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GEBIET DER
ERFINDUNG
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Die
Erfindung betrifft eine Halbleiteranordnung für Radiofrequenzen (RF) und
insbesondere einen Aufbau für
eine elektrische Verbindung, um in einer Halbleiteranordnung für Radiofrequenzen,
die im Gigahertz (GHz-) Band betrieben wird, ausgezeichnete Radiofrequenzeigenschaften
zu erzielen.
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BESCHREIBUNG DES STANDES
DER TECHNIK
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In
den vergangenen Jahren hat das Bedürfnis nach integrierten Schaltungen,
die im Mikrowellen- oder Millimeterwellenband betrieben werden können, aufgrund
der verbreiteten Anwendung mobiler Kommunikationseinrichtungen wie
PHS (Personal Handy Phone System) und PDC ( Personal Digital Cellular
phone) zugenommen.
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Dadurch
ist die Entwicklung von Si oder GaAs Transistoren ausreichend vorangeschritten, um
hochintegrierte MMICs (Monolithic Microwave Integrated Circuits)
mit derartigen Transistoren herzustellen, z.B. Leistungsverstärker, Mixer
und rauscharme Verstärker.
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In
einer solchen in einem Radiofrequenzband arbeitenden integrierten
Schaltung kann eine nicht mehr vernachlässigbare parasitäre Induktivität vorliegen,
welche die Eigenschaften der integrierten Schaltung erheblich beeinflusst.
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Wird
ein RF Halbleiterchip beispielsweise in ein Gehäuse oder auf ein Substrat montiert,
so neigen die für
elektrische Verbindungszwecke verwendeten Bonddrähte zu einer erheblichen Induktivitätskomponente.
Um das erwartete Schaltungsverhalten des RF Halbleiterchips zu erzielen,
ist es wichtig, derartige induktive Komponenten zu minimieren.
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Obwohl
es möglich
ist, die induktive Komponente einer sich von einem RF Halbleiterchip
ausdehnenden Signalleitung durch Impedanzanpassung an eine extern
angeschlossene Lastschaltung zu reduzieren, kann die auf eine Masseleitung
zurückzuführende induktive
Komponente nicht durch eine solche Impedanzanpassung gesteuert werden.
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Somit
ist es beim Montieren eines RF Halbleiterchips, der z. B. aus Galliumarsenid
(GaAs) besteht, wichtig, die Masseleitung mit einer Masse-Oberfläche auf
solche Weise zu verbinden, dass die mit der Masseleitung innerhalb
des Chips verknüpfte
Induktivität
minimiert wird. Andernfalls neigt die obige Induktivität dazu,
die Verstärkung
einer beliebigen Verstärkungsschaltung
innerhalb des Chips, insbesondere in einem RF Band, zu reduzieren.
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Herkömmliche
Verfahren zum Reduzieren der obigen Induktivität fallen in zwei Hauptkategorien.
Eine Kategorie liegt dann vor, falls z. B. ein integrierter GaAs
Halbleiterchip auf ein Gehäuse
montiert wird und durch Draht-Bonden elektrisch angeschlossen wird.
Diese Verfahren neigen zur größtmöglichen
Erhöhung
der Anzahl von Bonddrähten, die
sich von den Bondpads im Chip erstrecken und jeweils mit einem Trägersubstrat
oder einem unmittelbar unterhalb des Chips liegenden Anschlussbereich
zu verbinden sind. Mit anderen Worten werden mehrere Bonddrähte, die
jeweils einen bestimmten Induktivitätswert aufweisen, parallel
zueinander geschaltet, so dass die gesamte Induktivität der Bonddrähte verringert
wird.
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3 zeigt
eine schematische Darstellung des oben beschriebenen Verfahrens
zum Anordnen von Bonddrähten
bei einer derartigen Parallelschaltung. Dieses Beispiel zeigt das
Draht-Bonden für
eine Ausgangsstufe einer Verstärkerschaltung
innerhalb einer Multitransistoreinheit.
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In 3 kennzeichnet
das Bezugskennzeichen 1 einen IC Chip; 2 kennzeichnet
einen Ausgangsstufentransistor innerhalb des Chips; 3 kennzeichnet
ein Bondpad auf dem Chip; 4 kennzeichnet eine Signalleitung
(Bonddraht); 5 kennzeichnet eine Masseleitung (Bonddraht); 7 kennzeichnet
einen Signalpin des Trägersubstrats; 8 kennzeichnet
einen Massepunkt; und 9 kennzeichnet ein Substrat. Der Massepunkt 8 besteht üblicherweise
aus einem Metallbereich (gewöhnlich
als „Slug" bezeichnet), der auf
einer Rück- seite eines Gehäuses freigelegt
ist; ansonsten kann ein Massepin des Trägersubstrats verwendet werden.
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In
dem in 3 gezeigten Beispiel werden vier Bonddrähte als
Masseleitungen 5 verwendet, um die Emitter des Ausgangsstufentransistors 2 des
IC Chips 1 an Masse zu Bonden.
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Die
andere Kategorie zum Reduzieren der Induktivität eines Bonddrahtes betrifft
die Reduzierung der Länge
der Bonddrähte.
Bei Verfahren dieser Kategorie wird ein Bereich eines Chips, der
einem Die-Bondvorgang unterzogen werden soll, derart angeordnet,
dass dieser tiefer als die anderen Bereiche des Chips liegt. Auf
diese Weise wird die Höhe
der Bondpads auf dem Chip an diejenige der Schaltungsstruktur auf
der Oberfläche
des Substrats angepasst. Dadurch wird die Länge der Bonddrähte verkürzt, wodurch
die Induktivitätswerte
der Bonddrähte
abnehmen. Solche Verfahren sind beispielhaft in JP 2-107001 und
JP 3-262302 beschrieben.
