DE4200293C2 - Miniatur-Silizium-Beschleunigungsmesser und Verfahren zum Messen der Beschleunigung - Google Patents
Miniatur-Silizium-Beschleunigungsmesser und Verfahren zum Messen der BeschleunigungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Beschleunigungsmesser
für die Anwendung im Bereich mittlerer Genauigkeiten. Es besteht
ein Bedarf an kleinen und billigen Beschleunigungsmessern zur
Verwendung in taktischen Systemen, wie den Miniatur-
Beschleunigungsmessern, die bei der leichten Artillerie und beim
Betrieb von Granatwerfern erforderlich sind, wo große Bestände an
Schüssen und Beschleunigungsmessern aufgewendet werden können. Ein
taktischer Beschleunigungsmesser für derartige Verwendung kann als
Instrument mittlerer Qualität betrachtet werden, muss aber einen
dynamischen Bereich von fünf Größenordnungen aufweisen und in
einer Umgebung mit großen Vibrationen und über einen weiten
Temperaturbereich zu betreiben sein.
Beschleunigungsmesser sind in verschiedenen Varianten aus dem
Stand der Technik bekannt, so z. B. aus den Druckschriften DE 38 31 593 A1,
US 4,336,718, US 4,102,202 und US 4,679,434.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, den
dynamischen Bereich der Miniatur-Beschleunigungsmesser um einen
Faktor 100 bis 1000 über den der aus dem Stand der Technik
bekannten, feinstbearbeiteten Beschleunigungsmesser zu vergrößern.
Ferner liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein
entsprechendes Verfahren zum Erfassen der Beschleunigung
bereitzustellen.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe gelöst durch einen Miniatur-
Beschleunigungsmesser nach Anspruch 1, ein Verfahren nach Anspruch
15 und einen Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 22.
Vorteilhafte und bevorzugte Ausführungsformen des
erfindungsgemäßen Miniatur-Beschleunigungsmessers nach Anspruch 1
sind Gegenstand der Ansprüche 2 bis 14. Vorteilhafte und
bevorzugte Weiterentwicklungen des erfindungsgemäßen Verfahrens
nach Anspruch 15 sind Gegenstand der Ansprüche 16 bis 21.
Vorteilhafte und bevorzugte Ausführungsformen des
erfindungsgemäßen Miniatur-Beschleunigungsmessers nach Anspruch 22
sind Gegenstand der Ansprüche 23 und 24.
Die Erfindung wird anhand des in der Zeichnung gezeigten
Ausführungsbeispiels eines Miniatur-Beschleunigungsmessers näher
erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine teilweise Schnittdarstellung eines Meßwertgebers eines
Beschleunigungsmessers,
Fig. 2 eine isometrische Ansicht der Bestandteile des
Meßwertgebers des Beschleunigungsmessers der Fig. 1, dargestellt
mit einem geöffneten, oberen Teil und mit Teilen des unteren Teils
in Schnittdarstellung und
Fig. 3 eine Ansicht des Bereichs der Normalmasse im Bereich 3-3
der Fig. 2 von oben.
Fig. 1 zeigt einen Miniatur-Beschleunigungsmesser 10 mit einem
Meßwertgeber 12 und Schaltkreisen 14 und 14a. Der Meßwertgeber 12
des Beschleunigungsmessers 10 ist in einer teilweisen
Schnittdarstellung gezeigt und enthält eine Normalmasse 16, die in
ihrer neutralen Position, in der Mitte zwischen einer oberen und
einer unteren Elektrode 30 beziehungsweise 32, gezeigt ist. Die
Normalmasse 16 ist aus Silizium hergestellt und mit einer dünnen
Biegestelle 22 versehen, die einteilig mit der Siliziumschicht 24
gebildet ist. Die Biegestelle 22 definiert eine Biegelinie entlang
der Mittelebene der Normalmasse 16, gekennzeichnet durch die
Mittelachse 23, um die Schwingungsrektifikation zu minimieren.
Wenn die Biegestelle 22 so angeordnet wird, daß eine
Symmetrie um die Mittelebene der Normalmasse 16 vorhanden
ist, wird ein Schütteln des Beschleunigungsmessers keine
Rektifikation hervorrufen, so daß das Instrument eine hohe
Linearität aufweist.
Die Siliziumschicht 24 ist anodisch zwischen oberen und un
teren Glasschichten 26 und 28 eingebunden, auf denen obere
und untere Metallelektroden 30 beziehungsweise 32 aus Alu
minium oder Gold oder anderen, elektrischen Leitern angeord
net sind. Weiterhin sind die obere Elektroden-Glasschicht
26 und die untere Elektroden-Glasschicht 28 identische Teile,
die mit derselben Maske hergestellt werden, die zuerst an
der oberen Schicht angewendet wird und dann an der unteren,
um eine exakte Symmetrie zu erreichen. Die Normalmasse 16
ist sehr symmetrisch, so daß in der Vorrichtung keine Vor
spannungen erzeugt werden. Das trägt zu einem hohen Wert für
einen dynamischen Bereich mit hoher Linearität bei.
Wenn die Elektroden 30 und 32 auch bequem aus aufgedampftem
Aluminium hergestellt werden können, ist eine ziemliche
Feuchtigkeitsempfindlichkeit zu verzeichnen, die der Verwen
dung von Aluminium innewohnt, weil es signifikant Oberflä
chenfeuchtigkeit absorbiert, was die dielektrischen Eigen
schaften der Oberfläche verändert und Kapazität addiert, die
nicht von anderen Kapazitäten unterschieden werden kann, die
gemessen werden. Folglich wird bevorzugt ein Metall verwen
det, das keine Feuchtigkeit absorbiert, wie Gold, das leicht
durch Sprühen aufgetragen werden kann. Mit dem Ziel, die O
berfläche der Normalmasse 16 stabil zu halten, wird auch
diese vorzugsweise mit Gold überzogen.
Der Beschleunigungsmesser 10 arbeitet als Kraft-Balance-In
strument, in dem die Beschleunigungskraft auf die Normalmas
se 16 durch angemessene, elektrische Rückstellkräfte ausge
glichen wird, die durch einen Sensorschaltkreis 14 über ei
ne obere und eine untere Beeinflussungselektrode 30 und 32
auf die Normalmasse 16 ausgeübt werden. Die Größe der erfor
derlichen Rückstellkraft ist eine Funktion der Beschleuni
gung und kann am Beschleunigungsausgang 34 des Sensorschalt
kreises 14 gemessen werden.
An die Normalmasse 16 wird über einen Entkopplungs- oder we
chselstromundurchlässigen Widerstand 36 durch eine Bezugs
spannungsquelle, wie eine stabilisierte Halbleiter-Bezugs
spannungsquelle 35, eine Gleich-Vorspannung angelegt.
Parallel dazu wird ein von der Signalquelle 38 erzeugtes
Wechselspannungssignal über den Koppelkondensator 40 an die
Normalmasse 16 angelegt. Kondensatoren 42 und 44 koppeln die
Kapazitäten, die zwischen den oberen und unteren Elektroden
30 und 32 sowie der Normalmasse 16 gebildet werden, an den
Differenz-Brückenschaltkreis 46, der die Dioden 50, 52, 54
und 56 beinhaltet, den Filterkondensator 58 und den
Operationsverstärker 60, mit hoher Impedanz und hohem Ver
stärkungsfaktor. Der Ausgang des Verstärkers 60 wird direkt
dazu verwendet, die obere Elektrode 30 und, nach einer In
version durch den Inverter 62 dazu, die untere Elektrode 32
zu treiben.
Der Beschleunigungsausgang 34 ist über den Verstärker 60 und
den Inverter 62 auf die obere und die untere Elektrode 30
beziehungsweise 32 geführt, um elektrostatische Rückstell
kräfte auf die Normalmasse 16 zu geben, um den Kräften ent
gegenzuwirken, die durch die Beschleunigung darauf ausgeübt
werden. Solche elektrostatischen Kräfte wären normalerweise
nicht linear, weil sie proportional dem Quadrat der angeleg
ten Spannung sind. Die Gleich-Vorspannung, die durch die
stabile Spannungsquelle 35 angelegt wird und die außer Phase
an die obere und untere Elektrode 30 und 32 angelegten Sig
nale vom Verstärker 60 und dem Inverter 62 sichern die Be
seitigung dieser Nichtlinearität.
Die Beeinflussungs- und Normalmassenspannungs-Verschiebung
ergibt ein lineares Ausgangssignal mit der elektrostatischen
Kraftrückkopplung, auch wenn die Grundgleichungen der Beein
flussung nicht linear sind. Die Grundgleichungen der Beein
flussung sind:
worin Fu die obere Kraft ist (FL ist die untere Kraft). A ist
die Fläche der Beeinflussungselektrode, Vu ist die Spannung
zwischen der oberen Elektrode und der Normalmasse, VL ist die
Spannung zwischen der unteren Elektrode und der Normalmasse,
d ist der Abstand zwischen der Elektrode und der Normalmasse.
Setzt man:
Vu = Vo - Δ und VL = Vo + Δ (2),
worin Vo die Spannung bei 34 und Δ eine feste Spannung
ist, zum Beispiel 15 V, wird eine exakte Linearisierung
der Kraftgleichung erhalten, wie gezeigt wird, durch:
Worin M die Masse der Normalmasse 16 ist und a die
Beschleunigung, so daß der Skalenfaktor wird:
Δ ist die Spannung, die von der Spannungsquelle 35 erzeugt
wird. Deshalb ist die Ausgangsspannung bei 34 exakt propor
tional der Beschleunigung, wenn die Normalmasse zwischen der
oberen und der unteren Elektrode 30 und 32 zentriert ist.
Die Spannung kann dann zur Messung der Beschleunigung ver
wendet werden.
Eine Linearität kann auch erreicht werden, wenn die Normal
masse 16 eine Vorspannung von Null hat und eine feste Vor
spannung in Reihe mit dem Verstärkerausgang an die obere E
lektrode 30 angelegt wird, während die gleiche, feste Vor
spannung mit umgekehrter Polarität in Reihe mit dem Verstär
kerausgang an die untere Elektrode 32 angelegt wird.
Verbleibende Nichtlinearitäten des Systems, zum Beispiel be
dingt durch eine ungenaue Zentrierung der Normalmasse in dem
Spalt, können durch eine Verschiebung der Vorspannungen re
duziert werden, die von einer Vorspannungsquelle V über ei
nen hohen Widerstand R3 (< 250 kOhm) an den Verstärker an
gelegt werden. Die Verwendung von solchen Vorspannungsver
schiebungen erlaubt die Reduzierung ungenauer Zentrierungen
und Vibrationsrektifikationen im wesentlichen auf Null.
Außer der oberen und unteren Elektrode 30 beziehungsweise 32
können die obere und untere Glasschicht 26 beziehungswei
se 28 eine obere beziehungsweise untere Schutz-Band-Elek
trode 64 beziehungsweise 66 aufweisen. Wie in der Fig. 1
dargestellt und weiterhin mit Bezugnahme auf die Fig. 2
nachfolgend beschrieben, können diese Schutz-Band-Elektroden
wesentlich dicker sein, als die obere und untere Elektrode
30 beziehungsweise 32, um die Normalmasse 16 von der oberen
und unteren Elektrode entfernt zu halten. Das erlaubt ein
erfolgreiches Einschalten von Beschleunigungsmessern 10 mit
closed-loop-Schaltungen unter Beschleunigung, ohne zusätzli
che, spezielle Beschaltung.
