DE4307743C2 - Harzgekapselte Halbleitervorrichtung - Google Patents
Harzgekapselte HalbleitervorrichtungInfo
- Publication number
- DE4307743C2 DE4307743C2 DE4307743A DE4307743A DE4307743C2 DE 4307743 C2 DE4307743 C2 DE 4307743C2 DE 4307743 A DE4307743 A DE 4307743A DE 4307743 A DE4307743 A DE 4307743A DE 4307743 C2 DE4307743 C2 DE 4307743C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- epoxy resin
- resin
- semiconductor device
- wax
- resin composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
- H01L23/293—Organic, e.g. plastic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
- C08G59/32—Epoxy compounds containing three or more epoxy groups
- C08G59/3218—Carbocyclic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
- C08G59/686—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
- H01B3/18—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
- H01B3/30—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
- H01B3/40—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes epoxy resins
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
- H01L2224/48465—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
- H01L2924/143—Digital devices
- H01L2924/1433—Application-specific integrated circuit [ASIC]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/23—Sheet including cover or casing
- Y10T428/239—Complete cover or casing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine harzgekap
selte Halbleitervorrichtung, bei der ein Halbleiter
element mit einer Epoxyharzmasse eingekapselt ist,
wie dies beispielsweise aus der DE 38 42 270 A1 bekannt ist.
Eine Epoxyharzmasse vom Novolaktyp, die sich bei
spielsweise eines Phenolnovolakharzes als Härtungsmittel
bedient, weist eine ausgezeichnete Formbarkeit auf. Fer
ner besitzt ein gehärtetes Produkt davon eine ausgezeich
nete Feuchtigkeitsbeständigkeit und hervorragende elek
trische Eigenschaften bei hohen Temperaturen. Dies be
dingt einen umfangreichen Einsatz der Masse dieses Typs
zur Einkapselung einer Halbleitervorrichtung.
In jüngster Zeit wird im Bereich der harzgekapselten
Halbleitervorrichtungen im Einklang mit einem Fortschritt
bei der Integrationsdichte des Halbleiterelements die Mi
niaturisierung eines jeden Funktionsbauteils eines Halb
leiterelements bei gleichzeitiger Vergrößerung des Ele
ments selbst stark gefördert. Folglich besteht eine For
derung nach einem hochdichten Montieren des Elements so
wie nach Automation des Montageprozesses. Unter diesen
Umständen kam es zu einer Veränderung des Montageprozes
ses einer Halbleitervorrichtung vom herkömmlichen Stift
stecktyp hin zum Flächenmontagetyp.
Das Flächenmontageverfahren zum Montieren einer
Halbleitervorrichtung auf ein Substrat wird beispiels
weise zum Montieren eines Bauteils vom Flächenmontagetyp
z. B. einer als ASIC (Application Specific IC) bezeichne
ten Gate-Anordnung oder eines Standardzellentyp-LSIs
(großintegrierten Schaltkreises), angewendet. In diesem
Fall wird eine Lötpaste auf einem Substrat durch Infra
rotstrahlen oder einen Fluorkohlenstoffdampf zur Verbin
dung mit einer Leitung einer Halbleitervorrichtung er
wärmt. Beim Erwärmen wird das gesamte Bauteil hohen Tem
peraturen von etwa 215-260°C ausgesetzt. Das rasche Er
wärmen kann zum Auftreten von Rissen im Bauteil führen.
Genauer gesagt wird durch Unterwerfen des absorbierte
Feuchtigkeit aufweisenden Harzes einer hohen Temperatur
das Wasser im Bauteil verdampft, wodurch es zu einem
Quellen des Bauteils kommt. Darüber hinaus bedingt die
mit dem Quellen einhergehende Spannung ein Reißen des
Harzes. Wenn das Reißen die äußere Oberfläche des Harzes
(Bauteil) erreicht, wird die Zuverlässigkeit im Hinblick
auf eine Feuchtigkeitsbeständigkeit merklich beeinträch
tigt. Es ist darauf hinzuweisen, daß das Harz selbst auch
quillt, wodurch es unmöglich wird, ein Montieren zu ge
währleisten. Darüber hinaus tritt ferner Rißbildung in
einer als Passivierungsfilm auf eine Verdrahtungsschicht
aus Aluminium eingesetzten PSG (Phosphosilicatglas)-Schicht
oder einer SiN (Siliciumnitrid)-Schicht auf.
Andererseits kann es in einigen Fällen zu einem Brechen
eines Goldbindungsdrahts kommen.
Wie im vorherigen beschrieben, wird die Zuverlässig
keit der Vorrichtung durch das Auftreten von Rissen merk
lich beeinträchtigt. Ein derartiges Auftreten von Rissen
zu verhindern stellt gegenwärtig ein ernstes, einer Lö
sung bedürfendes Problem beim Flächenmontierverfahren
dar.
Als eine Maßnahme zur Lösung des Problems wurde
gefordert, die Eigenschaften des Einkapselungsharzes wei
ter zu verbessern. Insbesondere bei einer harzeingekap
selten Halbleitervorrichtung eines großen Bauteils be
steht die Forderung, die durch das Einkapselungsharz auf
das eingekapselte Material ausgeübte Spannung zu vermin
dern und die Bindungsfestigkeit zwischen dem Einkapse
lungsharz und den PSG-, SiN- und Polyimidfilmen auf der
Oberfläche des Halbleiterelements und zwischen dem Ein
kapselungsharz und der Leiterplatte zu verbessern. Ferner
besteht die Forderung, dem Einkapselungsharz ausreichende
Festigkeit und Feuchtigkeitsbeständigkeit bei hohen Tem
peraturen, denen das Bauteil im Montageschritt ausgesetzt
wird, zu verleihen und die Wasserdampfabsorptionsmenge
des Einkapselungsharzes zu verringern.
Angesichts dieser Forderungen wurde jüngst eine
Harzmasse mit einem polyfunktionellen Epoxyharz einer
wärmebeständigen Skelettstruktur und/oder einem polyfunk
tionellen Phenolharzhärtungsmittel als Einkapselungsharz
mit einer zum Widerstehen des in dem Bauteil erzeugten
Wasserdampfes ausreichenden Festigkeit vorgeschlagen. Die
mit einem (einer) derartigen wärmebeständigen Einkapse
lungsharz (-masse) eingekapselte Halbleitervorrichtung
weist jedoch verglichen mit der mit einer Epoxyharzmasse
vom Novolaktyp eingekapselten Vorrichtung eine nicht
zufriedenstellende Zuverlässigkeit bezüglich Wärmebestän
digkeit und Beständigkeit gegenüber einer externen Konta
mination auf. Ferner besitzt das obige wärmebeständige
Einkapselungsharz schlechte Formtrenneigenschaften. Die
Verbesserung der Formtrenneigenschaften ist durch Zugabe
einer ausreichenden Menge eines Formtrennmittels sicher
lich möglich. In diesem Fall wird jedoch die Bindungsfe
stigkeit zwischen dem gehärteten Harz und dem Halbleiter
element und zwischen dem gehärteten Harz und der Leiter
platte verringert. Daraus folgt, daß bei der sich des
obigen Einkapselungsharzes bedienenden eingekapselten
Halbleitervorrichtung das Bauteil im Montageschritt zu
Rißbildung neigt, was zu einer Beeinträchtigung der Zu
verlässigkeit bezüglich Feuchtigkeitsbeständigkeit führt.
Die DE 38 42 270 A1 beschreibt Glycidylether einer
phenolischen Verbindung der Formel:
worin bedeuten:
R1 bis R6 jeweils eine Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoff atom(en);
R7 bis R12 jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatom(en) oder eine Alkoxygruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatom(en);
X ein Chlor- oder Bromatom;
GE eine Glycidylethergruppe;
a, b, c, d und e jeweils 0 oder 1 und
n einen Durchschnittswert von 0,5 bis 5.
R1 bis R6 jeweils eine Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoff atom(en);
R7 bis R12 jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatom(en) oder eine Alkoxygruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatom(en);
X ein Chlor- oder Bromatom;
GE eine Glycidylethergruppe;
a, b, c, d und e jeweils 0 oder 1 und
n einen Durchschnittswert von 0,5 bis 5.
Den hochreinen Glycidylether der phenolischen Verbindung
erhält man durch Umsetzen der entsprechenden phenolischen
Verbindung mit einem Epichlorhydrin in einem aprotischen
polaren Lösungsmittel in Gegenwart eines Alkalimetall
hydroxids und Nachbehandlung der erhaltenen Rohgly
cidyletherverbindung mit einem alkalischen Material in einem
organischen Lösungsmittel.
Die EP 0 384 774 A2 beschreibt ein Entkapselungsmittel, für
eine Halbleitervorrichtung, das (a) ein wärmehartbares Harz
zur Herstellung eines Härtungsprodukts mit einer Einfrier
temperatur von nicht unter 190°C, (b) einen aus Quarzstaub
bestehenden Füllstoff, (c) ein Modifizierungsmittel, das aus
einem Methylmethacrylat/Butadien/Styrol-Copolymer oder einem
Acrylnitril/Butadien/Styrol-Copolymer besteht, (d) ein
Modifizierungsmittel, das aus einem Silikonkautschuk oder
einem Silikongel besteht, und (e) ein eine
Metallchelatverbindung enthaltendes Gleitmittel enthält.
Die EP 0 359 558 A2 beschreibt ein aus einer Epoxyharz
zusammensetzung bestehendes zur Einkapselung einer auf
Oberflächen zu montierenden Halbleitervorrichtung geeignetes
Einkapselungsmittel, das (a) ein Epoxyharz, (b) ein
kautschukmodifiziertes Phenolharz, das ein Phenolharz und ein
Methylmethacrylat/Butadien/Styrol-Copolymer und einen wärme
härtbaren Silikonkautschuk in Dispersion in dem Phenolharz
umfaßt, (c) einen Härtungsbeschleuniger und (d) ein
Silikapulver umfaßt.
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es folg
lich, eine harzgekapselte Halbleitervorrichtung bereitzu
stellen, die sich eines Einkapselungsharzes ausgezeichne
ter Wärmebeständigkeit, Zuverlässigkeit bezüglich Feuch
tigkeitsbeständigkeit und hervorragender Beständigkeit
gegenüber einer externen Verunreinigung bzw. Kontamina
tion bedient.
Eine weitere Aufgabe ist es, eine eine Epoxyharz
masse mit verbesserten Formtrenneigenschaften und verbes
serter Wärmebeständigkeit als ein Einkapselungsharz ein
setzende harzgekapselte Halbleitervorrichtung bereitzu
stellen, bei der keine Rißbildung in dem Bauteil erzeugt
wird und die eine ausgezeichnete Zuverlässigkeit bezüg
lich Feuchtigkeitsbeständigkeit aufweist.
Gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung wird eine harzgekapselte Halbleitervorrichtung
bereitgestellt, die aus einem Halbleiterelement und einer
Epoxyharzmasse als Kapselungsharz besteht, wobei die Mas
se im wesentlichen aus:
- (a) einem Epoxyharz der folgenden Formel (I)
worin R1, R2, R3 und R4 jeweils für Wasserstoff oder eine Alkylgruppe stehen und n ≧ 0 ist, - (b) einem Phenolharzhärtungsmittel,
- (c) einer Imidazolverbindung und
- (d) Triphenylphosphat oder einem Derivat davon be steht.