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Ein
weiteres Verfahren zum Verkürzen
der Länge
eines Bonddrahts stellt das Bereitstellen eines sehr kleinen Loches
in einen integrierten GaAs Halbleiterchip dar, so dass eine Masseleitung
innerhalb des Chips an eine Masse-Oberfläche auf der Rückseite
des Chips durch dieses Loch angeschlossen werden kann.
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Jedoch
weisen die eingangs erwähnten
herkömmlichen
Verfahren zum Minimieren der induktiven Komponenten die folgenden
Probleme auf:
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Eine
Mehrzahl von Massebonddrähten
kann parallel zueinander angeordnet sein, um die Induktivität der Masseleitungen
zu reduzieren. Nimmt jedoch die Anzahl von Bonddrähten zu,
wird die Chipgröße größer aufgrund
der für
die Drähte
bei gleichbleibendem Abstand zwischen den Bonddrähten erforderlichen Fläche. Um,
mit anderen Worten, eine Abnahme der Packungsdichte des Chips zu
vermeiden, sollten die Abstände
zwischen den Bonddrähten eng
gestaltet werden. Jedoch verursachen enger gestaltete Abstände zwischen
den Bonddrähten
eine elektromagnetische Kopplung zwischen benachbarten Bonddrähten, was
zu einer vergrößerten gegenseitigen
Induktivität
zwischen den Drähten
führt.
Deshalb kann eine einfache Erhöhung
der Anzahl der Bonddrähte
nicht notwendigerweise zu einer gewünschten Abnahme der gesamten
Induktivität
führen.
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Das
obige Problem ist in 4 dargestellt, wobei diese Abbildung
den Zusammenhang zwischen der Anzahl von Bonddrähten (Länge: ungefähr 1 mm), die parallel zueinander
mit einem Abstand von 140 μm
angeordnet sind, und deren über
eine elektromagnetische Feldsimulation abgeschätzten Ersatzinduktivitätswert darstellt.
Zum Vergleich sind die Induktivitätswerte durch entsprechendes
Teilen des simulierten Resultates bezogen auf einen Draht bei verschiedener
Anzahl von Drähten
gezeigt.
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Die
Simulation wurde bei einer Betriebsfrequenz von ungefähr 2 GHz
und einer Signalleitungsimpedanz von ungefähr 2 Ω durchgeführt (unter Annahme eines Ausgangsstufentransistors
für einen Leistungsverstärker).
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Wie
in 4 gezeigt ist, nimmt der Ersatzinduktivitätswert der
Bonddrähte
nicht exakt invers proportional zur Anzahl der Drähte ab (was
bei nicht vorhandener Auswirkung der gegenseitigen Induktivität der Fall
wäre).
Der Ersatzinduktivitätswert
verbleibt oberhalb des erwarteten Wertes. Dies wird vermutlich von
dem Phänomen
der sogenannten gegenseitigen Induktivität verursacht, bei dem die gleichphasigen
Magnetfelder, welche um die Drähte
herum auftreten, benachbarte Drähte
davon abhalten, Ströme hindurchzulassen.
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In
der in 4 gezeigten Simulation wurde der Abstand zwischen
den Bonddrähten
unabhängig von
der Anzahl von Drähten
konstant bei 140 μm
gehalten. Wie eingangs beschrieben wurde, nimmt die gegenseitige
Induktivität
mit Abnahme des Abstands zwischen den Bonddrähten zu. Somit ist verständlich,
dass der mit einer Zunahme der Anzahl von Bonddrähten verbundene Effekt der
Abnahme der Ersatzinduktivität
mit kleiner werdendem Abstand zwischen den Bonddrähten aufgrund
der vergrößerten gegenseitigen
Induktivität
abgeschwächt
wird.
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5 zeigt
eine Darstellung einer MAG (maximal verfügbare Verstärkung: eine maximal verfügbare Verstärkung bei
vollständiger
Impedanzanpassung von Eingang/Ausgang) einer Verstärkungsschaltung
einschließlich
eines Ausgangsstufentransistors, wobei die Ergebnisse der Abbildung
in 4 auf eine sich vom Emitter des Ausgangsstufentransistors
aus erstreckende Masseleitung 5 übertragen werden. Diese Simulation
wurde zur Ermittlung der MAG Werte bei einer Betriebsfrequenz von
ungefähr 2
GHz durchgeführt.
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Wie
in den 4 und 5 gezeigt ist, kann die Ersatzinduktivität der Bonddrähte mit
zunehmender Anzahl von Drähten
erniedrigt werden, wodurch es möglich
wird, in einer Verstärkungsschaltung
mit derartigen Bonddrähten
eine große
Verstärkung
zu erzielen. Jedoch würde,
wie eingangs beschrieben wurde, eine vergrößerte Anzahl von Drähten aufgrund
einer entsprechenden Zunahme in der Anzahl von Bondpads auf dem
Chip zu einer größeren Chipgröße führen, was
seinerseits höhere
Herstellungskosten mit sich bringt.
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Andererseits
führt eine
Abnahme des Abstands zwischen den Bonddrähten zur Vermeidung einer Chipvergrößerung auch
zu keiner erheblichen Zunahme der Verstärkung der Verstärkungsschaltung,
da zwischen benachbarten Drähten
eine vergrößerte gegenseitige
Induktivität
auftritt, vergleiche obige Ausführungen.