Die Spalte zwischen der oberen Elektrode 30 und der oberen
Schutz-Band-Elektrode 64 auf der oberen Glasschicht 26 sowie
der unteren Elektrode 32 und der unteren Schutz-Elektrode 66
auf der unteren Glasschicht 28 können bestimmte Proble
me bezüglich der Aufladung des Glases und der Kriechströme
über die Spalte mit sich bringen. Wenn das Potential an ei
ner solchen Elektrode gewechselt wird, wird sich wegen der
Kriechströme auf der oberen und unteren Glasschicht 26 und
28 auch das Potential in der dazwischenliegenden Isolatorre
gion von einem Wert auf einen anderen einstellen. Die Poten
tialverteilung in diesen Spalten ändert sich, da sich die I
solationseigenschaften in diesen Spalten mit der Feuchtig
keit und anderen Umgebungsbedingungen ändern.
Das Potential in diesen Spalten wirkt wie eine Fortsetzung
des Potentials der oberen oder unteren Elektrode 30 und 32.
Die Wirkung der elektrostatischen Kräfte der Potentiale in
diesen Spalten kann von den Kräften, die von der oberen und
unteren Elektrode 30 und 32 ausgeübt werden, nicht unter
schieden werden. Die langsam wechselnden Potentiale in den
Spalten erzeugen deshalb beim Einschalten und beim Wechseln
der Beschleunigung Ausgleichsvorgänge bei den Kräften.
Zur Erklärung ist zu beachten, daß die Normalmasse 16 nur
die Beeinflussungs-Meßwertgeberelektroden 30 und 32 bei den
oberen und unteren Kräften erkennt. Der Schutzring 64, 66,
der um die Normalmasse 16 herum angeordnet ist, um die Ein
schaltprobleme zu vermeiden, weist jedoch ein von den
Elektroden 30 und 32 unterschiedliches Potential auf. Wenn
wegen eines Wechsels der Beschleunigung das Potential der
Elektroden 30 und 32 wechselt, wird sich das Potential der
Glasregion zwischen den Elektroden 30 und 64 auf der oberen
Seite oder der Glasregion zwischen den Elektroden 32 und 66
auf der unteren Seite ebenso ändern müssen. Das Glas
zwischen den Hauptelektroden und dem Schutzring kann als Wi
derstandsmaterial mit sehr hohem Widerstand angesehen werden.
Wenn das Potential der Elektroden 30 und 32 wechselt, wird
sich die Region zwischen den Elektroden und ihren Schutzrin
gen ändern, aber diese Änderung geht wegen des hohen Wider
stands des Glases langsam vor sich.
Der Weg, eine signifikante Beeinflussung durch die Glasregion
zwischen den Elektroden zu vermeiden, besteht darin, die
Hauptelektroden 30 und 32 überall viel größer als die Nor
malmasse auszuführen. Die Schutz-Elektroden müssen jedoch in
Form von vier kleinen Stellen oder Fingern 74, 75, 76 und
77 eingebracht werden; um die Normalmasse (Fig. 2 und 3) zu
berühren, sollte die Normalmasse gegen die obere Glasschicht
gedrückt werden. Die Elektrodenform ist dann so angeordnet,
daß sich der Schutzring nur in diesen Fingern über den Be
reich der Normalmasse ausdehnt. Andererseits befindet sich
die Glasregion, die langsam aufzuladen ist, außerhalb des
Bereichs, in dem sie die Normalmasse beeinflussen kann.
Nichtsdestoweniger ragen die vier Finger 74 bis 77 hinein,
und die Wirkung des Glases in diesen Bereichen um die vier
Finger ist bedeutend. Mit dem Ziel, die Wirkung dieser Glas
region zu reduzieren, ist in der Normalmasse unter der Glas
region eine V-förmige Nut 21 so angeordnet, daß, wegen der
vergrößerten Entfernung zwischen dem Glas und der Normalmas
se, eine Beeinflussung, die Normalmasse zu bewegen, nur eine
minimale Wirkung hat, wenn sich die Ladung auf dem Glas
langsam ändert. Jede Nut 21 begrenzt einen Pfosten 78 und
79, wie in der Fig. 3 gezeigt. Die Pfosten 78 und 79 dienen
dazu, die Elektroden 64, 66 zu berühren, während die Elek
troden 30, 32 von der Normalmasse unberührt bleiben, wenn
die Vorrichtung unter Beschleunigung gestartet wird. Der
Spalt zwischen der Normalmasse und dem Glas beträgt in die
sem Bereich nicht mehr 3 Mikrometer, sondern ist viel größer,
nahe an 20 oder 30 Mikrometer.
Auf diese Weise werden die Ausgleichs-Ansprechzeiten der Be
schleunigung verringert oder eliminiert. Wie in der Fig. 3
genauer gezeigt ist, ist der Graben oder die V-förmige Nut
21 direkt unter den Spalten zwischen der oberen und unteren
Elektrode 30 und 32 und der oberen und unteren Schutz-Band-
Elektrode 64 und 66 auf der oberen und unteren Glasschicht
26 beziehungsweise 28 in die Normalmasse 16 geätzt.
Die V-förmige Nut 21 reduziert die Wirkung des Potentials in
den Spalten auf der Normalmasse 16, indem ein großer Abstand
dazwischen geschaffen wird, wie das zehnfache des normalen
Abstandes zwischen der oberen Glasschicht 26 und der Normal
masse 16. Die obere und untere Elektrode 30 und 32 kön
nen sich über die Normalmasse 16 hinaus erstrecken, so
daß die Wirkung des Feldes des Glases zwischen der oberen
Elektrode 30 und der oberen Schutz-Band-Elektrode 64 und der
unteren Elektrode 32 und der unteren Schutz-Band-Elektrode
66 minimiert wird. Die oberen und die unteren Glasoberflä
chen sind bei 26a und 28a metallisiert und mit Masse
verbunden, um den Meßwertgeber gegen äußere, elektrische
Felder und gegen die Beeinflussung durch äußere Leiter abzu
schirmen.
Alternativ dazu kann eine schwach leitfähige Oberflächenbe
schichtung (1010 Ohm pro ) auf der oberen und unteren Glas
schicht 26 und 28, insbesondere in den Spalten, vorgesehen
werden. Die Wirkungen der Potentiale der Spalte würden nicht
beseitigt, aber die Potentialverteilung in dem Spalt würde
meist sofort festgelegt und konstant gehalten, was eine be
friedigende Ermittlung der Beschleunigung, ohne unerwünschte
Ausgleichsvorgänge, ermöglicht, sofern der Widerstand der
Beschichtung der Oberfläche hoch genug ist, daß keine Inter
ferenz mit der Erfassung eintritt.
Es wird nun auf die Fig. 2 Bezug genommen. Der Meßwertgeber
des Beschleunigungsmessers 12 ist in einer teilweise per
spektivischen Explosivdarstellung gezeigt, in der die obere
Glasschicht 26 in eine offene Position gedreht wurde und der
verbleibende Teil wegen einer besseren Erkennbarkeit wegge
lassen wurde. Wie oben bemerkt, wurde die obere Elektrode 30
durch Aufdampfen von Aluminium oder Gold auf die obere Glas
schicht hergestellt. Die obere Elektrode 30 wird von oberen
Schutz-Band-Elektroden 64 umgeben. In der gleichen Weise ist
ein Teil der unteren Schutz-Band-Elektrode 66 auf der unte
ren Glasschicht 28 durch das teilweise Weglassen von Teilen
der Siliziumschicht 24 sichtbar gemacht worden. Das Ende der
unteren Elektrode 32 ist ebenfalls zu sehen.
Der metallische Kontaktblock 81 auf der Siliziumschicht bil
det den elektrischen Kontakt dieser Schicht. Bonddrähte mit
0,025 mm Dicke aus Gold oder Aluminium verbinden die Enden
der Elektroden 32, 66, 30 und 64 und den Kontaktblock 81 mit
den elektrischen Schaltkreisen 14 und 14a. Die Bonddrähte
sind in einer von verschiedenen Arten, die in der Industrie
der integrierten Schaltkreise üblich sind, befestigt.
Die oberen und unteren Schutz-Band-Elektroden 64 und 66 kön
nen im Vergleich mit der Dicke der oberen und unteren Elek
trode 30 und 32 zweckmäßig mit einer doppelten Dicke der
Schicht der Metallisierung hergestellt werden. Diese zusätz
liche Dicke sichert, daß die Normalmasse 16 während der Ein
schaltung des Beschleunigungsmessers von der oberen und un
teren Elektrode 30 beziehungsweise 32 ferngehalten wird. Die
obere und untere Schutz-Band-Elektrode werden auf dem glei
chen Potential gehalten, wie die Normalmasse 16.
Wie weiterhin in der Fig. 2 zu sehen ist, können die obere
und die untere Glasschicht zur Vereinfachung der Herstellung
identisch ausgeführt sein. Wo immer es möglich ist, wird der
Meßwertgeber 12 symmetrisch entworfen und hergestellt, um
mechanische Spannungen und Drifterscheinungen zu reduzieren.
Das Material, das für die obere und untere Glasschicht 26
und 28 verwendet wurde, zum Beispiel Borsilikat-Pyrex-Glas,
Sorte 7740, sollte wegen der Wärmedehnung so gut wie möglich
zu dem der Normalmasse 16 passen. Es kann auch Silizium mit
geeigneten, isolierenden Schichten für die oberen und unteren
Teile des Meßwertgeber-Sandwiches verwendet werden.
Auf der oberen Oberfläche der Siliziumschicht 24 sind, wie
gezeigt, Nuten 68 und 70 angeordnet, um die Isolierung der
oberen Elektrode 30 und der oberen Schutz-Band-Elektrode 64
gegen einen Kontakt mit der Siliziumschicht 24 zu sichern,
wobei gleichartige Isolationsnuten, in dieser Ansicht nicht
sichtbar, auf der unteren Oberfläche der Siliziumschicht 24
vorgesehen sind, um die untere Schutz-Band-Elektrode 66 und
die untere Elektrode 32 gegen einen elektrischen Kontakt mit
der Siliziumschicht 24 zu isolieren.
Die Normalmasse 16 ist in der teilweise weggeschnittenen An
sicht, mit der Siliziumschicht durch die flexible Biegestel
le 22 verbunden, sichtbar. Die Biegestelle 22 kann als ein
fache Scharnierverbindung ausgeführt sein, aber, wie ge
zeigt, wird vorzugsweise eine symmetrisch ge
teilte Biegestelle verwendet, so wie diese, die durch die
Scharniere 25 und 27 gebildet wird, um Verschiebungen der
Normalmasse, bedingt durch Verbiegungen der Normalmasse
des Meßwertgebers 12, zu minimieren. In der Biegestelle 22
ist ein Minimum an Festigkeit erforderlich, um einen Bruch,
verursacht durch Kräfte in der Ebene des Siliziums, zu ver
meiden und einer elektrostatischen Spanninstabilität zu wi
derstehen.
