen Photolacks einschließlich einer notwendigen und ausreichenden Entwicklungsbreite durch eine Operation ohne Erhitzen nach Ausbildung eines Beschichtungsfilms imstande ist.
• Stand der Technik
• Die traditionelle positiv arbeitende lichtempfindliche Lithographieplatte nach dem Stand der Technik enthält Novolakharz und eine o-Chinondiazid-Zusammensetzung, eine Substanz mit Empfindlichkeit gegenüber weißem Licht diese Platte nimmt eine Ketenstruktur an und produziert dabei im Rahmen einer Arndt-Eistert-Verwandlung durch Pholyse (chemische Änderung) von o-Chinondiazid gemäß einer chemischen Formel (1) (vgl. unten) fünfteilige Carbonsäure-Keten-Ringe an einem oberen Teil der lichtempfindlichen Schicht an einem belichteten Abschnitt und wird mit Naphthochinondiazid an einem unteren Teil der lichtempfindlichen Schicht zur Reaktion gebracht, um Lacton auszubilden. Dieses wird zu Natriumcarbonsäure, während der Lactonring geöffnet wird, wenn eine Entwicklungsaktion mit der alkalischen wässrigen Lösung stattfindet. Das koexistierende Novolakharz zeigt ebenfalls eine Elution, weil es mit Alkali löslich ist, und der noch nicht belichtete Teil der lichtempfindlichen Schicht erzeugt zusammen mit dem koexistierenden Novolakharz eine Kopplungsreaktion, wird zu einem Alkalilösungsverzögerer und bleibt als Photolackbild zurück. Auf diese Weise kann – wenn eine o-Chinondiazid-Zusammensetzung enthalten ist – eine erhebliche Entwicklungsbreite erreicht werden.
• In diesem Fall kann die Entwicklungsbreite definiert werden als eine, in der eine Entwicklungsoperation ausgeführt werden kann, während eine Differenz besteht zwischen einer Zeit, bis der belichtete Abschnitt auf die Entwicklerflüssigkeit beaufschlagt wird und der belichtete Abschnitt vollständig entfernt ist, und einer Zeit, in der eine Restfilmrate am unbelichteten Abschnitt ausreichend gesichert ist, auch wenn sie auf die Entwicklerflüssigkeit beaufschlagt ist. (Chemische Formel 1)