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Im
Hinblick auf das Verfahren zum Verkürzen der Länge des Bonddrahtes zur Minimierung
der Induktivität
von Drähten
tritt das Problem auf, dass es erforderlich ist, einen ausgesparten
Bereich auf einem Substrat dort auszubilden, wo der Chip einem Die-Bondvorgang
unterzogen wird. Dies vergrößert die
Herstellungskosten. Darüber
hinaus besteht eine Begrenzung im Hinblick auf die Verkürzung eines
zu verwendenden Drahtes, wobei eine derartige Begrenzung von einem
Drahtbondgerät
zur Ausführung des
Draht-Bondens auferlegt
wird. Damit ist es schwierig, Drahtlängen zu verwenden, die etwas
kürzer
als die gegenwärtig
verwendeten Drahtlängen sind.
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Darüber hinaus
führt das
Verfahren zum Herstellen einer Masseöffnung in einem Chip zu einem komplexeren
Herstellungsverfahren und damit auch zu einem Kostenanstieg.
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US 5 606 196 beschreibt
ein Gehäuse
für eine
Halbleiteranordnung einschließlich
eines Halbleiterchips mit einer Mehrzahl von Bondpads, die wenigstens
zwei Mehrfach-Bondpads enthalten, denen übereinstimmende Signale übermittelt
werden; einem mit einer Chipunterstützung versehenen Substrat sowie
einer Mehrzahl von Leitern zum elektrischen Verbinden des Chips
mit externen Vorrichtungen; einer Mehrzahl von Bonddrähten zum
elektrischen Verbinden der Bondpads mit den Leitern einschließlich Mehrfach-Bonddrähten zum
elektrischen Verbinden der Mehrfach-Bondpads mit zugeordneten Leitern;
und einer Stromschleife zum Abschirmen von Magnetfeldern der Bonddrähte, so
dass die Magnetfelder sich nicht gegenseitig ü berlagern, wobei die Stromschleife
zwischen den Mehrfach-Bonddrähten
angeordnet ist und das Substrat an beiden Enden bondet. In einer
Modifikation wird die Stromschleife an einem Ende mit einem Bondpad
auf dem Chip verbunden, wobei dieses selbst mit einer Masseversorgung
des Substrats verbunden ist, und diese ist mit dem anderen Ende
mit dem Substrat verbunden. Die identischen Signale in den Bonddrähten auf
beiden Seiten der Stromschleife führen zu einem verschwindenden
induzierten Strom in der Schleife.
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US-A-4
686 492 beschreibt eine Halbleiteranordnung für Radiofrequenzen mit:
einem
RF Halbleiterchip;
einem Keramiksubstrat, auf das der RF Halbleiterchip
montiert ist;
einer Mehrzahl von benachbarten Trippeln von
Signalleitungen und Masseleitungen, wobei jedes Tripel eine Signalleitung
und zwei zugeordnete Masseleitungen aufweist, die an die entsprechende
Signalleitung angrenzen, um den RF Halbleiterchip mit dem Substrat
zu verbinden, wobei die Signalleitungen und Masseleitungen im Wesentlichen
parallel und benachbart zueinander bezüglich jedes der Mehrzahl von
Tripeln angeordnet sind. Die Bonddrähte der Signalleitungen und
der Masseleitungen sind mit dem Chip an entsprechenden Kontaktpunkten
verbunden.
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ÜBERSICHT ÜBER DIE ERFINDUNG
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Erfindungsgemäß wird eine
Halbleiteranordnung für
Radiofrequenzen (RF) angegeben mit: einem RF-Halbleiterchip (1);
einem Substrat, auf das der RF-Halbleiterchip (1) montiert
ist; einer Mehrzahl benachbarter Paare von Signalleitungen (4)
und Masseleitungen (5), wobei jedes Paar eine Signalleitung
(4) und eine zugehörige
Masseleitung (5) aufweist, um den RF-Halbleiterchip (1) an das Substrat anzuschließen, wobei
die Signalleitungen (4) und die Masseleitungen (5)
an eine Transistorausgangsstufe des RF-Halbleiterchips (1) angeschlossen
sind und hinsichtlich jedes der Mehrzahl von Paaren im Wesentlichen
parallel und benachbart zueinander angeordnet sind, die Signalleitungen
und Masseleitungen alternieren und die Transistorausgangsstufe einen
jeweils invertierten Stromfluss durch die Signalleitung (4)
und Masseleitung (5) jedes Paars verursacht.
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Vorzugsweise
sind die Signalleitung und die Masseleitung in einem Abstand von
ungefähr
140 μm zwischen
entsprechenden Leitungszentren der Signalleitung und Masseleitung
angeordnet.
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Vorzugsweise
weisen die Signalleitung und die Masseleitung jeweils eine Länge von
ungefähr
1 mm und einen Durchmesser von ungefähr 25 μm auf.
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Vorzugsweise
weisen die Signalleitung und die Masseleitung Gold (Au) auf.
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Vorzugsweise
weist der RF-Halbleiterchip Galliumarsenid (GaAS) auf.
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Vorzugsweise
sind der RF-Halbleiterchip, die Signalleitung und die Masseleitung
innerhalb eines Gehäuses
angeordnet.
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Vorzugsweise
weist das Gehäuse
ein Harzgehäuse
auf.