Die obige, als Kapselungsharz eingesetzte Epoxyharz
masse erlaubt eine Verbesserung zahlreicher Eigenschaften
der harzgekapselten Halbleitervorrichtung der vorliegen
den Erfindung. Insbesondere wird durch das in der Masse
enthaltene Epoxyharz (a) und das Phenolharzhärtungsmittel
(b) eine wärmebeständige Skelettstruktur im gehärteten
Kapselungsharz gebildet, die zu einer Verbesserung der
Wärmebeständigkeit führt. Die Kombination der als Här
tungskatalysator eingesetzten Imidazolverbindung (c) und
des Triphenylphosphats oder eines Derivats davon (d) er
laubt eine Verbesserung der Rißbeständigkeit des Bauteils
und der Beständigkeit gegenüber externer Kontamination.
Des weiteren erlaubt die Kombination der Bestandteile (c)
und (d) eine Gewährleistung der Zuverlässigkeit des ge
härteten Harzes bezüglich Feuchtigkeitsbeständigkeit.
Daraus folgt, daß die harzgekapselte Halbleitervorrich
tung gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung eine hohe Zuverlässigkeit in verschiedenen Ei
genschaften beim Schritt des Flächenmontierens und in
verschiedenen Umgebungen nach dem Schritt des Flächenmon
tierens aufweist. Mit anderen Worten liefert die vorlie
gende Erfindung eine für einen Bauteil vom Flächenmonta
getyp geeignete Halbleitervorrichtung.
Gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung wird eine harzgekapselte Halbleitervorrichtung
aus einem Halbleiterelement und einer Epoxyharzmasse als
Kapselungsharz bereitgestellt, wobei die Masse im we
sentlichen aus:
- (a) einem Epoxyharz der folgenden Formel (I)
worin R1, R2, R3 und R4 jeweils für Wasserstoff oder eine Alkylgruppe stehen und n ≧ 0 ist, - (b) einem Phenolharzhärtungsmittel und
- (e) einem Formtrennmittel eines Dreikomponentensy stems aus im wesentlichen einem Wachs auf Esterbasis, ei nem oxidierten Paraffinwachs und einem Wachs auf Olefin basis besteht.
Bei der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Er
findung erlaubt das in dem Kapselungsharz enthaltene
Formtrennmittel (e) eine Verbesserung der Formtrenneigen
schaften des gehärteten Harzes aus der Form. Darüber hin
aus führt die Anwesenheit des Epoxyharzes (a) und des
Phenolharzhärtungsmittels (b), wie bereits in Verbindung
mit der ersten Ausführungsform dargestellt, zu einer Ver
besserung der Wärmebeständigkeit des gehärteten Harzes.
Daraus folgt, daß zur zuverlässigen Herstellung der Vor
richtung der zweiten Ausführungsform eine automatische
Hochgeschwindigkeitsformvorrichtung eingesetzt werden
kann. Darüber hinaus können im Montageschritt eine hohe
Wärmebeständigkeit und hohe Rißbeständigkeit des Bauteils
gewährleistet werden. Ferner weist die Vorrichtung eine
ausgezeichnete Zuverlässigkeit bezüglich Wärmebeständig
keit nach dem Montageschritt auf. Daraus folgt, daß sich
die Halbleitervorrichtung gemäß der zweiten Ausführungs
form für ein großes Bauteil des Flächenmontagetyps eig
net.
Im folgenden sind bevorzugte Ausführungsformen der
Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zei
gen:
Fig. 1 eine Schnittansicht eines Beispiels für den
Aufbau einer harzgekapselten Halbleitervorrichtung der
vorliegenden Erfindung und
Fig. 2 ein Dreieckskoordinatensystem, das einen be
vorzugten Bereich für das Mischungsverhältnis der drei
ein Formtrennmittel bildenden Bestandteile gemäß der vor
liegenden Erfindung angibt.
Die harzgekapselte Halbleitervorrichtung bzw. -an
ordnung gemäß der ersten oder zweiten Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung läßt sich beispielsweise durch
Einkapseln eines unter Verwendung einer Leiterplatte zu
sammengebauten Halbleiterelements mit einem Kapselungs
harz nach einem herkömmlichen Verfahren herstellen. Die
Vorrichtung der ersten Ausführungsform gleicht im Aufbau
der Vorrichtung der zweiten Ausführungsform.
Fig. 1 zeigt ein Beispiel für eine erfindungsgemäße
harzgekapselte Halbleitervorrichtung im Querschnitt. Wie
in Fig. 1 dargestellt, ist ein Halbleiterchip 1 auf einer
Insel 2 montiert. Mehrere Anschlußstreifen 3 sind auf der
Hauptoberfläche des Halbleiterchips 1 ausgebildet. Diese
Anschlußstreifen 3 sind über Bindungsdrähte 5 mit einer
Leiterplatte 4 verbunden. Die Struktur dieser speziellen
Anordnung ist mittels eines Harzes 6 zur Bereitstellung
einer harzgekapselten Halbleitervorrichtung gekapselt.
Bei der ersten Ausführungsform der vorliegenden Er
findung ist das Kapselungsharz 6 aus einer Epoxyharzmasse
mit (a) einem Epoxyharz, (b) einem Phenolharzhärtungsmit
tel, (c) einer Imidazolverbindung und (d) Triphenyl
phosphat oder einem Derivat davon als den wesentlichen
Bestandteilen, wie zuvor beschrieben, gebildet. Bei der
zweiten Ausführungsform ist das Kapselungsharz 6 aus ei
ner Epoxyharzmasse mit (a) einem Epoxyharz, (b) einem
Phenolharzhärtungsmittel und (e) einem Formtrennmittel
eines Dreikomponentensystems aus einem Wachs auf Esterba
sis, einem oxidierten Paraffinwachs und einem Wachs auf
Olefinbasis als den wesentlichen Bestandteilen gebildet.
Bei dem im allgemeinen bei der vorliegenden Erfin
dung eingesetzten Verfahren zur Einkapselung mit dem Harz
handelt es sich um ein Niedrigdruckpreßspritzen. Man kann
sich jedoch eines Spritzform-, Warmpreß-, Gießverfahrens
usw. bedienen. Die Epoxyharzmasse wird im Einkapselungs
schritt zur Härtung der Masse ohne Rücksicht auf die Art
des eingesetzten Einkapselungsverfahrens erwärmt. Man er
hält dabei eine Halbleitervorrichtung mit einem mit dem
gehärteten -Harz eingekapselten Halbleiterelement. Zur
Härtung der Masse ist es zweckmäßig, sich einer Nachhär
tungsbehandlung durch Erwärmen auf mindestens etwa 160°C
zu bedienen.
Das Halbleiterelement unterliegt bei der vorliegen
den Erfindung keinen besonderen Begrenzungen. Ferner kann
der zu bildende Bauteiltyp frei gewählt werden. Darüber
hinaus lassen sich bei der vorliegenden Erfindung neben
dem Bauteil eines Flächenmontagetyps Bauteile wie ein
zweireihiges Steckgehäuse (DIP-Anordnung) und eine
ZIP-Anordnung ausbilden.
Die als Kapselungsharz in der ersten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung eingesetzte Epoxyharzmasse um
faßt ein Epoxyharz (a) der Formel (I), d. h. ein polyfunk
tionelles Epoxyharz mit einer hohen Wärmebeständigkeit.
Das Epoxyharz (a) läßt sich beispielsweise durch Epoxy
dieren eines Kondensats aus Alkylphenolen mit
Hydroxybenzaldehyden herstellen. Zur Herstellung des Ep
oxyharzes (a) kann man sich des zur Herstellung eines No
volakharzes bekannten Verfahrens bedienen. Insbesondere
werden beim ersten Schritt Alkylphenole und Hydroxybenz
aldehyde bei etwa 30 bis 180°C in Gegenwart einer anorga
nischen Säure, z. B. Chlorwasserstoffsäure oder Schwefel
säure, einer organischen Säure, z. B. Essigsäure, t-To
luolsulfonsäure oder Thioglykolsäure, oder eines sauren
Katalysators, z. B. einer Lewissäure, kondensiert. An
schließend wird das erhaltene Kondensat mit Epichlorhy
drin in Gegenwart eines Alkalimetallhydroxids, z. B. Na
tronlauge (NaOH) zur Epoxydation des Kondensats umge
setzt.
Zur Gewährleistung der Zuverlässigkeit des Harzes
ist es wünschenswert, daß der Chlorgehalt des Epoxyharzes
1000 ppm nicht übersteigt. Ferner wird ein Epoxyharz der
folgenden Formel (II):
worin R1, R2, R3 und R4 jeweils für Wasserstoff oder
eine Alkylgruppe stehen und n ≧ 0 ist,
durch die Reaktion von einigen Molekülen des Epoxy harzes der Formel (I) erhalten.
durch die Reaktion von einigen Molekülen des Epoxy harzes der Formel (I) erhalten.
Daraus folgt, daß bei in der vorliegenden Erfindung
eingesetzte Epoxyharz (a) das Epoxyharz der Formel (II)
enthalten kann. Wenn jedoch das Epoxyharz der Formel (II)
in einer übermäßig großen Menge enthalten ist, können
verschiedene Eigenschaften der Epoxyharzmasse beeinträch
tigt sein. Zweckmäßigerweise sollte folglich der Gehalt
an dem Epoxyharz der Formel (II) im Epoxyharz (a) gering,
z. B. etwa 20 Gew.-% oder weniger, sein.
Das Epoxyharz der Formel (I) umfaßt beispielsweise:
ein im Handel erhältliches Epoxyharz ESX-221 (Erwei chungspunkt 85°C, Epoxyäquivalent: 213),
ein im Handel erhältliches Epoxyharz YL-6080 (Erwei chungspunkt 90°C, Epoxyäquivalent: 200) und
ein im Handel erhältliches Epoxyharz YL-6217 (Erwei chungspunkt 90°C, Epoxyäquivalent: 210).
ein im Handel erhältliches Epoxyharz ESX-221 (Erwei chungspunkt 85°C, Epoxyäquivalent: 213),
ein im Handel erhältliches Epoxyharz YL-6080 (Erwei chungspunkt 90°C, Epoxyäquivalent: 200) und
ein im Handel erhältliches Epoxyharz YL-6217 (Erwei chungspunkt 90°C, Epoxyäquivalent: 210).
Zur Herstellung der bei der vorliegenden Erfindung
eingesetzten Epoxyharzmasse kann zusammen mit dem Epoxy
harz der Formel (I) ein weiteres, sich von dem Epoxyharz
der Formel (I) unterscheidendes Epoxyharz eingesetzt wer
den. Das weitere Epoxyharz unterliegt keinen besonderen
Beschränkungen mit Ausnahme, daß mindestens zwei Epoxy
gruppen in einem einzelnen Molekül enthalten sein müssen.