  
• Um demgegenüber die Durchführung einer Photogravurplattenherstellung auch unter einer Lampe mit weißem Licht zu ermöglichen, wurde eine positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung erfunden, die eine andere Änderung benützt als eine chemische Änderung. Ein Verfahren zum Drucken eines Positivbilds mit einem Laser im Infrarotbereich wurde entwickelt, mit dem eine Löslichkeit des belichteten Abschnitts gegenüber der Entwicklerflüssigkeit erhöht wurde, um ein Positivbild auszubilden, und dies wurde über eine Offsetplattenherstellung oder eine Flexodruckplattenherstellung ausgeführt. Als technische Dokumente liegen die Japanischen Offengelegten Patenanmeldungen Nummer 1998(10)-268,512; 1999(11)-194,504; 1999(11)-223,936; 1999(11)-84,657; 1999(11)-174,681; 1999(11)-231,515; WO97/39,894; WO98/42,507; die Japanischen Offengelegten Patentanmeldungen Nummer 2002-189293 und 2002-189,295 und ähnliche vor.
• Die in den erwähnten Dokumenten beschriebene, positiv arbeitende lichtempfindliche Lithographieplatte besitzt als ihre wichtigste lichtempfindliche Komponente eine Substanz, welche Infrarotstrahlen absorbiert, wie infrarotabsorbierendes Pigment, um sie in Wärme und alkalilösliches Harz zu wandeln, wie etwa Novolak-Harz und dergleichen. Eine physikalische Änderung, wie etwa eine Konformationsänderung des Harzes und dergleichen wird durch Wärme erzeugt, die mit einer Infrarotlaserbelichtung erzeugt wird, und anschließend wird die Löslichkeit gegenüber der Entwicklerflüssigkeit erhöht.
• Die positiv arbeitende lichtempfindliche Lithographieplatte, die keine o-Chinondiazid-Zusammensetzung enthält und ein Positivbild mit einem Laserstrahl im Infrarot-Wellenlängenbereich druckt und eine physikalische Änderung wie eine Konformationsänderung des Harzes und dergleichen erzeugt, um seine Löslichkeit zu steigern, erfordert allerdings zur Zeit einen Brennprozess (einen Erhitzungsvorgang) nach dem Beschichten eines Films. Auch wenn der Brennprozess durchgeführt wird, ist eine Differenz in der Auflösungsgeschwindigkeit zwischen einem belichteten Element und einem unbelichteten Element gering und sind die Grundparameter einer Druckplatte, wie die Empfindlichkeit und die Entwicklungsbreite, von geringer Qualität, so dass es schwierig ist, eine Stabilität im Entwicklungsverfahren zu erreichen, wenn die Anzahl der Platten für das Entwicklungsverfahren zunimmt.
• In Anbetracht der oben beschriebenen Situation ist dieser Umstand im Prozess zur Herstellung einer Photogravurplatte deutlich unterschiedlich. In Japan, wo die Herstellungs- und Drucktechnologie mit Photogravurplatten in der Industrie die größte Verbreitung gefunden hat, ist ein Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte, das geeignet ist, die Herstellung der Photogravurplatte unter Anwendung eines einen Entwicklungsprozess ohne Erhitzen ermöglichenden, positiv arbeitenden Thermo-Photolacks nach Ausbildung eines Beschichtungsfilms nach dem Stand der Technik überhaupt nicht durchgeführt worden, und es liegen keine Patentdokumente und experimentellen Dokumente vor.
• Der Prozess zur Herstellung einer Photogravurplatte für eine plattierte Rolle durch ein Verfahren zur Herstellung einer Korrosiv-/Laserstrahlplatte besteht aus Laden → Entfetten → Waschen → Dekapieren → Waschen → Balladenverarbeitung → Waschen → Balladenkupferplattieren → Waschen → Schleifen mit einem Schleifstein → Waschen → Beschichten des lichtempfindlichen Mittels → Beschichten mit Antioxidans → Bilddruck mit Vorrichtung zur Infrarotlaserbelichtung → Entwickeln → Waschen → Ätzen → Waschen → Photolackabzug → Waschen → Schleifen → Waschen → Entladen.
• Als technische Dokumente, welche den Prozess zur Herstellung einer Photogravurplatte für eine gravurplattierte Rolle mittels eines Verfahrens zur Korrosiv-/Laserplattenherstellung offenbaren, können einige Dokumente nach dem Stand der Technik zitiert werden, namentlich die Japanischen Patentanmeldungsnummern 1998(10)-193551; 1998(10)-193552; die Offengelegten Japanischen Patente Nummer 2000-062342; 2000-062343; 2000-062344; 2001-179923; 2001-179924; 2001-187440; 2001-187441; 2001-191475; 2001-191476; 2001-260304; 2002-127369; 2002-187249; 2002-187250; 2002-200728; 2002-200729; 2002-307640; und 2002-307641.
• Alle in den genannten Dokumenten beschriebenen Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte werden so ausgeführt, dass ein lichtempfindlicher Film, bestehend aus einem Mittel einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, beschichtet wird und der lichtempfindliche Film, bestehend aus einem Mittel einer positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, nicht beschichtet wird. In dem Ätzvorgang nach dem Stand der Technik wird der negativ arbeitende lichtempfindliche Film auf die gravurplattierte Rolle aufgebracht, der beschichtete Film bei Raumtemperatur getrocknet und gehärtet, um den negativ arbeitenden lichtempfindlichen Film zu bilden, ein Druckvorgang mit Argonionenlaser wird durchgeführt, und nach dem Stand der Technik wird auf der gravurplattierten Rolle kein positiv arbeitender lichtempfindlicher Film ausgebildet und kein Druckvorgang des Bildes mit dem positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittel mit einem Laser im Infrarotbereich wird ausgeführt.
• Ein Hochleistungs-Halbleiterlaserkopf, hergestellt von der kanadischen Creo-Scitex Corporation, strahlt einen Laser im Infrarotwellenbereich ab. Er wird an einer Offsetdruckmaschine installiert, um die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung zu bestrahlen. Dies ermöglicht eine ausgezeichnete Entwicklung, die deshalb auch in der gesamten Welt praktische Anwendung findet.
• Wenn ein Strahldurchmesser eines Argonionenlaserstrahls und ein Strahldurchmesser eines Laserstrahls mit einer Wellenlänge von 700 bis 1.100 nm gegenseitig die selbe Wertigkeit haben, ist eine Laserauflösung an der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung höher als jene an der negativ arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, und ihre Verarbeitungszeit kann erheblich verkürzt werden.
• Zudem kann mit dem lichtempfindlichen Film der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung ein besseres Klarmuster erreicht werden, das zum Drucken eines Negativbildes mit Argonionenlaser benützt wird, als mit dem lichtempfindlichen Film der negativ arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, die zum Drucken eines Negativbildes mit Argonionenlaser benützt wird. Dies wird verursacht durch einen Unterschied in der Musterklarheit bei einem Unterschied in der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung und der negativ arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung.
• Ein Grund dafür, warum das positiv arbeitende lichtempfindliche Mittel nach dem Stand der Technik zur Offsetplattenherstellung oder Flexographplattenherstellung verwendet wurde, nicht aber in der Photogravurplattenherstellung, liegt in der Tatsache, dass das negativ arbeitende lichtempfindliche Mittel in der Photogravurplattenherstellung benützt werden konnte. Das negativ arbeitende lichtempfindliche Mittel ist ein Material zur Verwendung in der Abstrahlung von Ultraviolettstrahlen zur Fixierung eines Polymerisationsgrads des Harzes am belichteten Abschnitt, so dass was immer für eine Materialqualität an der beschichteten Oberfläche ausgewählt wird, eine notwendige und ausreichende Entwicklungsbreite gewährleistet werden kann.
• Das Mittel der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung mit einer Entwicklungsbreite, die hinsichtlich einer Kupfersulaftplattierung auf der Photogravurdruckrolle zufriedenstellend ist, war demgegenüber überhaupt nicht vorhanden. Dies namentlich deshalb, weil das Mittel der lichtempfindlichen Zusammensetzung, die nach dem Beschichten kein Erhitzen durchführt, überhaupt nicht vorhanden war. Auch wenn das in der Offsetplattenherstellung oder der Flexographplattenherstellung verwendete positiv arbeitende Mittel der lichtempfindlichen Zusammensetzung auf die gravurplattierte Rolle beaufschlagt wird, sind die Bedingungen zur Ausbildung eines Films kaum vorhanden. In vielen Fällen wird das Beschichtungssystem des Mittels der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung für die photogravurplattierte Rolle vom alkalischen Entwickler vollkommen überströmt. Dies gilt auf ähnliche Weise auch dann, wenn nach dem Beschichten ein Erhitzen durchgeführt wird.
• Ein System zur Herstellung von Photogravurplatten mit hohem Auflösungsvermögen, das den positiv arbeitenden lichtempfindlichen Film benützt und dazu entweder einen Halbleiterlaser oder einen YAG-Laser oder dergleichen verwendet, das für eine hohe Laserstrahlabgabe im Bereich der Infrarotwellenlänge geeignet ist, wird dringend benötigt für den Einsatz in einem klein dimensionierten Gerät bei Umgebungslicht zum Zeitpunkt des Plattenherstellungsvorgangs, eine Auflösung und ein Klarmuster und dergleichen im Vergleich zu dem Fall, in dem ein Argonionenlaser benützt wird.
• Die gegenwärtigen Erfinder et al. haben damit begonnen, das Mittel der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung zu entwickeln, die eine notwendige und ausreichende Entwicklungsbreite besitzt, ohne im Hinblick auf die oben ausgeführten Umstände nach dem Beschichten in Bezug auf die Kupfersulfatplattierung einer Photogravurdruckrolle einen Brennvorgang durchzuführen.
• Dann haben die gegenwärtigen Erfinder et al. eine unverdünnte Lösung der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung mit Novolak-Harz und Cyaninpigment für den Ätzvorgang gemischt und als eines der Verfahren zur Plattenherstellung für eine Photogravurdruckrolle angewendet und das mit dem Lösemittel verdünnte, positiv arbeitende lichtempfindliche Mittel auf die Kupfersulfatplattierungsoberfläche der photogravurplattierten Rolle aufgetragen, um diese zu formen. Für die Beschichtung mit dem positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittel wurde ein Gerät zur Beschichtung mit lichtempfindlichem Film gemäß der Japanischen Patentveröffentlichung Nr. 1995(07)-109511 (hergestellt von Think Laboratory Co., Ltd.) verwendet. Dann wurde von einer Infrarotlaserbelichtungsvorrichtung (hergestellt von Think Laboratory Co., Ltd.), in die ein Halbleiterlaserkopf mit hohem Output der Creo-Scitex Corporation zum Drucken des Positivbildes installiert war, ein Laser im Infrarotbereich abgestrahlt; ein Entwicklungstest wurde durchgeführt, der das Ergebnis brachte, dass der lichtempfindliche Film vollkommen entfernt wurde und kein zufriedenstellendes Photolack-Bild erreicht werden konnte.
• Die Evaluierung eines Films, der mit der Vorrichtung zur Beschichtung mit lichtempfindlichem Film gemäß der Japanischen Patentveröffentlichung Nr. 1995(7)-109511 hergestellt wurde, zeigte, dass diese Vorrichtung nach dem Stand der Technik ein Spiralabtastsystem des Kontaktbeschichtungstyps ist, bei dem die Beschichtungsrolle in das lichtempfindliche Mittel im Tank getaucht wird, das lichtempfindliche Mittel mehrere Male auf die beschichtete Oberfläche aufgetragen wird und angenommen werden kann, dass sich der lichtempfindliche Film mit Luft mischt und der Tank eine offene Bauweise aufweist, so dass Lösemittel in dem im Tank aufbewahrten lichtempfindlichen Mittel verdampft, um verdampfende latente Hitze abzuführen; die Beschichtungsrolle wird abgekühlt, um eine Beschichtung mit einem Weißungsphänomen zu erzeugen, eine Konzentration des Lösemittels wird immer verringert, die Viskosität nimmt schrittweise zu und ein Beschichtungsfilm mit gleichmäßiger Filmdicke lässt sich nicht erzielen. Demzufolge haben die gegenwärtigen Erfinder geschlossen, dass der Film des positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittels ziemlich ungeeignet ist, auch wenn das negativ arbeitende lichtempfindliche Mittel richtig aufgetragen wurde und die Beschichtungsvorrichtung für den lichtempfindlichen Film gemäß der Japanischen Patentveröffentlichung Nr. 1995(7)-109511 einen Film produziert.
• Angesichts der beschriebenen Tatsachen haben die gegenwärtigen Erfinder die Beschichtungsvorrichtung für den lichtempfindlichen Film gemäß der Japanischen Patentveröffentlichung Nr. 1995(7)-109511 ersetzt und eine Beschichtungsvorrichtung für einen lichtempfindlichen Film entwickelt, in der das Lösemittel im lichtempfindlichen Mittel im Tank in dessen abgedichteten Zustand nicht verdampft, das Material ohne Kontakt auf die gravurplattierte Rolle aufgetragen und das begleitende Weißfärbungsphänomen vermieden werden kann.
• Die Beschichtungsvorrichtung für den lichtempfindlichen Film wird anhand des bevorzugten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung im Detail beschrieben.
• Kurz, als Verfahren zum Auftrag des positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittels auf eine gravurplattierte Rolle wird das obere Ende des als Vertikalrohr dienenden Ausflussrohrs des lichtempfindlichen Mittels an eine untere Oberfläche eines Endes der zu beiden Seiten horizontal eingespannten und rotierenden gravurplattierten Rolle herangeführt, das lichtempfindliche Mittel wird zum Überströmen zugeführt, während das obere Ende des Ausflussrohrs des lichtempfindlichen Mittels etwas vorgewölbt ist. Das Ausflussrohr des lichtempfindlichen Mittels wird von einer Seite der gravurplattierten Rolle auf die andere Seite derselben bewegt, die Beschichtungsflüssigkeit wird mit einem Spiralscansystem auf die gravurplattierte Rolle aufgetragen, und die Rotation der Rolle wird fortgesetzt, bis der Beschichtungsfilm eine automatische Trocknung zeigt.
• Im Lichte der oben beschriebenen Tatsachen zeigte unsere fortgesetzte Studie, dass ein starker, enger Kontakt der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung mit der kupfersulfatplattierten Oberfläche nicht erreicht werden konnte, und ihre Entwicklungsoperation bewirkte, dass die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung für alle Bildlinien und Nicht-Bildlinien rasch mit alkalischer Entwicklerflüssigkeit eliminiert wurde.
• Aufgrund dieser Tatsache ließ sich nicht vermeiden, dass der Brennvorgang zum Erhitzen der Filmoberfläche auf eine hohe Temperatur nach der Filmbeschichtung ausgeführt wird und eine hohe Kontaktkraft aufgebracht wird.
• Ein Grund für die Notwendigkeit zur Durchführung des Brennvorgangs bestand in der Tatsache, dass aufgrund einer schlechten Haftung der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung an der Kupfersulfatplattierungs-Oberfläche kein Film gebildet wird, und der Brennvorgang nach der Filmbildung ermöglicht eine Verstärkung der Wasserstoffbindung der alkalilöslichen, organischen, hochmolekularen Substanz, die eine phenolische Hydroxylgruppe enthält, und eine Verbesserung der Haftung.
• Unsere fortgesetzten Studien unter der Annahme, dass der Brennvorgang durchgeführt wird, haben gezeigt, dass die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung mit der genannten Mischung aus Novolak-Harz und Cyaninpigment auf die gravurplattierte Rolle aufgetragen wurde. Der Brennvorgang wurde 30 Minuten durchgeführt, um eine Filmoberflächentemperatur auf 60°C zu bringen, es folgte eine Belichtung mit Laser und Entwicklung, mit dem Ergebnis, dass ein schwach entwickelter Zustand erreicht wurde.
• Somit wurde 30 Minuten lang dermaßen gebrannt, dass die Oberflächentemperatur des Films auf 130°C stieg. Auch unter diesen Umständen kam es zu einem schlechten Phänomen, bei dem die Bildlinie sowie die Nicht-Bildlinie vollkommen entfernt wurden.
• Die gegenwärtigen Erfinder zogen den Schluss, dass eine Ursache für die Entstehung eines schlecht entwickelten Zustands sogar unter Brennbedingungen in der zu geringen Anhaftung der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung an der Kupfersulfatplattierung bestand.
• Infolge einer Erhöhung der Haftungskraft am lichtempfindlichen Film durch Zugabe eines Silan-Bindungsmittels als Mittel zur Steigerung einer Haftungskraft an der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung konnten sowohl die Belichtung wie auch die Entwicklung in einer etwas verbesserten Weise durchgeführt werden.
• In der Praxis wurde die gravurplattierte Rolle mit einem Durchmesser von beispielsweise Φ 200 mm mit niedriger Geschwindigkeit von 25 UpM in Rotation versetzt, das positiv arbeitende lichtempfindliche Mittel wurde darauf aufgebracht, die Rotation wurde fortgesetzt, um ein Abtropfen der Flüssigkeit zu verhindern, wobei der lichtempfindliche Film einen Trocknungsgrad erreichte, bei dem das Lösemittel zu einem Zustand vergast wurde, in dem kein Flüssigkeitsabtropfen stattfindet, nachdem 5 Minuten in einem Zustand natürlicher Trocknung verstrichen waren, und nach dieser Operation war eine Restkonzentration an Lösemittel nach dem Brennen bei 130°C während 30 Minuten weniger als 2%. Das Bild konnte mit einem Laser gedruckt werden, und seine Entwicklungsoperation konnte ausgeführt werden.
• Jedoch konnte bestenfalls eine gute Haftung am Film festgestellt werden, während Belichtung sowie Entwicklung nicht überdurchschnittlich waren.
• Zudem wurde offensichtlich, dass wenn die Filmoberflächentemperatur auf 130°C gebracht wurde, das Brennen und das anschließende Abkühlen länger als 100 Minuten benötigte, eine große Hitzeenergiemenge erforderlich war und die Betriebskosten hoch waren und schlechte praktische Eigenschaften zu verzeichnen waren.
• Wenn die Filmoberflächentemperatur auf 130°C erhitzt wurde, wurde zusätzlich die Wasserstoffbindung der alkalilöslichen, organischen, hochmolekularen Substanz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe gestärkt, um eine Entwicklung zu erschweren, und gleichzeitig wurde aus einer geringen Klarheit des Musters abgeleitet, dass das Cyaninpigment denaturiert und seine Empfindlichkeit herabgesetzt war.
• Dann ergab eine Qualitätskontrolle des Photolackbilds, dass viele kleine Löcher erzeugt wurden. Im Fall des negativen Photolackbildes wurden keine solchen kleinen Löcher wie oben produziert. Die Gründe für diese Phänomene bestanden in den Tatsachen, dass ein bloßes Waschen mit Wasser nach dem Präzisionsschleifen mit einem Schleifstein nicht geeignet war, den an der gravurplattierten Rolle haftenden Schleifstaub vollständig weg zu waschen. Wenn der Plattenherstellungsraum nicht als hochgradiger Reinraum ausgeführt war, hafteten die Pulverstäube an der gravurplattierten Rolle während deren Transportoperation, und das positive Photolackbild war empfindlicher auf die Filmherstellungsbedingungen als das negative Photolackbild.