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Erfindungsgemäß sind eine
Masseleitung und eine Signalleitung, die entsprechend invertierte Ströme tragen
(auf die nachfolgend mit einer gegenseitigen Phasendifferenz von
ungefähr
180° Bezug genommen
wird), parallel und benachbart zueinander in alternierender Anordnung
positioniert, so dass die gegenseitige Induktivität zwischen
der Signalleitung und der Masseleitung in vorteilhafter Weise genutzt
wird. Folglich reduziert die Erfindung erheblich den Ersatzinduktivitätswert einer
beliebigen Masseleitung in einer RF-Halbleiterschaltung.
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Die
hierin beschriebene Erfindung gibt somit in vorteilhafter Weise
eine RF-Halbleiteranordnung mit einem Radiofrequenz (RF)-Halbleiterchip
an, wobei das Leistungsvermögen
des RF-Halbleiterchips in vollen Zügen zum Tragen kommt. Dies
kann durch eine spezielle Anordnung einer Masseleitung und einer
zugeordneten Signalleitung erzielt werden, wobei sich die Signalleitung
von dem Chip aus zur Reduzierung der Induktivität der Masseleitung erstreckt
und diese Leitungen benachbart zueinander positioniert werden, um
deren gegenseitige Induktivität
zu minimieren.
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Dem
besseren Verständnis
der Erfindung dienend, werden nachfolgend spezifische Beispiele mit
Bezug auf begleitende Abbildungen beschrieben.
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KURZBESCHREIBUNG
DER ABBILDUNGEN
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1 zeigt
eine schematische Darstellung einer Radiofrequenz (RF)-Halbleiteranordnung
gemäß einem
Hintergrundbeispiel, das als Beispiel 1 bezeichnet wird.
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2 zeigt
eine schematische Darstellung einer RF-Halbleiteranordnung gemäß einer
Ausführungsform
der Erfindung, die als Beispiel 2 bezeichnet wird;
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3 zeigt
eine schematische Darstellung einer herkömmlichen RF-Halbleiteranordnung;
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4 zeigt
ein Diagramm zum Zusammenhang zwischen der Anzahl von Bonddrähten (Länge: ungefähr 1 mm),
die parallel zueinander mit einem Abstand von ungefähr 140 μm geschaltet
sind, und deren über
eine elektromagnetische Feldsimulation abgeschätzten Ersatzinduktivitätswert;
zum Vergleich sind die Induktivitätswerte dargestellt, die durch
Teilen des simulierten Ergebnisses in Bezug auf einen Draht für verschiedene
Anzahl von Drähten erzielt
werden;
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5 zeigt
ein Diagramm einer MAG einer Verstärkungsschaltung einschließlich eines
Ausgangsstufentransistors, wobei die Ergebnisse des Diagramms in 4 für die Massenleitung
gelten, die sich vom Emitter des Ausgangsstufentransistors aus erstreckt;
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6 zeigt
ein Diagramm zum Zusammenhang zwischen einem Ersatzinduktivitätswert bei
Anlegen von Strömen
an zwei Drähte
(Länge:
ungefähr 1
mm) und einem Abstand zwischen den entsprechenden Leitermitten der
beiden Drähte,
wobei eine Phasendifferenz von ungefähr 180° zwischen den beiden Strömen auftritt.
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7 zeigt
ein Diagramm einer MAG einer Verstärkungsschaltung einschließlich des
Ausgangsstufentransistors von 1, wobei
die Ergebnisse der Darstellung in 6 für die Signalleitung
und die Masseleitung gelten, welche sich jeweils vom Kollektor und
Emitter des Ausgangsstufentransistors aus erstrecken;
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8 zeigt
ein Diagramm von simulierten Ersatzinduktivitätswerten von Signalleitungen
und Masseleitungen in Bezug auf die in 2 gezeigte alternierende
Anordnung und die in 3 gezeigte herkömmliche,
getrennte Anordnung;
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9 zeigt
ein Diagramm einer simulierten MAG einer Verstärkungsschaltung mit einem Ausgangsstufentransistor,
bei der die Ersatzinduktivitätswerte
der Darstellung von 8 für die sich vom Kollektor und
Emitter des Ausgangsstufentransistors aus erstreckende Signalleitung
und Masseleitung gelten, in Bezug auf die in 1 gezeigte
alternierende Anordnung und die in 3 gezeigte
herkömmliche,
getrennte Anordnung.
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10 zeigt
eine schematische Darstellung einer Radiofrequenz (RF)-Halbleiteranordnung;
und
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11 zeigt
eine Querschnittsansicht der gehäusten
Radiofrequenz (RF)-Halbleiteranordnung von 10.
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BESCHREIBUNG
DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
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(Beispiel 1)
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1 zeigt
eine schematische Darstellung einer Radiofrequenz-Halbleiteranordnung
gemäß einem
Hintergrundbeispiel.
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In 1 kennzeichnet
das Bezugskennzeichen 1 einen IC Chip (z. B. GaAs); 2 kennzeichnet
einen Ausgangsstufentransistor innerhalb des IC Chips; 3 kennzeichnet
ein Bondpad; 4 kennzeichnet eine Signalleitung (Bonddraht); 5 kennzeichnet
eine Masseleitung (Bonddraht); 7 kennzeichnet einen Trägersubstratpin
für die
Signalleitung; 8 kennzeichnet einen Massepunkt; und 9 kennzeichnet
ein Substrat. Die Richtung der elektromagnetischen Kopplung zwischen
der Signalleitung 4 und der Masseleitung 5 wird
durch den Pfeil 6 gekennzeichnet. Wie vorhergehend beschrieben
wurde, besteht der Massepunkt 8 üblicherweise aus einem Metallbereich
(gewöhnlich als „slug" bezeichnet), der
auf einer Rückseite
des Gehäuses
frei liegt. Alternativ hierzu kann ein Massepin des Trägersubstrats
als Massepunkt 8 verwendet werden.
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Der
Prägnanz
halber wird lediglich der Ausgangsstufentransistor 2 erläutert, wobei
weitere Elemente der Radiofrequenz-Halbleiteranordnung ausgelassen
werden.
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Der
Ausgangsstufentransistor 2 innerhalb des Chips enthält einen
Kollektor (oder ein Drain) und einen Emitter (oder eine Source).
Die Drähte
für den Kollektor
und den Emitter dienen als entsprechende Signalleitung 4 und
Masseleitung 5. Die jeweiligen Ströme in der Signalleitung 4 und
der Masseleitung 5 weisen gewöhnlich eine Phasendifferenz
von ungefähr
180° auf.
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Die
Bonddrähte
(d. h. die Signalleitung 4 und die Masseleitung 5)
sind parallel und benachbart zueinander angeordnet, so dass die
von entsprechenden Bonddrähten 4 und 5 erzeugten
Magnetfelder einander reduzieren oder im Wesentlichen auslöschen.
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Somit
sind die Bonddrähte
(d. h. die Signalleitung 4 und die Masseleitung 5),
die sich von den Bondpads 3 innerhalb des IC Chips 1 erstrecken,
parallel zueinander und so nahe als möglich benachbart zueinander
angeordnet, so dass diese Bonddrähte elektromagnetisch
gekoppelt werden können.
Dadurch kann der Ersatzinduktivitätswert der Bonddrähte 4 und 5 aufgrund
der durch die invertierten Stromphasen innerhalb der Bonddrähte 4 und 5 erzeugten gegenseitigen
Induktivität
reduziert werden.
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Die
hierin verwendete „parallele" Anordnung der Bonddrähte 4 und 5 betrifft
einen Grad an Parallelität,
der zur Erzeugung einer elektromagnetischen Kopplung zwischen den
Bonddrähten 4 und 5 ausreicht.
Die Parallelität
zwischen den Bonddrähten 4 und 5 erfordert
keine geometrische Präzision.
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Wie
vorhergehend beschrieben wurde, kann eine erhebliche Verbesserung
der Verstärkungseigenschaften
des Transistors 2 erzielt werden, indem die Induktivitätskomponente,
die insbesondere der sich vom Emitter (oder der Source) des Transistors 2 erstreckenden
Masseleitung 5 zuzuschreiben ist, reduziert wird.
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6 zeigt
eine Darstellung eines Zusammenhangs zwischen einem Ersatzinduktivitätswert bei
Einprägen
von Strömen
in zwei Drähte
(Länge:
1 mm), und einem Abstand zwischen den jeweiligen Leitermitten der
beiden Drähte,
wobei zwischen den beiden Strömen
eine Phasendifferenz von ungefähr 180° vorliegt.
Die in 6 gezeigten Ergebnisse rühren von einer elektromagnetischen
Feldsimulation bei Einsatz von Bonddrähten (entsprechend der Signalleitung 4 und
der Masseleitung 5) aus Gold (Au) mit einem Durchmesser
von ungefähr
25 μm her.
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Der 6 kann
entnommen werden, dass der Ersatzinduktivitätswert abnimmt, falls der Abstand
zwischen der Masseleitung 5 und der entsprechenden Signalleitung 4 kleiner
wird.
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In
Anbetracht des tatsächlichen
Drahtdurchmessers, der üblicherweise
verwendet wird, und den seitens der Bondgeräte auferlegten Begrenzungen wurde
die obige Simulation lediglich bis zu einem Abstand von 60 μm zwischen
den entsprechenden Leitermitten der beiden Drähte durchgeführt.
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7 zeigt
eine Darstellung der Ergebnisse einer Simulation einer Verstärkungsschaltung
einschließlich
des Ausgangsstufentransistors 2 (in 1 gezeigt),
wobei die Ergebnisse der elektromagnetischen Feldsimulation (in 6 gezeigt)
für die Signalleitung 4 und
die Masseleitung 5, die sich entsprechend vom Kollektor
und Emitter des Ausgangsstufentransistors 2 erstrecken,
gelten. Die Simulationen wurden zur Ermittlung einer MAG (maximal
verfügbaren
Verstärkung)
bei einer Betriebsfrequenz von ungefähr 2 GHz durchgeführt.
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Wie
den Ergebnissen obiger Simulation entnommen werden kann, nimmt mit
abnehmendem Abstand zwischen der Masseleitung 5 und der
zugeordneten Signalleitung 4 der Ersatzinduktivitätswert ab und
die Verstärkung
der Verstärkungsschaltung steigt
an (es gilt zu beachten, dass in 1 lediglich der
Ausgangsstufentransistor 2 gezeigt ist).
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Somit
sind die Bonddrähte
(d. h. die Signalleitung 4 und die Masseleitung 5)
dieses Beispiels bis zu einem Abstand von 60 μm benachbart zueinander angeordnet,
so dass die Verstärkungsschaltung
mit derartigen Bonddrähten
eine Verstärkung
erzielt, die einer mit dem herkömmlichen
Beispiel erzielbaren Verstärkung
gleichkommt, wobei im letzteren Falle vier Bonddrähte zum
Erstellen des Massebezugs verwendet werden (siehe Darstellung in 5).
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Ebenso
ist zu erkennen, dass die Erfindung sich für eine Packung bei hoher Dichte
eignet, da die Wirkung der Erfindung zunimmt, falls der Abstand zwischen
der Masseleitung 5 und der entsprechenden Signalleitung 4 abnimmt.
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(Beispiel 2)
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2 zeigt
eine schematische Darstellung einer RF-Halbleiteranordnung gemäß einem
Beispiel 2, das eine Ausführungsform
der Erfindung darstellt.
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Ein
in mobilen Kommunikationsgeräten
verwendeter RF-Leistungsverstärker oder
Desgleichen enthält
typischerweise großflächig ausgelegte
Transistoren als Ausgangsstufentransistoren für eine bessere Treiberfähigkeit.
Darüber
hinaus wird herkömmlich
eine wie in 2 gezeigte Mehrfachtransistoreinheit
verwendet. Das gegenwärtige
Beispiel stellt einen Fall dar, bei dem die in 2 gezeigte
Mehrfachtransistoreinheit (die fünf
Transistoren enthält) als
Ausgangsstufentransistor eingesetzt wird.
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Für eine einzelne
Mehrfachtransistoreinheit sind eine Mehrzahl von Bonddrähten vorgesehen, um
die Kollektoren (oder Drains) und Emitter (oder Sources) des Ausgangsstufentransistors
anzuschließen.
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In 2 kennzeichnet
das Bezugskennzeichen 1 einen IC Chip (z. B. GaAs); 2 kennzeichnet den
Ausgangsstufentransistor (aus fünf
Transistoren bestehend) innerhalb des IC Chips; 3 kennzeichnet ein
Bondpad, 4 kennzeichnet eine Signalleitung (Bonddraht), 5 kennzeichnet
eine Masseleitung (Bonddraht); 7 kennzeichnet einen Trägersubstratpin für die Signalleitung; 8 kennzeichnet
einen Massepunkt; und 9 kennzeichnet ein Substrat. Die
Richtung der elektromagnetischen Kopplung zwischen der Signalleitung 4 und
der Masseleitung 5 ist mit einem Pfeil 6 gekennzeichnet.
Der Massepunkt 8 besteht typischerweise aus einem Metallbereich
(gewöhnlich als „slug" bezeichnet) und
liegt auf einer Rückseite des
Gehäuses
frei oder es wird ein Massepin des Trägersubstrats, wie vorhergehend
beschrieben, verwendet.
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Alle
Kollektoren der fünf
Transistoren innerhalb des Ausgangsstufentransistors 2 sind
mittels interner Drähte
in einer gemeinsamen Leitung integriert; dasselbe trifft auf die
Emitter der fünf
Transistoren innerhalb des Ausgangsstufentransistors 2 zu. Die
Bondpads 3 sind benachbart zu den einzelnen Transistoren
vorgesehen, so dass die Kollektoren (oder die Drains) und die Emitter
(oder die Sources) der Transistoren mit den entsprechenden Signalleitungen 4 und
Masseleitungen 5 über
die Bondpads 3 verbunden sind. Die Signalleitungen 4 und
Masseleitungen 5 sind alternierend angeordnet.
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Aufgrund
der alternierenden und benachbarten Anordnung der Signalleitungen 4 und
Masseleitungen 5 kann der Ersatzinduktivitätswert der
Signalleitungen 4 und Masseleitungen 5 auf dieselbe
Weise wie im Beispiel 1 reduziert werden.
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In
diesem Beispiel wird angenommen, dass die entsprechenden Bonddrähte (entsprechend
der Signalleitungen 4 und Masseleitungen 5) aus
Gold (Au) bestehen. Es wird angenommen, dass diese eine Länge von
ungefähr
1 mm und einen Durchmesser von ungefähr 25 μm einnehmen. Es sind fünf Signalleitungen 4 vorgesehen,
wobei vier Masseleitungen 5 bereitgestellt werden. Die
Signalleitungen 4 und die Masseleitungen 5 sind
alternierend mit einem Abstand von ungefähr 140 μm zwischen den entsprechenden
Leitungen angeordnet. Nachfolgend wird die Anordnung gemäß dieses
Beispiels der Erfindung als „alternierende
Anordnung" bezeichnet.
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3 zeigt
eine herkömmliche
Anordnung, die mit der Anordnung des gegenwärtigen Beispiels der Erfindung übereinstimmt,
abgesehen von der Anordnung der Signalleitungen 4 und der
Masseleitungen 5. In der herkömmlichen Anordnung sind die
Signalleitungen 4 und die Masseleitungen 5 getrennt voneinander
angeordnet; eine derartige Anordnung wird im Folgenden als „getrennte
Anordnung" bezeichnet.
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8 zeigt
eine Darstellung der Ergebnisse von Simulationen für die alternierende
Anordnung gemäß dem gegenwärtigen Beispiel
der Erfindung als auch der herkömmlichen
separaten Anordnung. Die Ersatzinduktivitätswerte der Signalleitungen 4 und
Masseleitungen 5 für
die entsprechenden Anordnungen wurden mittels elektromagnetischen
Feldsimulationen erzielt.
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Wie
der 8 entnommen werden kann, wird der Ersatzinduktivitätswert der
den Masseleitungen 5 entsprechenden Bonddrähte, deren
Induktivität schwerer
zu reduzieren ist und deshalb von größerer Bedeutung als diejenige
der Signalleitungen 4 ist, gemäß diesem Beispiel der alternierenden
Anordnung auf ungefähr
die Hälfte
derjenigen der herkömmlichen
getrennten Anordnung reduziert.
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9 zeigt
eine Darstellung der Ergebnisse einer Simulation in Bezug auf die
alternierende Anordnung gemäß diesem
Beispiel und der herkömmlichen
getrennten Anordnung für
eine Verstärkungsschaltung
einschließlich
des Ausgangsstufenverstärkers 2,
wobei die Ergebnisse der elektromagnetischen Feldsimulation (in 8 gezeigt)
für die
Signalleitungen 4 und die Masseleitungen 5, welche
sich von den entsprechenden Kollektoren und Emittern des Ausgangsstufentransistors 2 aus
erstrecken, gelten. Die Simulation wurde zur Bestimmung einer MAG
bei einer Betriebsfrequenz von ungefähr 2 GHz auf die eingangs beschriebene
Weise durchgeführt.
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Der 9 kann
entnommen werden, dass die alternierende Anordnung gemäß dem gegenwärtigen Beispiel
der Erfindung eine Verstärkung
bereitstellt, die ungefähr
4 dB größer ist
(mit ungefähr
2.5 mehr Leistung) als diejenige der herkömmlichen getrennten Anordnung.
(Es gilt zu beachten, dass die Absolutwerte der in der Darstellung
von 9 gezeigten Verstärkung kleiner als diejenigen
der Simulationen für
die 5 und 7 erscheinen, da die Einheitsgröße des in
der Simulation von 9 eingesetzten Transistors größer als
die Einheitsgröße des in
den Simulationen von 5 und 7 verwendeten
Transistors war)
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Hierin
beschriebene Beispiele betreffen Ausgangsstufentransistoren. Solange
jedoch eine Signalleitung und eine zugeordnete Masseleitung vorliegen,
die sich von einem IC Chip aus erstrecken, können die Auswirkungen dieser
Erfindung durch eine ähnliche
Anordnung von Signalleitung und Masseleitung in zueinander im Wesentlichen
paralleler und benachbarter Weise erzielt werden.
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Obwohl
das Beispiel 2 eine alternierende Anordnung für Masseleitungen und Signalleitungen
darstellt, die im Wesentlichen parallel und benachbart zueinander
liegen, können
die Masseleitungen und Signalleitungen etwa ebenso in der folgenden
Reihenfolge angeordnet werden: Masseleitung – Signalleitung – Signalleitung – Masseleitung – usw. Die
Erfinder dieser Anmeldung haben herausgefunden, dass eine derartige
Anordnung, die ein weiteres Hintergrundbeispiel darstellt, ebenso
den Ersatzinduktivitätswert
der Masseleitungen im Vergleich zur herkömmlichen getrennten Anordnung
reduzieren kann.
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Die
hierin gegebenen Beispiele stellen einen RF-Halbleiterchip dar,
der von oben montiert wird und elektrisch mit den Anschlüssen eines
Gehäuses
oder eines Substrats durch Drahtbonden verbunden ist. Selbst falls
der RF-Halbleiterchip von unten in ein Gehäuse über Lotkontakthügel an dessen
Anschlüssen
montiert wird, ist es möglich,
den Ersatzinduktivitätswert
der Masseleitungen zu reduzieren, indem die Masseleitungen und die
entsprechenden Signalleitungen im Wesentlichen parallel und benachbart zueinander
positioniert werden.
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Unten
stehend wird ein Fall beschrieben, bei dem die in 2 gezeigte
RF-Halbleiteranordnung der Erfindung verpackt wird.
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10 zeigt
eine schematische Darstellung einer verpackten, d. h. gehäusten RF-Halbleiteranordnung
und 11 zeigt eine Querschnittsansicht der verpackten
RF-Halbleiteranordnung von 10. Zur
Erläuterung
ist in den 10 und 11 lediglich
eine Seite eines IC Chips dargestellt. Jedoch wird der IC Chip in
der Praxis über
Drähte
an zwei gegenüberliegenden
Seiten der vier Seiten des IC Chips gebondet.
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Sowohl
das Substrat 9 und jeder Trägersubstratpin werden unter
Einsatz von Prozesstechniken wie chemischem Ätzen und Druckpressen mit einer flachen
Platte aus z. B. einem Fe-Ni Legierungsmaterial ausgebildet. Der
IC Chip 1 wird mit einem Die-Bondmaterial 11 auf
das Substrat 9 montiert. Materialien wie eine Silberpaste
und Lot kommen als Die-Bondmaterial 11 zum Einsatz. Jedes
Bondpad 3 ist elektrisch mit einem zugeordneten Trägersubstratpin 7 entweder über eine
Signalleitung 4 oder eine Masseleitung 5 verbunden.
Das Substrat 9, der IC Chip 1 und ein Bereich
jedes Trägersubstratpins 7 sind über ein
Harz 12 (z. B. Epoxydharz) abgedichtet, wodurch die RF-Halbleiteranordnung
verpackt wird. Die Trägersubstratpins 7 stehen
vom Harz 12 ab. Jeder weitere Trägersubstratpin 7 (der
zum Herstellen eines Massebezugs verwendet wird) ist mit einem externen
Draht 10 zum Herstellen des Massebezugs ausgestattet. Die
Rückseite
des Substrats 9 muss nicht mit dem Harz 12 vergossen
werden. Stattdessen kann ein Metallbereich auf der Rückseite
des Substrats 9 vorgesehen sein, so dass der Metallbereich
zur Abstrahlung von Wärme
oder als Anschluss zum Herstellen des Massebezugs verwendet werden kann.
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Bei
obigem Aufbau erstrecken sich die Masseleitungen außerhalb
des Harzes 12 über
die Trägersubstratpins 7,
so dass diese über
die jeweiligen externen Leitungen 10 einen Massebezug erfahren. Alternativ
hierzu kann eine Ausdehnung des Substrats 9, das durch
das Harz 12 abgedichtet ist, als Masse-Trägersubstrat
zum Draht-Bonden verwendet werden. In diesem Fall ist es nicht erforderlich,
die externen Drähte 10 von
den Trägersubstratpins 7 zu den
Massepunkten 8, wie in 10 gezeigt,
zu erstrecken. Dadurch können
die externen Verbindungsanschlüsse
(Trägersubstratpins 7)
zum Herstellen des Massebezugs weggelassen werden, so dass die Anzahl
der Trägersubstratpins 7 reduziert werden
kann. Die Rückseite
des Substrats 9 muss nicht mit dem Harz 12 vergossen
werden. Stattdessen kann ein Metallbereich auf der Rückseite
des Substrats 9 bereitgestellt werden, so dass der Metallbereich
zur Wärmeabstrahlung
oder als Anschluss zum Herstellen des Massebezugs verwendet werden kann.
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Obwohl
ein solcher Fall beschrieben wurde, bei dem der IC Chip 1 von
oben auf das Substrat 9, auf das die Signalleitungen 4 Draht-gebondet
werden, Die-gebondet wird, kann der IC Chip 1 auch von unten
Die-gebondet werden. In diesem Falle werden Lotkügelchen ausgebildet, die als
Anschlüsse
dienen und der IC-Chip 1 kann auf die Trägersubstrate
mittels Flip-Chip-Bonden
aufgebracht werden.
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Wie
hierin detailliert beschrieben wurde, werden Masseleitungen und
Signalleitungen, die eine Phasendifferenz von ungefähr 180° zueinander
aufweisen, parallel und benachbart zueinander angeordnet und alternierend
positioniert, um die gegenseitige Induktivität zwischen den Signalleitungen
und den Masseleitungen zu nutzen. Dadurch reduziert die Erfindung
insbesondere auf effektive Weise den Ersatzinduktivitätswert der
Masseleitungen in einer RF-Halbleiteranordnung.
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Somit
ist es erfindungsgemäß nicht
erforderlich, einen speziellen Prozess zum Ausbilden eines Aussparungsbereichs
für eine
Die-Bond-Sektion vorzusehen, um die Länge der Bonddrähte zu verkürzen, was
jedoch bei einem der oben beschriebenen herkömmlichen Verfahren erforderlich
wäre. Dadurch kann
die Erfindung zu sehr geringen Herstellungskosten realisiert werden.
Ebenso ist zu erkennen, dass das herkömmliche Verfahren des Kürzens der Länge der
Bonddrähte
zusammen mit dieser Erfindung zu einer weiteren Reduzierung der
Induktivitätswerte
führt.
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Die
in einem Leistungsverstärker
verwendeten Ausgangsstufentransistoren sind typischerweise derart
gestaltet, dass diese eine geringe Ausgangs impedanz aufweisen (wodurch
eine große
Stromamplitude möglich
wird), so dass trotz des Trends der vergangenen Jahre hin zu einer
geringen Betriebsspannung ausreichend Ausgangsleistung erzielt werden
kann. Die Erfindung ist insbesondere in Anwendungen wie Leistungsverstärkern, bei
denen eine große
Stromamplitude erforderlich ist, von Vorteil, da hier die Auswirkungen
der gegenseitigen Induktivität mit
zunehmender Stromamplitude ausgeprägter sind.
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Da
mobile Kommunikation zunehmend an Bedeutung gewinnt, werden höhere Frequenzen
in den verschiedenen Typen mobiler Geräte eingesetzt werden. In einem
mobilen Gerät,
das bei sehr hohen Frequenzen betrieben wird (z. B. einem GHz Band), muss
jedes RF-Halbleitergerät
innerhalb der Anordnung in der Nähe
seiner Leistungsgrenze betrieben werden. Aus diesem Grund muss es
möglich
sein, die optimale Leistungsfähigkeit
jeder Halbleiteranordnung zu beanspruchen, um nicht die gesamte Leistungsfähigkeit
des mobilen Geräts
zu beeinträchtigen.
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Die
induktive Komponente einer Masseleitung ist ein Hauptfaktor, der
die Leistungsfähigkeit
einer gegebenen Halbleiteranordnung als Ganzes erniedrigen könnte. Deshalb
bringt die Reduzierung der induktiven Komponente gemäß dieser
Erfindung einen erheblichen Vorteil bei höheren Frequenzen mit sich.
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Darüber hinaus
ist es möglich,
eine RF-Halbleiteranordnung anzugeben, die einfach handzuhaben ist,
indem deren Masseleitungen und Signalleitungen mit einem Harz abgedichtet
und verpackt werden. Das Abdichten und Verpacken des IC Chips mit einem
Harz ist insbesondere im Hinblick auf die Reduzierung der Ersatzinduktivität der Masseleitungen in
der Umgebung des IC Chips von Vorteil, wo die Masseleitungen in
unmittelbarer Nähe
zu den Signalleitungen liegen und deshalb auf die von den benachbarten
Signalleitungen erzeugten Magnetfelder sehr empfindlich sind.