Das Epoxyharz kann in einer derartigen geeigneten Weise
eingesetzt werden, daß es die Funktion und die Wirkung
der vorliegenden Erfindung nicht beeinträchtigt. Das be
sondere Epoxyharz umfaßt beispielsweise ein Epoxyharz vom
Phenolnovolaktyp, ein Epoxyharz vom Kresolnovolaktyp, ein
Epoxyharz vom Naphtholnovolaktyp, ein Epoxyharz vom
Bisphenol-A-Novolaktyp, einen Glycidylether von Bisphenol
A, ein Epoxid eines Tetra(hydroxyphenyl)alkans, ein Ep
oxyharz vom Bishydroxybiphenyltyp sowie verschiedene Ar
ten von bromierten Epoxyharzen. Diese weiteren Epoxyharze
können bei der vorliegenden Erfindung einzeln oder in
Kombination eingesetzt werden.
Die in der ersten Ausführungsform der Erfindung ein
gesetzte Epoxyharzmasse enthält ferner ein Phenolharz
härtungsmittel (b) als einen als Härtungsmittel des Kap
selungsharz wirkenden Bestandteil. Es ist besonders gün
stig, ein Phenolharz der folgenden Formel (III):
worin bedeuten:
R5 und R6, die gleich oder verschieden sein können, Wasserstoff oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlen stoffatom(en) und
R7 eine Einfachbindung oder eine Alkylengruppe, z. B. Methylen oder Ethylen,
als das Phenolharzhärtungsmittel einzusetzen.
R5 und R6, die gleich oder verschieden sein können, Wasserstoff oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlen stoffatom(en) und
R7 eine Einfachbindung oder eine Alkylengruppe, z. B. Methylen oder Ethylen,
als das Phenolharzhärtungsmittel einzusetzen.
Bei dem Phenolharz der Formel (III) handelt es sich
um ein durch Kondensationsreaktion zwischen beispiels
weise einem Phenol oder einem Alkylphenol und einem Hy
droxybenzaldehyd erhaltenes Kondensat. Die speziellen als
Phenolharz bei der vorliegenden Erfindung eingesetzten
Verbindungen umfassen beispielsweise Tris(hydroxyphenyl)-
methan, Tris(hydroxymethylphenyl)methan, Tris(hydroxy
phenyl)propan und Tris(hydroxyphenyl)methylmethan. Diese
Verbindungen können bei der vorliegenden Erfindung als
Phenolharz einzeln oder in Kombination eingesetzt werden.
Um die Zuverlässigkeit des Phenolharzes zu gewährleisten,
ist es wünschenswert, daß die nicht umgesetzten Phenolmo
nomeren in dem Harz in einer Menge von höchstens 1 Gew.-%
enthalten sind.
Die bei der vorliegenden Erfindung eingesetzten spe
ziellen Phenolharze umfassen beispielsweise:
ein im Handel erhältliches Phenolharz YL-6065 (Erweichungspunkt 110°C, Hydroxyläquivalent 98),
ein im Handel erhältliches Phenolharz YL-6100 (Erweichungspunkt 107 °C, Hydroxyläquivalent 110),
ein im Handel erhältliches Phenolharz OTM-486 (Erweichungspunkt 120°C, Hydroxyläquivalent: 98),
ein im Handel erhältliches Phenolharz OTM-488 (Erweichungspunkt 125°C, Hydroxyläquivalent 98),
ein im Handel erhältliches Phenolharz OTM-489 (Erweichungspunkt 123 °C, Hydroxaläquivalent 98) und
ein im Handel erhältliches Phenolharz PC-7004 (Erweichungspunkt 140°C, Hydroxyläquivalent 129).
ein im Handel erhältliches Phenolharz YL-6065 (Erweichungspunkt 110°C, Hydroxyläquivalent 98),
ein im Handel erhältliches Phenolharz YL-6100 (Erweichungspunkt 107 °C, Hydroxyläquivalent 110),
ein im Handel erhältliches Phenolharz OTM-486 (Erweichungspunkt 120°C, Hydroxyläquivalent: 98),
ein im Handel erhältliches Phenolharz OTM-488 (Erweichungspunkt 125°C, Hydroxyläquivalent 98),
ein im Handel erhältliches Phenolharz OTM-489 (Erweichungspunkt 123 °C, Hydroxaläquivalent 98) und
ein im Handel erhältliches Phenolharz PC-7004 (Erweichungspunkt 140°C, Hydroxyläquivalent 129).
Weitere, sich von denjenigen der Formel (III) unter
scheidende Phenolharze können bei der vorliegenden Erfin
dung zusammen mit den Phenolharzen der Formel (III) der
art eingesetzt werden, daß sie die von dem Phenolharzhär
tungsmittel (b) gebildete Funktion und Wirkung nicht be
einträchtigen. Diese zusätzlichen Phenolharze unterliegen
keinen besonderen Beschränkungen, mit der Ausnahme, daß
mindestens zwei phenolische Hydroxylgruppen in einem ein
zelnen Molekül enthalten sein müssen. Spezielle Beispiele
der zusätzlichen Phenolharze umfassen ein Phenolnovolak
harz, ein Kresolnovolakharz, ein Naphtholnovolakharz, ein
Biphenol-A-Novolakharz, ein Phenolaralkylharz und ein
Terpenphenolharz.
Bei der in der ersten Ausführungsform der vorliegen
den Erfindung eingesetzten Epoxyharzmasse ist es wichtig,
das Mischungsverhältnis Phenolharzhärtungsmittel
(b)/Epoxyharz (a) in geeigneter Weise zu bestimmen.
Zweckmäßigerweise wird das Mischungsverhältnis Zahl der
phenolischen Hydroxylgruppen des Phenolharzes/ Zahl der
Epoxygruppen des Epoxyharzes, d. h. Zahl der phenolischen
Hydroxylgruppen/Zahl der Epoxygruppen, in einem Bereich
zwischen etwa 0,5 und 1,5 festgelegt. Ein Mischungsver
hältnis von weniger als 0,5 kann zu einem nicht ausrei
chenden Stattfinden der Härtungsreaktion führen, mit dem
Ergebnis, daß das gehärtete Kapselungsharz keine ausrei
chend hohe mechanische Festigkeit aufweist. Bei einem Mi
schungsverhältnis von mehr als 1,5 können andererseits
die Eigenschaften, insbesondere die Feuchtigkeitsbestän
digkeit, des gehärteten Kapselungsharzes beeinträchtigt
sein.
Die in der in der ersten Ausführungsform der vorlie
genden Erfindung eingesetzten Epoxyharzmasse enthaltene
Imidazolverbindung (c) wirkt als Härtungskatalysator des
Kapselungsharzes und dient gleichzeitig einer Verbesse
rung der Beständigkeit gegen externe Kontamination. Spe
zielle Imidazolverbindungen (c) sind beispielsweise Imi
dazol, 2-Methylimidazol, 2-Ethylimidazol, 1,2-Dimethyl
imidazol, 2,4-Dimethylimidazol, 2-Ethyl-4-methylimidizol,
2-Phenylimidazol, 2-Phenyl-4-methylimidazol, 2-Undecyl
imidazol, 2-Heptadecylimidazol, 1-Cyanoethyl-2-ethyl-4-
methylimidazol, 2-Phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazol und
1-Vinyl-2-methylimidazol. Um eine Zuverlässigkeit des
Kapselungsharzes bezüglich Feuchtigkeitsbeständigkeit zu
gewährleisten, ist es zweckmäßig, eine Imidazolverbindung
mit einer in 2-Stellung gebundenen langkettigen Alkyl
gruppe mit mindestens 11 Kohlenstoffatomen oder einer
Phenylgruppe und einem (einer) in 4-Stellung gebundenen
Wasserstoffatom oder Methylgruppe einzusetzen.
Die als die Imidazolverbindung (c) eingesetzten spe
ziellen Verbindungen unterscheiden sich voneinander in
ihrer katalytischen Aktivität, so daß es schwierig ist,
die der bei der vorliegenden Erfindung eingesetzten Ep
oxyharzmasse zuzumischende Menge an der Imidazolverbin
dung (c) genau zu bestimmen. Die zuzumischende Menge an
der Imidazolverbindung (c) sollte jedoch im allgemeinen
zweckmäßigerweise in einem Bereich zwischen 0,1 und 5
Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der aus Epoxyharz (a)
und Phenolharzhärtungsmittel (b) bestehenden Harzbestand
teile, liegen. Bei einer Zumischmenge an der Imidazolver
bindung (c) von weniger als 0,1 Gew.-% können die Här
tungseigenschaften beeinträchtigt sein, so daß eine Ver
ringerung der Wärmebeständigkeit der Halbleitervorrich
tung auftritt. Bei einer Zumischmenge von über 5 Gew.-%
kann andererseits die Zuverlässigkeit der Halbleitervor
richtung bezüglich Feuchtigkeitsbeständigkeit beeinträch
tigt sein.
Es ist möglich, daß die in der ersten Ausführungs
form der vorliegenden Erfindung eingesetzte Epoxyharz
masse zusammen mit der oben beschriebenen Imidazolverbin
dung (c) Spuren weiterer Härtungskatalysatoren in einer
Weise enthält, daß die durch die Imidazolverbindung (c)
hervorgerufene Wirkung nicht beeinträchtigt wird. Die
obengenannten zusätzlichen Härtungskatalysatoren umfassen
beispielsweise Verbindungen der Aminreihe, Diazabicy
cloalkene und Salze davon, Organophosphine und Organome
tallverbindungen.
Beispiele für bei der vorliegenden Erfindung ein
setzbare Verbindungen der Aminreihe sind Triethylamin,
Diethylentriamin, Triethylentetramin, Diethylaminopro
pylamin, N-Aminoethylpyridin, Bis(4-amino-3-methylcyclo
hexan)methan, Methaxylylenamin, Methandiamin und
3,9-Bis(3-aminopropyl)-2,4,8,10-tetraoxospiro[5,5]undecan.
Bei den erfindungsgemäß einsetzbaren Diazabicycloal
kenen und Salzen davon handelt es sich beispielsweise um
1,8-Diazabicyclo[5,4,0]undeca-7-en oder ein Salz davon.
Des weiteren umfassen die erfindungsgemäß eingesetzten Or
ganophosphine beispielsweise Triphenylphosphin, Tricyclo
hexylphosphin und Tris(3,5-dimethylphenyl)phosphin.
Die in der ersten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung eingesetzte Epoxyharzmasse kann des weiteren
Triphenylphosphat oder ein Derivat davon (d) enthalten.
Bei Triphenylphosphat handelt es sich um eine Verbindung
der chemischen Struktur (C6H5O)3P=O. Unter dem Derivat
von Triphenylphosphat ist eine Verbindung zu verstehen,
bei der eine Niedrigalkylgruppe in mindestens einen der
Benzolringe des Triphenylphosphats eingeführt ist. Das
Derivat umfaßt beispielsweise Trikresylphosphat
(CH3CH6H4O)3P=O. Der Bestandteil (d) dient zur Gewährlei
stung einer verbesserten Beständigkeit der mit einer wär
mebeständigen Epoxyharzmasse eingekapselten Halbleiter
vorrichtung gegenüber Rißbildung und Feuchtigkeit. Die
zuzumischende Menge an Triphenylphosphat (d) sollte in
einem Bereich zwischen 0,1 und 5 Gew.-%, bezogen auf die
Gesamtmenge der Harzbestandteile der Masse, liegen. Liegt
die zuzumischende Menge an Triphenylphosphat (d) unter
0,1 Gew.-%, kann es dazu kommen, daß die Harzmasse keine
ausreichend hohe Feuchtigkeitsbeständigkeit aufweist.