• Das Vorkommen der kleinen Löcher konnte somit eingeschränkt werden, indem gemäß unserer unterschiedlichen Studien ein ausreichender Abwischvorgang mit einem Wischtuch ausgeführt wurde, bevor das lichtempfindliche Mittel auf die gravurplattierte Rolle aufgetragen wurde.
• Als nächstes wurde es von den gegenwärtigen Erfindern et al. als wichtig erachtet, dass eine Filmoberflächentemperatur gesenkt wird, um ein Problem der spezifischen Wärmekapazität zu beseitigen, zumal als photogravurplattierte Rollen zwei Arten von Rollen vorhanden sind, d.h. eine Rolle mit Aluminium als Grundmaterial und die andere Rolle mit Eisen als Grundmaterial, und zusätzlich unterscheiden sich ihre Rollendurchmesser, und unterschiedliche Rollendurchmesser ziehen eine komplett unterschiedliche Dicke nach sich. Daraus folgt, dass auch wenn sie vom Heizgerät gleich lang erhitzt werden die Wärme nach Maßgabe der unterschiedlichen spezifischen Wärmekapazitäten auf die Rollengrundmaterialien übertragen wird und die Filmoberflächentemperatur nicht immer auf 130°C erhitzt wird und es zu Störungen kommt, wo die Rollen auf unterschiedliche Temperaturen erhitzt werden.
• Die gegenwärtigen Erfinder erwogen, dass der Brennvorgang zur wesentlichen Verringerung einer Lösemittelkonzentration auch erreicht werden kann, wenn er unter einer wesentlich niedrigeren Temperatur als 130°C durchgeführt wird, indem eine Zusammensetzung gewählt wird, die eine ausgezeichnete Lösemittelentfernung aufweist.
• Ein Test zur Reduzierung der Erwärmungszeit wurde durchgeführt, eine Brenntemperatur für die Filmoberfläche wurde auf 80°C bis 100°C herabgesetzt, und die Brennoperation wurde 50 Minuten lang durchgeführt. Es wurde bestätigt, dass eine Konzentration des Lösemittels 6% oder weniger wird. Allerdings ergab dieser Vorgang einen schlechten Entwicklungszustand. Als Grund wurde festgestellt, dass das erwähnte Silanbindungsmittel keine notwendige und ausreichende Adhäsion zu erzielen vermag.
• In der Folge wurde statt eines Silanbindungsmittels als Haftmittel Imidazol als Härtungsbeschleuniger versucht. Allerdings ergab sich keine spezifische Änderung im Hinblick auf das Silanbindungsmittel, und die Brenntemperatur auf der Filmoberfläche war ebenfalls die gleiche wie beim Silanbindungsmittel.
• Anschließend führten die gegenwärtigen Erfinder ein Experiment durch, bei dem unterschiedliche Arten von Haftmitteln einer unverdünnten Lösung der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung hinzugefügt werden, bestehend aus einer alkalilöslichen, organischen, hochmolekularen Substanz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe und einer photothermischen Umwandlungssubstanz zur Absorption von Infrarotstrahlen einer Bildbelichtungslichtquelle und zur Umwandlung der Infrarotstrahlen in Wärme. Auf der Kupfersulfatplattierungsrolle wird bei einer Raumtemperatur von 25°C ein lichtempfindlicher Film gebildet, ein Testbild wird von der Infrarotlaser-Belichtungsvorrichtung (hergestellt von Think Laboratory Co., Ltd.) belichtet, um den Film zu entwickeln, mit dem Resultat, dass eine Brenntemperatur für den lichtempfindlichen Film der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, der eine organische Titanverbindung zugesetzt wurde, wesentlich gesenkt werden konnte.
• Im Fall des lichtempfindlichen Films der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, der eine organische Titanverbindung hinzugefügt wurde, konnte der Film auch bei einer Brenntemperatur von 46°C in hoher Qualität hergestellt werden. Seine Empfindlichkeit war ausgezeichnet, und die Entwicklungsoperation konnte problemlos durchgeführt werden.
• Bei einem Test ohne Brennoperation ließ sich jedoch keine ausgezeichnete Filmherstellung feststellen, und die Entwicklung war schlecht.
• Auch wenn die Brenntemperatur auf annähernd 50°C gesenkt werden konnte, wurde sie zu einem Nachteil wegen der Notwendigkeit der Durchführung einer Brennoperation, der Notwendigkeit der Durchführung einer Kühloperation nach der Brennoperation, des Zeit- und Energieaufwands für die Brennoperation und die anschließende Kühloperation, einer größeren Länge der Vorrichtung infolge der Länge der Brennvorrichtung, höherer Anlagenkosten und höherer Betriebskosten. Die gegenwärtigen Erfinder kamen deshalb zum Schluss, dass eine Eliminierung der Brennoperation ein zu lösendes Problem darstelle.
• Die Durchführung einer Brennoperation zeigt, dass die Rolle eine hohe thermische Last hat, zum Unterschied von der eines dünnen Plattenelements. Es dauert 30 bis 60 Minuten zum Erhitzen auf eine erforderliche Temperatur, und 50 bis 100 Minuten oder länger zum Abkühlen auf Raumtemperatur; außerdem kann keine gleichmäßige Kontrolle durchgeführt werden, da sich diese Zeiten je nach der Größe der Rolle unterscheiden. Zudem verursacht die Brennoperation eine Denaturierung des Cyaninpigments, eine Herabsetzung seiner Empfindlichkeit, die Verschlechterung eines Klarmusters, eine Verdünnung der Photolackstärke zum Zeitpunkt der Entwicklungsoperation, einen Rückzug seines Profils und schafft die Voraussetzungen für die Entstehung von kleinen Löchern.
• Dem entsprechend bestand ein starkes Verlangen nach der Entwicklung eines positiv arbeitenden lichtempfindlichen Films, der keine Brennoperation benötigt.
• Eine mehrfache Wiederholung der Tests ergab eine hohe Gesamtkonzentration von restlichem Lösemittel, wie MEK, IPA, PM und dergleichen, zum Zeitpunkt der Filmherstellung; daraus wurde ersichtlich, dass von einem Laser kein Bild gedruckt werden kann (entweder eine Haupt- oder Seitenkette von Molekülen des lichtempfindlichen Films, die am belichteten Element ein Harz ausbilden, wird gebrochen, damit sie zu niedrigen Moleküle werden, die eine erhöhte alkalische Löslichkeit aufweisen, und gleichzeitig kann in einem Zustand, in dem die lichtempfindliche Schicht richtig verteilt ist, kein Latentbild gebildet werden).
• Eine Restkonzentration von Lösemittel nach dem Auftragen des positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittels auf die Kupfersulfat-Plattierungsplatte und nach Verstreichen von 15 Minuten bei natürlichen Trocknungsbedingungen ohne Ventilatortrocknung bei Raumtemperatur von 25°C betrug 11%, und eine Restkonzentration von Lösemittel nach 25 Stunden betrug 9%. Das Messergebnis nach Verstreichen von 10 Minuten, in denen das positiv arbeitende lichtempfindliche Mittel auf die mit 45 UpM rotierende photogravurplattierte Rolle aufgebracht wurde, ergab, dass eine Restkonzentration des Lösemittels nur auf 7% zurückgegangen war.
• Um demnach die Qualität zu modifizieren, indem ein Adhäsionsverstärker zum positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittel hinzugefügt wurde, die unverdünnte Lösung des positiv arbeitenden lichtempfindlichen Films ohne Brennoperation zubereitet wurde und die Ergebnisse durch Belichtung und Entwicklung bestätigt wurden, stellte sich heraus, dass es notwendig ist, im voraus eine Technologie zu finden, die zu einer wesentlichen Reduzierung einer Restkonzentration des Lösemittels in Entsprechung zum Voranstehenden fähig ist.
• Dann legten die gegenwärtigen Erfinder et al. zum ersten Mal – als Entwicklungsthema – eine praktische Anwendung des positiv arbeitenden lichtempfindlichen Films ohne Notwendigkeit einer Brennoperation fest, stellten beide Entwicklungen als technisches Konzept dar, d.h. eine Entwicklung einer Filmherstellungs- und Trocknungstechnologie, die geeignet ist, eine Restkonzentration des Lösemittels in kurzer Zeit und einfach mit einem anderen, nicht von der Brennoperation nach der Filmherstellung abhängigen Mittel zu reduzieren, und die andere Entwicklung des positiv arbeitenden lichtempfindlichen Films, die geeignet ist, Hafteigenschaften des positiv arbeitenden lichtempfindlichen Films selbst durch Zugabe eines Haftverstärkers und mittels einer hohen Entwicklungsbreite wesentlich zu verbessern, und setzten dann die Studie fort, um das erstere Problem zuerst zu lösen.
• Die gegenwärtigen Erfinder haben die Tatsache in Betracht gezogen, dass das Lösemittel vom Beschichtungsfilm verdampft. Es wird berücksichtigt, dass eine Dispersionseigenschaft des Lösemittels auf der Innenschicht mit der Zeit abnimmt und die Oberfläche immer mehr austrocknet, weil der Beschichtungsfilm mit der Luft in Kontakt kommt, um an seiner Oberfläche zu trocknen und seine Härte zu erhöhen und sein Gewebe zu festigen. Umgekehrt wird berücksichtigt, dass die Geschwindigkeit, mit der das Lösemittel vom Beschichtungsfilm verdampft, durch den Druck der umgebenden Atmosphäre verändert werden kann. Das Ausmaß der Verdampfung des Lösemittels vom Beschichtungsfilm ist hoch unter einem negativen Druck, und das Restlösemittel kann wirksam reduziert werden. Es ist jedoch nicht möglich, die Rolle mit einem darauf aufgebrachten Film in einen mit einer Vakuumpumpe evakuierten Raum zu stellen.
• In Anbetracht des Voranstehenden haben die gegenwärtigen Erfinder et al. die photogravurplattierte Rolle mit hoher Geschwindigkeit in Rotation versetzt, nachdem keine Flüssigkeit mehr abtropfte, und es hat sich herausgestellt, dass eine Restkonzentration des Lösemittels in kurzer Zeit auf 3% oder weniger verringert werden kann.
• Angesichts des Voranstehenden wurde die photogravurplattierte Rolle an beiden Enden in horizontaler Lage in die Vorrichtung zur Beschichtung des lichtempfindlichen Films gemäß der Japanischen Patentveröffentlichung Nr. 1995(7)-109511 eingespannt und mit einer bestimmten geringen Geschwindigkeit in Rotation versetzt. Eine lichtempfindliche Testflüssigkeit wurde mit einem kontaktlosen Spiralscanning-Beschichtungssystem gleichmäßig aufgetragen, die Rotation wurde nach diesem Vorgang fortgesetzt. Der lichtempfindliche Film mit einem Trocknungsgrad wie einer, bei dem das Lösemittel verdampft ist, um ein Abtropfen von Flüssigkeit zu verhindern, hat abgebunden.
• Anschließend haben die gegenwärtigen Erfinder et al. als ein Verfahren, das zu einer wesentlichen Herabsetzung einer Lösemittelkonzentration in kurzer Zeit und ohne Brennoperation imstande ist, eine Technologie entwickelt, mit der ein geformter Film mit geringerer Lösemittelrestkonzentration erreicht wird, der Bilddruckeigenschaften mit Laserstrahl erreicht, während das Restlösemittel im Film durch die Rotation der photogravurplattierten Rolle mit einer bestimmten hohen Geschwindigkeit während einer bestimmten Dauer unter Ausübung einer Zentrifugalkraft auf das Restlösemittel im Film und eines Reibungskontakts der Filmoberfläche mit Luft verteilt und in die Luft abgegeben wird.
• Die lichtempfindliche Flüssigkeit wurde gleichmäßig auf einer Testrolle mit Φ 200 mm verteilt, deren Rotation wurde nach Abschluss des Beschichtungsvorgangs 5 Minuten lang mit 25 UpM fortgesetzt, und anschließend wurde die Rotation angehalten, es folgten 5 Minuten Wartezeit, das Abtropfen von Flüssigkeit wurde beobachtet, augenscheinlich war kein Abtropfen feststellbar, die Testrolle wurde 20 Minuten lang mit 100 UpM rotiert und angehalten, eine Restkonzentration des Lösemittels im lichtempfindlichen Film wurde gemessen und dabei ein Wert von 2,3% ermittelt.
• Weiter wurde die Technologie entwickelt, die geeignet ist, die Lösemittelkonzentration in kurzer Zeit wesentlich zu verringern, ohne eine Brennoperation durchzuführen. Daraus folgte, dass das Mittel zur Verstärkung unterschiedlicher Arten von Adhäsionskraft hinzugefügt wurde, das positiv arbeitende lichtempfindliche Mittel wurde belichtet und entwickelt, und eine Studie durchgeführt, ob das Mittel eine Entwicklungsbreite aufweist oder nicht.
• Als Ergebnis wurde eine organische Titanverbindung aus mindestens einem von Zellulosederivat, Titanalkoxid, Titanacrylat oder Titanchelat in unverdünnter Lösung der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung hinzugesetzt, zusammengesetzt aus alkalilöslichler, organischer, hochmolekularer Substanz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe und photothermischer Umwandlungssubstanz zur Absorption der Infrarotstrahlen der Bildbelichtungslichtquelle. Die Tests ergaben, dass eine Brennverarbeitung eine schlechte Entwicklungsoperation nach sich zog, die Abwesenheit einer Brennoperation einen ausgezeichneten Entwicklungszustand ergab und das beste Photolackmuster erzielt werden konnte. Zu diesem Zeitpunkt betrug die Raumtemperatur 25 bis 27°C, und eine Luftfeuchtigkeit etwa 50 bis 55%.
• Jedoch stellte sich in Tests heraus, die an einem Tag mit der höchsten Lufttemperatur von etwa 16°C und einer eher niedrigen Luftfeuchtigkeit von 21 bis 23% durchgeführt wurden, dass der lichtempfindliche Film durch die Entwicklungsoperation vollständig entfernt wurde.
• Es ist allgemein bekannt in der Branche, dass das positiv arbeitende lichtempfindliche Mittel von der Luftfeuchtigkeit abhängig ist, so dass es bei einer hohen Luftfeuchtigkeit 60% oder darüber Weißungserscheinungen zeigt und kein Film gebildet werden kann.
• Indessen hat das erwähnte Ergebnis geklärt, dass eine Adhäsionskraft des positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittels auch bei einer niedrigen Lufttemperatur und einer geringen Luftfeuchtigkeit nicht festzustellen ist. Überdies konnte nicht festgestellt werden, warum es zu der Weißungserscheinung kommt und kein Film hergestellt werden kann.
• So wurden in einem Gehäuse einer Vorrichtung zur Beschichtung eines lichtempfindlichen Films gemäß der erwähnten Japanischen Patentveröffentlichung Nr. 1995(7)-109511 ein Entfeuchter und ein Befeuchter installiert, um die Feuchtigkeit zu kontrollieren. Anschließend wurde ein Material gesucht, das eine Haftfähigkeit verstärkt, eine kleine Materialmenge zur Bildung eines Films hinzugefügt und ein Test zur Belichtung und Entwicklung des Films durchgeführt, woraus resultierte, dass jedes der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittel, in denen eines der Mittel zur Verbesserung der Hafteigenschaften, bestehend aus
• (1) Polyvinyl/Polypyrrolidon/Vinylacetatcopolymeren
• (2) Polyvinylbutyral
• (3) Styrol/Maleinsäurecopolymeren
• (4) Vinylpyrrolidon/Dimethylaminoethylmethacrylat-Copolymeren
• (5) Terpolymer von Vinylpyrrolidon/Vinylcaprolactam/ Dimethylaminoethylmethacrylat
• (6) Terpenphenolharz
• (7) Alkylphenolharz
• (8) Polyvinylformalharz
• (9) Melamin/Formaldehydharz
• (10) Polyvinylacetat und
• (11) Ketonharz,
einer unverdünnten Lösung von alkalilöslicher, organischer, hochmolekularer Substanz, die Epoxidharz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe enthält, hinzugefügt und mit dieser gemischt wird, oder mit phenolischen Hydroxylgruppen und photothermischer Umwandlungssubstanz zur Reaktion gebracht wird, um Infrarotstrahlen einer Bildbeaufschlagungslichtquelle zu absorbieren und sie in Wärme umzuwandeln, eine hohe Entwicklungsbreite zeigte.
• Detailliert beschrieben, wurde die mit Kupfersulfat plattierte, photogravurplattierte Rolle mit Φ 200 mm an beiden Enden in eine Vorrichtung zur Beschichtung eines lichtempfindlichen Films eingespannt und mit 25 UpM bei Bedingungen rotiert, bei denen die Temperatur in einem Experimentierraum bei 25°C lag und eine Luftfeuchtigkeit im Gehäuse der Vorrichtung zur Beschichtung des lichtempfindlichen Films auf 25%, 30%, 55% bzw. 60% variiert wurde. Die Rolle wurde mit einem Wischtuch sauber gewischt, das positiv arbeitende lichtempfindliche Mittel wurde entsprechend aufgebracht, und nach Abschluss des Beschichtungsvorgangs wurde die Rotation fortgesetzt, um das Abtropfen von Flüssigkeit zu verhindern. Der Film wurde nach Verstreichen von 5 Minuten bei natürlichen Trocknungsbedingungen gebildet, dann wurde die Rolle 10 Minuten lang mit 100 UpM in Rotation versetzt, das restliche Lösemittel wurde reduziert und die Rotation angehalten.
• Alle photogravurplattierten Rollen, die aus der Vorrichtung zur Beschichtung des lichtempfindlichen Films genommen wurden, erwiesen sich als getestete Rollen mit Glanz, beschichtet und mit einem harten, lichtempfindlichen Film mit Glanz und einem hohen Haftvermögen geformt.
• Die Filmdicke des Photolacks betrug etwa 3,5 bis 3,8 μm. Die Ermittlung einer Lösemittelrestkonzentration zeigte, dass alle Testrollen etwa 2,3% aufwiesen.
• Dann wurde das Testbild mit einem Laser im Infrarotbereich belichtet (die Bildlinien wurden belichtet), wozu das erwähnte Infrarot- Laserbelichtungsgerät (hergestellt von Think Laboratory Co., Ltd.) benützt wurde, dann wurde es mit Alkali entwickelt, was zur Folge hatte, dass das Nicht-Bildlinienelement eine gelöste Filmreduzierung erzeugte. Allerdings wurde in allen Fällen ein scharfes Photolackmuster ohne Reste erreicht, wenn es 60 bis 70 Sekunden in die Alkali-Entwicklerflüssigkeit getaucht wurde. Dann konnte bestätigt werden, dass das natürlich getrocknete Photolackmuster nach einiger Zeit im Anschluss an den Entwicklungsvorgang ziemlich hart war. Eine Filmdicke des Photolackfilms nach der Entwicklungsoperation lag bei etwa 1,8 bis 2,5 μm. Die Filmreduzierung verursachte keine kleinen Löcher.
• Ausgehend davon wurde die vorliegende Erfindung entwickelt.
• ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
• Die vorliegende Erfindung wurde unter Bezugnahme auf die oben beschriebenen Umstände getätigt. Es ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte zu schaffen, das geeignet ist, eine ausgezeichnete Photogravurplatten-Herstellungsoperation mit einer notwendigen und ausreichenden Entwicklungsbreite ohne Erhitzen durchzuführen, nachdem durch Auftragen eines positiv arbeitenden Thermo-Photolacks ein Beschichtungsfilm gebildet wurde.
• Die in Anspruch 1 beschriebene Erfindung schafft ein Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte, das dadurch gekennzeichnet ist, dass ein oberes Ende eines vertikalen Beschichtungsrohrs in räumlicher Nähe unterhalb eines Endes einer photogravurplattierten Rolle angeordnet ist, welche an beiden Enden in einem horizontalen Zustand eingespannt ist und rotiert wird, wobei das Beschichtungsrohr bis zum anderen Ende der photogravurplattierten Rolle geführt wird, wobei ein positiv arbeitendes lichtempfindliches Mittel, bestehend aus einer alkalilöslichen, positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung mit einer Empfindlichkeit gegenüber einem im Infrarotbereich arbeitenden Laser und einer Entwicklungsbreite, bei welcher ein belichtetes Bildlinienelement von der alkalischen Entwicklerflüssigkeit weggewaschen wird und ein unbelichtetes Nicht-Bildlinienelement ohne Erhitzen nicht weggewaschen wird, nach Bildung eines Beschichtungsfilms an einem Ende leicht vorgewölbt ist und aus einem oberen Ende des Beschichtungsrohrs überströmt wird, wobei die photogravurplattierte Rolle durch ein Spiral-Beschichtungssystem beschichtet wird und die Rotation der photogravurplattierten Rolle bis zum Abschluss der Beschichtungsoperation fortgesetzt wird, um einen natürlich getrockneten Beschichtungsfilm zu bilden, und anschließend die photogravurplattierte Rolle rotiert wird, um eine gewünscht hohe Geschwindigkeit aufzuweisen, wobei das restliche Lösungsmittel des Beschichtungsfilms in der Luft verteilt wird, um die Konzentration des restlichen Lösemittels zu reduzieren und einen lichtempfindlichen Film zu bilden, und wobei anschließend mit einem im Infrarotbereich arbeitenden Laser ein Positiv-Bild auf den lichtempfindlichen Film beaufschlagt wird, so dass entweder Hauptketten oder Seitenketten der Moleküle des den lichtempfindlichen Film bildenden Harzes am besagten belichteten Element unter Bildung kleinerer Moleküle mit höherer Alkalilöslichkeit gebrochen werden und ein Latentbild mit einer Ablation der lichtempfindlichen Schicht gebildet wird, und anschließend eine alkalische Entwicklung durchgeführt wird und das den lichtempfindlichen Film bildende Harz an dem belichteten Element weggewaschen wird, so dass der Photolack nur an der Nicht-Bildlinie verbleibt.