Die Konstruktion des Meßwertgebers 12 des Beschleunigungs
messers, einschließlich der Normalmasse 16 und der Biege
stelle 22, kann mit geeigneten, integrierten Schaltkreisen
und mit Feinstbearbeitungstechnologien ausgeführt werden. Es
sind verschiedene, gesteuerte Ätztechniken geeignet, um die
Normalmasse 16 aus der umgebenden Siliziumschicht zu formen,
wobei eine begrenzte, physikalische Verbindung verbleibt, um
die Biegestelle 22 zu bilden. Die Biegestelle 22 kann einige
Stunden bei einer hohen Temperatur, zum Beispiel 1000°C,
ausgeglüht werden, um jegliche, ungleichmäßigen Spannungen zu
reduzieren, die durch die Fabrikation von hohen Dotierungs
gradienten und/oder -Konzentrationen entstehen. Die oberen
und unteren Glasschichten sind gleichzeitig mit der Silizi
umschicht anodisch verbunden, um ein Verziehen zu vermeiden.
Die obere und untere Oberfläche der Normalmasse 16 müssen
durch Wegätzen der Oberflächen der Siliziumschicht so gebil
det werden, daß geeignete Spalte, in der Größenordnung von
ungefähr 2 Mikrometern, zwischen der Normalmasse 16 und der
oberen beziehungsweise unteren Glasschicht 26 beziehungswei
se 28 gebildet werden.
Die äußeren Oberflächen der Glasschichten 26a und 28a sind
vorzugsweise mit einem leitfähigen Überzug metallisiert, so
daß bei der Verwendung diese äußere Metallisierung mit einem
genau definierten Potential verbunden werden kann, wie mit
der Systemmasse, und die inneren Strukturen gegen die Wir
kungen äußerer, elektrischer Felder abschirmt, die andern
falls Fehler verursachen können.
Der Meßwertgeber kann auf einem Block 29 aus elastischem Ma
terial angeordnet werden, wie in der Fig. 2 gezeigt, um die
Spannungen von einer Montagefläche zu reduzieren, die unter
schiedliche Expansionseigenschaften haben kann, und die
Vibrationsübertragung von einer solchen Montagefläche zu re
duzieren. Der Block 29 verhindert ein Verziehen des Meßwert
gebers, das durch verschiedene Wärmedehnungen in Bezug auf
das Material des Bausteins oder durch mechanische Verzer
rungen des Bausteins während des Gebrauchs verursacht werden
kann. Würden sie zugelassen, würden derartige Verziehungen
kleine Fehler in den Meßwertgeber einbringen und so seinen
dynamischen Bereich begrenzen. Der elastische Block wird
vorzugsweise elektrisch leitfähig gemacht, indem er mit einem
geeigneten Material, wie Ruß oder Silberpulver, angerei
chert wird, was einen leichten, elektrischen Kontakt mit der
unteren, metallisierten Oberfläche der Schicht 28 ermöglicht.
Der Sensorschaltkreis 14 kann bequem durch herkömmliche, in
tegrierte Schaltkreis-Fabrikationstechnik, als Teil dessel
ben, physikalischen Grundelements wie der Meßwandler 12 des
Beschleunigungsmessers, hergestellt werden. Der Meßwertgeber
12 des Beschleunigungsmessers 10 und der Sensorschaltkreis
14 können in demselben, hermetisch versiegelten, flachen Bau
stein oder in einem anderen, geeigneten Hybridgehäuse angeord
net sein.
Während des Betriebes gleicht der Sensorschaltkreis 14 die
Kapazitäten durch Anwenden elektromotorischer Kräfte auf die
Normalmasse 16 aus, um sie in eine nichtzentrische Position
zu bewegen und dort festzuhalten, wenn irgendwelche Unausge
glichenheiten in den Kapazitäten zwischen der Normalmasse 16
und den oberen und unteren Elektroden 30 und 32 vorhanden
sind, wenn die Normalmasse 16 zentriert ist. Diese nichtzen
trische Position erzeugt eine Nichtlinearität zweiter Ord
nung, wenn sie nicht durch eine geeignete Vorspannungsver
schiebung auf den Verstärker 60 kompensiert wird, oder durch
eine Kompensationskapazität, die zwischen die Normalmasse 16
und die obere Elektrode 30 oder zwischen die Normalmasse 16
und die untere Elektrode 32 zugeschaltet wird.
Es wird nun wieder auf die Fig. 1 Bezug genommen. Die Signal
quelle 38 kann zum Beispiel eine Wechselspannungsquelle mit
4 Volt Amplitudenspannung sein, wie ein Rechteckwellengene
rator, mit zum Beispiel 10 MHz. Dieses Wechselspannungssig
nal wird zusammen mit der geeigneten Gleich-Vorspannung von
der Bezugsspannungsquelle 35 an die Siliziumschicht angelegt
und damit an die Normalmasse 16. Wenn sich die Normalmasse
in der neutralen Lage befindet, ist das Wechselspannungssig
nal gleichmäßig an die obere und untere Elektrode 30 und
32 angekoppelt. Die kapazitiven Aufnahmen zwischen der Normalmasse
16 und der oberen beziehungsweise unteren Elektrode
30 beziehungsweise 32 werden in der Differenz-Brückenschal
tung 46 verglichen.
Es ist wichtig zu bemerken, daß die Kondensatoren 42 und 44
im Vergleich zu den Kapazitäten, die zwischen der oberen
und unteren Elektrode 30 beziehungsweise 32 und der Normal
masse 16 gebildet werden, groß sind und deshalb eine ver
nachlässigbare Wirkung auf die neutrale Position der Normal
masse 16 haben. In der neutralen Position sind die Werte
ausgeglichen, und es wird kein Differenzsignal an den Ver
stärker 60 gegeben, so daß dadurch kein Differenz-Gleich
spannungssignal an die obere und untere Elektrode gegeben
wird.
Diese Elektroden 30 und 32 nehmen ein Hochfrequenzsignal,
nämlich 10-MHz-Signal, vom Generator 38 auf, gekoppelt durch
geeignete Spalte von der Normalmasse 16 zu der Elektrode 30
und von der Normalmasse 16 zu der Elektrode 32.
Nun soll der Signalfluß verfolgt werden: Das Wechselspan
nungssignal vom Generator 38 ist an die Normalmasse 16 ge
koppelt, womit es weiterhin von der Normalmasse 16 über die
Luftspalte mit der oberen und unteren Elektrode 30 bezie
hungsweise 32 gekoppelt ist. Wenn dem Signalweg von der E
lektrode 30 gefolgt wird, trifft das Signal auf der einen
Seite auf den Widerstand R1 verhältnismäßig hoher Impedanz,
zwischen 10 und 30 kOhm, der es von dem Verstärker isoliert,
und auf den Kondensator 42, der ein großer Kondensator ist,
und ihm leicht ermöglicht, zu der Vierdioden-Brücke zu
gelangen. Auf der anderen Seite läuft das Gleichspannungs-
Rückkoppelsignal, das vom Verstärker kommt, über den Strom
pfad zum Widerstand R1. Da hier ein sehr geringer Gleich
strom fließt, entsteht über den Widerstand R1, von dem das
Gleichspannungssignal direkt zu der Elektrode 30 geführt
wird, nur ein vernachlässigbar geringer Spannungsabfall. Der
Kondensator 42 stellt sicher, daß das Gleichspannungssignal
von der Vierdioden-Brückenschaltung ferngehalten wird. Die
gleiche Erläuterung trifft auch auf die Wirkung des Wider
stands R2 und des Kondensators 44 zu.
Bei Betrieb verursacht die Beschleunigung eine relative Be
wegung zwischen der Normalmasse 16 und der oberen und unte
ren Elektrode 30 beziehungsweise 32, da die Normalmasse 16
versucht, um die Biegestelle herum zu schwenken. Wenn sich
die Normalmasse 16 bewegt und sich einer Elektrode, wie der
Elektrode 32, nähert, verursacht die vergrößerte, kapazitive
Aufnahme des Wechselspannungssignals von der Signalquelle 38,
daß über den Differenz-Brückenschaltkreis eine Spannung an
den Verstärker angelegt wird. Die resultierende, vergrößerte
Gleich-Signalspannung, die über den Inverter 62 an die un
tere Elektrode 32 angelegt wird und die verringerte Span
nung, die vom Verstärker 60 an die obere Elektrode 30 ange
legt wird, sichern, daß eine elektrostatische Kraft auf die
Normalmasse 16 ausgeübt wird, um der Beschleunigungskraft
entgegenzuwirken und die Normalmasse 16 in ihrer neutralen
Position zu halten. Das verringerte Signal, das an den In
verter 62 angelegt wird, kann als Beschleunigungsausgang er
faßt werden und ist proportional der ausgeübten Beschleuni
gungskraft.
Eine vernachlässigbare Abweichung der Normalmasse 16 im
Spalt, aus ihrer nominalen Position heraus, ist für eine ge
nügend hohe Verstärkung des Verstärkers 60 ausreichend, wenn
eine Beschleunigung ausgeübt wird, weshalb die Linearität
gesichert ist. Zur Aufrechterhaltung der Stabilität des An
sprechens des Beschleunigungsmessers 10 mit geschlossener
Schleife, mit hoher Verstärkung des Verstärkers 60, ist es
erforderlich, eine Verringerung der hohen Verstärkung bei
hohen Frequenzen zu erhalten. Ein bestimmter, vorteilhafter
Mechanismus zum Erreichen eines Abrutschens der Verstärkung
bei hoher Frequenz besteht im Schaffen einer viskosen Dämp
fung, zum Beispiel der Verwendung von Gas oder Flüssigkeit
im Spalt zwischen der oberen und unteren Elektrode 30 beziehungsweise
32 und der Normalmasse 16, wie es in der Fig. 1
gezeigt ist.
Es wurde also ein neuer Miniatur-Beschleunigungsmesser und
ein Verfahren zu seiner Herstellung in Feinstbearbeitung ge
schaffen, der zu anderen Gesichtspunkten einen großen Dyna
mikbereich mit einem ausgezeichneten Verhältnis der Genau
igkeit über den vollen Meßbereich aufweist. Der Beschleuni
gungsmesser ist hochsymmetrisch. Im einzelnen ist das Gelenk
in der Mittelebene der Normalmasse angeordnet, und die Struk
tur ist ausgeglichen, um Verschiebungen zu vermeiden. Das
ergibt eine gute Vorspannungsstabilität des Bereichsverhält
nisses. Der Beschleunigungsmesser ist mit einer geschlos
sene Schleife ausgeführt, mit einer ausnahmsweise hohen
Schleifenverstärkung und einem sehr schwachen Gelenk, ver
glichen mit den Pendel- und elektrostatischen Kräften.
Das ergibt ebenfalls eine gute Vorspannungsstabilität im Be
reichsverhältnis. Die unterschiedliche Beeinflussung mit
Verschiebungen wirkt in Verbindung mit der hohen Verstär
kung der geschlossenen Schleife, um die Fehler durch die
Nichtlinearitäten und Pendelvibrationen zu minimieren.