Liegt die zuzumischende Menge über 5 Gew.-%, können ande
rerseits die Härtungseigenschaften der Harzmasse beein
trächtigt sein.
Neben den oben beschriebenen wesentlichen Bestand
teilen sollten der in der ersten Ausführungsform der vor
liegenden Erfindung eingesetzten Epoxyharzmasse zweckmä
ßigerweise anorganische Füllstoffe zugesetzt sein. Die
bei der vorliegenden Erfindung eingesetzten anorganischen
Füllstoffe umfassen beispielsweise zerstoßene oder ver
mahlene Materialien, kugelförmige Pulver, faserförmige
Materialien, Einkristallfäden und Mikroballone von Quarz,
verschmolzenem Siliciumdioxid, Titanoxid, Siliciumnitrid,
Aluminiumnitrid, Talkum, Aluminiumoxid, hydratisiertem
Aluminiumoxid, Glas, Antimonoxid, Bornitrid, Cal
ciumsilicat und verschiedener Keramiken. Die zuzumi
schende Menge an diesen anorganischen Füllstoffen unter
liegt in der vorliegenden Erfindung keinen speziellen Be
schränkungen. Es ist jedoch im allgemeinen zweckmäßig,
daß die zuzumischende Menge an den anorganischen Füll
stoffen in einem Bereich von 40 bis 75 Vol.-%, bezogen
auf die Gesamtmenge an dem Einkapselungsharz, liegt. Wenn
die zugemischte Menge weniger als 40 Vol.-% beträgt, kann
der thermische Expansionskoeffizient des Einkapselungs
harzes übermäßig groß werden, wodurch es zu einer Verrin
gerung der Wärmeschockbeständigkeit kommt. Bei einer Zu
mischmenge an dem anorganischen Füllstoff von mehr als 75
Vol.-% wird andererseits die Fließfähigkeit der Masse be
einträchtigt, mit dem Ergebnis, daß die Formbarkeit der
Epoxyharzmasse beeinträchtigt sein kann.
Ferner ist es möglich, der in der ersten Ausfüh
rungsform der vorliegenden Erfindung eingesetzten Ep
oxyharzmasse ein als Flammhemmittel wirkendes halogenier
tes Epoxyharz zuzusetzen. Das bei der vorliegenden Erfin
dung eingesetzte halogenierte Epoxyharz unterliegt kei
nerlei Beschränkungen, mit der Ausnahme, daß das Harz Ha
logenatome, z. B. Brom- oder Chloratome, enthält und sich
mindestens zwei Epoxygruppen in einem einzelnen Harzmole
kül befinden. Beispielsweise ist es möglich, ein Bromid
eines Epoxyharzes vom Bisphenoltyp oder ein Bromid eines
Epoxyharzes vom Novolaktyp einzusetzen. Zweckmäßigerweise
bei der vorliegenden Erfindung eingesetzt wird ein bro
miertes Epoxyharz vom Bisphenoltyp oder ein bromiertes
Epoxyharz vom Novolaktyp mit jeweils einem Bromgehalt von
mindestens 20 Gew.-%. Vorzugsweise eingesetzt wird ein
bromiertes Epoxyharz vom Bisphenoltyp mit einem Bromge
halt von mindestens 40 Gew.-%. Spezielle Beispiele für
das erfindungsgemäß eingesetzte halogenierte Epoxyharz
sind:
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz AER-735 (Bromgehalt 48 Gew.-%, Epoxyäquivalent 350, Erweichungspunkt 60°C, halbfest, Bisphenoltyp),
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz AER-745 (Bromgehalt 48 Gew.-%, Epoxyäquivalent 400, Erweichungspunkt 71°C, Bisphenoltyp),
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz AER-755 (Bromgehalt 48 Gew.-%, Epoxyäquivalent 460, Erweichungspunkt 81°C, Bisphenoltyp),
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz AER-765 (Bromgehalt 50 Gew.-%, Epoxyäquivalent 602, Erweichungspunkt 101°C, Bisphenoltyp),
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz BRENS (Bromgehalt 36 Gew.-%, Epoxyäquivalent 289, Erweichungspunkt 88°C, Phenolnovolaktyp),
das im Handel erhältliche bromierte Epoxharz EPPN 500 (Bromgehalt 44 Gew.-%, Epoxyäquivalent 285, Erweichungspunkt 94°C, Phenolnovolaktyp),
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz AER-711 (Bromgehalt 20 Gew.-%, Epoxyäquivalent 480, Erweichungspunkt 74°C, Bisphenoltyp),
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz Epiclon 152 (Bromgehalt 46 Gew.-%, Epoxyäquivalent 360, Erweichungspunkt 55°C, Phenolnovolaktyp) und
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz Epiclon 1120 (Bromgehalt 20 Gew.-%, Epoxyäquivalent 480, Erweichungspunkt 75°C, Phenolnovolaktyp).
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz AER-735 (Bromgehalt 48 Gew.-%, Epoxyäquivalent 350, Erweichungspunkt 60°C, halbfest, Bisphenoltyp),
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz AER-745 (Bromgehalt 48 Gew.-%, Epoxyäquivalent 400, Erweichungspunkt 71°C, Bisphenoltyp),
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz AER-755 (Bromgehalt 48 Gew.-%, Epoxyäquivalent 460, Erweichungspunkt 81°C, Bisphenoltyp),
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz AER-765 (Bromgehalt 50 Gew.-%, Epoxyäquivalent 602, Erweichungspunkt 101°C, Bisphenoltyp),
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz BRENS (Bromgehalt 36 Gew.-%, Epoxyäquivalent 289, Erweichungspunkt 88°C, Phenolnovolaktyp),
das im Handel erhältliche bromierte Epoxharz EPPN 500 (Bromgehalt 44 Gew.-%, Epoxyäquivalent 285, Erweichungspunkt 94°C, Phenolnovolaktyp),
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz AER-711 (Bromgehalt 20 Gew.-%, Epoxyäquivalent 480, Erweichungspunkt 74°C, Bisphenoltyp),
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz Epiclon 152 (Bromgehalt 46 Gew.-%, Epoxyäquivalent 360, Erweichungspunkt 55°C, Phenolnovolaktyp) und
das im Handel erhältliche halogenierte Epoxyharz Epiclon 1120 (Bromgehalt 20 Gew.-%, Epoxyäquivalent 480, Erweichungspunkt 75°C, Phenolnovolaktyp).
Des weiteren ist es möglich, daß die in der ersten
Ausführungsform der vorliegende Erfindung eingesetzte Ep
oxyharzmasse gewünschtenfalls geeignete Mengen noch wei
terer, sich von den oben beschriebenen weiteren Bestand
teilen unterscheidender Bestandteile einschließlich bei
spielsweise Flammen hemmender Hilfsstoffe, z. B. eine
Antimonverbindung und eine Phosphorverbindung, Formtrenn
verbindungen, z. B. natürliche Wachse, synthetische
Wachse, lineare Fettsäuren und Metallsalze davon, Säure
amide, Ester und Paraffine, Färbemitteln, z. B. Ruß, Ti
tandioxid und ein Farbstoff, Oberflächenbehandlungsmit
teln von Füllstoffen, z. B. Silankupplungsmittel und
Titankupplungsmittel, sowie eine Spannung verringernden
Mitteln, z. B. Siliconöl, Siliconkautschuk, verschiedene
pulverförmige Kunststoffe, verschiedene pulverförmige
technische Kunststoffe und pulverförmiges ABS-Harz und
MBS-Harz, enthalten.
Die in der ersten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung eingesetzte Epoxyharzmasse kann ohne Schwierig
keiten unter Anwendung beispielsweise eines Schmelzkne
tens mit Hilfe einer Heizwalze, eines Extruders oder ei
ner Knetvorrichtung, Mahlen oder Mischen der Bestandteile
mit einer speziellen Mischvorrichtung nach einem Kneten
und Vermahlen hergestellt werden. Natürlich können zur
Herstellung der bei der vorliegenden Erfindung eingesetz
ten Epoxyharzmasse einige dieser Maßnahmen in Kombination
eingesetzt werden.
Eine Epoxyharzmasse wird ferner als Einkapselungs
harz in der harzgekapselten Halbleitervorrichtung gemäß
der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung
eingesetzt. Die in der zweiten Ausführungsform einge
setzte Epoxyharzmasse enthält auch das Epoxyharz (a) und
das Phenolharzhärtungsmittel (b), die bereits in Verbin
dung mit der ersten Ausführungsform der vorliegenden Er
findung beschrieben wurden. Das weitere Epoxyharz, das
zusammen mit dem Epoxyharz (a) der Formel (I) in der er
sten Ausführungsform eingesetzt werden kann, kann auch in
der zweiten Ausführungsform eingesetzt werden. Des weite
ren sollten die zuvor in Verbindung mit der ersten Aus
führungsform beschriebenen zuzumischenden Mengen an dem
Epoxyharz und dem Phenolharzhärtungsmittel (b) in der
zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung auch
eingesetzt werden.
Die in der harzgekapselten Halbleitervorrichtung ge
mäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung eingesetzte Epoxyharzmasse ist dadurch gekennzeich
net, daß die Masse ein Formtrennmittel (e) eines Dreikom
ponentensystems aus im wesentlichen einem Wachs auf
Esterbasis, einem oxidierten Paraffinwachs und einem
Wachs auf Olefinbasis enthält.
Genauer gesagt sollte es sich bei dem in dem Form
trennmittel (e) enthaltenen Wachs auf Esterbasis um ein
durch die Reaktion zwischen einer einwertigen höheren
Fettsäure und einem einwertigen höheren Alkohol erhalte
nen Ester handeln. Beispiele dafür sind ein im Handel er
hältliches Carnaubawachs, bei dem es sich um einen Ester
der Cerutinsäure und von Myricylalkohol mit einem
Schmelzpunkt von 87°C, einem Säurewert von 2 bis 6 und
einem Verseifungswert von 83 handelt, und ein im Handel
erhältliches Hoechst E, bei dem es sich um ein Wachs mit
einem Schmelzpunkt von 76 bis 82°C, einem Säurewert von
15 bis 20 und einem Verseifungswert von 125 bis 155 han
delt. Selbstverständlich ist das erfindungsgemäß einge
setzte Wachs auf Esterbasis nicht auf das Carnaubawachs
und Hoechst E, die als Beispiele genannt wurden, be
schränkt.