• Die Erfindung schafft gemäß Beschreibung in Anspruch 2 ein Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte nach Anspruch 1, wobei die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung eine alkalilösliche organische hochmolekulare Substanz einschließlich eines Epoxydharzes mit phenolischen Hydroxylgruppen oder eines mit phenolischen Hydroxylgruppen umgesetzten Epoxydharzes sowie eine photothermische Umwandlungssubstanz zur Absorption der Infrarotstrahlen einer Bildbeaufschlagungslichtquelle und Umwandlung dieser Strahlen in Hitze umfasst, und die Zusammensetzung als ein die Hafteigenschaften verbesserndes Mittel irgendeines der folgenden Mittel beinhaltet:
• (1) Vinylpyrrolidon/Vinylacetat-Copolymere
• (2) Polyvinylbutyral
• (3) Styrol/Maleinsäure-Copolymere
• (4) Vinylpyrrolidon/Dimethylaminoethylmethacrylat-Copolymere
• (5) Terpolymere aus Vinylpyrrolidon/Caprolactam/ Dimethylaminoethylmethacrylat
• (6) Terpenphenolharz
• (7) Alkylphenolharz
• (8) Polyvinylformalharz
• (9) Melamin/Formaldehyd-Harz
• (10) Polyvinylacetat und
• (11) Ketonharz.
• Die Erfindung schafft gemäß Anspruch 3 ein Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine Oberfläche der photogravurplattierten Rolle mit einem Wischtuch sauber gewischt wird, bevor das positiv arbeitende lichtempfindliche Mittel auf die photogravurplattierte Rolle aufgebracht wird.
• Die Erfindung schafft gemäß Anspruch 4 ein Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte nach Anspruch 1 zur Herstellung einer plattierten Oberfläche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Oberfläche der photogravurplattierten Rolle zur Bildung eines lichtempfindlichen Films mittels Beschichtung mit dem positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittel Kupfer, Kupfersulfatplattierung, Nickelplattierung, Nickellegierungsplattierung oder Zinkplattierung ist.
• Die Erfindung schafft gemäß Anspruch 5 ein Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die alkalische Entwicklungsoperation durchgeführt wird, damit das den lichtempfindlichen Film bildende Harz an belichteten Elementen weggewaschen wird und der Photolack nur an unbelichteten Nicht-Bildlinienelementen verbleibt, und danach ein Ätzvorgang durchgeführt wird, um eine Zelle zu bilden, und anschließend der Photolack mit einer stärker alkalischen Entwicklerflüssigkeit abgezogen wird, um eine plattierte Oberfläche zu bilden.
• Die Erfindung schafft gemäß Anspruch 6 ein Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte nach Anspruch 1, wobei die plattierte Oberfläche nach dem Abziehen des Photolacks einen harten Film zur Aufbringung einer Abnutzungsplattierung wie z.B. eine ein Quenchen ermöglichende Chromplattierung oder Nickellegierungsplattierung oder Keramikmaterialien und dergleichen aufweist.
• Nach den Prinzipien des Verfahrens zur Herstellung einer photogravurplattierten Platte gemäß Beschreibung in Anspruch 1 bis 6 kann nach Bildung eines Beschichtungsfilms ohne Erhitzen eine notwendige und ausreichende Haftung erreicht werden, und eine Konzentration des Lösemittels im lichtempfindlichen Mittel kann in kurzer Zeit erheblich reduziert werden, wofür wenig Energie im Vergleich zu der Brennoperation erforderlich ist, und so kann das positiv arbeitende Bild mit dem Infrarotlaser belichtet werden und die Hauptkette oder Seitenkette der Moleküle des den lichtempfindlichen Film bildenden Harzes am belichteten Element kann gebrochen werden, so dass die Moleküle kleiner werden, um die Alkalilöslichkeit zu erhöhen, und gleichzeitig kann die Verteilung der lichtempfindlichen Schicht ordentlich durchgeführt werden und eine Filmbildung des positiv arbeitenden thermischen Photolacks mit notwendiger und ausreichender Entwicklungsbreite kann positiv gebildet werden und eine ausgezeichnete Herstellung einer Photogravurplatte durch ein Laser-Plattenherstellungsverfahren kann durchgeführt werden.
• Nach Maßgabe des Verfahrens zur Herstellung einer Photogravurplatte nach Anspruch 1 kann eine Konzentration des Lösemittels im lichtempfindlichen Mittel konstant eingestellt werden, die Beschichtung kann ohne Berührung mit der plattierten Rolle, ohne Kontakt mit der Luft und ohne begleitendes Weißungsphänomen durchgeführt werden.
• Gemäß dem Verfahren zur Herstellung einer photogravurplattierten Platte nach Anspruch 3 kann das Entstehen von kleinen Löchern auf einem lichtempfindlichen Film vermieden werden, weil auf der plattierten Rolle haftende Flecken oder Öl und Fett vollkommen weg gewischt werden können.
• Gemäß dem Verfahren zur Herstellung einer photogravurplattierten Platte nach Anspruch 5 kann es in einem Fall angewendet werden, in dem die Anzahl der Druckbögen in einer Länge geringer ist, weil die Oberfläche der plattierten Rolle chromplattiert oder nickellegierungsplattiert ist.
• Gemäß dem Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte nach Anspruch 6 kann es in Fällen von weniger Druckbögen bis zu Fällen mit vielen Druckbögen angewendet werden, weil die Oberfläche der plattierten Rolle chromplattiert ist.
• KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
• 1 ist eine schematische Draufsicht zur Darstellung einer Vorrichtung zur Herstellung einer Photogravurplatte zur Ausführung eines Verfahrens zur Herstellung einer Photogravurplatte.
• 2 ist eine Frontaufrissansicht zur Darstellung einer lichtempfindlichen Filmbeschichtungsvorrichtung.
• 3 ist eine Frontaufrissansicht zur Darstellung einer NC-Drehbank.
• 4 ist eine Display-Anzeige, auf der Eingabewerte oder Messwerte oder Rechnungswerte dargestellt sind, wie beispielsweise ein Schneidrand und dergleichen, zur Verwendung in der Ausführung einer Präzisionszylinderbearbeitung mit einer NC-Drehbank.
• 5 ist eine Ansicht zur Darstellung – über eine Rollenquerschnittfläche – eines Verhältnisses von Eingabewerten oder Messwerten oder Rechnungswerten, wie beispielsweise eines Schneidrandes und dergleichen zur Verwendung in der Ausführung einer Präzisionszylinderbearbeitung mit einer NC-Drehbank.
• DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELE
• Unter Bezugnahme auf die Zeichnungen wird im folgenden das Verfahren zur Herstellung der Photogravurplatte in Ausführungsbeispielen beschrieben, die alle in den Ansprüchen 1 bis 6 beschriebenen Erfindungen enthalten.
• Zunächst wird eine gesamte Fabrik zur Herstellung von Photogravurplatten beschrieben.
• Wie in 1 dargestellt, ist die Fabrik zur Herstellung von Photogravurplatten in die zwei Abteilungen eines Plattenherstellungsraums H1 und eines Plattenherstellungsraums H2 unterteilt. Der Plattenherstellungsraum H1 ist als Bedienungsbereich für einen Industrieroboter 1, und der Plattenherstellungsraum H2 ist als Transportbereich für einen Stapelkran 2 ausgelegt.
• Als Industrieroboter 1 wird ein Schienen-Industrieroboter mit Rückwärtslauf und einem Wendekreis von 360° eingesetzt, der einen Roboterarm 1a besitzt, der in vertikaler Richtung schwingen und um eine Armwelle rotieren kann. Die am Roboterarm 1a montierte Robotergreiferhand 1b besitzt eine Handhabefunktion zum Halten beider Endflächen einer gravurplattierten Rolle R oder zum Stützen der Wellen an beiden Enden und Übergeben der photogravurplattierten Rolle R zwischen sich und einer anderen Vorrichtung.
• Der Stapelkran 2 ist so konstruiert, dass er eine Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung anheben und transportieren kann. Die Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung ist so konstruiert, dass an beiden Endflächen der hülsenförmigen photogravurplattierten Rolle R Achslöcher angebracht sind und von einem Paar gegenüberliegender konischer Einspannkegel gehalten werden, wobei ein Außenteil der konischen Einspannkegel von einer wasserdichten Kappe dicht abgeschlossen wird, oder die Achsen an beiden Enden der photogravurplattierten Rolle R werden in einem Paar gegenüber liegender Hülseneinspannfutter aufgenommen, wobei die Außenteile der Hülsenkappen mit der wasserdichten Kappe dicht abgeschlossen werden können, und wenn die Rolle in den Hauptkörper der Plattierungsvorrichtung herunter hängt und dort montiert wird, kann die photogravurplattierte Rolle R rotieren und nach Bedarf ein Plattierstrom fließen.
• Der Industrieroboter 1 im Plattenherstellungsraum H1 und die Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung, die vom Stapelkran 2 im Plattenherstellungsraum H2 hängt und transportiert wird, sind so konstruiert, dass die photogravurplattierte Rolle R direkt durch eine Öffnung weitergegeben und empfangen werden kann, die an einer Trennwand zwischen dem Plattenherstellungsraum H1 und dem Plattenherstellungsraum H2 vorgesehen ist.
• Der Bedienungsbereich für den Industrieroboter 1 im Plattenherstellungsraum H1 ist mit einer Rollenmessvorrichtung 4 versehen, die an einem Rollenaufspanneinlass angeordnet ist; des weiteren mit einer Rollenaufspann-/entnahmevorrichtung 5, die innerhalb einer Rollenaufspann-/entnahmetür angeordnet ist; eine Vorrichtung 6 zur Beschichtung des lichtempfindlichen Films; eine Vorrichtung 7 zur Infrarotlaserbelichtung; eine NC-Drehbank 8; eine gegenüber angeordnete Doppelkopf-Schleifmaschine 9; und eine Rollenablagevorrichtung 10. Die NC-Drehbank 8 und die Schleifmaschine 9 benützen wässriges Schmiermittel oder Waschwasser und werden von einer Unterteilung getrennt, die die Beschichtung des lichtempfindlichen Films nicht beeinträchtigt, da das wässrige Schmiermittel bzw. das Waschwasser zu einer höheren Feuchtigkeit führen und Verfärbungen auslösen können. Im Sinne ausgewogener Verarbeitungskapazitäten sind zwei Einheiten der Vorrichtung 6 zur Beschichtung des lichtempfindlichen Films installiert.
• Ein Rollentransportbereich für den Stapelkran 2 im Plattenherstellungsraum H2 ist in einer Reihe mit einer Rollenfixierungs- oder Entfernungsvorrichtung 19 ausgestattet; des weiteren mit einer Oberflächenaktivierungsvorrichtung 11; einer Nickelplattierungsvorrichtung 12; einer Kupfersulfatplattierungsvorrichtung 13; einer Chromplattierungsvorrichtung 14; einer Entwicklungsvorrichtung 15; einer Korrosionsvorrichtung 16; einer Photolackbildentfernungsvorrichtung 17; und einer Ablagevorrichtung 18 für die Rotationsvorrichtung zur Rollenfixierung oder Entfernung zur Verwendung als Ablage der Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung. Die Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung zur Verwendung im Einspannen der photogravurplattierten Rolle R ist so beschaffen, wie beispielsweise im Anzeiger der Japanischen Patentoffenlegung Nr. 1980(55)-164095 beschrieben, und diese Vorrichtung hängt am Stapelkran 2, wird von diesem transportiert und ist an den Vorrichtungen 11 bis 19 installiert.
• Diese Fabrik zur Herstellung von Photogravurplatten wendet ein System an, bei dem die NC-Drehbank 8 zuerst eine Hochpräzisions-Zylinderbearbeitung einer rezyklierten Rolle ausführt, so dass im Plattenherstellungsraum H2 keine Chromentfernungsvorrichtung installiert wurde.
• Der Industrieroboter 1 kann mit der Roboterhand 1b eine Endfläche der photogravurplattierten Rolle R halten. Zusätzlich werden die erwähnten Vorrichtungen 5 bis 9 so betätigt, dass die Achslöcher an beiden Endflächen der hülsenförmigen, photogravurplattierten Rolle R angebracht werden und vom dem Paar einander gegenüber angeordneter konischer Einspannkegel gehalten werden können, oder die Achsen an beiden Enden der photogravurplattierten Rolle R können an dem Paar einander gegenüber angeordneter Hülseneinspannungen aufgenommen und die Endflächen können gehalten werden. Die photogravurplattierte Rolle R kann zwischen dem Industrieroboter 1 und jeder dieser Vorrichtungen weiter gegeben oder empfangen werden.
• Die Rollenmessvorrichtung 4 führt eine Messung der gesamten Länge, des Außendurchmessers und des Lochdurchmessers der photogravurplattierten Rolle und eines Durchmessers pro festgelegter Teilung von einem Ende zum anderen Ende der Rolle durch. Das Bezugszeichen 21 bezeichnet eine manipulatorartige Rollenhandhabungsvorrichtung, wobei die photogravurplattierte Rolle an einer Montageplatte befestigt ist, während sie angehoben wird. Die Montageplatte steigt auf, und eine Tür wird geöffnet. Dann wird die Montageplatte in den Plattenherstellungsraum H1 bewegt, um die photogravurplattierte Rolle in eine Position zu bringen, in der sie in die Rollenmessvorrichtung 4 eingespannt ist.
• Die Rollenaufspann-/entnahmevorrichtung 5 besitzt einige bis einige zig Paletten zum Montieren der photogravurplattierten Rolle R, wobei die Paletten eine horizontale und eine geneigte Position je nach Bedarf einnehmen können. Vorzugsweise wird die Vorrichtung der Japanischen Patentoffenlegung Nr. 1998-291289 verwendet, wobei der Industrieroboter 1 die photogravurplattierte Rolle R im voraus an der Palette montiert. Nach dem Öffnen der Tür wird die Palette um etwa 70 bis 80° geneigt, und eine Bedienperson kann die photogravurplattierte Rolle R schräg anheben, rollen und aus dem Plattenherstellungsraum H1 heraus befördern.
• Die Vorrichtung 6 zur Beschichtung eines lichtempfindlichen Films gehört zu den wichtigsten Vorrichtungen zur Ausführung der vorliegenden Erfindung. Ihr Aufbau ist schematisch in 2 illustriert. Diese Vorrichtung 6 zur Beschichtung eines lichtempfindlichen Films ist so beschaffen, dass ein Entfeuchtungsapparat 6b und ein Befeuchtungsapparat 6c im Gehäuse 6a untergebracht sind, das mit einer Öffnungs- oder Schließtürvorrichtung versehen ist, durch die die photogravurplattierte Rolle R zugeführt oder entnommen wird, so dass die Feuchtigkeit im Gehäuse auf einen bestimmten Wert eingestellt werden kann. Die photogravurplattierte Rolle R kann an beiden Enden in horizontaler Lage mittels des Paares einander gegenüber angeordneter Spannfutter 6d, 6e eingespannt werden, und gleichzeitig sind ein Wisch- und Waschkopf 6f zum Ausführen und Aufrollen eines Wischtuchs T von einer Original-Rolle und ein Beschichtungskopf 6i zur Einführung des in einem Tank 6g gespeicherten, nicht erhitzten, positiv arbeitenden, lichtempfindlichen Mittels in ein Vertikalrohr 6h, wobei nur eine erforderliche Menge des Mittels vom oberen Ende des Rohrs überströmt und beschichtet wird, um eine Feuchtmittelbeschichtung auszuführen, nebeneinander unterhalb der photogravurplattierten Rolle R auf einem ansteigenden oder absteigenden Tisch 6k angeordnet, der auf einem Laufwagen 6j in Längsrichtung der photogravurplattierten Rolle R installiert ist, wobei der Wisch- und Waschkopf 6f eine Wisch- und Waschoperation von einem zum anderen Ende der photogravurplattierten Rolle ausführt, die beispielsweise einen Durchmesser von 200 mm aufweist und mit 25 UpM rotiert wird. Nach dem Wischen und Waschen führt der Beschichtungskopf 6i eine Beschichtung des positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittels von einem Ende der photogravurplattierten Rolle zum anderen Ende aus, und nach Abschluss des Beschichtungsvorgangs wird ihre Rotation etwa 5 bis 10 Minuten mit 25 UpM fortgesetzt, der Beschichtungsfilm wird natürlich getrocknet, und anschließend wird ihre Rotation 10 Minuten mit 100 UpM fortgesetzt und das restliche Lösemittel im Beschichtungsfilm wird erheblich verringert.
• Der Wisch- und Waschkopf 6f gleitet und läuft an der Außenumfangsfläche der photogravurplattierten Rolle R mit einem Band T des Wischtuchs entlang, um Verfärbungen oder Öl und Fett abzuwischen, die an der photogravurplattierten Rolle R haften.
• Das Wischtuch T ist ein Tuch aus Polyester oder Polyester und Nylon aus ultrafeinen Langfasern, das jeder eigenen staubgenerierenden Eigenschaft entbehrt. Als bevorzugtes Wischtuch liegt das Savina Minimax (eingetragenes Warenzeichen) der Kanebo Co., Ltd. vor, bei dem es sich um ein Tuch handelt, das aus einer ultrafeinen Faser mit 0,1 Denier (eine Dicke von 1 bis 5 μm) aus langfaserigem Polyester und Nylon besteht, wobei der Querschnitt des Originalfadens keilförmig ist, Staub aufgenommen wird und keine staubgenerierenden Eigenschaften vorliegen. Das Wischtuch von Toray Co., Ltd. ist ein Tuch aus ultrafeiner Polyester-Langfaser ohne eigene staubgenerierende Eigenschaft. Diese können auf die vorliegende Erfindung angewendet werden.
• Der Beschichtungskopf 6i wird so in Betrieb genommen, dass das obere Ende des Beschichtungsrohrs an die untere Oberfläche der photogravurplattierten Rolle R mit einer Lücke von beispielsweise 500 μm heran reicht. Das positiv arbeitende lichtempfindliche Mittel wird am oberen Ende des Beschichtungsrohrs überströmt, und während es mit einer Oberflächenspannung angehoben wird, bewegt sich das Mittel von einem Ende zum anderen Ende der photogravurplattierten Rolle R, und dann kann das positiv arbeitende lichtempfindliche Mittel ohne Berührung in einem Spiralbeschichtungssystem im Zusammenwirken mit einer Rotation der Rolle auf die photogravurplattierte Rolle R aufgebracht werden.
• Details des positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittels, das aus einem oberen Ende des Beschichtungsrohrs überströmt wird, werden im folgenden beschrieben. Es handelt sich um ein positiv arbeitendes lichtempfindliches Mittel, bestehend aus einer alkalilöslichen, positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, die auf einen im Infrarotbereich arbeitenden Laser anspricht, mit einer Entwicklungsbreite ohne Erhitzen nach Ausbildung des Beschichtungsfilms.