Sekundäre Störungen, die Vorspannungsfehler ergeben können,
wurden in der vorliegenden Erfindung durch eine Anzahl von
Gesichtspunkten eliminiert, die unter anderem enthalten:
- 1. Elektrostatische Abschirmung der Außenseite des Chips;
- 2. Vergrößern der Elektroden, um Streufelder zu minimieren;
- 3. Auswahl von Elektrodenmetallen bezüglich der Oberflächen stabilität im Atomniveau, das heißt hygroskopische Lac kierung oder Eloxierung;
- 4. Ätzen von Nuten, um die Wirkung der verbleibenden Streu ung zu reduzieren;
- 5. Verwendung einer Widerstandsbeschichtung, um die Vertei lung der Ladung in den Elektrodenspalten zu stabilisieren;
- 6. Schlitzen des Gelenks, um die Wirkung der strukturellen Verschiebung zu reduzieren;
- 7. Verwendung eines elastischen Blocks, um strukturelle Verschiebungen als Folge verschiedener Ausdehnung oder ande rer, äußerer Kräfte zu vermeiden.
Zusätzlich vereinfacht die vorliegende Erfindung den Servo
betrieb des Beschleunigungsmessers durch Anwendung der Erre
gung auf die Normalmasse und durch die Anordnung der Kon
struktion, derart, daß die Aufnahme- und die Beeinflussungs
elektroden nun dieselben sind.
Claims (24)
1. Miniatur-Beschleunigungsmesser mit zwei Elektrodenschichten
(30, 32), einer Silizium-Normalmasse (16), einer Einrichtung
zum Aufhängen der Normalmasse (16) zwischen den
Elektrodenschichten (30, 32), einer linearen Einrichtung, die
auf unterschiedliche, kapazitive Kopplungen zwischen den
Elektrodenschichten und der Normalmasse (16) anspricht, um
ein elektrisches Signal zur Gegenwirkung gegen die
Beschleunigungskräfte, die auf die Normalmasse (16) wirken,
zu erzeugen und einer Einrichtung zur Messung der Größe und
des Vorzeichens des Signals, als Maß der Beschleunigung,
dadurch gekennzeichnet, dass die Einrichtung zur Gegenwirkung
gegen die Beschleunigung enthält:
eine Einrichtung zum Anlegen eines Wechselspannungssignals direkt an die Normalmasse (16);
eine Einrichtung zum Erfassen des Wechselspannungssignals, gekoppelt mit den Elektroden davon, und
eine Einrichtung, die auf das Wechselspannungssignal anspricht, das erfasst wird, um für die Gegenkräfte gegen die Beschleunigung der Normalmasse (16) verwendet zu werden.
eine Einrichtung zum Anlegen eines Wechselspannungssignals direkt an die Normalmasse (16);
eine Einrichtung zum Erfassen des Wechselspannungssignals, gekoppelt mit den Elektroden davon, und
eine Einrichtung, die auf das Wechselspannungssignal anspricht, das erfasst wird, um für die Gegenkräfte gegen die Beschleunigung der Normalmasse (16) verwendet zu werden.
2. Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 1,
gekennzeichnet durch Einrichtungen zur Anwendung einer
Vorspannungsverschiebung auf einen Verstärker (60), um die
Wirkung der unvollkommenen Zentrierung und der
Vibrationsrektifikation zu verringern.
3. Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, dass die Einrichtung, die auf das erfasste
Wechselspannungssignal anspricht, weiterhin enthält:
eine Einrichtung zur Anwendung unterschiedlicher, elektrostatischer Kräfte zwischen den Schichten (30, 32) und der Normalmasse (16), linear zu dem erfassten Wechselspannungssignal.
eine Einrichtung zur Anwendung unterschiedlicher, elektrostatischer Kräfte zwischen den Schichten (30, 32) und der Normalmasse (16), linear zu dem erfassten Wechselspannungssignal.
4. Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 3, dadurch
gekennzeichnet, dass die Einrichtung zur Anwendung der
elektrostatischen Kräfte weiterhin enthält:
eine Einrichtung zum Anlegen unterschiedlicher Gleichspannungssignale zwischen den Schichten (30, 32) und der Normalmasse (16), proportional zu den erfassten Wechselspannungssignalen, und
eine Einrichtung zur Anwendung von Gleich-Vorspannungen zwischen den Elektrodenschichten (30, 32) und der Normalmasse (16), um elektrostatische Kräfte, die zwischen diesen angewendet werden, linear proportional zur Beschleunigung zu machen.
eine Einrichtung zum Anlegen unterschiedlicher Gleichspannungssignale zwischen den Schichten (30, 32) und der Normalmasse (16), proportional zu den erfassten Wechselspannungssignalen, und
eine Einrichtung zur Anwendung von Gleich-Vorspannungen zwischen den Elektrodenschichten (30, 32) und der Normalmasse (16), um elektrostatische Kräfte, die zwischen diesen angewendet werden, linear proportional zur Beschleunigung zu machen.
5. Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, dass die Normalmasse (16) ein Teil einer
Siliziumschicht (24) ist, die zwischen den
Elektrodenschichten (30, 32) eingeschlossen ist.
6. Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, dass die Siliziumschicht (24) weiterhin eine
Biegestelle (22) enthält, die in der Mittelebene (23) der
aufgehängten Normalmasse (16) wirkt.
7. Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, dass die Biegestelle (22) als geteilte
Konstruktion ausgeführt ist, die symmetrisch ausgeglichene
Scharniere (25, 27) aufweist.
8. Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, dass ein dünner Film aus Gas oder Flüssigkeit
im Spalt zwischen der Normalmasse (16) und den
Elektrodenschichten (30, 32) vorgesehen ist, um eine viskose
Dämpfung zwischen diesen zu bewirken.
9. Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, dass jede Elektrodenschicht (30, 32) weiterhin
enthält:
eine Einrichtung zur Anwendung elektrostatischer Kräfte auf die Normalmasse (16), die auf die Einrichtung für die Gegenkräfte gegen die Beschleunigungskräfte, die hierauf angewendet werden, anspricht, und
Schutz-Elektroden (64, 66) zur Vermeidung einer Berührung zwischen den Beeinflussungselektroden (30, 32) und der Normalmasse (16).
eine Einrichtung zur Anwendung elektrostatischer Kräfte auf die Normalmasse (16), die auf die Einrichtung für die Gegenkräfte gegen die Beschleunigungskräfte, die hierauf angewendet werden, anspricht, und
Schutz-Elektroden (64, 66) zur Vermeidung einer Berührung zwischen den Beeinflussungselektroden (30, 32) und der Normalmasse (16).
10. Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, dass jede Elektrodenschicht (30, 32) weiterhin
enthält:
eine Metallisierung der Beeinflussungselektroden, zur Anwendung einer elektrostatischen Kraft auf die Normalmasse (16), und
eine Metallisierung der Schutz-Elektroden (64, 66), wesentlich dicker, als die Metallisierung der Beeinflussungselektroden, um eine Berührung zwischen der Metallisierung der Beeinflussungselektrode und der Normalmasse (16) zu vermeiden.
eine Metallisierung der Beeinflussungselektroden, zur Anwendung einer elektrostatischen Kraft auf die Normalmasse (16), und
eine Metallisierung der Schutz-Elektroden (64, 66), wesentlich dicker, als die Metallisierung der Beeinflussungselektroden, um eine Berührung zwischen der Metallisierung der Beeinflussungselektrode und der Normalmasse (16) zu vermeiden.
11. Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 10,
gekennzeichnet durch eine Einrichtung zur Reduzierung von
Ausgleichsvorgängen bei Veränderungen der elektrostatischen
Kräfte, die aus verschiedenen Potentialen zwischen den
Metallisierungen der Schutz- und Beeinflussungselektroden
resultieren.
12. Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 11, dadurch
gekennzeichnet, dass die Einrichtung zur Reduzierung der
Ausgleichsvorgänge bei den elektrostatischen Kräften
weiterhin enthält:
Nuten (21) in der Normalmasse (16), gegenüber dem Teil der Elektrodenschichten zwischen der Metallisierung der Beeinflussungs- und der Schutzelektrode, um die Wirkung der elektrostatischen Kräfte zu reduzieren, die durch diese auf die Normalmasse ausgeübt werden.
Nuten (21) in der Normalmasse (16), gegenüber dem Teil der Elektrodenschichten zwischen der Metallisierung der Beeinflussungs- und der Schutzelektrode, um die Wirkung der elektrostatischen Kräfte zu reduzieren, die durch diese auf die Normalmasse ausgeübt werden.
13. Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 11, dadurch
gekennzeichnet, dass die Einrichtung zur Reduzierung der
Ausgleichsvorgänge bei den elektrostatischen Kräften
weiterhin eine Widerstandsbeschichtung auf den Teilen der
Glasschichten (26, 28) zwischen den Metallisierungen der
Beeinflussungs- und der Schutzelektroden, zur Erhaltung einer
gut definierten Potentialverteilung zwischen diesen, enthält.
14. Miniatur-Beschleunigungsmesser nach Anspruch 13,
gekennzeichnet durch eine leitende Metallisierungsschicht auf
den äußeren Oberflächen (26a, 28a) der Glasschichten (26, 28),
um den Meßwertgeber (12) gegen äußere, elektrische Felder
abzuschirmen.
15. Verfahren zum Erfassen der Beschleunigung, unter Verwendung
einer Normalmasse (16) und Elektroden, die einen
Beschleunigungsmesser bilden, mit folgenden Schritten:
Aufhängen der Normalmasse (16) in einer balancierten Position, zwischen den Elektroden (30, 32), um gleiche Kopplungskapazitäten zwischen den Elektroden und der Normalmasse zu definieren;
elektronisches Erfassen der unterschiedlichen, kapazitiven Kopplungen zwischen den Elektroden und der Normalmasse, wenn die Normalmasse durch die Beschleunigung aus der balancierten Position herausbewegt wird;
elektronische Erzeugung eines elektrischen Signals, das eine elektromotorische Kraft auf der Normalmasse erzeugt, die dazu tendiert, die Normalmasse in ihre balancierte Position zu bewegen, wenn es an den Elektroden angewendet wird;
Anwenden des elektrischen Signals an den Elektroden, um eine Gegenkraft gegen die Beschleunigung zu erzeugen, die auf die Normalmasse ausgeübt wird, und
Messen der Größe und des Vorzeichens des elektrischen Signals, das erforderlich ist, um die Balance wieder herzustellen, als Maß für die Beschleunigung, die auf die Normalmasse ausgeübt wird,
gekennzeichnet durch die folgenden Schritte zur Anwendung der Gegenkräfte:
Anlegen eines Wechselspannungssignals direkt an die Normalmasse (16);
Erfassen des Wechselspannungssignals, das von der Normalmasse an die Elektroden (30, 32) angekoppelt wird, und
Anwenden der Gegenkräfte gegen die Beschleunigung an der Normalmasse, abhängig von den erfassten Wechselspannungssignalen.
Aufhängen der Normalmasse (16) in einer balancierten Position, zwischen den Elektroden (30, 32), um gleiche Kopplungskapazitäten zwischen den Elektroden und der Normalmasse zu definieren;
elektronisches Erfassen der unterschiedlichen, kapazitiven Kopplungen zwischen den Elektroden und der Normalmasse, wenn die Normalmasse durch die Beschleunigung aus der balancierten Position herausbewegt wird;
elektronische Erzeugung eines elektrischen Signals, das eine elektromotorische Kraft auf der Normalmasse erzeugt, die dazu tendiert, die Normalmasse in ihre balancierte Position zu bewegen, wenn es an den Elektroden angewendet wird;
Anwenden des elektrischen Signals an den Elektroden, um eine Gegenkraft gegen die Beschleunigung zu erzeugen, die auf die Normalmasse ausgeübt wird, und
Messen der Größe und des Vorzeichens des elektrischen Signals, das erforderlich ist, um die Balance wieder herzustellen, als Maß für die Beschleunigung, die auf die Normalmasse ausgeübt wird,
gekennzeichnet durch die folgenden Schritte zur Anwendung der Gegenkräfte:
Anlegen eines Wechselspannungssignals direkt an die Normalmasse (16);
Erfassen des Wechselspannungssignals, das von der Normalmasse an die Elektroden (30, 32) angekoppelt wird, und
Anwenden der Gegenkräfte gegen die Beschleunigung an der Normalmasse, abhängig von den erfassten Wechselspannungssignalen.
16. Verfahren nach Anspruch 15, gekennzeichnet durch die
Anwendung unterschiedlicher, elektrostatischer Kräfte zwischen
den Elektroden (30, 32) und der Normalmasse (16), linear
proportional zu den erfassten Wechselspannungssignalen.
17. Verfahren nach Anspruch 16, gekennzeichnet durch die weiteren
Schritte zur Anwendung unterschiedlicher, elektrostatischer
Kräfte:
Anlegen unterschiedlicher Gleichspannungen zwischen den Elektroden (30, 32) und der Normalmasse (16), proportional zu den erfassten Gleichspannungssignalen, und
Anlegen von Gleich-Vorspannungen zwischen den Elektrodenschichten (30, 32) und der Normalmasse (16), um die elektrostatischen Kräfte, die zwischen diesen wirken, linear proportional zur Beschleunigung zu machen.
Anlegen unterschiedlicher Gleichspannungen zwischen den Elektroden (30, 32) und der Normalmasse (16), proportional zu den erfassten Gleichspannungssignalen, und
Anlegen von Gleich-Vorspannungen zwischen den Elektrodenschichten (30, 32) und der Normalmasse (16), um die elektrostatischen Kräfte, die zwischen diesen wirken, linear proportional zur Beschleunigung zu machen.
18. Verfahren nach Anspruch 15, gekennzeichnet durch die
weiteren Schritte zur Anwendung von Gegenkräften gegen die
Beschleunigung auf die Normalmasse:
Anwenden einer elektrostatischen Kraft von einer Beeinflussungselektrode (30, 32) auf die Normalmasse (16) und
Verhindern einer Berührung zwischen der Beeinflussungselektrode und der Normalmasse mit Hilfe einer Schutz-Elektrode (64, 66).
Anwenden einer elektrostatischen Kraft von einer Beeinflussungselektrode (30, 32) auf die Normalmasse (16) und
Verhindern einer Berührung zwischen der Beeinflussungselektrode und der Normalmasse mit Hilfe einer Schutz-Elektrode (64, 66).
19. Verfahren nach Anspruch 15, gekennzeichnet durch die
Reduzierung von Ausgleichsvorgängen bei Veränderungen der
elektrostatischen Kräfte, die aus Differenzen in den
Potentialen zwischen den Beeinflussungselektroden und den
Schutz-Elektroden resultieren.
20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass der
Schritt zur Reduzierung der Ausgleichsvorgänge die
Vergrößerung der Entfernung zwischen der Normalmasse und der
Glasschicht (26, 28) zwischen den Beeinflussungselektroden
(30, 32) und den Schutz-Elektroden (64, 66) beinhaltet.
21. Verfahren nach Anspruch 19, gekennzeichnet durch das
Aufbringen einer Widerstandsbeschichtung auf den Teilen der
Glasschichten (26, 28) zwischen den Beeinflussungselektroden
(30, 32) und den Schutzelektroden (64, 66), um eine konstante
Potentialverteilung zwischen diesen zu erhalten.
22. Miniatur-Beschleunigungsmesser mit:
zwei Elektrodenschichten (30, 32) mit metallischen Elektroden;
einer Silizium- Normalmasse (16), die zwischen den Elektrodenschichten aufgehängt ist;
einer Einrichtung, die auf die Elektroden anspricht, um ein Wechselspannungssignal direkt an die Normalmasse (16) anzulegen;
einer Einrichtung, die auf die Elektroden anspricht, um Gleichspannungssignale zu erfassen, die mit den Elektrodenschichten derselben gekoppelt sind, und
einer Einrichtung, die auf die erfassten Wechselspannungssignale anspricht, um unterschiedliche, elektrostatische Kräfte zwischen den Elektrodenschichten (30, 32) und der Normalmasse (16) anzuwenden, linear proportional zu den erfassten Wechselspannungssignalen.
zwei Elektrodenschichten (30, 32) mit metallischen Elektroden;
einer Silizium- Normalmasse (16), die zwischen den Elektrodenschichten aufgehängt ist;
einer Einrichtung, die auf die Elektroden anspricht, um ein Wechselspannungssignal direkt an die Normalmasse (16) anzulegen;
einer Einrichtung, die auf die Elektroden anspricht, um Gleichspannungssignale zu erfassen, die mit den Elektrodenschichten derselben gekoppelt sind, und
einer Einrichtung, die auf die erfassten Wechselspannungssignale anspricht, um unterschiedliche, elektrostatische Kräfte zwischen den Elektrodenschichten (30, 32) und der Normalmasse (16) anzuwenden, linear proportional zu den erfassten Wechselspannungssignalen.
23. Beschleunigungsmesser nach Anspruch 22, gekennzeichnet durch
metallisierte Elektroden (30, 32), die sich über die
Normalmasse (16) hinaus erstrecken.
24. Beschleunigungsmesser, nach Anspruch 22, gekennzeichnet durch
eine Einrichtung zur elastischen Montage des
Beschleunigungsmessers.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/640,449 US5205171A (en) | 1991-01-11 | 1991-01-11 | Miniature silicon accelerometer and method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4200293A1 DE4200293A1 (de) | 1992-08-13 |
DE4200293C2 true DE4200293C2 (de) | 2002-10-17 |
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Families Citing this family (213)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5473945A (en) * | 1990-02-14 | 1995-12-12 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Micromechanical angular accelerometer with auxiliary linear accelerometer |
US5357817A (en) * | 1990-04-19 | 1994-10-25 | Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Wide bandwidth stable member without angular accelerometers |
US5408119A (en) * | 1990-10-17 | 1995-04-18 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Monolithic micromechanical vibrating string accelerometer with trimmable resonant frequency |
US5605598A (en) | 1990-10-17 | 1997-02-25 | The Charles Stark Draper Laboratory Inc. | Monolithic micromechanical vibrating beam accelerometer with trimmable resonant frequency |
US5241861A (en) * | 1991-02-08 | 1993-09-07 | Sundstrand Corporation | Micromachined rate and acceleration sensor |
US5635639A (en) | 1991-09-11 | 1997-06-03 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Micromechanical tuning fork angular rate sensor |
US5331852A (en) * | 1991-09-11 | 1994-07-26 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Electromagnetic rebalanced micromechanical transducer |
US5408877A (en) * | 1992-03-16 | 1995-04-25 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Micromechanical gyroscopic transducer with improved drive and sense capabilities |
US5349855A (en) | 1992-04-07 | 1994-09-27 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Comb drive micromechanical tuning fork gyro |
US5767405A (en) | 1992-04-07 | 1998-06-16 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Comb-drive micromechanical tuning fork gyroscope with piezoelectric readout |
JP3367113B2 (ja) * | 1992-04-27 | 2003-01-14 | 株式会社デンソー | 加速度センサ |
US5388458A (en) * | 1992-11-24 | 1995-02-14 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Quartz resonant gyroscope or quartz resonant tuning fork gyroscope |
US5347867A (en) * | 1993-02-03 | 1994-09-20 | Minnetonka Warehouse Supply, Inc | Accelerometer incorporating a driven shield |
US5555765A (en) * | 1993-02-10 | 1996-09-17 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Gimballed vibrating wheel gyroscope |
US5650568A (en) | 1993-02-10 | 1997-07-22 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Gimballed vibrating wheel gyroscope having strain relief features |
US5610335A (en) * | 1993-05-26 | 1997-03-11 | Cornell Research Foundation | Microelectromechanical lateral accelerometer |
US6199874B1 (en) | 1993-05-26 | 2001-03-13 | Cornell Research Foundation Inc. | Microelectromechanical accelerometer for automotive applications |
US5563343A (en) * | 1993-05-26 | 1996-10-08 | Cornell Research Foundation, Inc. | Microelectromechanical lateral accelerometer |
US5503285A (en) * | 1993-07-26 | 1996-04-02 | Litton Systems, Inc. | Method for forming an electrostatically force balanced silicon accelerometer |
US5476819A (en) * | 1993-07-26 | 1995-12-19 | Litton Systems, Inc. | Substrate anchor for undercut silicon on insulator microstructures |
DE4342890A1 (de) * | 1993-12-16 | 1995-06-22 | Mannesmann Kienzle Gmbh | Verfahren zum Abdichten herstellprozeßbedingter Öffnungen an mikromechanischen Beschleunigungssensoren |
US5481914A (en) * | 1994-03-28 | 1996-01-09 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Electronics for coriolis force and other sensors |
US5446616A (en) * | 1994-03-28 | 1995-08-29 | Litton Systems, Inc. | Electrode structure and method for anodically-bonded capacitive sensors |
US5703292A (en) * | 1994-03-28 | 1997-12-30 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Sensor having an off-frequency drive scheme and a sense bias generator utilizing tuned circuits |
JPH085654A (ja) * | 1994-06-23 | 1996-01-12 | Murata Mfg Co Ltd | 加速度センサ |
US5581035A (en) | 1994-08-29 | 1996-12-03 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Micromechanical sensor with a guard band electrode |
US5646348A (en) | 1994-08-29 | 1997-07-08 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Micromechanical sensor with a guard band electrode and fabrication technique therefor |
US5725729A (en) | 1994-09-26 | 1998-03-10 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Process for micromechanical fabrication |
US5530342A (en) * | 1994-09-30 | 1996-06-25 | Rockwell International Corporation | Micromachined rate sensor comb drive device and method |
US5604313A (en) * | 1994-11-23 | 1997-02-18 | Tokyo Gas Co., Ltd. | Varying apparent mass accelerometer |
US5542295A (en) * | 1994-12-01 | 1996-08-06 | Analog Devices, Inc. | Apparatus to minimize stiction in micromachined structures |
US5656778A (en) * | 1995-04-24 | 1997-08-12 | Kearfott Guidance And Navigation Corporation | Micromachined acceleration and coriolis sensor |
JP3433401B2 (ja) * | 1995-05-18 | 2003-08-04 | アイシン精機株式会社 | 静電容量型加速度センサ |
US5635640A (en) * | 1995-06-06 | 1997-06-03 | Analog Devices, Inc. | Micromachined device with rotationally vibrated masses |
US5635638A (en) * | 1995-06-06 | 1997-06-03 | Analog Devices, Inc. | Coupling for multiple masses in a micromachined device |
US5640133A (en) * | 1995-06-23 | 1997-06-17 | Cornell Research Foundation, Inc. | Capacitance based tunable micromechanical resonators |
DE19524604A1 (de) * | 1995-07-06 | 1997-01-09 | Bosch Gmbh Robert | Schaltungsanordnung, insbesondere für einen kapazitiven Beschleunigungssensor |
US5747961A (en) * | 1995-10-11 | 1998-05-05 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Beat frequency motor position detection scheme for tuning fork gyroscope and other sensors |
US5600065A (en) * | 1995-10-25 | 1997-02-04 | Motorola, Inc. | Angular velocity sensor |
KR100408494B1 (ko) * | 1995-12-27 | 2004-03-04 | 삼성전자주식회사 | 마이크로 자이로스코프 |
US5693882A (en) * | 1996-02-27 | 1997-12-02 | Honeywell Inc. | Force sensing device having breakout tabs |
US5817942A (en) | 1996-02-28 | 1998-10-06 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Capacitive in-plane accelerometer |
US5744968A (en) * | 1996-04-30 | 1998-04-28 | Motorola Inc. | Ratiometric circuit |
US6745627B1 (en) | 1996-05-21 | 2004-06-08 | Honeywell International Inc. | Electrostatic drive for accelerometer |
US5948981A (en) * | 1996-05-21 | 1999-09-07 | Alliedsignal Inc. | Vibrating beam accelerometer |
US6250156B1 (en) | 1996-05-31 | 2001-06-26 | The Regents Of The University Of California | Dual-mass micromachined vibratory rate gyroscope |
US5992233A (en) * | 1996-05-31 | 1999-11-30 | The Regents Of The University Of California | Micromachined Z-axis vibratory rate gyroscope |
US5914801A (en) * | 1996-09-27 | 1999-06-22 | Mcnc | Microelectromechanical devices including rotating plates and related methods |
JPH10132848A (ja) * | 1996-10-31 | 1998-05-22 | Akebono Brake Ind Co Ltd | 半導体加速度センサー |
KR100408530B1 (ko) * | 1996-10-31 | 2004-01-24 | 삼성전자주식회사 | 마이크로자이로스코프의제조방법 |
US5892153A (en) | 1996-11-21 | 1999-04-06 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Guard bands which control out-of-plane sensitivities in tuning fork gyroscopes and other sensors |
US5996411A (en) * | 1996-11-25 | 1999-12-07 | Alliedsignal Inc. | Vibrating beam accelerometer and method for manufacturing the same |
US5911156A (en) | 1997-02-24 | 1999-06-08 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Split electrode to minimize charge transients, motor amplitude mismatch errors, and sensitivity to vertical translation in tuning fork gyros and other devices |
US5783973A (en) | 1997-02-24 | 1998-07-21 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Temperature insensitive silicon oscillator and precision voltage reference formed therefrom |
US6220096B1 (en) | 1997-03-20 | 2001-04-24 | Interscience, Inc. | Differential wideband vibration |
US5874675A (en) * | 1997-03-20 | 1999-02-23 | Interscience, Inc. | Wideband vibration sensor |
FR2761772B1 (fr) | 1997-04-07 | 1999-05-21 | Suisse Electronique Microtech | Capteur inductif micro-usine, notamment pour la mesure de la position et/ou du mouvement d'un objet |
US5952574A (en) | 1997-04-29 | 1999-09-14 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Trenches to reduce charging effects and to control out-of-plane sensitivities in tuning fork gyroscopes and other sensors |
KR100442823B1 (ko) * | 1997-05-09 | 2004-09-18 | 삼성전자주식회사 | 마이크로자이로스코프 |
KR100442824B1 (ko) * | 1997-05-12 | 2004-09-18 | 삼성전자주식회사 | 마이크로구조물소자및그제조방법 |
US5914553A (en) * | 1997-06-16 | 1999-06-22 | Cornell Research Foundation, Inc. | Multistable tunable micromechanical resonators |
US5900550A (en) * | 1997-06-16 | 1999-05-04 | Ford Motor Company | Capacitive acceleration sensor |
US6122961A (en) | 1997-09-02 | 2000-09-26 | Analog Devices, Inc. | Micromachined gyros |
US6718605B2 (en) * | 1997-09-08 | 2004-04-13 | The Regents Of The University Of Michigan | Single-side microelectromechanical capacitive accelerometer and method of making same |
US5905201A (en) * | 1997-10-28 | 1999-05-18 | Alliedsignal Inc. | Micromachined rate and acceleration sensor and method |
US5948982A (en) * | 1998-02-23 | 1999-09-07 | Alliedsignal Inc. | Vibrating beam accelerometers and methods of forming vibrating beam accelerometers |
US6230563B1 (en) | 1998-06-09 | 2001-05-15 | Integrated Micro Instruments, Inc. | Dual-mass vibratory rate gyroscope with suppressed translational acceleration response and quadrature-error correction capability |
US6257057B1 (en) * | 1998-12-16 | 2001-07-10 | L-3 Communications Corporation | Epitaxial coriolis rate sensor |
EP1153194B1 (de) | 1999-01-13 | 2003-11-19 | Vermeer Manufacturing Company | Automatisiertes bohrplanungsverfahren und vorrichtung zum horizontalen richtungsbohren |
US8636648B2 (en) | 1999-03-01 | 2014-01-28 | West View Research, Llc | Endoscopic smart probe |
US8068897B1 (en) | 1999-03-01 | 2011-11-29 | Gazdzinski Robert F | Endoscopic smart probe and method |
US10973397B2 (en) | 1999-03-01 | 2021-04-13 | West View Research, Llc | Computerized information collection and processing apparatus |
US7914442B1 (en) | 1999-03-01 | 2011-03-29 | Gazdzinski Robert F | Endoscopic smart probe and method |
SG77677A1 (en) | 1999-04-30 | 2001-01-16 | Inst Of Microelectronics | A novel structural design for improving the sensitivity of a surface-micromachined vibratory gyroscope |
US7051590B1 (en) | 1999-06-15 | 2006-05-30 | Analog Devices Imi, Inc. | Structure for attenuation or cancellation of quadrature error |
US6257060B1 (en) * | 1999-06-22 | 2001-07-10 | Alliedsignal Inc. | Combined enhanced shock load capability and stress isolation structure for an improved performance silicon micro-machined accelerometer |
US6315062B1 (en) | 1999-09-24 | 2001-11-13 | Vermeer Manufacturing Company | Horizontal directional drilling machine employing inertial navigation control system and method |
US6275320B1 (en) | 1999-09-27 | 2001-08-14 | Jds Uniphase, Inc. | MEMS variable optical attenuator |
JP2003511684A (ja) | 1999-10-13 | 2003-03-25 | アナログ デバイシーズ インコーポレイテッド | レートジャイロスコープ用フィードバック機構 |
US6373682B1 (en) | 1999-12-15 | 2002-04-16 | Mcnc | Electrostatically controlled variable capacitor |
US6485273B1 (en) | 2000-09-01 | 2002-11-26 | Mcnc | Distributed MEMS electrostatic pumping devices |
US6590267B1 (en) | 2000-09-14 | 2003-07-08 | Mcnc | Microelectromechanical flexible membrane electrostatic valve device and related fabrication methods |
US6377438B1 (en) | 2000-10-23 | 2002-04-23 | Mcnc | Hybrid microelectromechanical system tunable capacitor and associated fabrication methods |
US6396620B1 (en) | 2000-10-30 | 2002-05-28 | Mcnc | Electrostatically actuated electromagnetic radiation shutter |
JP4892781B2 (ja) * | 2001-01-18 | 2012-03-07 | 富士電機株式会社 | 半導体物理量センサ |
US6595056B2 (en) * | 2001-02-07 | 2003-07-22 | Litton Systems, Inc | Micromachined silicon gyro using tuned accelerometer |
WO2002073673A1 (en) * | 2001-03-13 | 2002-09-19 | Rochester Institute Of Technology | A micro-electro-mechanical switch and a method of using and making thereof |
CN1656382A (zh) * | 2001-05-15 | 2005-08-17 | 霍尼韦尔国际公司 | 加速度计应变消除结构 |
US6474160B1 (en) | 2001-05-24 | 2002-11-05 | Northrop Grumman Corporation | Counterbalanced silicon tuned multiple accelerometer-gyro |
AU2002303933A1 (en) * | 2001-05-31 | 2002-12-09 | Rochester Institute Of Technology | Fluidic valves, agitators, and pumps and methods thereof |
US6619123B2 (en) * | 2001-06-04 | 2003-09-16 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Micromachined shock sensor |
US6619121B1 (en) | 2001-07-25 | 2003-09-16 | Northrop Grumman Corporation | Phase insensitive quadrature nulling method and apparatus for coriolis angular rate sensors |
US6629460B2 (en) * | 2001-08-10 | 2003-10-07 | The Boeing Company | Isolated resonator gyroscope |
US6651500B2 (en) * | 2001-10-03 | 2003-11-25 | Litton Systems, Inc. | Micromachined silicon tuned counterbalanced accelerometer-gyro with quadrature nulling |
US7378775B2 (en) * | 2001-10-26 | 2008-05-27 | Nth Tech Corporation | Motion based, electrostatic power source and methods thereof |
US6854330B2 (en) | 2001-10-26 | 2005-02-15 | Nth Tech Corporation | Accelerometer and methods thereof |
US7211923B2 (en) | 2001-10-26 | 2007-05-01 | Nth Tech Corporation | Rotational motion based, electrostatic power source and methods thereof |
EP2327959B1 (de) * | 2002-02-06 | 2012-09-12 | Analog Devices, Inc. | Mikromechanisches Gyroskop |
US7089792B2 (en) * | 2002-02-06 | 2006-08-15 | Analod Devices, Inc. | Micromachined apparatus utilizing box suspensions |
US20040035206A1 (en) * | 2002-03-26 | 2004-02-26 | Ward Paul A. | Microelectromechanical sensors having reduced signal bias errors and methods of manufacturing the same |
US6701786B2 (en) | 2002-04-29 | 2004-03-09 | L-3 Communications Corporation | Closed loop analog gyro rate sensor |
US6966225B1 (en) * | 2002-07-12 | 2005-11-22 | Maxtor Corporation | Capacitive accelerometer with liquid dielectric |
US6823733B2 (en) * | 2002-11-04 | 2004-11-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Z-axis vibration gyroscope |
US6782748B2 (en) * | 2002-11-12 | 2004-08-31 | Honeywell International, Inc. | High-G acceleration protection by caging |
US6865944B2 (en) * | 2002-12-16 | 2005-03-15 | Honeywell International Inc. | Methods and systems for decelerating proof mass movements within MEMS structures |
US7010457B2 (en) * | 2002-12-23 | 2006-03-07 | Kenneth Wargon | Apparatus and method for producing a numeric display corresponding to the volume of a selected segment of an item |
US6817244B2 (en) * | 2003-01-06 | 2004-11-16 | Honeywell International Inc. | Methods and systems for actively controlling movement within MEMS structures |
US6718825B1 (en) | 2003-01-17 | 2004-04-13 | Honeywell International Inc. | Methods and systems for reducing stick-down within MEMS structures |
US6860151B2 (en) * | 2003-02-07 | 2005-03-01 | Honeywell International Inc. | Methods and systems for controlling movement within MEMS structures |
US6978673B2 (en) * | 2003-02-07 | 2005-12-27 | Honeywell International, Inc. | Methods and systems for simultaneously fabricating multi-frequency MEMS devices |
US6767758B1 (en) | 2003-04-28 | 2004-07-27 | Analog Devices, Inc. | Micro-machined device structures having on and off-axis orientations |
US6848304B2 (en) * | 2003-04-28 | 2005-02-01 | Analog Devices, Inc. | Six degree-of-freedom micro-machined multi-sensor |
US6837107B2 (en) * | 2003-04-28 | 2005-01-04 | Analog Devices, Inc. | Micro-machined multi-sensor providing 1-axis of acceleration sensing and 2-axes of angular rate sensing |
CN100437116C (zh) * | 2003-04-28 | 2008-11-26 | 模拟器件公司 | 提供两个加速度检测轴和一个角速度检测轴的微加工多传感器 |
US6845665B2 (en) * | 2003-04-28 | 2005-01-25 | Analog Devices, Inc. | Micro-machined multi-sensor providing 2-axes of acceleration sensing and 1-axis of angular rate sensing |
US6843127B1 (en) | 2003-07-30 | 2005-01-18 | Motorola, Inc. | Flexible vibratory micro-electromechanical device |
US20050062362A1 (en) * | 2003-08-28 | 2005-03-24 | Hongyuan Yang | Oscillatory gyroscope |
US7287328B2 (en) * | 2003-08-29 | 2007-10-30 | Rochester Institute Of Technology | Methods for distributed electrode injection |
US7217582B2 (en) * | 2003-08-29 | 2007-05-15 | Rochester Institute Of Technology | Method for non-damaging charge injection and a system thereof |
US20050092085A1 (en) * | 2003-11-04 | 2005-05-05 | Shyu-Mou Chen | Solid-state gyroscopes and planar three-axis inertial measurement unit |
US7197928B2 (en) * | 2003-11-04 | 2007-04-03 | Chung-Shan Institute Of Science And Technology | Solid-state gyroscopes and planar three-axis inertial measurement unit |
US7168317B2 (en) * | 2003-11-04 | 2007-01-30 | Chung-Shan Institute Of Science And Technology | Planar 3-axis inertial measurement unit |
US8581308B2 (en) * | 2004-02-19 | 2013-11-12 | Rochester Institute Of Technology | High temperature embedded charge devices and methods thereof |
US7267006B2 (en) * | 2004-02-27 | 2007-09-11 | Bae Systems Plc | Accelerometer |
CN1954193B (zh) * | 2004-04-14 | 2010-09-01 | 模拟设备公司 | 用于惯性传感器的耦合设备 |
JP2008507673A (ja) * | 2004-07-23 | 2008-03-13 | エイエフエイ・コントロールズ,リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | マイクロバルブアセンブリの動作方法および関連構造および関連デバイス |
US7131315B2 (en) * | 2004-09-28 | 2006-11-07 | Honeywell International Inc. | Methods and apparatus for reducing vibration rectification errors in closed-loop accelerometers |
US7478557B2 (en) * | 2004-10-01 | 2009-01-20 | Analog Devices, Inc. | Common centroid micromachine driver |
JP2006125887A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Fujitsu Media Device Kk | 加速度センサ |
EP1715580B1 (de) * | 2005-03-31 | 2018-11-28 | STMicroelectronics Srl | Vorrichtung zur Steuerung der Resonanzfrequenz eines mikroelektromechanischen Oszillator |
US7421897B2 (en) | 2005-04-14 | 2008-09-09 | Analog Devices, Inc. | Cross-quad and vertically coupled inertial sensors |
US20070220973A1 (en) * | 2005-08-12 | 2007-09-27 | Cenk Acar | Multi-axis micromachined accelerometer and rate sensor |
US20070074731A1 (en) * | 2005-10-05 | 2007-04-05 | Nth Tech Corporation | Bio-implantable energy harvester systems and methods thereof |
EP1953814B1 (de) * | 2005-11-25 | 2017-09-06 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Kapselungsstruktur auf waferniveau und herstellungsverfahren dafür |
EP1953815B1 (de) * | 2005-11-25 | 2012-07-11 | Panasonic Corporation | Kapselungsstruktur auf waferniveau und aus einer solchen kapselungsstruktur erhaltene sensoranordnung |
US20070163346A1 (en) * | 2006-01-18 | 2007-07-19 | Honeywell International Inc. | Frequency shifting of rotational harmonics in mems devices |
CN101400969A (zh) * | 2006-03-10 | 2009-04-01 | 康蒂特米克微电子有限公司 | 微机械的转速传感器 |
JP2007248328A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 複合センサ |
US7409862B2 (en) * | 2006-10-18 | 2008-08-12 | Honeywell International Inc. | Systems and methods for isolation of torque and sense capacitors of an accelerometer |
DE102006057929A1 (de) * | 2006-12-08 | 2008-06-12 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanischer Inertialsensor mit verringerter Empfindlichkeit gegenüber dem Einfluss driftender Oberflächenladungen und zu seinem Betrieb geeignetes Verfahren |
US8250921B2 (en) | 2007-07-06 | 2012-08-28 | Invensense, Inc. | Integrated motion processing unit (MPU) with MEMS inertial sensing and embedded digital electronics |
US7934423B2 (en) | 2007-12-10 | 2011-05-03 | Invensense, Inc. | Vertically integrated 3-axis MEMS angular accelerometer with integrated electronics |
US8952832B2 (en) * | 2008-01-18 | 2015-02-10 | Invensense, Inc. | Interfacing application programs and motion sensors of a device |
US20090265671A1 (en) * | 2008-04-21 | 2009-10-22 | Invensense | Mobile devices with motion gesture recognition |
US8462109B2 (en) | 2007-01-05 | 2013-06-11 | Invensense, Inc. | Controlling and accessing content using motion processing on mobile devices |
WO2008097127A1 (ru) * | 2007-01-16 | 2008-08-14 | Obschestvo S Ogranichennoi Otvetstvennostyu 'aisens' | Способ измерения угловой скорости, вибрационный гироскоп, автогенератор гироскопа и способ его балансировки |
ITTO20070033A1 (it) | 2007-01-19 | 2008-07-20 | St Microelectronics Srl | Dispositivo microelettromeccanico ad asse z con struttura di arresto perfezionata |
WO2008109090A1 (en) * | 2007-03-06 | 2008-09-12 | Kenneth Wargon | Apparatus and method for determining and numerically displaying a volume |
KR100885416B1 (ko) * | 2007-07-19 | 2009-02-24 | 건국대학교 산학협력단 | 일체형 가속도계·각속도계 구동 시스템 |
US9047850B1 (en) | 2007-10-17 | 2015-06-02 | David Wiley Beaty | Electric instrument music control device with magnetic displacement sensors |
US7923623B1 (en) | 2007-10-17 | 2011-04-12 | David Beaty | Electric instrument music control device with multi-axis position sensors |
GB0720412D0 (en) * | 2007-10-18 | 2007-11-28 | Melexis Nv | Combined mems accelerometer and gyroscope |
US8079262B2 (en) * | 2007-10-26 | 2011-12-20 | Rosemount Aerospace Inc. | Pendulous accelerometer with balanced gas damping |
US8011247B2 (en) * | 2008-06-26 | 2011-09-06 | Honeywell International Inc. | Multistage proof-mass movement deceleration within MEMS structures |
US8187902B2 (en) * | 2008-07-09 | 2012-05-29 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | High performance sensors and methods for forming the same |
US7980133B2 (en) * | 2008-08-19 | 2011-07-19 | Analog Devices, Inc. | Method and apparatus for a micromachined multisensor |
US8338689B1 (en) | 2008-10-17 | 2012-12-25 | Telonics Pro Audio LLC | Electric instrument music control device with multi-axis position sensors |
IT1391972B1 (it) | 2008-11-26 | 2012-02-02 | St Microelectronics Rousset | Giroscopio microelettromeccanico con movimento di azionamento rotatorio e migliorate caratteristiche elettriche |
IT1392741B1 (it) | 2008-12-23 | 2012-03-16 | St Microelectronics Rousset | Giroscopio microelettromeccanico con migliorata reiezione di disturbi di accelerazione |
CN102356323B (zh) | 2009-03-19 | 2014-07-30 | 惠普开发有限公司 | 基于三相电容的感测 |
US8272266B2 (en) * | 2009-04-09 | 2012-09-25 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Gyroscopes using surface electrodes |
IT1394007B1 (it) | 2009-05-11 | 2012-05-17 | St Microelectronics Rousset | Struttura microelettromeccanica con reiezione migliorata di disturbi di accelerazione |
US8151641B2 (en) | 2009-05-21 | 2012-04-10 | Analog Devices, Inc. | Mode-matching apparatus and method for micromachined inertial sensors |
US8710597B1 (en) * | 2010-04-21 | 2014-04-29 | MCube Inc. | Method and structure for adding mass with stress isolation to MEMS structures |
US8307710B2 (en) * | 2009-07-09 | 2012-11-13 | Honeywell International Inc. | Translational mass in-plane MEMS accelerometer |
US7736931B1 (en) | 2009-07-20 | 2010-06-15 | Rosemount Aerospace Inc. | Wafer process flow for a high performance MEMS accelerometer |
US8266961B2 (en) | 2009-08-04 | 2012-09-18 | Analog Devices, Inc. | Inertial sensors with reduced sensitivity to quadrature errors and micromachining inaccuracies |
US8783103B2 (en) * | 2009-08-21 | 2014-07-22 | Analog Devices, Inc. | Offset detection and compensation for micromachined inertial sensors |
US8534127B2 (en) | 2009-09-11 | 2013-09-17 | Invensense, Inc. | Extension-mode angular velocity sensor |
US9097524B2 (en) | 2009-09-11 | 2015-08-04 | Invensense, Inc. | MEMS device with improved spring system |
US8701459B2 (en) * | 2009-10-20 | 2014-04-22 | Analog Devices, Inc. | Apparatus and method for calibrating MEMS inertial sensors |
ITTO20091042A1 (it) | 2009-12-24 | 2011-06-25 | St Microelectronics Srl | Giroscopio integrato microelettromeccanico con migliorata struttura di azionamento |
US8616057B1 (en) * | 2010-01-23 | 2013-12-31 | Minyao Mao | Angular rate sensor with suppressed linear acceleration response |
DE102010038461B4 (de) * | 2010-07-27 | 2018-05-30 | Robert Bosch Gmbh | Drehratensensor und Verfahren zur Herstellung eines Masseelements |