Bei dem in dem Formtrennmittel (e) enthaltenen oxi
dierten Paraffinwachs handelt es sich um ein Oxid von
Kohlenwasserstoffen, vorzugsweise um ein durch Oxidation
von Kohlenwasserstoffen erhaltenes Gemisch höherer Alko
hole, höherer Fettsäuren und Ester. Beispiele für das
oxidierte Paraffinwachs sind ein im Handel erhältliches
LUVAX-0321 (Schmelzpunkt 75°C, Molekulargewicht etwa 800,
Säurewert 12, Verseifungswert 30, Hydroxylwert 80) und
ein im Handel erhältliches oxidiertes Paraffinwachs
Hoechst S (Schmelzpunkt 78 bis 84°C, Säurewert 135 bis
155, Verseifungswert 155-175). Selbstverständlich ist das
bei der vorliegenden Erfindung eingesetzte oxidierte Pa
raffinwachs nicht auf LUVAX-0321 und Hoechst S be
schränkt.
Des weiteren sollte es sich bei dem in dem Form
trennmittel (e) enthaltenen Wachs auf Olefinbasis
zweckmäßigerweise um ein niedrigmolekulares Polyethylen
und ein niedrigmolekulares Polypropylen mit jeweils einem
Molekulargewicht von 500 bis 5000 handeln. Besonders ge
eignet ist ein durch Oxidation modifiziertes oder durch
ein Säureanhydrid säuremodifiziertes niedrigmolekulares
Polyethylen oder Polypropylen. Spezielle Beispiele für
das erfindungsgemäß eingesetzte Wachs auf Olefinbasis
sind:
- (1) Oxidiertes Polyethylenwachs:
Das im Handel erhältliche oxidierte Polyethylenwachs HW-4252E (Schmelzpunkt 93°C, Molekulargewicht etwa 3000, Säurewert 17),
das im Handel erhältliche oxidierte Polyethylenwachs HW-4202E (Schmelzpunkt 101°C, Molekulargewicht etwa 2500, Säurewert 17),
das im Handel erhältliche oxidierte Polyethylenwachs HW-4052E (Schmelzpunkt 110°C, Molekulargewicht etwa 3200, Säurewert 20),
das im Handel erhältliche oxidierte Polyethylenwachs E-300 (Schmelzpunkt 104°C, Molekulargewicht etwa 3000, Säurewert 22),
das im Handel erhältliche oxidierte Polyethylenwachs E-250P (Schmelzpunkt 104°C, Molekulargewicht etwa 2000, Säurewert 22),
das im Handel erhältliche oxidierte Polyethylenwachs PAD-521 (Schmelzpunkt 104°C, Molekulargewicht etwa 2000, Säurewert 16) und
das im Handel erhältliche oxidierte Polyethylenwachs PAD-522 (Schmelzpunkt 104°C, Molekulargewicht etwa 3000, Säurewert 25); - (2) Oxidiertes Polypropylenwachs:
das im Handel erhältliche oxidierte Polypropylen wachs TS-200 (Schmelzpunkt 145°C, Molekulargewicht etwa 3500, Säurewert 3,5); - (3) Säuremodifiziertes Polyethylenwachs:
das im Handel erhältliche oxidierte Polypropylen wachs HW-1105A (Schmelzpunkt 104°C, Molekulargewicht etwa 1500, Säurewert 60).
Bei der in der zweiten Ausführungsform der vorlie
genden Erfindung eingesetzten Epoxyharzmasse sollte die
zuzumischende Menge an dem Formtrennmittel (e) zweckmäßi
gerweise in einem Bereich von 0,3 bis 0,8 Gew.-%, bezogen
auf die Gesamtmenge an der Epoxyharzmasse, und in einem
Bereich von 1,5 bis 4,5 Gew.-%, bezogen auf die Gesamt
menge an dem Epoxyharz und dem Härtungsmittel, liegen.
Wenn die zuzumischende Menge an dem Formtrennmittel die
untere Grenze des oben angegebenen Bereichs unterschrei
tet, ist es in einigen Fällen schwierig, ausreichende
Formtrenneigenschaften zu erhalten. Wenn andererseits die
obere Grenze des angegebenen Bereichs überschritten wird,
kann es zu einer Verfärbung des Formlings nach dem Form
schritt kommen. Ferner kann die Bindungsfestigkeit zwi
schen dem Kapselungsharz und dem Halbleiterelement und
zwischen dem Kapselungsharz und der Leiterplatte beein
trächtigt sein, was dazu führt, daß die Zuverlässigkeit
der harzgekapselten Halbleitervorrichtung bezüglich
Feuchtigkeitsbeständigkeit gering wird.
Fig. 2 stellt ein Dreieckskoordinatensystem (d. h.
eine Dreiecksgraphik) dar, das das wünschenswerte Mi
schungsverhältnis der drei Komponenten bzw. Bestandteile
des Formtrennmittels (e) angibt. Wie in Fig. 2 darge
stellt, sollten die zuzumischenden Mengen an den drei Be
standteilen des Formtrennmittels (e) in einem durch die
folgenden Punkte a, b, c, d definierten Bereich liegen:
a: x = 30, y = 67, z = 3
b: x = 92, y = 5, z = 3
c: x = 75, y = 5, z = 20
d: x = 30, y = 50, z = 20
b: x = 92, y = 5, z = 3
c: x = 75, y = 5, z = 20
d: x = 30, y = 50, z = 20
worin x das Wachs auf Esterbasis in Gew.-%, y das
oxidierte Paraffinwachs in Gew.-% und z das Wachs auf
Olefinbasis in Gew.-% angibt.
Wenn das Zumischverhältnis an den drei Bestandteilen
außerhalb der in Fig. 2 angegebenen Linie a-b sowie au
ßerhalb der Linie b-c liegt, ist es unmöglich, die Form
trenneigenschaften der harzgekapselten Halbleitervor
richtung nach dem Härten des Einkapselungsharzes ausrei
chend zu verbessern. Wenn das Zumischverhältnis an den
drei Bestandteilen andererseits außerhalb der in Fig. 2
dargestellten Linie c-d sowie außerhalb der Linie d-a
liegt, ist es schwierig, eine ausreichende Rißbeständig
keit des Bauteils zu erhalten.
Bei der harzgekapselten Halbleitervorrichtung gemäß
der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung
kann die Epoxyharzmasse des weiteren Härtungskatalysa
toren, z. B. Imidazolverbindungen, Verbindungen der Amin
reihe, Diazabicycloalkene und Salze davon, Organophos
phine und Organometallverbindungen, wie sie zuvor bei der
ersten Ausführungsform beschrieben wurden, neben den oben
beschriebenen wesentlichen Bestandteilen enthalten.
Die als die Härtungskatalysatoren in der Epoxyharz
masse der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung eingesetzten speziellen Verbindungen unterscheiden
sich voneinander in ihrer katalytischen Aktivität, so
daß eine genaue Bestimmung der zuzumischenden Menge an
den Härtungskatalysatoren schwierig ist. Die zuzumi
schende Menge an dem Härtungsbeschleuniger sollte jedoch
zweckmäßigerweise im allgemeinen in einem Bereich von 0,1
bis 5 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge an den Harzbe
standteilen aus dem Epoxyharz (a) und dem Phenolharzhär
tungsmittel (b), liegen. Wenn die zuzumischende Menge an
dem Härtungskatalysator unter 0,1 Gew.-% liegt, können
die Härtungseigenschaften beeinträchtigt sein, was dazu
führt, daß die Wärmebeständigkeit der Halbleitervorrich
tung verringert wird. Wenn die zuzumischende Menge 5
Gew.-% übersteigt, kann andererseits die Zuverlässigkeit
der Halbleitervorrichtung bezüglich Feuchtigkeitsbestän
digkeit verringert sein.
Des weiteren kann die in der zweiten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung eingesetzte Epoxyharzmasse als
zweckmäßige weitere Zusatzstoffe anorganische Füllstoffe,
Flammhemmittel, z. B. ein halogeniertes Epoxyharz, flamm
hemmende Hilfsmittel, Färbemittel, Oberflächenbehand
lungsmittel und eine Spannung verringernde Mittel, wie
sie in der in der ersten Ausführungsform eingesetzten Ep
oxyharzmasse beschrieben wurden, enthalten. Die Mengen an
diesen Zusatzstoffen sollten den zuvor in Verbindung mit
der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung be
schriebenen Mengen entsprechen.
Des weiteren kann die in der zweiten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung eingesetzte Epoxyharzmasse
ohne Schwierigkeiten beispielsweise mit Hilfe eines
Schmelzknetens unter Verwendung einer Heizwalze, eines
Extruders oder einer Knetvorrichtung, durch Vermahlen
oder Vermischen der Bestandteile mit einer speziellen
Mischvorrichtung nach einem Kneten und Vermahlen, wie bei
der ersten Ausführungsform bereits beschrieben, herge
stellt werden. Selbstverständlich können zur Herstellung
der bei der vorliegenden Erfindung eingesetzten Epoxy
harzmasse einige dieser Maßnahmen in Kombination mit
einander eingesetzt werden.
Im folgenden soll die vorliegende Erfindung anhand
von Beispielen detaillierter beschrieben werden. Die fol
genden Beispiele sollen das Verständnis der vorliegenden
Erfindung erleichtern, den technischen Rahmen der vorlie
genden Erfindung jedoch in keiner Weise beschränken.
Durch Vermischen der in Tabelle 1 angegebenen Be
standteile wurden Epoxyharzmassen hergestellt. In der er
sten Stufe wurde ein Füllstoff mit einem Oberflächenbe
handlungsmittel mit Hilfe eines Henschel-Mischers behan
delt, worauf die weiteren Bestandteile in die Masse ein
gemischt wurden. Anschließend wurde das Gemisch bei 60
bis 130°C unter Verwendung einer Heizwalze verknetet. Das
verknetete Gemisch wurde anschließend abgekühlt und ver
mahlen, wobei man eine gewünschte Epoxyharzmasse erhielt.
Bei den in Tabelle 1 dargestellten Bestandteilen der
Epoxyharzmassen handelt es sich um die folgenden:
Epoxyharz A: das im Handel erhältliche ESCN-221 (Handelsbezeichnung für ein Epoxyharz auf Tris(hydroxy alkylphenyl)-Basis mit einem Epoxyäquivalent von 213 und einem Erweichungspunkt von 85°C),
Epoxyharz B: Das im Handel erhältliche Epoxyharz ESCN195XL (Handelsbezeichnung eines Orthokresolnovolakep oxyharzes mit einem Epoxyäquivalent von 197 und einem Er weichungspunkt von 75°C),
Epoxyharz C: Ein im Handel erhältliches Epoxyharz AER-755 (Handelsbezeichnung eines bromierten Epoxyharzes vom Bisphenol-A-Typ mit einem Epoxyäquivalent von 460, einem Erweichungspunkt von 81°C und einem Bromgehalt von 48 Gew.-%),
Phenolharzhärtungsmittel A: Ein im Handel erhältli ches Phenolharzhärtungsmittel YL-6065 (Handelsbezeichnung eines Phenolharzes auf Tris(hydroxyphenyl)methanbasis mit einem Hydroxyläquivalent von 98 und einem Erweichungs punkt von 121°C),
Phenolharzhärtungsmittel B: Ein im Handel erhältli ches Phenolharzhärtungsmittel BRG-557 (Handelsbezeichnung eines Phenolnovolakharzes mit einem Hydroxyläquivalent von 104 und einem Erweichungspunkt von 85°C),
Härtungskatalysator A: ein im Handel erhältlicher Härtungskatalysator C17Z (Handelsbezeichnung von 2-Heptadecylimidazol),
Härtungskatalysator B: Ein im Handel erhältlicher Härtungskatalysator 2MZ (Handelsbezeichnung von 2-Methylimidazol),
Härtungskatalysator C: Ein im Handel erhältlicher Härtungskatalysator PP-360 (Handelsbezeichnung von Tri phenylphosphin),
Formtrennmittel A: Ein im Handel erhältliches Form trennmittel Carnauba Nr. 1 (Handelsbezeichnung eines Car naubawachses),
Pigment (Färbemittel): Ein im Handel erhältliches Pigment CB#30 (Handelsbezeichnung eines Rußes),
Flammhemmendes Hilfsmittel: Ein im Handel erhältli ches Antimontrioxid,
Füllstoff: Ein im Handel erhältliches verschmolzenes Siliciumdioxidpulver, das verschmolzen oder vermahlen ist und eine durchschnittliche Teilchengröße von 20 µm auf weist,
Oberflächenbehandlungsmittel (Kupplungsmittel): Ein im Handel erhältliches Oberflächenbehandlungsmittel A-187 (Handelsbezeichnung eines γ-Glycidoxypropyltrimethoxysi lans).
