DE513461C - Verfahren zur Ausfuehrung photochemischer Reaktionen - Google Patents

Verfahren zur Ausfuehrung photochemischer Reaktionen

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DE513461C
DE513461C DEI29554D DEI0029554D DE513461C DE 513461 C DE513461 C DE 513461C DE I29554 D DEI29554 D DE I29554D DE I0029554 D DEI0029554 D DE I0029554D DE 513461 C DE513461 C DE 513461C
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DE
Germany
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carrying
procedure
photochemical reactions
out photochemical
mixture
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Expired
Application number
DEI29554D
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English (en)
Inventor
Dr Walter Frankenburger
Dr Christian Steigerwald
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IG Farbenindustrie AG
Original Assignee
IG Farbenindustrie AG
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Publication date
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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122Incoherent waves
    • B01J19/123Ultra-violet light

Description

  • Verfahren zur Ausführung photochemischer Reaktionen Zusatz zum Patent 458756 In der Patentschrift 458 756 ist ein Verfahren zur Ausführung chemischer Reaktionen in Gasen und Dämpfen mit Hilfe elektrischer Entladungen beschrieben, wobei man das zur Reaktion zu bringende Gas-bzw. Dampfgemisch mit Metalldampf belädt und dieses Gemisch der Strahlung aussetzt, welche von einer in Metalldampf erzeugten elektrischen Entladung emittiert wird.
  • Wie sich nun gezeigt hat, werden die Ausbeuten an den gewünschten Reaktionsprodukten bei derartig vollzogenen Umsetzungen oftmals durch das Vorhandensein kleiner Mengen reaktionsfremder Gase, Dämpfe usw. ganz außerordentlich verschlechtert. Und zwar tritt dies nicht nur durch größere Mengen von Fremdgasen ein, dadurch, daß sie das Reaktionsgemisch verdünnen und die Konzentration der reagierenden Stoffe herabsetzen, etwa dem Massenwirkungsgesetz entsprechend, sondern überraschenderweise schon bei Mengen, die für einen solchen Verdünnungseffekt viel zu gering sind. Je nach der Art des vollzogenen Umsetzungsprozesses sind es Fremdstoffe verschiedener Art, die diese Wirkung zeigen, so daß z. B. Gase, die bei einer bestimmten Reaktion als Ausgangsstoffe dienen, bei einer anderen Reaktion sorgfältig ausgeschlossen werden müssen. Reinigt man daher das Ausgangsgemisch vor der Beladung mit Metalldampf und der Behandlung mit der erregenden Strahlung sorgfältig von den Fremdstoffen, so gelingt es, unter sonst unveränderten Bedingungen die Ausbeuten ganz erheblich zu steigern.
  • Beispiel I Ein Gasgemisch aus technischem Kohlenoxyd und Wasserstoff (I : I), welches etwa 1 0/0 Wasserdampf, 2 0/0 Kohlendioxyd und 0,5 0/0 Sauerstoff enthält, durchströmt ohne vorherige Reinigung, nachdem es durch Überleiten über 600 warmes Quecksilber mit dessen Dampf beladen wurde, den um das Leuchtrohr einer Quarzquecksilberlampe konzentrisch angeordneten Reaktionsraum. Die Bildung von organischen Produkten bleibt sehr gering. Wird das Gasgemisch von Sauerstoff und Kohlendioxvd durch Überleiten über glühendes Kupfer und Waschen mit Natronlauge befreit, so setzen sich 0,4 0/0 des Kohlenoxyds mit dem Wasserstoff zu Aldehyden um. Wird weiterhin das Gasgemisch sorgfältig von Feuchtigkeit befreit, so wird etwa I % des Kohlenoxyds in Aldehyde umgesetzt.
  • Beispiel 2 Ein ungereinigtes Gasgemisch aus Wasserstoff und Sauerstoff (I :-I) wird nach Beladung mit Quecksilberdampf entsprechend wie in Beispiel 1 durch den Reaktionsraum hindurchgeleitet. Es bilden sich nur Spuren von Wasserstoffsuperoxyd. Nach Entfernung der etwa zu insgesamt 2 % vorhandenen Mengen von Kohlenoxyd und Kohlendioxyd enthält das Abgas etwa 1/2 0/0 Wasserstoffsuperoxyd, nach außerdem vorgenommener sorgfältiger Trocknung etwa 1,5 °/0 Wasserstoffsuperoxyd.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH: Ausführung des Verfahrens gemäß Patent 458 756, dadurch gekennzeichnet, daß das der Behandlung zu unterwerfende Gas- bzw. Dampfgemisch sorgfältig von reaktionsfremden Gasen bzw. Dämpfen befreit wird.
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