US8656778B2 (en) | 2010-12-30 | 2014-02-25 | Rosemount Aerospace Inc. | In-plane capacitive mems accelerometer |
WO2012161690A1 (en) * | 2011-05-23 | 2012-11-29 | Senodia Technologies (Shanghai) Co., Ltd. | Mems devices sensing both rotation and acceleration |
RU2477491C1 (ru) * | 2011-08-10 | 2013-03-10 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" - Госкорпорация "Росатом" | Датчик резонаторный |
ITTO20110806A1 (it) | 2011-09-12 | 2013-03-13 | St Microelectronics Srl | Dispositivo microelettromeccanico integrante un giroscopio e un accelerometro |
JP5838749B2 (ja) | 2011-11-16 | 2016-01-06 | セイコーエプソン株式会社 | 振動子、振動デバイスおよび電子機器 |
US9212908B2 (en) | 2012-04-26 | 2015-12-15 | Analog Devices, Inc. | MEMS gyroscopes with reduced errors |
US9014975B2 (en) * | 2012-05-23 | 2015-04-21 | Vectornav Technologies, Llc | System on a chip inertial navigation system |
KR101299731B1 (ko) * | 2012-05-29 | 2013-08-22 | 삼성전기주식회사 | 각속도 센서 |
US9046547B2 (en) * | 2012-08-13 | 2015-06-02 | Pgs Geophysical As | Accelerometer having multiple feedback systems operating on a given proof mass |
KR101388814B1 (ko) * | 2012-09-11 | 2014-04-23 | 삼성전기주식회사 | 각속도 센서 |
US9341646B2 (en) | 2012-12-19 | 2016-05-17 | Northrop Grumman Guidance And Electronics Company, Inc. | Bias reduction in force rebalanced accelerometers |
KR101366990B1 (ko) * | 2012-12-28 | 2014-02-24 | 삼성전기주식회사 | 각속도 센서 |
US20140260618A1 (en) * | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Agency For Science Technology And Research (A*Star) | Force feedback electrodes in mems accelerometer |
US20140260617A1 (en) | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Agency For Science Technology And Research (A*Star) | Fully differential capacitive architecture for mems accelerometer |
US9404747B2 (en) | 2013-10-30 | 2016-08-02 | Stmicroelectroncs S.R.L. | Microelectromechanical gyroscope with compensation of quadrature error drift |
US9878901B2 (en) | 2014-04-04 | 2018-01-30 | Analog Devices, Inc. | Fabrication of tungsten MEMS structures |
JP6398348B2 (ja) * | 2014-06-12 | 2018-10-03 | セイコーエプソン株式会社 | 機能素子、機能素子の製造方法、電子機器、および移動体 |
EP2963387B1 (de) * | 2014-06-30 | 2019-07-31 | STMicroelectronics Srl | Mikroelektromechanische vorrichtung mit kompensierung von fehlern auf grundlage von störkräften, wie etwa quadraturkomponenten |
CN104501792B (zh) * | 2014-12-18 | 2016-06-22 | 东南大学 | 一种双轴分体式差分硅微谐振式加速度计 |
US10073113B2 (en) | 2014-12-22 | 2018-09-11 | Analog Devices, Inc. | Silicon-based MEMS devices including wells embedded with high density metal |
US9810535B2 (en) | 2015-02-10 | 2017-11-07 | Northrop Grumman Systems Corporation | Vibrating-mass gyroscope systems and method |
US9869552B2 (en) * | 2015-03-20 | 2018-01-16 | Analog Devices, Inc. | Gyroscope that compensates for fluctuations in sensitivity |
US9927239B2 (en) | 2015-06-01 | 2018-03-27 | Analog Devices, Inc. | Micromachined cross-hatch vibratory gyroscopes |
US10514259B2 (en) | 2016-08-31 | 2019-12-24 | Analog Devices, Inc. | Quad proof mass MEMS gyroscope with outer couplers and related methods |
US10415968B2 (en) | 2016-12-19 | 2019-09-17 | Analog Devices, Inc. | Synchronized mass gyroscope |
US10627235B2 (en) | 2016-12-19 | 2020-04-21 | Analog Devices, Inc. | Flexural couplers for microelectromechanical systems (MEMS) devices |
US10697774B2 (en) | 2016-12-19 | 2020-06-30 | Analog Devices, Inc. | Balanced runners synchronizing motion of masses in micromachined devices |
CN107063223B (zh) * | 2017-04-17 | 2019-04-30 | 东南大学 | 单片式谐振加速度计陀螺仪结构 |
JP2019007855A (ja) * | 2017-06-26 | 2019-01-17 | セイコーエプソン株式会社 | 振動デバイス、振動デバイスモジュール、電子機器および移動体 |
US10816568B2 (en) | 2017-12-26 | 2020-10-27 | Physical Logic Ltd. | Closed loop accelerometer |
US10948294B2 (en) | 2018-04-05 | 2021-03-16 | Analog Devices, Inc. | MEMS gyroscopes with in-line springs and related systems and methods |
JP7234505B2 (ja) * | 2018-04-27 | 2023-03-08 | セイコーエプソン株式会社 | 振動整流誤差補正回路、物理量センサーモジュール、構造物監視装置及び振動整流誤差補正回路の補正値調整方法 |
US11567100B2 (en) | 2019-11-07 | 2023-01-31 | Honeywell International Inc. | Vibrating beam accelerometer with additional support flexures to avoid nonlinear mechanical coupling |
US11193771B1 (en) | 2020-06-05 | 2021-12-07 | Analog Devices, Inc. | 3-axis gyroscope with rotational vibration rejection |
US11692825B2 (en) | 2020-06-08 | 2023-07-04 | Analog Devices, Inc. | Drive and sense stress relief apparatus |
US11686581B2 (en) | 2020-06-08 | 2023-06-27 | Analog Devices, Inc. | Stress-relief MEMS gyroscope |
US11698257B2 (en) | 2020-08-24 | 2023-07-11 | Analog Devices, Inc. | Isotropic attenuated motion gyroscope |
CN113484539B (zh) * | 2021-07-01 | 2023-09-05 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种静电悬浮加速度计调制及偏置电压的加载系统及方法 |
CN114354976B (zh) * | 2022-03-21 | 2022-05-20 | 成都华托微纳智能传感科技有限公司 | 一种降低边缘效应的mems加速度计 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4102202A (en) * | 1976-11-26 | 1978-07-25 | The Singer Company | Electrostatic accelerometer |
US4336718A (en) * | 1980-09-08 | 1982-06-29 | Lear Siegler, Inc. | Control circuit for accelerometer |
US4679434A (en) * | 1985-07-25 | 1987-07-14 | Litton Systems, Inc. | Integrated force balanced accelerometer |
DE3831593A1 (de) * | 1988-09-15 | 1990-03-22 | Siemens Ag | Schaltungsanordnung mit einer einer mechanischen verstimmung ausgesetzten differentialkondensator-anordnung |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3062059A (en) * | 1957-02-04 | 1962-11-06 | Litton Industries Inc | Acceleration measuring system |
US3783374A (en) * | 1972-04-07 | 1974-01-01 | Sundstrand Data Control | Capacitance difference detector circuit |
GB1583536A (en) * | 1978-03-21 | 1981-01-28 | Singer Co | Electrostatic accelerometer |
CH642461A5 (fr) * | 1981-07-02 | 1984-04-13 | Centre Electron Horloger | Accelerometre. |
US4553436A (en) * | 1982-11-09 | 1985-11-19 | Texas Instruments Incorporated | Silicon accelerometer |
FR2541775B1 (fr) * | 1983-02-28 | 1985-10-04 | Onera (Off Nat Aerospatiale) | Accelerometres a suspension electrostatique |
US4510802A (en) * | 1983-09-02 | 1985-04-16 | Sundstrand Data Control, Inc. | Angular rate sensor utilizing two vibrating accelerometers secured to a parallelogram linkage |
US4592233A (en) * | 1983-09-02 | 1986-06-03 | Sundstrand Data Control, Inc. | Angular base sensor utilizing parallel vibrating accelerometers |
US4512192A (en) * | 1983-09-02 | 1985-04-23 | Sundstrand Data Control, Inc. | Two axis angular rate and specific force sensor utilizing vibrating accelerometers |
GB2146697B (en) * | 1983-09-17 | 1986-11-05 | Stc Plc | Flexible hinge device |
US4584885A (en) * | 1984-01-20 | 1986-04-29 | Harry E. Aine | Capacitive detector for transducers |
US4699006A (en) * | 1984-03-19 | 1987-10-13 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Vibratory digital integrating accelerometer |
US4744248A (en) * | 1985-07-25 | 1988-05-17 | Litton Systems, Inc. | Vibrating accelerometer-multisensor |
JPS6293668A (ja) * | 1985-10-21 | 1987-04-30 | Hitachi Ltd | 角速度・加速度検出器 |
US4884446A (en) * | 1987-03-12 | 1989-12-05 | Ljung Per B | Solid state vibrating gyro |
US4841773A (en) * | 1987-05-01 | 1989-06-27 | Litton Systems, Inc. | Miniature inertial measurement unit |
US4766768A (en) * | 1987-10-22 | 1988-08-30 | Sundstrand Data Control, Inc. | Accelerometer with isolator for common mode inputs |
US5016072A (en) * | 1988-01-13 | 1991-05-14 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Semiconductor chip gyroscopic transducer |
JPH0672899B2 (ja) * | 1988-04-01 | 1994-09-14 | 株式会社日立製作所 | 加速度センサ |
US4945765A (en) * | 1988-08-31 | 1990-08-07 | Kearfott Guidance & Navigation Corp. | Silicon micromachined accelerometer |
JPH0623782B2 (ja) * | 1988-11-15 | 1994-03-30 | 株式会社日立製作所 | 静電容量式加速度センサ及び半導体圧力センサ |
US5025346A (en) * | 1989-02-17 | 1991-06-18 | Regents Of The University Of California | Laterally driven resonant microstructures |
US5008774A (en) * | 1989-02-28 | 1991-04-16 | United Technologies Corporation | Capacitive accelerometer with mid-plane proof mass |
US4987779A (en) * | 1989-02-28 | 1991-01-29 | United Technologies Corporation | Pulse-driven accelerometer arrangement |
US5006487A (en) * | 1989-07-27 | 1991-04-09 | Honeywell Inc. | Method of making an electrostatic silicon accelerometer |
US5241861A (en) * | 1991-02-08 | 1993-09-07 | Sundstrand Corporation | Micromachined rate and acceleration sensor |
-
1991
- 1991-01-11 US US07/640,449 patent/US5205171A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-12-23 GB GB9127233A patent/GB2251693B/en not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-01-08 DE DE4200293A patent/DE4200293C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-10 JP JP00322092A patent/JP3672937B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-10 FR FR9200196A patent/FR2672130B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-04-22 US US08/052,017 patent/US5392650A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-06-23 GB GB9412682A patent/GB9412682D0/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4102202A (en) * | 1976-11-26 | 1978-07-25 | The Singer Company | Electrostatic accelerometer |
US4336718A (en) * | 1980-09-08 | 1982-06-29 | Lear Siegler, Inc. | Control circuit for accelerometer |
US4679434A (en) * | 1985-07-25 | 1987-07-14 | Litton Systems, Inc. | Integrated force balanced accelerometer |
DE3831593A1 (de) * | 1988-09-15 | 1990-03-22 | Siemens Ag | Schaltungsanordnung mit einer einer mechanischen verstimmung ausgesetzten differentialkondensator-anordnung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2672130A1 (fr) | 1992-07-31 |
DE4200293A1 (de) | 1992-08-13 |
US5392650A (en) | 1995-02-28 |
GB9412682D0 (en) | 1994-08-10 |
GB2251693B (en) | 1995-05-03 |
JP3672937B2 (ja) | 2005-07-20 |
FR2672130B1 (fr) | 1997-04-04 |
JPH05256870A (ja) | 1993-10-08 |
GB2251693A (en) | 1992-07-15 |
US5205171A (en) | 1993-04-27 |
GB9127233D0 (en) | 1992-02-19 |
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