Epoxyharz A: das im Handel erhältliche ESCN-221 (Handelsbezeichnung für ein Epoxyharz auf Tris(hydroxy alkylphenyl)-Basis mit einem Epoxyäquivalent von 213 und einem Erweichungspunkt von 85°C),
Epoxyharz B: Das im Handel erhältliche Epoxyharz ESCN195XL (Handelsbezeichnung eines Orthokresolnovolakep oxyharzes mit einem Epoxyäquivalent von 197 und einem Er weichungspunkt von 75°C),
Epoxyharz C: Ein im Handel erhältliches Epoxyharz AER-755 (Handelsbezeichnung eines bromierten Epoxyharzes vom Bisphenol-A-Typ mit einem Epoxyäquivalent von 460, einem Erweichungspunkt von 81°C und einem Bromgehalt von 48 Gew.-%),
Phenolharzhärtungsmittel A: Ein im Handel erhältli ches Phenolharzhärtungsmittel YL-6065 (Handelsbezeichnung eines Phenolharzes auf Tris(hydroxyphenyl)methanbasis mit einem Hydroxyläquivalent von 98 und einem Erweichungs punkt von 121°C),
Phenolharzhärtungsmittel B: Ein im Handel erhältli ches Phenolharzhärtungsmittel BRG-557 (Handelsbezeichnung eines Phenolnovolakharzes mit einem Hydroxyläquivalent von 104 und einem Erweichungspunkt von 85°C),
Härtungskatalysator A: ein im Handel erhältlicher Härtungskatalysator C17Z (Handelsbezeichnung von 2-Heptadecylimidazol),
Härtungskatalysator B: Ein im Handel erhältlicher Härtungskatalysator 2MZ (Handelsbezeichnung von 2-Methylimidazol),
Härtungskatalysator C: Ein im Handel erhältlicher Härtungskatalysator PP-360 (Handelsbezeichnung von Tri phenylphosphin),
Formtrennmittel A: Ein im Handel erhältliches Form trennmittel Carnauba Nr. 1 (Handelsbezeichnung eines Car naubawachses),
Pigment (Färbemittel): Ein im Handel erhältliches Pigment CB#30 (Handelsbezeichnung eines Rußes),
Flammhemmendes Hilfsmittel: Ein im Handel erhältli ches Antimontrioxid,
Füllstoff: Ein im Handel erhältliches verschmolzenes Siliciumdioxidpulver, das verschmolzen oder vermahlen ist und eine durchschnittliche Teilchengröße von 20 µm auf weist,
Oberflächenbehandlungsmittel (Kupplungsmittel): Ein im Handel erhältliches Oberflächenbehandlungsmittel A-187 (Handelsbezeichnung eines γ-Glycidoxypropyltrimethoxysi lans).
Es sei darauf hingewiesen, daß in der Epoxyharzmasse
des Vergleichsbeispiels 1 kein Triphenylphosphat enthal
ten ist. In der Epoxyharzmasse des Vergleichsbeispiels 2
wird Triphenyphosphin alleine als Härtungskatalysator
eingesetzt. Des weiteren ist in der Masse des Vergleichs
beispiels 3 kein Epoxyharz mit einer chemischen Struktur
der Formel (I) enthalten.
Nach einem üblichen bekannten Verfahren unter Ver
wendung jeweils einer der in Tabelle 1 dargestellten Ep
oxyharzmassen wurde eine harzgekapselte Halbleitervor
richtung (Halbleiterbauteil) hergestellt. Jedes dieser
Halbleiterbauteile wurde anschließend den beiden Bewer
tungsuntersuchungen (1) und (2) unterworfen.
Eine Prüfvorrichtung wurde mit jeweils einer der Ep
oxyharzmassen eingekapselt und anschließend 4 h lang bei
180°C einer Nachhärtungsbehandlung unterzogen. Danach
wurde das erhaltene Bauteil bei einer Temperatur von 85°C
und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 85% stehengelas
sen, um dem Bauteil eine Absorption von Feuchtigkeit zu
ermöglichen, worauf es 1 Minute lang einem Fluorkohlen
stoffdampf von 215°C ausgesetzt wurde. Danach wurde das
Bauteil auf etwaig auftretende Risse hin untersucht.
Das Bauteil wurde einer Untersuchung in einem unter
Druck gesetzten Kochtopf unterzogen. Dabei wurde das Bau
teil eine vorbestimmte Zeit lang in einer mit Dampf einer
Temperatur von 127°C gesättigten Atmosphäre stehengelas
sen, um das etwaige Auftreten von Fehlern (Fehler infolge
eines Leckstroms und einer Leitungsunterbrechung) zu un
tersuchen.
Eine Prüflingsvorrichtung wurde mit jeweils einer
der Epoxyharzmassen eingekapselt und anschließend 4 h
lang bei 180°C einer Nachhärtungsbehandlung unterzogen.
Anschließend wurde das erhaltene Bauteil in eine 5%ige
wäßrige Natriumchloridlösung eingetaucht. Anschließend
wurde das Bauteil eine vorbestimmte Zeit lang bei einer
Temperatur von 85°C und einer relativen Luftfeuchtigkeit
von 85% stehengelassen, um das etwaige Auftreten eines
Fehlers (ein Fehler infolge eines Leckstroms oder einer
Leitungsunterbrechung) zu untersuchen.
Tabelle 2 zeigt die Ergebnisse dieser Untersuchun
gen.
Wie aus Tabelle 2 ersichtlich, zeigte sich, daß die
mit der Epoxyharzmasse der Beispiele 1, 2 oder 3 einge
kapselte Halbleitervorrichtung bezüglich Beständigkeit
gegenüber einer Rißbildung bei hohen Temperaturen und der
mit Hilfe des nach der Untersuchung bezüglich Beständig
keit gegen Rißbildung durchgeführten Untersuchung in ei
nem Druckkochtopf bestimmten Zuverlässigkeit bezüglich
Feuchtigkeitsbeständigkeit der mit der Epoxyharzmasse der
Vergleichsbeispiele 1, 2 oder 3 eingekapselten Halblei
tervorrichtung überlegen war. Ferner wurde bestätigt, daß
selbst dann wenn eine externe Kontamination der bei der
vorliegenden Erfindung eingesetzten Epoxyharzmasse statt
findet, die Zuverlässigkeit bezüglich Feuchtigkeitsbe
ständigkeit nicht beeinträchtigt wird. Insbesondere wurde
festgestellt, daß die Kombination aus einer Imidazolver
bindung und Triphenylphosphat sowohl die Zuverlässigkeit
hinsichtlich Feuchtigkeitsbeständigkeit als auch die Be
ständigkeit gegenüber einer externen Kontamination deut
lich verbessert.
Durch Vermischen der in Tabelle 3 dargestellten Be
standteile wurden Epoxyharzmassen hergestellt. Im ersten
Schritt wurde ein Füllstoff mit einem Oberflächenbehand
lungsmittel mit Hilfe eines Henschel-Mischers behandelt,
worauf die weiteren Bestandteile der Masse eingemischt
wurden. Anschließend wurde das Gemisch mit Hilfe einer
Heizwalze bei 60 bis 130°C geknetet. Das geknetete Ge
misch wurde anschließend gekühlt und vermahlen, wobei man
eine gewünschte Epoxyharzmasse erhielt.
Die Epoxyharze A, B, C, das Phenolharz A, das eine
Härtung fördernde Mittel A, das Pigment, das Flammen hem
mende Hilfsmittel, der Füllstoff und das Oberflächenbe
handlungsmittel, wie in Tabelle 3 dargestellt, entspre
chen den in Tabelle 1 dargestellten, die bereits im Zu
sammenhang mit den Beispielen 1 bis 3 beschrieben wurden.
Die weiteren Bestandteile der in Tabelle 3 dargestellten
Epoxyharzmassen sind die folgenden:
Phenolharz C: YL-6065 (Handelsbezeichnung eines Tris(hydroxyphenyl)methans mit einem Hydroxyläquivalent von 107 und einem Erweichungspunkt von 101°C),
Phenolharz D: BRG-556 (Handelsbezeichnung eines Phe nolnovolakharzes mit einem Erweichungspunkt von 85°C),
ein eine Spannung verringerndes Mittel A: BTA-731 (Handelsbezeichnung eines Methylmethacrylat/Butadien- /Styrol-Mischpolymerisats),
ein eine Spannung verringerndes Mittel B: TSJ-3051 (Handelsbezeichnung eines wärmehärtbaren Aditionssili congels mit einer Viskosität von 1000 cP bei 25°C),
Formtrennmittel B: Carnauba Nr. 1 (Handelsbezeichnung eines Wachses auf Esterbasis mit ei nem Schmelzpunkt von 87°C, einem Säurewert von 2 bis 6 und einem Verseifungswert von 83),
Formtrennmittel C: Calbacks 0321 (Handelsbezeichnung eines oxidierten Paraffinwachses mit einem Schmelzpunkt von 75°C, einem Molekulargewicht von etwa 800, einem Säu rewert von 12, einem Verseifungswert von 30 und einem Hy droxylwert von 80),
Formtrennmittel D: HW-4252E (Handelsbezeichnung ei nes oxidierten Polyethylenwachses mit einem Schmelzpunkt von 93°C, einem Molekulargewicht von etwa 3000 und einem Säurewert von 17),
Formtrennmittel E: E-250P (Handelsbezeichnung eines oxidierten Polyethylenwachses mit einem Schmelzpunkt von 104°C, einem Molekulargewicht von etwa 2000 und einem Säurewert von 20),
Formtrennmittel F: HW-2203A (Handelsbezeichnung ei nes oxidierten Polyethylenwachses mit einem Schmelzpunkt von 107°C, einem Molekulargewicht von etwa 2700 und einem Säurewert von 30),
Formtrennmittel G: TS-200 (Handelsbezeichnung eines oxidierten Polyethylenwachses mit einem Schmelzpunkt von 145°C, einem Molekulargewicht von etwa 3500 und einem Säurewert von 3,5).