• In diesem Fall kann die Vorrichtung zur Beschichtung lichtempfindlicher Filme eine vertikale Tauchbeschichtungsvorrichtung sein. Zudem kann die Vorrichtung zur Beschichtung lichtempfindlicher Filme getrennt von einer Wisch- und Waschvorrichtung angeordnet sein, die ein Wischtuch und eine Lösemittelreduzierungsvorrichtung aufweist, um das Lösemittel im lichtempfindlichen Film erheblich zu reduzieren, während die photogravurplattierte Rolle mit hoher Geschwindigkeit rotiert.
• Die Infrarotlaser-Belichtungsvorrichtung 7 ist so konstruiert, dass die mit dem lichtempfindlichen Film des positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittels gebildete photogravurplattierte Rolle an beiden Enden eingespannt ist, rotiert wird und der Laserkopf an ein Ende der photogravurplattierten Rolle herangeführt wird und zum anderen Ende bewegt wird, ein Laserstrahl mit Infrarotwellenlänge von 700 bis 1.100 μm eines Halbleiterlasers auf einen Abschnitt abgestrahlt wird, der dem Bildlinienelement des lichtempfindlichen Films entspricht, eine Hauptkette oder eine Seitenkette der Moleküle in dem den lichtempfindlichen Film bildenden Harz am belichteten Element unter Bildung kleinerer Moleküle mit höherer Alkalilöslichkeit gebrochen werden und ein Latentbild mit einer Ablation der lichtempfindlichen Schicht gebildet wird. Das heißt, es handelt sich um einen unbelichteten Zustand, um dem Bildlinienelement und einem Film des dem Bildlinienelement entsprechenden Elements die Auflösung zu ermöglichen, wenn die alkalische Entwicklung durchgeführt wird, um die Kupfermetalloberfläche zu belichten.
• Die NC-Drehbank 8 misst eine photogravurplattierte Rolle (eine wiederverwendete Rolle) vom Direktplattentyp und führt eine hochpräzise Zylinderbearbeitung aus. Diese Zylinderbearbeitung ist auch eine Zylinderbearbeitung einer lackierten Platte.
• 3 ist eine Frontaufrissansicht zur Darstellung der NC-Drehbank. In dieser NC-Drehbank 8 ist eine bereits benützte photogravurplattierte Rolle R vom Direktplattentyp an beiden Enden eingespannt mittels eines konischen Einspannkegels 8a, der an einer Hauptwelle angeordnet ist, und eines konischen Einspannkegels 8b, der an einer frei rotierenden Welle angeordnet ist.
• Die vorher gemessene Länge und der Außendurchmesser der Rolle, ein Annäherungswert eines Durchmessers eines Einspannloches, ein Mindestschneidrand und einer der Werte der plattierten Dicke nach Bearbeitung einer Dickengröße der Kupfersulfatplattierung, die nach der Zylinderbearbeitung der lackierten Platte vorhanden ist, werden per Fernbedienung in die Steuerung eingegeben.
• Dann wird eine Kontaktsonde 8f, die an einer revolverartigen Werkzeugauflage 8e eines doppelt wirkenden beweglichen Tisches 8d installiert ist, über mehrere Punkte mit der Rolle in Kontakt gebracht, um eine Messung des Radius oder dergleichen auszuführen und eine gewünschte Berechnung eines Schneidrandes vorzunehmen.
• Wenn sich nach der Berechnung herausstellt, dass ein Wert des Mindestschneidrandes, der zu einer Differenz zwischen einem gemessenen Maximalradius und einem gemessenen Minimalradius hinzugefügt wird, als Maximalschneidrand festgelegt ist und ein zulässiger Schneidrand, der ein Wert mit einer plattierten Dicke nach der Bearbeitung einer Dickendimension der nach der Bearbeitung des lackierten Plattenzylinders verbliebenen Kupfersulfatplattierung subtrahiert von einer Dicke der Kupfersulfatplattierung ist, größer ist als der maximale Schneidrand und/oder wenn eine exzentrische Menge, die dem halben Wert der Differenz zwischen dem gemessenen Maximalradius und dem gemessenen Minimalradius entspricht, geringer ist als eine zulässige exzentrische Menge, wird die Operation auf ein Bearbeitungsprogramm übertragen und ein Punkt des gemessenen Mindestradiuswerts auf der Rollenoberfläche wird unter den Mindestschneidrand geschnitten oder geschabt.
• Anschließend führen die Schneidwerkzeuge 8g, 8h, ..., die an der Schneidwerkzeugauflage 8e installiert sind, eine automatische Endflächenbearbeitung und eine Präzisionszylinderbearbeitung durch. Detaillierte Beschreibungen von 4 und 5 sind weggelassen.
• Die Schleifmaschine 9 führt eine Schleifoperation wie folgt an einer photogravurplattierten Rolle aus, die von der NC-Drehbank 8 zylindrisch bearbeitet und anschließend kupfersulfatplattiert wird. Die Schleifmaschine 9 ist beispielsweise eine Doppelgegenkopf-Maschine, bestehend aus einem mittleren Feinschleifstein 9a mit #1000 und einem Präzisionsschleifstein 9b mit #6000; der mittlere Feinschleifstein 9a mit #1000 führt einen Schleifvorgang zur Verringerung einer Oberflächenrauheit nach dem Kupferplattieren durch, und der Präzisionsschleifstein 9b mit #6000 führt einen Schleifvorgang zur Verringerung einer Oberflächenrauheit durch und des weiteren eine Spiegelschleifung. Statt der Schleifmaschine 9 kann auch eine Partikelschleifoperation mit einer Elektrolyse-Schleifmaschine durchgeführt werden.
• Die Rollenablagevorrichtung 10 ist in diesem Ausführungsbeispiel auf der Vorrichtung 6 zur Beschichtung lichtempfindlicher Filme und der Infrarotlaser-Belichtungsvorrichtung 7 installiert. Die Rollenablagevorrichtung 10 kann eine Drehtischstruktur aufweisen, auf der die photogravurplattierte Rolle um etwa 70° geneigt und in der Erzeugenden einer konischen Oberfläche angebracht ist.
• Im Arbeitsbereich des Industrieroboters 1 im Plattenherstellungsraum H1 wird die photogravurplattierte Rolle R bis an die Stelle weiter bewegt, wo eine der Vorrichtungen sie behandelt. Während des Vorgangs wird die Rollenablagevorrichtung 10 versorgt.
• Die Rollenfixierungs- oder Entfernungsvorrichtung 19 ist an der Stelle zunächst dem Plattenherstellungsraum H1 installiert, besitzt zwei konische Rollen an einer Achse, zwei Aufnahmeschienen sind nebeneinander angeordnet, wobei die kleineren Enden der konischen Rollen einander gegenüber angeordnet sind und der Industrieroboter 1 die Montage der photogravurplattierten Rolle an den zwei Aufnahmeschienen ermöglicht. Die an der Ablagevorrichtung 18 versorgte Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung wird vom Stapelkran 2 angehoben und transportiert und am Rahmen der Rollenfixierungs- oder Entfernungsvorrichtung 19 montiert. Die Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung kann die photogravurplattierte Rolle R an beiden Enden mit einem Paar gegenüber angeordneter Einspannmittel einspannen. Der Stapelkran 2 transportiert die Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung mit der an beiden Enden eingespannten photogravurplattierten Rolle R und ermöglicht die Anbringung und Montage des Rahmenteils der Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung von der Vorrichtung 10 am Rahmenteil 19.
• Die Oberflächenaktivierungsvorrichtung 11 unterstützt die vom Stapelkran 2 transportierte Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung vor Durchführung einer Nickelplattierung, rotiert die an beiden Enden von der Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung gehaltene photogravurplattierte Rolle R, und ein Arbeitsgang zum Eintauchen derselben in alkalische Flüssigkeit zur Entfernung von Fett und Beizen mit Säureflüssigkeit wird zweimal wiederholt, sie wird in einer Wasserdusche gewaschen und anschließend nach Bedarf mit Trocknungsluft angeblasen.
• Die Nickelplattierungsvorrichtung 12 trägt auf einem Rahmen die vom Stapelkran 2 nach der Oberflächenaktivierung transportierte Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung, rotiert die an beiden Enden von der Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung getragene photogravurplattierte Rolle R, taucht die photogravurplattierte Rolle R in Nickelplattierungsflüssigkeit und rotiert sie darin und trägt die Nickelplattierung so auf sie auf, dass ihre Dicke beispielsweise 2 bis 3 μm erreichen kann. Diese Nickelplattierung ist eine Schnittstelle zur Verwendung im Auftrag einer Kupferplattierung auf die photogravurplattierte Rolle, bei der das Rollenbasismaterial Eisen ist.
• Die Kupfersulfatplattierungsvorrichtung 13 trägt auf einem Rahmen die vom Stapelkran 2 nach der Nickelplattierung transportierte Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung, rotiert die an beiden Enden von der Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung getragene photogravurplattierte Rolle R, taucht die photogravurplattierte Rolle R in Kupfersulfatplattierungsflüssigkeit und rotiert sie darin und trägt die Kupfersulfatplattierung so auf sie auf, dass ihre Dicke beispielsweise 100 bis 120 μm erreichen kann.
• Die Chromplattierungsvorrichtung 14 trägt auf einem Rahmen die vom Stapelkran 2 nach der Entfernung des Photolackbildes transportierte Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung, rotiert die an beiden Enden von der Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung getragene photogravurplattierte Rolle R, taucht die photogravurplattierte Rolle R in Chromplattierungsflüssigkeit und rotiert sie darin und trägt die Chromplattierung so auf sie auf, dass ihre Dicke beispielsweise 7 bis 8 Meter erreichen kann, und nach Abschluss dieses Vorgangs wird sie mit Wasser gewaschen. Anstatt der Chromplattierungsvorrichtung 14 kann unter Umständen auch eine Nickellegierungs-Plattierungsvorrichtung installiert sein, die ein Quenchen ermöglicht. Wenn die Nickellegierungs-Plattierungsvorrichtung installiert werden soll, muss ein Quenchen mit Laserstrahlen oder ein Hochfrequenz-Quenchen durchgeführt und eine entsprechende Vorrichtung installiert werden.
• Die Entwicklungsvorrichtung 15 trägt auf einem Rahmen die vom Stapelkran 2 transportierte Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung nach Abschluss eines Bilddruckvorgangs, rotiert langsam die an beiden Seiten von der Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung getragene photogravurplattierte Rolle R, nachdem ein Tank mit alkalischer Entwicklerflüssigkeit einen Deckel geöffnet hat und ansteigt, taucht die photogravurplattierte Rolle R in alkalische Entwicklerflüssigkeit und rotiert sie darin. Der belichtete Teil des lichtempfindlichen Films wird in alkalischer Flüssigkeit gelöst, um das Photolackbild mit der zurück bleibenden Nicht-Bildlinie zu bilden, und nach Abschluss der Entwicklungsoperation senkt sich der Tank wieder, der Deckel wird geschlossen, die alkalische Entwicklerflüssigkeit wird weggewaschen und ein Waschvorgang mit Wasser durchgeführt.
• Als Entwicklerflüssigkeit wird ein Entwicklermittel für eine positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, bestehend aus (a) Orthosilicium-Soda, (b) Trinatriumphosphat, (c) oberflächenaktivem Mittel und dergleichen verwendet.
• Ferner kann auch die Entwicklungsvorrichtung 15 an einer Stelle in der Nähe eines äußeren Betriebsteils des Roboterraums installiert sein, und die Entwicklungsoperation kann manuell und getrennt von einer automatischen Entwicklungslinie gesteuert werden. In diesem Fall sind zusätzlich eine Einspannvorrichtung und eine Vorrichtung zur Durchführung einer wasserdichten Operation am Einspannteil installiert, weil die Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung nicht verwendet werden kann. Außerdem ist die Anbringung einer Entfeuchtungsvorrichtung im Gehäuse empfehlenswert.
• Die Korrosionsvorrichtung 16 taucht die photogravurplattierte Rolle R in eine wässrige Lösung von Kupfer(II)Chlorid und rotiert die Rolle für eine Kollision mit einer Kupfer-belichteten Oberfläche, die vom Photolackbild der photogravurplattierten Rolle R nicht bedeckt ist, und um eine Zelle zu bilden.
• Die Vorrichtung 17 zur Entfernung des Photolackbilds taucht die photogravurplattierte Rolle R in eine stärker alkalische Flüssigkeit als die Entwicklungsflüssigkeit und rotiert sie, um das Photolackbild zu lösen, um den lichtempfindlichen Film mit stärker alkalischer Flüssigkeit zu belichten und zu härten und um diesen von der photogravurplattierten Rolle R zu trennen.
• Im Rollentransportbereich des Stapelkrans 2 im Plattenherstellungsraum H2 wird die photogravurplattierte Rolle R, die an einer der betriebenen Vorrichtungen bis zu diesem Punkt vorgeschritten ist, an der Ablagevorrichtung 18 versorgt, während die Rolle an der Rotationsvorrichtung 3 zur Rollenfixierung oder Entfernung eingespannt ist.
• Ein Programm zur Steuerung der Schritte zur Herstellung der Photogravurplatte ist für die Gesamtsteuerung des Systems in der Steuerung 20 gespeichert.
• In den nachstehenden Schritten wird eine Plattenherstellung für eine photogravurplattierte Rolle des Direktplattentyps ausgeführt.
• [Laden]
• Eine photogravurplattierte Rolle wird an der Rollmessvorrichtung 4 befestigt, um ihre Länge, ihren Außendurchmesser und den Einspannlochdurchmesser zu messen; anschließend übernimmt der Industrieroboter 1 die photogravurplattierte Rolle.
• Für den Fall, dass die Länge, der Außendurchmesser und der Einspannlochdurchmesser der photogravurplattierten Rolle bereits bekannt sind, wird die photogravurplattierte Rolle an die Rollenaufspann-/entnahmevorrichtung 5 gelehnt und von dieser Vorrichtung in horizontaler Lage gehalten. Dann übernimmt der Industrieroboter 1 die photogravurplattierte Rolle.
• Dann lagert der Industrieroboter 1 die photogravurplattierte Rolle in der Rollenablagevorrichtung 10 oder liefert sie an die NC-Drehbank 8.
• [Zellbildschneiden]
• Die NC-Drehbank 8 misst einen Durchmesser der photogravurplattierten Rolle über mehrere Punkte und führt in Reaktion auf das Ergebnis von Messen und Zellbildschneiden eine erforderliche und minimal präzise zylindrische Bearbeitungsoperation durch.
• [Oberflächenaktivierung – Plattieren]
• Die photogravurplattierte Rolle wird nach durchgeführter Präzisionszylinderbearbeitung mit der NC-Drehbank 8 mit der Vorrichtung 11 zur Oberflächenaktivierung zur Oberflächenaktivierung verarbeitet, von der Vorrichtung 12 zur Nickelplattierung wird eine Nickelplattierung durchgeführt, um eine Dicke von 2 bis 3 μm zu erreichen, und dann wird mit der Vorrichtung 13 zur Kupfersulfatplattierung eine Kupfersulfatplattierung durchgeführt, um eine Dicke von etwa 40 μm zu erreichen.
• [Schleifen]
• Eine Oberflächenhaut der photogravurplattierten Rolle mit daran haftender Kupferplattierung wird mit dem Schleifapparat 9 geschliffen. Zuerst wird die Oberflächenrauheit verringert, dann wird ein Spiegelschliff ausgeführt.
• [Wischen-Beschichten des lichtempfindlichen Films – Filmherstellung – Reduzierung des restlichen Lösemittels]
• Die photogravurplattierte Rolle wird an beiden Enden in die Vorrichtung 6 zur Beschichtung des lichtempfindlichen Films eingespannt, mit niedriger Geschwindigkeit in Rotation versetzt, mit einem Wischtuch gewischt und gereinigt. Anschließend wird die Beschichtung des lichtempfindlichen Films unter einem kontaktlosen Spiralabtastsystem für das positiv arbeitende lichtempfindliche Mittel durchgeführt. Nach Abschluss des Beschichtungsvorgangs wird die langsame Rotation beispielsweise weitere 10 Minuten fortgesetzt und der Film bei natürlicher Trocknung hergestellt; anschließend wird die Rotation auf eine Hochgeschwindigkeitsrotation geändert, die 10 Minuten lang fortgesetzt wird, um anschließend beispielsweise das restliche Lösemittel im positiv arbeitenden lichtempfindlichen Film zu reduzieren.
• [Belichtung/Ablation eines Positivbilds]
• Die photogravurplattierte Rolle wird an beiden Enden an der Infrarotlaser-Belichtungsvorrichtung 7 eingespannt und mit der gewünschten hohen Geschwindigkeit in Rotation versetzt. Ein Infrarotlaser-Belichtungskopf wird angenähert, um ein Positivbild zu belichten. Die Hauptkette oder Seitenkette der Moleküle in dem den lichtempfindlichen Film bildenden Harz werden am belichteten Element gebrochen, um kleinere Moleküle mit höherer Alkalilöslichkeit zu erhalten, und gleichzeitig wird auf geeignete Weise ein Latentbild mit einer Ablation der lichtempfindlichen Schicht gebildet.
• [Entwicklung]
• Eine Entwicklung wird an der Entwicklungsvorrichtung 15 mit einer alkalischen Entwicklerflüssigkeit mit etwa pH 10,0 bis 11,0 durchgeführt, um eine Negativmaske für ein Photolackbild zu bilden.
• [Ätzvorgang – Zellbildung]
• Der Ätzvorgang wird an einer Korrosionsvorrichtung 16 mit Kupfer(II)Chlorid-Flüssigkeit zur Bildung einer Zelle durchgeführt (eine Kerbe zur Farbspeicherung).
• [Entfernen eines Photolack-Bildes]
• Ein Photolackbild wird mit alkalischer Flüssigkeit entfernt (pH etwa 13,0 bis 13,5), die stärker alkalisch ist als die alkalische Entwicklerflüssigkeit an der Vorrichtung 17 zur Entfernung des Photolackbilds.
• [Chromplattierung]
• Eine Hartchromplattierung mit einer Dicke von 7 bis 8 μm wird von der Vorrichtung 14 zur Chromplattierung aufgebracht.
• [Sandstrahlen]
• Sandstrahlen wird mit einem Schleifpapier durchgeführt. Das Sandstrahlen kann eingeteilt werden in ein automatisch im Inline-Modus durchgeführtes und in ein manuell im Out-of-line-Modus durchgeführtes.
• [Abspannen]
• Die photogravurplattierte Rolle mit abgeschlossener Plattenherstellung wird auf einer Pritsche der Rollenaufspann-/entnahmevorrichtung 5 montiert. Deren Tor wird geöffnet und die Pritsche der Rollenaufspann-/entnahmevorrichtung 5 wird aufrecht gestellt und manuell entladen.
• In dem Fall, dass die NC-Drehbank 8 nicht installiert ist, nimmt stattdessen der Schleifapparat 9 eine Bearbeitungsoperation vor.
• Zu diesem Zeitpunkt wird die photogravurplattierte Rolle an der Rollmessvorrichtung 4 befestigt, um ihre Länge, den Außendurchmesser und den Einspannlochdurchmesser zu messen; dann wird eine Durchmessermessung zum Messen eines Durchmessers von einem Ende zum anderen Ende der Rolle für jede festgelegte Teilung durchgeführt und die Rolle mit dem Schleifapparat 9 geschliffen. Dieser Schleifschritt mit dem Schleifapparat 9 wird so durchgeführt, dass eine Korrekturschleifung zur gleichmäßigen Ausformung eines Durchmessers mit einem rauhen Schleifstein – Zellbildschneiden mit Rauhschleifen – und eine Oberflächenschleifung mit dem rauhen Finish-Schleifstein durchgeführt werden, bevor die Oberflächenaktivierung durchgeführt wird. Aufgrund dieser Tatsache ist es vorzuziehen, dass der Schleifapparat 9 mit einem Vierkopf-Schleifapparat ausgerüstet ist. Wenn die NC-Drehbank 8 nicht installiert ist, wird eine Vorrichtung zum Entfernen von Chrom angeordnet, und anschließend wird eine Chromentfernung durchgeführt, so dass die Rolle nach Messen der Rolle und vor dem Korrekturschleifen in Chlorwasserstoffsäure getaucht und in Rotation versetzt wird.
• Die Plattenherstellung für die photogravurplattierte Rolle des Balladenplattierungstyps wird wie folgt durchgeführt:
  Aufspannen nach dem Abzug der Balladenplattierung – Oberflächenaktivierung – Beschichtung von Silberoxalat-Flüssigkeit (Flüssigkeit zur Schwächung der Haftung der Balladen-Kupfersulfatplattierung) – Balladen-Kupfersulfatplattierung – Messen mit einer Rollenmessvorrichtung – Korrekturschleifen, Finish-Schleifen, Spiegelschleifen – Wischen mit einem Wischtuch – kontaktlose Beschichtung mit dem positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittel – Filmbildung durch natürliches Trocknen – Reduzierung des restlichen Lösemittels im positiv arbeitenden lichtempfindlichen Film – Belichtung des Positivbilds mit Infrarotlaser – Entwicklung – Bildung der Ätzzelle – Entfernen des Photolackbilds – Chromplattierung – Entnahme.
• Es ist auch möglich, das Messen der Rolle mit der Rollenmessvorrichtung und das Korrekturschleifen vermieden werden.
• Die Plattenherstellung an der photogravurplattierten Rolle vom Zellbildschneidtyp unter Verwendung von Aluminium als Rollenbasismaterial wird wie folgt unter einer Bedingung durchgeführt, bei der Aluminium von der Drehbank keiner Präzisionszylinderbearbeitung unterzogen wird.
• Aufspannen – Präzisionszylinderbearbeitung mit Drehbank – Zellbildschneiden – Finish-Schleifen – Oberflächenaktivierungsverarbeitung – Kupfersulfatplattierung – Finish-Schleifen Spiegelschleifen – mit Wischtuch abwischen – kontaktloses Beschichten mit dem positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittel – Filmbildung bei natürlicher Trocknung – Reduzierung des Restlösemittels im positiv arbeitenden lichtempfindlichen Film – Belichtung des Positivbilds mit Infrarotlaser – Entwicklung – Zellbildung, Ätzen – Entfernen des Photolackbilds – Chromplattierung – Entnahme.
• Weiter kann das Finish-Schleifen nach dem Zellbildschneiden vermieden werden.
• Zum Aufbringen einer Nickelplattierung auf das Aluminiumrollen-Basismaterial wird als Vorbehandlung eine Oberflächenbehandlung im Anoden- oder Zinkatverfahren vorgenommen, um einen Schnittstellen-Dünnfilm zur Verbesserung einer Haftung zu bilden; auch kann eine Vorrichtung für diese Operation in Inline-Anordnung im Plattenherstellungsraum H2 installiert werden.
• Nach Abschluss der Beschreibung hinsichtlich der Plattenherstellungslinie und der Beschreibung hinsichtlich des Plattenherstellungsschritts wird nachstehend weiter ein wichtiger Punkt des Verfahrens zur Herstellung einer Photogravurplatte beschrieben.
• Es ist vorzuziehen, dass eine Einschlussrate von Feststoffsubstanz der alkalilöslichen organischen Polymersubstanz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe in die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung 80 bis 96 Gewichtsprozent ist, und es ist weiter vorteilhaft, dass dieser Wert bei 90 bis 94 Gewichtsprozent liegt.
• Es ist vorzuziehen, dass eine Einschlussrate der Feststoffsubstanz der photothermischen Wandlungsubstanz in die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung 1 bis 10 Gewichtsprozent ist, und es ist weiter vorteilhaft, dass dieser Wert 2 bis 4 Gewichtsprozent beträgt.
• Es ist vorzuziehen, dass eine Einschlussrate der Feststoffsubstanzen in Polyvinylpolypyrrolidon/Polyvinylacetat-Copolymere oder dergleichen als alkalilösliches Harz 1 bis 10 Gewichtsprozent ist, und es ist weiter vorteilhaft, dass dieser Wert 2 bis 4 Gewichtsprozent beträgt.
• Die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung wird in ihrem dünnsten Lösemittelstatus verwendet. Eine Nutzungsrate des Lösemittels liegt in diesem Fall normalerweise in einem Bereich von etwa 1 bis 20 Mal in bezug auf eine Gesamtmenge der lichtempfindlichen Zusammensetzung nach dem Gewichtsverhältnis.
• Als alkalilösliche organische Polymersubstanz mit phenolischer Hydroxylgruppe können Novolak-Harz, Resolharz, Polyvinylphenolharz, Copolymere von Acrylsäurederivat mit Hydroxylgruppe, alkalilösliches Epoxidharz mit einem mit einer phenolischen Hydroxylgruppe zur Reaktion gebrachten Epoxidharz und dergleichen und zusätzlich alkalilösliche organische Polymersubstanz mit phenolischen Hydroxylgruppen gemäß Beschreibung in der Japanischen Patentoffenlegung Nr. 1999(11)-231515 so wie sie sind angewendet werden, und insbesondere Novolak-Harz oder Polyvinylphenolharz wird vorzugsweise angewendet.
• Novolak-Harz ist Harz, bei dem mindestens eines der Phenole mit mindestens einem der Aldehyde oder Ketone in Anwesenheit eines Säurekatalysators polykondensiert wurde. Insbesondere handelt es sich um ein Polykondensationsmaterial gemischter Phenole, zusammengesetzt aus m-Cresol, p-Cresol, 2,5-Xylenol, 3,5-Xylenol und Resorcinol, oder gemischten Phenolen, zusammengesetzt aus Phenol, m-Cresol und p-Cresol und Formaldehyd, und das durchschnittliche durch Polystyrol reduzierte Molekulargewicht (MW) mittels Gelpermeationschromatographiemessung beträgt vorzugsweise 1.500 bis 10.000.
• Resolharz ist Harz, das auf die selbe Weise polykondensiert ist, ausgenommen den Auftrag eines alkalischen Katalysators anstatt eines Säurekatalysators bei der Polykondensierung von Novolak-Harz.
• Polyvinylphenol-Harz ist Harz, bei dem beispielsweise ein oder mehr als zwei Arten von Hydroxystyrolen in Anwesenheit eines Radikal-Polymerisationsauslösers oder Kation-Polymerisationsauslösers polymerisiert werden. Es ist vorzuziehen, ein Polymer von Hydroxystyrolen anzuwenden, die eine Alkylgruppe besitzen, deren 1 bis 4 Kohlenstoffe als Substitution auf dem Benzolring aufgebracht sind, oder ein Polymer aus Hydroxystyrolen mit einem Benzolring ohne Substitution.
• Die photothermische Umwandlungssubstanz besitzt in einem Teil oder im gesamten Infrarotwellenbereich mit einer Wellenlänge von 700 bis 1.100 nm einen Absorptionsbereich, besitzt ein Merkmal für die Absorption von Laserstrahlen im Infrarotwellenlängenbereich zur Durchführung einer Thermolyse und trägt zur Bildung alkalilöslicher kleinerer Moleküle und Abrasion durch thermisches Brechen von Molekülen der alkalilöslichen organischen Polymersubstanzen mit der erwähnten phenolischen Hydroxylgruppe bei. Eine erhöhte oder verminderte Menge hinzugefügten Volumens der photothermischen Umwandlungssubstanzen wird mit einer überschüssigen Menge bzw. einer zu geringen Menge von Wärme in Beziehung gesetzt, die durch Belichtung geschaffen wird. Ein starker oder schwacher Status des Infrarotlaserstrahls wird mit einer übermäßigen oder schwachen Thermolyse der alkalilöslichen organischen Polymersubstanz in Beziehung gesetzt, die im belichteten Teil vorhanden ist, so dass sie auf eine angemessene Menge eingestellt wird.
• Als photothermische Umwandlungssubstanz können organische oder nicht-organische Pigmente oder Farbstoffe, organische Pigmente, Metalle, Metalloxide, Metallcarbid, Metallborid oder dergleichen und die photothermische Umwandlungssubstanz gemäß der Japanischen Patentoffenlegung Nr. 1999(11)-231515 mit einem Absorptionsbereich in einem Teil oder im gesamten Infrarotbereich mit einer Wellenlänge von 700 bis 1.100 nm vollständig angewendet werden wie sie sind. Heterozyklen oder dergleichen, die ein Stickstoffatom, ein Sauerstoffatome oder ein Schwefelatom und dergleichen enthalten, werden mit Polymethin (-CH=)n kombiniert; das breit definierte sogenannte Cyaninpigment kann als typisch angewendet werden und praktischer Weise beispielsweise vom Chinolintyp (sogenannter "Cyanin-Typ"), Indoltyp (sogenannter Indocyanintyp), Benzothiazoltyp (sogenannter "Thiocyanintyp"), Iminocyclohexadientyp (sogenannter "Polymethintyp"), Pyryliumtyp, Thiapyryliumtyp, Squaryliumtyp, Chloroniumtyp, Azuleniumtyp oder dergleichen, und insbesondere vom Chinolintyp, Indoltyp, Benzothiazoltyp, Iminocyclohexadientyp, Pyryliumtyp oder Thiapyryliumtyp sein. Insbesondere bevorzugt sind Phthalocyanin oder Cyanin.
• Für das Lösemittel ist keine spezifische Einschränkung erforderlich, wenn die Lösemittelsubstanz eine ausreichende Löslichkeit bezüglich der aufgebrachten Komponente besitzt und eine gute Filmbeschichtungsfähigkeit vermittelt. Cellosolv-Lösemittel, Propylenglykol-Lösemittel, Ester-Lösemittel, alkoholische Lösemittel, Keton-Lösemittel und hochpolare Lösemittel können angewendet werden.
• Als Cellosolv-Lösemittel können Methylcellosolv, Ethylcellosolv, Methylcellosolvacetat, Ethylcellosolvacetat und dergleichen verwendet werden.
• Als Propylenglykol-Lösemittel können Propylenglykol-Monomethylether, Propylenglykol-Monoethylether, Propylenglykol-Monobutylether, Propylenglykol-Monomethyletheracetat, Propyleneglykol-Monoethyletheracetat, Propylenglykol-Monobutyletheracetat und Dipropylenglykol-Dimethylether und dergleichen verwendet werden.
• Als Ester-Lösemittel können Butylacetat, Amylacetat, Ethylbutyrat, Butylbutyrat, Diethyloxolat, Pyruvinsäureethyl, Ethyl-2-hydroxybutylat, Ethylacetoacetat, Laktatmethyl, Laktatethyl, 3-Methoxypropionsäuremethyl oder dergleichen angewendet werden.
• Als alkoholische Lösemittel können Heptanol, Hexanol, Diacetonalkohol, Furfurylalkohol oder dergleichen angewendet werden.
• Als hochpolare Lösemittel können Keton-Lösemittel wie Cyclohexanon, Methylamylketon, Dimethylformamid, Dimethylacetamid, N-Methylpyrrolidon oder dergleichen angewendet werden.
• Zusätzlich können Essigsäure oder gemischte Lösemittel dieser Komponenten und mit aromatischen Kohlenwasserstoffen versetzte Lösemittel angewendet werden.
• Es kann auch zutreffen, dass die positiv arbeitende lichtempfindliche Verbindung einen Entwicklungsbeschleuniger oder ein Auflösungssuppressor enthält.
• Es ist vorzuziehen, dass beispielsweise eine kleine Menge Dicarbonsäure oder Amine oder Glykole zu dem Entwicklungsbeschleuniger zugegeben werden.
• Als Auflösungssuppressor ist ein saures Färbungspigment mit Laktonstruktur vorzuziehen. Dieser Auflösungssuppressor hat eine Funktion zur Bildung einer Wasserstoffkopplung mit der alkalilöslichen organischen Polymersubstanz, um eine Löslichkeit der Polymersubstanz zu reduzieren und damit eine Zeitverzögerung für die Löslichkeit mit Bezug auf die alkalische Entwicklerflüssigkeit am belichteten Element und nichtbelichteten Element zu vergrößern, und dient weiter zur geringen Absorption von Licht im Infrarotbereich und wird nicht mit Licht im Infrarotbereich gelöst.
• Als weitere Auflösungssuppressoren können Säurefärbungspigmente mit einer Thiolactonstruktur, N,N-Diarylamidstruktur und Diarylmethyliminostruktur, Basenfärbungspigmente mit Sulfolactonstruktur, nichtionische oberflächenaktive Mittel oder dergleichen verwendet werden, wie Sulfonat, Phosphat, aromatisches Carboxylat, aromatische Disulfonsäure, Carbonsäureanhydrid, aromatisches Keton, aromatisches Aldehyd, aromatisches Amin, aromatischer Ether und dergleichen.
• Die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung wird normalerweise als positiv arbeitender lichtempfindlicher Film angewendet, der aus einer Schicht aus einer lichtempfindlichen Zusammensetzung auf einer Oberfläche eines Unterlageelements gebildet wird, wozu eine Methode zur Anwendung kommt, bei der eine Lösung mit jeder der genannten Komponenten, gelöst in Lösemitteln wie Cellosolv-Lösemittel oder Propylenglykol-Lösemittel, auf eine Kupferplattierungsfläche oder eine Kupfersulfatplattierungsfläche der photogravurplattierten Rolle für eine Photogravurdruckoperation beaufschlagt wird, die als Oberfläche des Unterlageelements dient, des weiteren natürlich getrocknet wird, woraufhin die Rolle mit hoher Geschwindigkeit in Rotation versetzt wird, Luft auf die Oberfläche der photogravurplattierten Rolle aufgeblasen wird und eine von einer Zentrifugalkraft im lichtempfindlichen Film und einem leicht negativen Druckstatus nahe der Oberfläche verursachte Massenaktion dazu führt, die Restkonzentration des Lösemittels auf 6% oder weniger zu reduzieren.
• Obwohl es vorzuziehen ist, die Vorrichtung 6 zur Beschichtung eines lichtempfindlichen Films als Beschichtungsmethode zu wählen, die eine Feuchtmittelbeschichtung gemäß 1 ist, ist dieses Verfahren nicht darauf beschränkt. Es ist auch möglich, eine Meniskusbeschichtung oder eine Tauchbeschichtung mit einer Vertikaltauchvorrichtung durchzuführen. Eine Dicke des Beschichtungsfilms kann in einem Bereich von etwa 1 bis 6 μm gewählt werden, und es ist vorzuziehen, diese in einem Bereich von etwa 3 bis 5 μm festzulegen.
• Als Lichtquelle für die Belichtung eines Bildes in einer Schicht einer positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung ist die Anwendung eines Halbleiterlasers oder eines YAG-Lasers empfehlenswert, der einen Infrarotlaserstrahl mit einer Wellenlänge von etwa 700 bis 1.100 nm erzeugt. Es ist auch die Verwendung eines Festkörperlasers möglich, etwa eines Rubinlasers und einer LED oder dergleichen.
• Vorzüglich beträgt eine Strahlintensität der Laserlichtquelle 2,0 × 106 mJ/s cm² oder mehr, und besonders bevorzugt ist ein Wert von 1,0 × 107 mJ/s cm² oder mehr.
• Als Entwicklerflüssigkeit für einen lichtempfindlichen Film, der unter Anwendung der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung gebildet wurde, ist die Anwendung eines Entwicklermittels empfehlenswert, das aus nichtorganischem oder organischem Alkali, Salzen von Na, K oder organischem Alkali, TMAH oder Cholin und dergleichen zusammengesetzt ist. In einem Experiment wurde als Entwicklerflüssigkeit original Entwicklerflüssigkeit mit (a) Orthosilikatsoda (b) Phosphor(V)-Tersoda usw. (c) oberflächenaktivem Mittel und dergleichen angewendet.
• Der Entwicklungsvorgang wird normalerweise mittels einer Immersionsentwicklung, Sprühentwicklung, Bürstenentwicklung und Ultraschallentwicklung oder dergleichen bei einer Temperatur von etwa 15 bis 45°C und vorzugsweise bei einer Temperatur von etwa 27 bis 32°C durchgeführt.
• [Entwicklungsbreite der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung]
• Die Entwicklungsbreite der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung wird durch das Phänomen erreicht, dass
• (1) ein Kopplungsgrad der Filme adäquat ist, entweder die Hauptkette oder die Seitenkette der Moleküle am belichteten Abschnitt durch die Belichtung mit dem Infrarotlaserstrahl gebrochen werden, eine physische Änderung, wie eine Konformationsänderung, damit die Moleküle kleiner werden und eine höhere Alkalilöslichkeit aufweisen und dass eine adäquate Dispersionsablation der lichtempfindlichen Schicht erzeugt wird, um einen Dünnfilm zu erzeugen, und das Molekül geändert wird, um in der alkalischen Entwicklerflüssigkeit in kurzer Zeit gelöst zu werden; und
• (2) der nichtbelichtete Teil über eine relativ längere Dauer als der belichtete Teil nicht aufgelöst wird, bis er mit alkalischer Entwicklerflüssigkeit aufgelöst wird, auch wenn eine geringe Variation in Temperatur und Feuchtigkeit stattfindet, und eine starke und enge Haftung an der beschichteten Oberfläche gegeben ist.
• Die Entwicklungsbreite kann nicht erreicht werden, wenn die Adhäsion des Materials (Haftungs-Reformierungsmittel), welches die Haftung bewirkt, stark ist, wobei eine schwache Adhäsion der alkalilöslichen organischen Polymersubstanzen mit einer phenolischen Hydroxylgruppe verstärkt werden kann. Die Realisierung der Adhäsion, die von dem die Haftung an der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung bewirkenden Material verursacht wird, ist relativ vom Typ und der hinzugefügten Menge des Materials abhängig, das die Haftung bewirkt.
• So werden beispielsweise im Fall der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, für die Titanalkoxid als Material zur Förderung einer Haftung gewählt wurde und der eine hohe Menge Titanalkoxid zugefügt wurde, eine Festigkeit, Stabilität und enge Passung des gesamten Films nach dem Brennvorgang zu stark, mit der Folge, dass eine physische Änderung, etwa eine Konformationsänderung durch eine Belichtung mit dem Infrarotlaser oder Streuung an der lichtempfindlichen Schicht (Ablation) nicht erzeugt wird; und auch wenn die Entwicklungsoperation durchgeführt wird, wird der belichtete Teil in der Entwicklerflüssigkeit kaum gelöst und ein gesamter Film nicht verkleinert. Das heißt, die Entwicklungsbreite kann absolut nicht erreicht werden.
• Wenn eine hinzugefügte Menge schrittweise reduziert wird, verkleinert sich der Film, und es kommt zur geringfügigen Produktion eines Bereichs, in dem die Entwicklungsbreite erreicht werden kann, wobei allerdings eine geringe Differenz in der Raumtemperatur oder der Luftfeuchtigkeit sofort dazu führt, dass die Entwicklungsbreite nicht erreicht wird.
• Auch wenn dem gegenüber ein Silan-Kopplungsmittel zu der alkalilöslichen organischen Polymersubstanz mit phenolischen Hydroxylgruppen hinzugefügt wird, wird keine starke Adhäsion erzielt. Es gibt keinen Unterschied zwischen der Situation, in der die Schicht der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung am belichteten Teil in der alkalischen Entwicklerflüssigkeit gelöst ist, und der anderen Situation, in der die Schicht der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung am nichtbelichteten Teil in der alkalischen Entwicklerflüssigkeit gelöst ist. Die beiden Situationen ereignen sich gleichzeitig, und die Entwicklungsoperation wird nicht erreicht.
• Ferner wird die folgende positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung unter den Bedingungen einer Raumtemperatur von 25°C und einer Luftfeuchtigkeit von 25% bis 60% hergestellt. Die Zusammensetzung wird auf eine Kupferoberfläche oder eine Kupfersulfat-plattierte Oberfläche beaufschlagt, eine Konzentration des restlichen Lösemittels beträgt 6% oder weniger, eine vorzügliche Entwicklungsoperation, die zur Realisierung eines scharfen Musters in etwa 60 bis 70 Sekunden ohne Erzeugung von Resten geeignet ist, kann durchgeführt werden.
• Die beste Entwicklungsbreite wird erreicht, wenn Vinylpyrrolidon/Dimethylaminoethylmethacrylat-Copolymere und dergleichen mit einem Anteil von etwa 3% in der Feststoffsubstanz enthalten sind.
• [Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung]
• Die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung enthält eine alkalilösliche organische Polymersubstanz reagiert mit Epoxidharz mit einer phenolischen Hydroxygruppe oder mit einer phenolischen Hydroxygruppe, und eine photothermische Umwandlungssubstanz zur Absorption der Infrarotstrahlen einer Bildbeaufschlagungslichtquelle und Umwandlung derselben in Wärme. Als Haftungs-Reformierungsmittel wird eine der nachstehenden Substanzen zugemischt und hinzugefügt: Vinylpyrrolidon/Vinylacetat-Copolymere, Polyvinylbutyral, Styrol/Maleinsäure-Copolymere, Vinylpyrrolidon/Dimethylaminoethylmethacrylat-Copolymere, Terpolymere aus Vinylpyrrolidon/Vinylcaprolactam/Dimethylaminoethylmethacrylat, Polyvinylformalharz oder Terpenphenolharz oder Alkylphenolharz, Melamin/Formaldehydharz, Polyvinylacetat oder Ketonharz. (Chemische Formel 2) Vinylpyrrolidon/Vinylacetat-Copolymere

  

  (Chemische Formel 3)

  

  (Chemische Formel 4)

  

  (Chemische Formel 5)

  
• In der Formel (5) bezeichnet R1 entweder ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R2 bezeichnet ein Wasserstoffatom, eine Hydroxygruppe, eine Alkylgruppe oder eine Alkoxygruppe, R3 bezeichnet ein Wasserstoffatom oder eine Hydroxyalkylgruppe, R4 und R5 bezeichnen unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine niedrige Alkylgruppe oder eine Gruppe mit einer reaktiven Doppelbindung, m und n bezeichnen Ganzzahlen größer als 1 und m ≧ n. (Chemische Formel 6)

  

  (Chemische Formel 7)

  

  (Chemische Formel 8)

  

  (Chemische Formel 9)

  

  (Chemische Formel 10)

  

  (Chemische Formel 11)

  

  (Chemische Formel 12)

  
• Die [Chemische Formel 2] stellt ein Vinylpyrrolidon/Vinylacetat-Copolymer dar.
• PVP/VA-Copolymere (Vinylpyrrolidon/Vinylacetat-Copolymere) sind transparente, thermoplastische lineare regellose Copolymere, in denen Vinylpyrrolidon und Vinylacetat freie Radikale sind, die in einem Verhältnis von 70/30 bis 30/70 polymerisiert sind; das Molekulargewicht beträgt 20.000 bis 50.000, und die Hydrophilie nimmt mit zunehmendem Anteil des Vinylpyrrolidons zu.
• PVP/VA-Copolymere sind vorzugsweise so gemacht, dass Vinylpyrrolidon und Vinylacetat ein Verhältnis von 60/40 haben; ein Molekulargewicht beträgt in diesem Fall 45 × 103, und Tg ist 110°C.
• Die [Chemische Formel 3] stellt Polyvinylbutyral dar.
• Polyvinylbutyral:
• Die bestehende chemische Substanz Nr. 6-708 ist eine durch Butyralformation gewonnene Substanz, wobei Butylaldehyd mit Polyvinylalkohol zur Reaktion gebracht wird und eine substanzielle Menge der Hydroxygruppe und Acetylgruppe übrig bleibt und wobei dies durch eine Struktur angezeigt wird, die von einer nachstehenden allgemeinen Formel bezeichnet wird.
• Als PVB sind zahlreiche Produkte bekannt, wie Denka Butyral 5000A, 6000EP, hergestellt von Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha; Produkte von Sekisui Kagaku Kogyo Co., Ltd. BL-1, BL-2, BL-S, BX-L mit niedrigem Polymerisationsgrad; BM-1, BM-2, BM-5, BM-S mit mittlerem Polymerisationsgrad; BH-3, BH-S, BX-1, BX-2, BX-5, BX-55 mit hohem Polymerisationsgrad, und mit Bezug auf ein Ergebnis des Experiments ist es vorzuziehen, dass BL-S, BM-S und BH-S mit Löslichkeiten in unterschiedlichen Arten von Lösemitteln verwendet werden.
• Die [Chemische Formel 4] und die [Chemische Formel 5] stellen Styrol/Maleinsäure-Copolymere dar.
• Styrol/Maleinsäure-Copolymere sind Copolymere von Styrol und Maleinsäure.
• Die in der Formel (4) dargestellten Styrol/Maleinsäure-Copolymere liegen in einem Produkt mit der Bezeichnung Oxilack SA-101 vor, das sind Copolymere aus Styrol und Maleinsäurehalbester. Es ist vorteilhaft, ein Produkt zu verwenden, in dem Maleinsäurehalbester in Styrol-Lösung mit einem Säurewert von 60 bis 90 unter alkoholischer Reaktion eingestellt wird.
• Als Styrol/Maleinsäure-Copolymere gemäß Formel (5) können Copolymere anwesend sein, in denen Styrole wie Styrol, α-Methystyrol, m oder p-Methoxystyrol, p-Methylstyrol, p-Hydroxystyrol, 3-Hydroxymethyl-4-hydroxystyrol oder deren Derivate (Styrol-Monomere) und Maleinsäurederivate, wie Maleinanhydrid, Maleinsäure, Maleinsäuremonomethyl, Maleinsäuremonoethyl, Maleinsäure-mono-n-propyl, Maleinsäure-mono-iso-propyl, Maleinsäure-mono-n-butyl, Maleinsäure-mono-iso-butyl, Maleinsäure-mono-tert-butyl und dergleichen copolymerisiert sind (im weiteren als "Copolymer (a)") bezeichnet. Als Copolymer (a), obwohl in der voranstehenden Strukturformel nicht angezeigt, können Methylmethacrylat, Alkylmethacrylat, wie t-Butylmethacrylat, Alkylacrylat anwesend sein, oder die erwähnten Copolymere (a) sind durch eine Verbindung mit einer reaktiven Doppelbindung (im weiteren: Copolymer (b)) denaturiert. m und n sind in diesen Fällen Ganzzahlen größer als 1 und mit einer Relation m ≧ n, vorzugsweise gilt für m/n = 1 bis 1,1. Als durchschnittliches Molekulargewicht ist ein Wert von 1.500 bis 100.000 vorzuziehen.
• Das genannte Copolymer (b) kann in einem Verfahren hergestellt werden, bei dem eine Säureanhydridgruppe oder eine Carboxygruppe im Copolymer (a) mit ungesättigten Alkoholen reagiert wird, beispielsweise Allylalkohol, 2-Buten-1-2-ol, Furfurylalkohol, Oleylalkohol, Zimtalkohol, 2-Hydroxyethylacrylat, Hydroxyethylmethacrylat, N-Methylolacrylamid und Epoxydverbindungen, die je mit einem Oxilanring und einer reaktiven Doppelbindung versehen sind, wie Glycidilacrylat, Glycidilmethacrylat, Allylglycidilal, α-Ethylglycidilacrylat, Crotonilglycidilether, Itaconsäuremonoalkylmonoglycidilester oder dergleichen. In diesem Fall ist es erforderlich, dass eine Carboxylgruppe, die zur Durchführung einer alkalischen Entwicklungsoperation nötig ist, im Copolymer verblieben ist.
• Epoxydverbindungen mit jeweils einem der erwähnten Oxisilanring und reaktiven Doppelbindung werden mit Material reagiert, das eine reaktive Doppelbindung aufweist, das durch ungesättigten Alkohol des wie oben beschrieben gewonnen Copolymers (b) zugeführt wurde, um eine Konzentration der reaktiven Doppelbindung zu erhöhen, woraufhin ein Copolymer mit einer erhöhten Konzentration der reaktiven Doppelbindung (im weiteren: "Copolymer (c)") hergestellt werden kann.
• Polymer mit einer anderen Carboxygruppe als Styrol/Maleinsäure-Copolymer kann ebenfalls eine reaktive Doppelbindung wie oben beschrieben erreichen. Die Anwendung der reaktiven Doppelbindung auf das Copolymer ist angesichts einer Lichtempfindlichkeit vorzuziehen. Die Synthese dieser Copolymere (Copolymer (a), Copolymer (b), Copolymer (c) und dergleichen) kann nach den Methoden durchgeführt werden, die in den Amtsblättern der Japanischen Patentveröffentlichungen Nummer 1972(47)-25470, 1973(48)-85679 und 1976(51)-21572 beschrieben sind.
• Die [Chemische Formel 6] stellt Vinylpyrrolidon/Dimethylaminoethylmethacrylat-Copolymere dar.
• Die [Chemische Formel 7] stellt Terpolymere aus Vinylpyrrolidon/Vinylcaprolactam/Dimethylaminoethylmethacrylat dar.
• Die [Chemische Formel 8] stellt Polyvinylformal dar.
• Polyvinylformalharz kann als Produkt in einem Verfahren erreicht werden, bei dem Vinylacetatmonomer durch einen Katalysator polymerisiert wird, um Polyvinylacetat herzustellen, dann wird Polyvinylacetat in Essigsäure gelöst, dann Formaldehyd und Schwefelsäure hinzugefügt, um gleichzeitig eine Verseifung (alkalische Hydrolyse) und Formalreaktion durchzuführen; verdünnte Schwefelsäure wird hinzugefügt, um das Polyvinylformalharz zum Absetzen zu bringen, und es folgt eine weitere Verarbeitung in Lösemittelgewinnungs-, Wasch- und Trockenschritten.
• Polyvinylformalharz ist zusammengesetzt aus einer Polyvinylformalgruppe, einer Polyvinylalkoholgruppe und einer Polyvinylacetatgruppe und ist ein ausgezeichneter elektrischer Isolator.
• [Terpenphenolharz und Alkylphenolharz sind nicht als chemische Formel dargestellt].
• Terpenphenolharz und Alkylphenolharz sind Produkte, die von der Arakawa Chemical Industry Ltd. hergestellt werden. Als Terpenphenolharz können die Produktbezeichnungen Tamanor 803L, 901 verwendet werden, und als Alkylphenolharz können die Produktbezeichnungen 520S, 521, 526, 586 und 572S verwendet werden.
• Die [Chemische Formel 9] stellt Melamin/Formaldehydharz dar.
• Melamin/Formaldehydharz wird hergestellt durch die Reaktion vom Melamin (C₃H₆N₆) mit Formaldehyd. Diese Synthesereaktion ist nicht vollständig, und unreagiertes Formaldehyd bleibt übrig.
• Die [Chemische Formel 10] stellt Polyvinylacetat dar.
• Polyvinylacetat ist eine Polymerverbindung aus polymerisierendem Vinylacetat, wobei beispielsweise Sacnor SN-09T (Produktbezeichnung), hergestellt von Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha, verwendet werden kann. Polyvinylacetat hat eine Struktur, die in der folgenden chemischen Formel dargestellt ist; es handelt sich um einen Feststoff mit weißer bis hellgelber Farbe, der nicht in Wasser gelöst ist, aber in Lösemitteln vom Alkohol-, Ethylacetat- und aromatischen Typ löslich ist.
• Die [Chemische Formel 11] und die [Chemische Formel 12] stellen Ketonharz dar.
• Als Ketonharz kann Methylethylketon, Methylisobutylketon, Acetophenon, Cyclohexanon oder Methylcyclohexanon angewendet werden. In diesem Fall ist es vorteilhaft, Cyclohexanon zu verwenden, wie in der Chemischen Formel 11 dargestellt, und Acetophenon, wie in der Chemischen Formel 12 dargestellt.
• [Ausführungsbeispiele und Vergleichsbeispiele]
• [Entwicklungsbreite der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung]
• In Tabelle 1 bis Tabelle 10 sind einige Ergebnisse von Ausführungsbeispielen dargestellt, bei denen die Herstellung der Photogravurplatte im Plattenherstellungsverfahren unter Anwendung dieser positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzungen erfolgte.
• Die folgenden vier Typen einer positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, wie sie in den Ausführungsbeispielen in Tabelle 1 bis Tabelle 10 und dem Vergleichsbeispiel in Tabelle 11 verwendet wurden, wurden als unverdünntes Wasser hergestellt. Die Prozentwerte in Tabelle 1 bis Tabelle 11 sind Gewichtsprozent bezogen auf die Feststoffsubstanz.
• (a) Unverdünnte Lösung A:
• Diese ist aus Novolak-Harz und Phthalocyaninpigment zusammengesetzt, mit einem absorbierenden Band in einem Teil oder im gesamten Infrarotwellenbereich von 700 bis 1.100 nm; absorbiert den Laserstrahl und erreicht eine Thermolyse.
• Als dieses Novolak-Harz wurde Polykondensationssubstanz verwendet, bestehend aus gemischten Phenolen von m-Cresol, p-Cresol, 2,5-Xylenol, 3,5-Xylenol und Resorcinol sowie Formaldehyd.
• (b) Unverdünnte Lösung B:
• Dies ist eine unverdünnte Lösung, zusammengesetzt aus Resolharz und dem erwähnten Phthalocyaninpigment.
• (c) Unverdünnte Lösung C:
• Dies ist eine unverdünnte Lösung, zusammengesetzt aus Polyvinylphenolharz und dem erwähnten Phthalocyaninpigment.
• (d) Unverdünnte Lösung D:
• Dies ist unverdünnte Lösung, zusammengesetzt aus einem Copolymer von Acrylsäurederivaten mit einer phenolischen Hydroxygruppe und Phthalocyaninpigment.
• Die Ausführungsbeispiele und Vergleichsbeispiele wurden so durchgeführt, dass das Rollenbasismaterial in allen Beispielen Eisen ist, wobei eine photogravurplattierte Rolle mit einem Durchmesser von Φ 200 mm, plattiert mit Kupfersulfat und spiegelgeschliffen, an beiden Enden in eine Feuchtmittelbeschichtungsvorrichtung eingespannt wird (eine Entfeuchtungsvorrichtung und eine Befeuchtungsvorrichtung sind installiert, um eine Feuchtigkeit wie gewünscht steuern zu können), wobei das Lösemittel in der positiv arbeitenden, lichtempfindlichen Zusammensetzung während des Beschichtungsvorgangs verdampft wird und ein Verhältnis des enthaltenen Lösemittels daran gehindert wird, sich zu ändern, und wobei die Rolle mit einer Geschwindigkeit von 25 UpM rotiert und ausreichend mit einem Wischtuch abgewischt wird. Dann wird ein Rohr zur Ausgabe von lichtempfindlicher Testflüssigkeit mit einer positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, die mit einem Lösemittel (MEK) auf eine bestimmte Konzentration verdünnt wurde, mit seinem oberen Ende an einem Ende der photogravurplattierten Rolle angesetzt, so dass ein Spalt von etwa 500 μm bleibt. Die lichtempfindliche Testflüssigkeit wird nur in einer Menge ausgegeben, wie sie für den Beschichtungsvorgang erforderlich ist. Das Rohr wird mit einem Spiralscansystem von einem Ende der photogravurplattierten Rolle zum anderen bewegt, um einen gleichmäßigen Auftrag der lichtempfindlichen Testflüssigkeit zu ermöglichen, und seine Rotation wird nach Abschluss des Beschichtungsvorgangs mit 25 UpM 5 Minuten lang fortgesetzt und dann gestoppt. Nach dieser Zeit dauerte es 5 Minuten, bis ein Flüssigkeitstropfzustand beobachtet wurde, und es konnte mit freiem Auge kein Abtropfen von Flüssigkeit beobachtet werden. Dann zeigte sich nach Messen der Filmdicke, dass auf einer unteren Oberfläche der Rolle und auf einer oberen Oberfläche der Rolle kein Unterschied war. Damit wurde bestätigt, dass der getrocknete lichtempfindliche Film sich verfestigen konnte, ohne ein Abtropfen zu verursachen.
• Anschließend wurde die Testrolle mit 100 UpM 10 Minuten lang rotiert, angehalten, und eine Konzentration des Restlösemittels im lichtempfindlichen Film wurde mit 2,9% gemessen.
• Anschließend wurde die Testrolle an der Vorrichtung 7 für Infrarotlaserbelichtung (hergestellt von Think Laboratory Co., Ltd.) befestigt, die einen leistungsfähigen Halbleiterlaserkopf besitzt, hergestellt von der Creo-Scitex Corporation. Laserlicht im Infrarotwellenlängenbereich wurde auf die Testrolle abgestrahlt, der Entwicklertank wurde angehoben, die Entwicklungsoperation wurde etwa 60 bis 70 Sekunden lang durchgeführt, bis der Rest eliminiert war, dann wurde die Rolle mit Wasser gewaschen.
• Durch Anschneiden einer Kante des Photolackbilds wurden Rückstand, Oberflächenzustand des Photolacks und seine Härte mit einem Mikroskop beobachtet, um eine Druckempfindlichkeit, einen besseren oder schlechteren Entwicklungszustand und die Entwicklungsbreite zu beurteilen.
• Bei diesen positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzungen wurde der Beschichtungsfilm auf der Photogravur-plattierten Rolle gebildet. Die Rolle wurde ohne Wärme an der Entwicklungsvorrichtung befestigt, rotiert, der Entwicklertank wurde angehoben, die Entwicklungsoperation etwa 60 bis 70 Sekunden durchgeführt, bis der Rest eliminiert war, dann wurde die Rolle mit Wasser gewaschen, eine Kante des Photolackbilds angeschnitten, der Rückstand, der Oberflächenzustand des Photolacks und seine Härte mit einem Mikroskop beobachtet, um eine Druckempfindlichkeit, einen besseren oder schlechteren Entwicklungszustand, Filmreduktion und Entwicklungsbreite zu beurteilen.
• Obwohl das von der alkalischen Entwicklerflüssigkeit belichtete Bildlinienelement weggewaschen wurde und das von alkalischer Entwicklerflüssigkeit unbelichtete Nicht-Bildlinienelement eine Filmreduktion produzierte, bestätigte das Experiment, dass die Rolle eine Entwicklungsbreite hat, bei der ein scharfes Muster zurückleibt und nicht weggewaschen wird. Tabelle 1

  

  Tabelle 2

  

  Tabelle 3

  
• Hinweis: SM Copolymer ist Styrol/Maleinsäure-Copolymer
Tabelle 4


Tabelle 5


Tabelle 6

Tabelle 7

• Hinweis: TAMANOR803L ist eine Warenbezeichnung von Terpenphenolharz, hergestellt von Arakawa Chemical Industry Ltd.
Tabelle 8

• Hinweis: Hinweis: TAMANOR526 und TAMANOR527S sind Alkylphenolharze, hergestellt von Arakawa Chemical Industry Ltd.
Tabelle 9

Tabelle 10


• Wie oben beschrieben, zeigt die Tatsache, dass die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung ohne Vinylpyrrolidon/Dimethylaminoethylmethacrylat-Copolymere oder Polyvinylbutyral und dergleichen keine Entwicklungsbreite erzeugt, hingegen die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung mit Vinylpyrrolidon/Dimethylaminoethylmethacrylat-Copolymeren oder Polyvinylbutyral und dergleichen sehr wohl eine Entwicklungsbreite erzeugt, dass eine starke Adhäsion von Vinylpyrrolidon/Dimethylaminoethylmethacrylat-Copolymer oder Polyvinylbutyral und dergleichen die schwache Adhäsion von alkalilöslicher organischer Polymersubstanz mit einer phenolischen Hydroxygruppe verstärkt und eine Ursache zur Erzeugung einer Entwicklungsbreite wird.
• Entwicklungsbreite von Vergleichsbeispielen
• Wie in Tabelle 11 dargestellt, könnte eine Brenntemperatur am lichtempfindlichen Film der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, wobei eine organische Titanverbindung zur unverdünnten Lösung der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung hinzugefügt wurde, die aus alkalilöslicher organischer Polymersubstanz mit einer phenolischen Hydroxygruppe und Phthalocyanin-Pigment zusammengesetzt ist, deutlich gesenkt werden.
• Im Fall des lichtempfindlichen Films der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, der eine organische Titanverbindung hinzugefügt wurde, konnte der Film gut auch unter einer Brenntemperatur von 46°C geformt werden, seine Empfindlichkeit wurde verbessert und die Entwicklungsoperation konnte leicht durchgeführt werden.
• Allerdings konnte der Test ohne Ausführung eines Brennverfahrens keinen verbesserten Film erzeugen, und die Entwicklung erwies sich als schlecht. Tabelle 11

  

  
• Hinweis: Orgatex ist eine Produktbezeichnung einer organischen Titanverbindung, hergestellt von Arakawa Chemical Industry Ltd.
• Orgatex TA-10 ist Tetraisopropyltitanit
• Orgatex TA-25 ist Tetranormaltitanit
• Orgatex TA-100 ist Titanacetylacetonat
• Orgatex TPHS ist Polyhydroxytitanstearat.
• Mit Bezug auf die voranstehenden Ergebnisse können folgende Wirkungen auf das Herstellungsverfahren für eine Photogravurplatte erzielt werden, wenn die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung ohne Brennbedarf nach der Beschichtung verwendet wird:
• (1) Brennen nach dem Beschichten eines photogravurplattierten Objekts ist nicht geeignet, und es hat Eigenschaften, die geeignet sind, einen notwendigen und ausreichenden Adhäsionszustand zu erreichen, auch wenn das Brennen nicht durchgeführt wird. Ein lichtempfindlicher Film mit Glanz und in ziemlich hartem Zustand lässt sich erreichen.
• (2) Eine notwendige und ausreichende Adhäsion lässt sich erzielen, wenn die Beschichtung an einem Tag mit gutem Wetter vorgenommen wird, an dem im Arbeitsraum eine Luftfeuchtigkeit von etwa 25 bis 60% herrscht, oder die Beschichtung wird im Arbeitsraum mit einer Luftfeuchtigkeit von 25 bis 60% unter Anwendung einer Entfeuchtungsvorrichtung und einer Befeuchtungsvorrichtung durchgeführt.
• (3) Eine gut geeignete alkalische Entwicklung, die keine Rückstände produziert, kann in angemessener Zeit durchgeführt werden. Unabhängig von der Tatsache, dass die Komponente an der lichtempfindlichen Schicht im wesentlichen keine chemische Veränderung per Belichtung bewirkt, können alle grundlegenden Leistungen einer Druckplatte, wie Abnutzungsplattierung, Empfindlichkeit und Entwicklungsbreite oder dergleichen zufriedenstellend sein.
• (4) Auch wenn die Bildbelichtung mit einer niedrigeren Belichtungsenergie durchgeführt als mit einer höheren, bei der von der photothermischen Umwandlungssubstanz in der lichtempfindlichen Schicht übermäßige Hitze erzeugt wird, kann die Entwicklungsbreite groß eingestellt werden, so dass der von der lichtempfindlichen Schicht generierte Streuungsgrad angemessen beschränkt ist und es zu keinem Problem kommt, dass die lichtempfindlichen Schicht gestreut und das optische System in der Belichtungsvorrichtung kontaminiert wird.
• (5) Die Verarbeitung ohne Brennen ermöglicht eine hochwertige Entwicklung mit Erhaltung einer hohen Empfindlichkeit, wobei eine Kante des Photolackbilds in einer scharfen Kontur in strikter Entsprechung zu einem Belichtungsstrahlungsmuster geschnitten ist.
• (6) Eine hochwertige Entwicklung kann durchgeführt werden, während kaum eine Filmreduzierung produziert wird. Es ist möglich, das Auftreten von kleinen Löchern durch Filmreduzierung zu vermeiden.
• (7) Das Photolackbild besitzt einen Glanz und ein ziemlich hartes Photolackbild, das einige Tausend Exemplare drucken kann, lässt sich während des Drucks erzielen, und eine Kratzfestigkeit bei der Handhabung vor der Entwicklungsoperation nach Bildung des lichtempfindlichen Films ist verbessert.
• (8) Ein Bilddruck mit Laser und Entwicklungsbreite sind hochwertig.
• In der vorliegenden Erfindung kann die Qualität des auf die Druckfläche aufgebrachten Materials in bezug zu der Anzahl gedruckter Bögen oder zu den Herstellungskosten für die Photogravurplatte gesetzt werden. Im Fall einer großen Länge der Druckbögen, beispielsweise etwa 50.000 Meter, wird auf die Rolle eine Nickel-Phosphor-Legierungs-Plattierung aufgebracht, die gelöscht werden kann. Die Rolle wird mit einer Hochfrequenz-Quenching-Vorrichtung und dergleichen eine Minute lang auf 400°C erhitzt, und ihre Hitze wird abgestrahlt, um die Quenchoperation durchzuführen, oder es wird eine Hartchromplattierung aufgebracht. Wenn die Druckbogenlänge eine Länge von etwa 100.000 bis 300.000 Meter aufweist, wird zu dem Zeitpunkt, zu dem die Dicke der Chromplattierung beispielsweise 3 μm beträgt, ein Chrom abgezogen. Die Chromplattierung wird aufgebracht, und der Druckvorgang kann fortgesetzt werden. Wenn die Bögen beispielsweise weniger als einige Tausend Meter lang sind, wird keine Chromplattierung durchgeführt. Der Druck kann mit einer Druckoberfläche ausgeführt werden, die mit Zellen in der Kupfersulfatplattierung gebildet werden, oder die oben genannte alkalische Entwicklung wird durchgeführt, ein lichtempfindlicher, am belichteten Element Harz bildender Film wird mit Wasser weggewaschen und der Druck kann mit Lösemittel-haltiger Farbe vorgenommen werden, die den Photolack auf der Druckplatte nicht auflöst, während nur der Photolack am Nicht-Bildlinienelement zurück bleibt.
• In der vorliegenden Erfindung ist der Typ der auf der Druckoberfläche angebrachten Materialqualität nicht auf die erwähnte Kupfersulfatplattierung beschränkt; es können auch Kupferplattierung, Nickelplattierung, Nickellegierungsplattierung oder Zinkplattierung angewendet werden, wobei die Bereitstellung einer adäquaten Plattierungsvorrichtung anstelle der Kupfersulfat-Plattierungsvorrichtung 13 in 1 erforderlich ist, und auch die Korrosionsflüssigkeit in der Korrosionsvorrichtung muss durch die adäquate Korrosionsflüssigkeit ersetzt werden.

Claims (6)

1. Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte, bei welchem ein oberes Ende eines vertikalen Beschichtungsrohrs (6h) in räumlicher Nähe unterhalb eines Endes einer photogravurplattierten Rolle (R) angeordnet ist, welche an beiden Enden in einem horizontalen Zustand eingespannt ist und rotiert wird, wobei das Beschichtungsrohr (6h) bis zum anderen Ende der photogravurplattierten Rolle (R) geführt wird, wobei ein positiv arbeitendes lichtempfindliches Mittel, bestehend aus einer alkalilöslichen, positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung mit einer Empfindlichkeit gegenüber einem im Infrarotbereich arbeitenden Laser und einer Entwicklungs-Bandbreite, bei welcher ein belichtetes Bildlinienelement von der alkalischen Entwicklerflüssigkeit weggewaschen wird und ein unbelichtetes Nicht-Bildlinienelement ohne Erhitzen nicht weggewaschen wird, nach Bildung eines Beschichtungsfilms an einem Ende leicht vorgewölbt ist und aus einem oberen Ende des Beschichtungsrohrs (6h) überströmt wird, wobei die photogravurplattierte Rolle (R) durch ein Spiral-Beschichtungssystem (6) beschichtet wird und die Rotation der photogravurplattierten Rolle bis zum Abschluss der Beschichtungsoperation fortgesetzt wird, um einen natürlich getrockneten Beschichtungsfilm zu bilden, und anschließend die photogravurplattierte Rolle (R) rotiert wird, um eine gewünscht hohe Geschwindigkeit aufzuweisen, wobei das restliche Lösungsmittel des Beschichtungsfilms in der Luft verteilt wird, um die Konzentration des restlichen Lösungsmittels zu reduzieren und einen lichtempfindlichen Film zu bilden, und wobei anschließend mit einem im Infrarotbereich arbeitenden Laser (7) ein Positiv-Bild auf den lichtempfindlichen Film beaufschlagt wird, so dass entweder Hauptketten oder Seitenketten der Moleküle des den lichtempfindlichen Film bildenden Harzes am besagten belichteten Element unter Bildung kleinerer Moleküle mit höherer Alkalilöslichkeit gebrochen werden und ein Latentbild mit einer Ablation der lichtempfindlichen Schicht gebildet wird, und anschließend eine alkalische Entwicklung (15) durchgeführt wird und das den lichtempfindlichen Film bildende Harz an dem belichteten Element weggewaschen wird, so dass der Photolack nur an der Nicht-Bildlinie verbleibt.
2. Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte nach Anspruch 1, wobei die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung eine alkalilösliche organische hochmolekulare Substanz einschließlich eines Epoxydharzes mit phenolischen Hydroxylgruppen oder eines mit phenolischen Hydroxylgruppen umgesetzten Epoxydharzes sowie eine photothermische Umwandlungssubstanz zur Absorption der Infrarotstrahlen einer Bildbeaufschlagungslichtquelle und Umwandlung dieser Strahlen in Hitze umfasst, und die Zusammensetzung als ein die Hafteigenschaften verbesserndes Mittel irgendeines der folgenden Mittel beinhaltet: (1) Vinylpyrrolidon/Vinylacetat-Copolymere (2) Polyvinylbutyral (3) Styrol/Maleinsäure-Copolymere (4) Vinylpyrrolidon/Dimetylaminoetylmethacrylat-Copolymere (5) Terpolymere aus Vinylpyrrolidon/Vinylcaprolactam/Dimetylaminoetylmethacrylat (6) Terpenphenolharz (7) Alkylphenolharz (8) Polyvinylformalharz (9) Melamin/Formaldehyd-Harz (10) Polyvinylacetat und (11) Ketonharz.
3. Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte nach Anspruch 1, wobei eine Oberfläche der photogravurplattierten Rolle (R) mit einem Wischtuch sauber gewischt wird, bevor das positiv arbeitende lichtempfindliche Mittel auf die photogravurplattierte Rolle geschichtet wird.
4. Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte nach Anspruch 1, wobei eine Oberfläche der photogravurplattierten Rolle (R) zur Bildung eines lichtempfindlichen Films mittels Beschichtung mit dem positiv arbeitenden lichtempfindlichen Mittel Kupfer, Kupfersulfatplattierung, Nickelplattierung, Nickellegierungsplattierung oder Zinkplattierung ist.
5. Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte nach Anspruch 1, wobei die alkalische Entwicklungsoperation durchgeführt wird, damit das den lichtempfindlichen Film bildende Harz an belichteten Elementen weggewaschen wird und der Photolack nur an unbelichteten Nicht-Bildlinienelementen verbleibt, und danach ein Ätzvorgang durchgeführt wird, um eine Zelle zu bilden, und anschließend der Photolack mit einer stärker alkalischen Entwicklerflüssigkeit abgezogen wird, um eine plattierte Oberfläche zu bilden.
6. Verfahren zur Herstellung einer Photogravurplatte nach Anspruch 1, wobei die plattierte Oberfläche nach dem Abziehen des Photolacks einen harten Film zur Aufbringung einer Abnutzungsplattierung wie z.B. eine ein Quenchen ermöglichende Chromplattierung oder Nickellegierungsplattierung oder Keramikmaterialien und dergleichen aufweist.