Phenolharz C: YL-6065 (Handelsbezeichnung eines Tris(hydroxyphenyl)methans mit einem Hydroxyläquivalent von 107 und einem Erweichungspunkt von 101°C),
Phenolharz D: BRG-556 (Handelsbezeichnung eines Phe nolnovolakharzes mit einem Erweichungspunkt von 85°C),
ein eine Spannung verringerndes Mittel A: BTA-731 (Handelsbezeichnung eines Methylmethacrylat/Butadien- /Styrol-Mischpolymerisats),
ein eine Spannung verringerndes Mittel B: TSJ-3051 (Handelsbezeichnung eines wärmehärtbaren Aditionssili congels mit einer Viskosität von 1000 cP bei 25°C),
Formtrennmittel B: Carnauba Nr. 1 (Handelsbezeichnung eines Wachses auf Esterbasis mit ei nem Schmelzpunkt von 87°C, einem Säurewert von 2 bis 6 und einem Verseifungswert von 83),
Formtrennmittel C: Calbacks 0321 (Handelsbezeichnung eines oxidierten Paraffinwachses mit einem Schmelzpunkt von 75°C, einem Molekulargewicht von etwa 800, einem Säu rewert von 12, einem Verseifungswert von 30 und einem Hy droxylwert von 80),
Formtrennmittel D: HW-4252E (Handelsbezeichnung ei nes oxidierten Polyethylenwachses mit einem Schmelzpunkt von 93°C, einem Molekulargewicht von etwa 3000 und einem Säurewert von 17),
Formtrennmittel E: E-250P (Handelsbezeichnung eines oxidierten Polyethylenwachses mit einem Schmelzpunkt von 104°C, einem Molekulargewicht von etwa 2000 und einem Säurewert von 20),
Formtrennmittel F: HW-2203A (Handelsbezeichnung ei nes oxidierten Polyethylenwachses mit einem Schmelzpunkt von 107°C, einem Molekulargewicht von etwa 2700 und einem Säurewert von 30),
Formtrennmittel G: TS-200 (Handelsbezeichnung eines oxidierten Polyethylenwachses mit einem Schmelzpunkt von 145°C, einem Molekulargewicht von etwa 3500 und einem Säurewert von 3,5).
Es sei darauf hingewiesen, daß in den Epoxyharzmas
sen der Referenzbeispiele 1 bis 4 mindestens eines der
Formtrennmittel B, C und D nicht enthalten ist. Anderer
seits sind in der Epoxyharzmasse des Beispiels 8 alle
diese Formtrennmittel B, C und D enthalten. In diesem
Fall fällt jedoch das Mischungsverhältnis dieser drei
Formtrennmittel nicht in den in dem Dreieckskoordinaten
system der Fig. 2 schraffierten Bereich a-b-c-d.
Diese Epoxyharzmassen wurden den Bewertungsuntersu
chungen 3 bis 5 unterzogen, um die unter Verwendung die
ser Epoxyharzmassen hergestellten harzgekapselten Halb
leitervorrichtungen zu bewerten:
Auf einer 4 mm2 großen Oberfläche einer Leiterplatte
aus 42-Legierung wurde ein Formling jeweils einer der Ep
oxyharzmassen ausgebildet, worauf der Formkörper 8 h lang
bei 175°C einer Nachhärtungsbehandlung unterzogen wurde,
um einen Prüfling herzustellen. Anschließend wurde jeder
der Prüflinge 168 h lang bei 85°C und einer relativen
Luftfeuchtigkeit von 85% einer Feuchtigkeitabsorptionsbe
handlung unterworfen. Nach der Feuchtigkeitsabsorptions
behandlung wurde die Bindungsfestigkeit zwischen dem
Harzformling und dem Leiterrahmen aus 42-Legierung be
stimmt. Tabelle 4 zeigt die Ergebnisse.
Eine Leiterplatte wurde mit Hilfe einer Niedrig
druck-Preßspritzformvorrichtung mit jeweils einer der Ep
oxyharzmassen eingekapselt. Die Formtemperatur wurde auf
175°C eingestellt, die Formdauer betrug 2 min. Ein ähnli
cher Einkapselungsvorgang wurde mit 50 Ladungen für jede
der Harzmassen durchgeführt, worauf die gekapselte Lei
terplatte aus der Form mit Hilfe eines herkömmlichen Ver
fahrens entnommen wurde, um die Restmenge an der Leiter
platte in der Form zu bestimmen. Die Tabelle 4 zeigt die
Ergebnisse.
Ein Halbleiterelement mit einer Chipgröße von 15 mm
wurde unter Verwendung einer Niedrigdruck-Preßspritzform
vorrichtung mit jeweils einer der Epoxyharzmassen einge
kapselt. Die Formtemperatur wurde auf 175°C eingestellt,
die Formdauer betrug 2 min. Anschließend wurde das harz
gekapselte Halbleiterelement 8 h lang bei 175°C nachge
härtet, um ein flaches Bauteil (d. h. eine harzgekapselte
Halbleitervorrichtung) mit 184 Steckstiften herzustellen.
Danach wurde das erhaltene flache Bauteil bei 85°C und
einer relativen Luftfeuchtigkeit von 60% 168 h lang einer
Feuchtigkeitsabsorptionsbehandlung unterworfen, worauf
das Bauteil einer Dampfphasenrückfluß (VPS)-Behandlung
bei 215°C unterworfen wurde, um das Auftreten von defek
ten Bauteilen durch Bestimmung des Auftretens von Rissen,
die die äußere Oberfläche des Bauteils unmittelbar nach
der VPS-Behandlung erreichen, zu untersuchen.
Daneben wurde das Bauteil einer Zuverlässigkeitsun
tersuchung bezüglich Feuchtigkeitsbeständigkeit unterwor
fen, bei der das Bauteil eine vorbestimmte Zeit lang in
einem Druckkochtopf bei 121°C und 2 Atmosphären stehenge
lassen wurde, um das Auftreten von Defekten zu untersu
chen. Tabelle 4 zeigt die Ergebnisse.
Wie aus Tabelle 4 ersichtlich, waren die Epoxyharz
massen der Beispiele 4 bis 18 den Massen der Referenzbei
spiele 1 bis 4 in der Bindungsfestigkeit des Formlings an
der Leiterplatte aus 42-Legierung überlegen. Ferner wurde
bei dem Beispiel der vorliegenden Erfindung keine restli
che Leiterplatte in der Form festgestellt, was darauf
hindeutet, daß die in der vorliegenden Erfindung defi
nierte Epoxyharzmasse ausgezeichnete Formtrenneigenschaf
ten aufweist. Des weiteren war selbst nach der VPS-Be
handlung bei der harzgekapselten Halbleitervorrichtung
der vorliegenden Erfindung, die unter Verwendung der in
der vorliegenden Erfindung definierten Epoxyharzmasse
hergestellt worden war, das Auftreten von Rissen unter
drückt. Ferner wurde festgestellt, daß die harzgekapselte
Halbleitervorrichtung der vorliegenden Erfindung ausge
zeichnete Ergebnisse bzw. eine ausgezeichnete Leistungs
fähigkeit bei der nach der Untersuchung auf Rißbeständig
keit durchgeführten Untersuchung bezüglich der Zuver
lässigkeit gegenüber Feuchtigkeitsbeständigkeit aufwies.
Daraus folgt, daß die harzgekapselte Halbleitervor
richtung entsprechend einem der Beispiele 4 bis 18 mit
ausgezeichneten Formtrenneigenschaften im Herstellungs
verfahren eine Verbesserung der Herstellungseffizienz der
Vorrichtung und eine zufriedenstellende Zuverlässigkeit
bezüglich Feuchtigkeitsbeständigkeit gewährleistet.
Claims (16)
1. Harzgekapselte Halbleitervorrichtung aus einem Halb
leiterelement und einer Epoxyharzmasse als Kapselungs
harz, dadurch gekennzeichnet, daß die Masse im wesentli
chen aus
- (a) einem Epoxyharz der allgemeinen Formel (I)
worin R1, R2, R3 und R4, die gleich oder verschieden sein können, für ein Wasserstoffatom oder eine Alkyl gruppe stehen und n ≧ 0; - (b) einem Phenolharzhärtungsmittel,
- (c) einer Imidazolverbindung und
- (d) Triphenylphosphat oder einem Derivat desselben besteht.
2. Harzgekapselte Halbleitervorrichtung aus einem Halb
leiterelement und einer Epoxyharzmasse als Kapselungs
harz, dadurch gekennzeichnet, daß die Masse im wesentli
chen aus
- (a) einem Epoxyharz der allgemeinen Formel (I)
worin R1, R2, R3 und R4, die gleich oder verschieden sein können, für ein Wasserstoffatom oder eine Alkyl gruppe stehen und n ≧ 0; - (b) einem Phenolharzhärtungsmittel und
- (e) einem Formtrennmittel in Form eines im wesentli chen aus einem Wachs auf Esterbasis, einem oxidierten Pa raffinwachs und einem Wachs auf Olefinbasis bestehenden Dreikomponentensystems besteht.
3. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Epoxyharzmasse zusätzlich einen an
organischen Füllstoff enthält.
4. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Epoxyharzmasse zusätzlich ein von
dem Epoxyharz (a) hinsichtlich seiner chemischen Struktur
verschiedenes Epoxyharz enthält.
5. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Phenolharzhärtungsmittel (b) aus
einem Phenolharz der allgemeinen Formel (III)
worin bedeuten:
R5 und R6, die gleich oder verschieden sein können, je weils ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatom(en) und
R7 eine Einfachbindung oder eine Alkylengruppe, besteht.
worin bedeuten:
R5 und R6, die gleich oder verschieden sein können, je weils ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatom(en) und
R7 eine Einfachbindung oder eine Alkylengruppe, besteht.
6. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Mischungsverhältnis Epoxyharz
(a)/Phenolharzhärtungsmittel (b) in der Epoxyharzmasse
(ausgedrückt als Verhältnis "Anzahl der phenolischen Hy
droxylgruppen des Phenolharzes"/"Anzahl Epoxygruppen des
Epoxyharzes") im Bereich zwischen etwa 0,5 und 1,5 liegt.
7. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Imidazolverbindung (c) aus einer
Imidazolverbindung mit einer langkettigen Alkylgruppe mit
mindestens 11 Kohlenstoffatomen oder einer Phenylgruppe
in 2-Stellung und Wasserstoff oder einer Methylgruppe in
4-Stellung besteht.
8. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Imidazolverbindung (c) in der Ep
oxyharzmasse in einer Menge von etwa 0,1 bis 5 Gew.-%,
bezogen auf das Gesamtgewicht der das Epoxyharz (a) und
das Phenolharzhärtungsmittel (b) umfassenden Harzkompo
nenten, enthalten ist.
9. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Triphenylphosphat oder dessen Deri
vat (d) in der Epoxyharzmasse in einer Menge von etwa 0,1
bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der das Ep
oxyharz (a) und das Phenolharzhärtungsmittel (b) umfas
senden Harzkomponenten, enthalten ist.
10. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Epoxyharzmasse zusätzlich eine Imi
dazolverbindung als Härtungskatalysator enthält.
11. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß das als eine Komponente des Formtrenn
mittels (e) dienende Wachs auf Esterbasis aus einem durch
Umsetzen einer einwertigen höheren Fettsäure mit einem
einwertigen höheren Alkohol erhaltenen Ester besteht.
12. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß das als eine Komponente des Formtrenn
mittels (e) dienende oxidierte Paraffinwachs aus einem
durch Oxidieren eines Kohlenwasserstoffs erhaltenen Ge
misch höherer Alkohole, höherer Fettsäuren und von Estern
besteht.
13. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß das als eine Komponente des Formtrenn
mittels (e) dienende Wachs auf Olefinbasis aus einem
niedrigmolekularen Polyethylen oder einem niedrigmoleku
laren Polypropylen jeweils eines Molekulargewichts von
500 bis 5000 besteht.
14. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Mischungsverhältnis von zusammen
das Formtrennmittel (e) bildendem Wachs auf Esterba
sis/oxidiertem Paraffinwachs/Wachs auf Olefinbasis
30 ≦ x ≦ 92, 5 ≦ y ≦ 67, 3 ≦ z ≦ 20 und x + y + z = 100,
worin bedeuten:
x den gewichtsprozentualen Anteil des Wachses auf Ester basis;
y den gewichtsprozentualen Anteil des oxidierten Paraf finwachses und
z den gewichtsprozentualen Anteil des Wachses auf Olefin basis, beträgt.
x den gewichtsprozentualen Anteil des Wachses auf Ester basis;
y den gewichtsprozentualen Anteil des oxidierten Paraf finwachses und
z den gewichtsprozentualen Anteil des Wachses auf Olefin basis, beträgt.
15. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Formtrennmittel (e) in der Ep
oxyharzmasse in einer Menge von 0,3 bis 0,8 Gew.-%, bezo
gen auf die Menge an der Epoxyharzmasse, und in einer
Menge von 1,5 bis 4,5 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge
an in der Masse enthaltenem Epoxyharz und Härtungsmittel,
beträgt.
16. Harzgekapselte Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die Epoxyharzmasse zusätzlich aus
- (e) einem Formtrennmittel in Form eines im wesentli chen aus einem Wachs auf Esterbasis, einem oxidierten Pa raffinwachs und einem Wachs auf Olefinbasis bestehenden Dreikomponentensystems besteht.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4054712A JP3046443B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 封止用エポキシ樹脂組成物および樹脂封止型半導体装置 |
JP4054713A JPH05259316A (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 樹脂封止型半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4307743A1 DE4307743A1 (en) | 1993-09-23 |
DE4307743C2 true DE4307743C2 (de) | 1999-09-23 |
Family
ID=26395517
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4307743A Expired - Fee Related DE4307743C2 (de) | 1992-03-13 | 1993-03-11 | Harzgekapselte Halbleitervorrichtung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5346743A (de) |
KR (1) | KR970004948B1 (de) |
DE (1) | DE4307743C2 (de) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5475379A (en) * | 1990-10-19 | 1995-12-12 | Motorola, Inc. | Solid phase conformal coating suitable for use with electronic devices |
EP0703613A3 (de) * | 1994-09-26 | 1996-06-05 | Motorola Inc | Schutz elektronischer Bauelemente in saurer und basischer Umgebung |
JPH08157561A (ja) * | 1994-12-01 | 1996-06-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 |
DE69610771T2 (de) | 1995-06-27 | 2001-02-22 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Epoxidharzzusammensetzung für gedrückte leiterplatten und damit hergestellte schichtstoffplatten |
JP2883029B2 (ja) * | 1995-10-31 | 1999-04-19 | 住友ベークライト株式会社 | 多層プリント配線板用アンダーコート剤 |
WO1997024402A1 (fr) * | 1995-12-28 | 1997-07-10 | Toray Industries, Inc. | Composition de resine epoxy |
JPH10116940A (ja) * | 1996-10-09 | 1998-05-06 | Toshiba Corp | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
JP2001024312A (ja) * | 1999-07-13 | 2001-01-26 | Taiyo Yuden Co Ltd | 電子装置の製造方法及び電子装置並びに樹脂充填方法 |
US6303860B1 (en) * | 1999-11-30 | 2001-10-16 | Bombardier Motor Corporation Of America | Bladder insert for encapsulant displacement |
KR20020091224A (ko) * | 2000-04-21 | 2002-12-05 | 헨켈 록타이트 코오포레이션 | 유동성 조절된 에폭시계 조성물 |
CN100365035C (zh) * | 2000-08-18 | 2008-01-30 | 长春人造树脂厂股份有限公司 | 具酚醛结构的含磷聚合物及其用途 |
US7180173B2 (en) * | 2003-11-20 | 2007-02-20 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd. | Heat spreader ball grid array (HSBGA) design for low-k integrated circuits (IC) |
US20130026660A1 (en) * | 2011-07-29 | 2013-01-31 | Namics Corporation | Liquid epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, and semiconductor device using the same |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3330042A1 (de) * | 1982-08-20 | 1984-02-23 | Sumitomo Chemical Co., Ltd., Osaka | Neue glycidylehter von novolak-typ-substituierten phenolharzen, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung als einkapselungsverbindungen |
DE2916954C2 (de) * | 1978-04-26 | 1984-07-05 | Tokyo Shibaura Denki K.K., Kawasaki, Kanagawa | Kunstharzmasse zur dichten Umhüllung eines Halbleiterelements |
DE3842270A1 (de) * | 1987-12-16 | 1989-06-29 | Sumitomo Chemical Co | Glycidylether einer phenolischen verbindung und verfahren zu ihrer herstellung |
EP0359558A2 (de) * | 1988-09-13 | 1990-03-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Halbleiter-Vergussmasse auf der Basis einer Epoxydharzzusammensetzung |
EP0384774A2 (de) * | 1989-02-23 | 1990-08-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Einkapselung einer Halbleiteranordnung |
DE4119552A1 (de) * | 1990-06-18 | 1991-12-19 | Shinetsu Chemical Co | Epoxidharzmassen und damit eingekapselte halbleiterbauteile |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4816496A (en) * | 1984-06-26 | 1989-03-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Photocurable composition |
JPH0728692B2 (ja) * | 1985-07-15 | 1995-04-05 | 三栄源エフ・エフ・アイ株式会社 | アントシアニン色素の退色防止法 |
US5001174A (en) * | 1988-12-08 | 1991-03-19 | Sumitomo Bakelite Company Limited | Epoxy resin composition for semiconductor sealing employing triphenylmethane based novolac epoxy resin |
JPH0313258A (ja) * | 1989-06-12 | 1991-01-22 | Mitsubishi Motors Corp | 半溶融成形用金型構造 |
-
1993
- 1993-03-08 US US08/028,696 patent/US5346743A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-03-11 DE DE4307743A patent/DE4307743C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-03-12 KR KR1019930003688A patent/KR970004948B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2916954C2 (de) * | 1978-04-26 | 1984-07-05 | Tokyo Shibaura Denki K.K., Kawasaki, Kanagawa | Kunstharzmasse zur dichten Umhüllung eines Halbleiterelements |
DE3330042A1 (de) * | 1982-08-20 | 1984-02-23 | Sumitomo Chemical Co., Ltd., Osaka | Neue glycidylehter von novolak-typ-substituierten phenolharzen, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung als einkapselungsverbindungen |
DE3842270A1 (de) * | 1987-12-16 | 1989-06-29 | Sumitomo Chemical Co | Glycidylether einer phenolischen verbindung und verfahren zu ihrer herstellung |
EP0359558A2 (de) * | 1988-09-13 | 1990-03-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Halbleiter-Vergussmasse auf der Basis einer Epoxydharzzusammensetzung |
EP0384774A2 (de) * | 1989-02-23 | 1990-08-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Einkapselung einer Halbleiteranordnung |
DE4119552A1 (de) * | 1990-06-18 | 1991-12-19 | Shinetsu Chemical Co | Epoxidharzmassen und damit eingekapselte halbleiterbauteile |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Römpps Chemie-Lexikon, 8. Aufl. (1988) Stuttgart, Franckh'sche Verlagsbuchhandlung, Stichwort: "Wachse" * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4307743A1 (en) | 1993-09-23 |
US5346743A (en) | 1994-09-13 |
KR970004948B1 (ko) | 1997-04-10 |
KR930020644A (ko) | 1993-10-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3889950T2 (de) | Epoxyharzzusammensetzung. | |
DE69533393T2 (de) | Epoxyharzzusammensetzung | |
DE4307743C2 (de) | Harzgekapselte Halbleitervorrichtung | |
DE3884648T2 (de) | Epoxyharz-Zusammensetzung und eine harzumhüllte Halbleiteranordnung. | |
DE602004007892T2 (de) | Quaternäre organophosphoniumsalze enthaltende formmassen | |
DE60200455T2 (de) | Thermisch aushärtbare Harzverbindung und Halbleitervorrichtung, die dieselbe verwendet | |
DE69501771T2 (de) | Epoxidharzformmasse zur Einkapselung elektronischer Bauelemente und eingekapselte Halbleiteranordnung unter Verwendung dieser Formmasse | |
DE60308545T2 (de) | Verstärktes epoxid / polyanhydrid zusammensetzung für unterfüllung ohne durchfluss | |
DE69922577T2 (de) | Epoxydharzzusammensetzungen und damit eingekapselte Halbleiteranordnungen | |
DE19932399B4 (de) | Verfahren, bei dem eine Halbleitervorrichtung hergestellt wird | |
DE69934153T2 (de) | Verfahren zur Montage von Flip-Chip-Halbleiterbauelementen | |
DE4006153C2 (de) | Epoxidharzmassen und deren Verwendung zum Einkapseln von Halbleiterbauelementen | |
DE69531191T2 (de) | Epoxidharzzusammensetzung für die versiegelung von halbleiteranordnungen | |
DE2916954A1 (de) | In kunststoff eingebettete halbleitervorrichtung | |
CN102627832A (zh) | 环氧树脂组合物及半导体器件 | |
DE69609557T2 (de) | Epoxyharzmassen zur Einkapselung von Halbleitern, deren Herstellung und Verwendung, sowie damit eingekapselte Halbleiterbauteile | |
DE19736637A1 (de) | Modifiziertes Epoxyharz, Epoxyharzzusammensetzung und gehärtetes Produkt davon | |
JPS6360543B2 (de) | ||
DE69838610T2 (de) | Halbleiter-dichtharzzusammensetzung, damit versiegelte halbleiteranordnung, und verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung. | |
DE4210127C2 (de) | Epoxyharzzusammensetzung und gehärtetes Produkt hiervon | |
DE69610690T2 (de) | Epoxidharzzusammensetzung | |
DE4119552C2 (de) | Epoxidharzmassen, enthaltend ein Phenolharz mit mindestens einem Naphthalinring und deren Verwendung | |
DE69934716T2 (de) | Flammhemmende harzzusammensetzung und die daraus hergestellte halbleitervorrichtung | |
DE69032151T2 (de) | Epoxydharzzusammensetzungen für die Versiegelung von Halbleitern | |
DE3921985A1 (de) | Epoxidharzmasse und deren verwendung zum einkapseln von halbleiterbauteilen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |