DE3884580T2 - Verfahren zur Züchtung von Diamant. - Google Patents

Verfahren zur Züchtung von Diamant.

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Description

  • Diese Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum chemischen Dampfabscheiden zur Herstellung von Diamantkristallen und mehr im besonderen auf ein verbessertes Verfahren zum Bilden oder Züchten von Diamantkristallen unter Einsatz von elementarem Bor als einem Mittel zur Förderung der Kernbildung und des Wachstums von Diamaritkristallen, das dazu benutzt werden kann, die Größe, Wachstumsrate und Anordnung von Kristallen größerer und geringerer Abmessung zu kontrollieren.
  • Es wird hingewiesen auf die EP-A-272 418 [Stand der Technik gemaß Artikel 54(3)EPC]. Die EP-A-272 418 offenbart ein Verfahren zur chemischen Dampfabscheidung sowie eine Vorrichtung, mittels derer die Kernbildung von Diamantkristallen auf einem erhitzten bevorzugten Metallsubstrat verursacht wird als ein Ergebnis des in Kontaktbringens einer aktivierten Gasmischung, die Wasserstoff und Kohlenwasserstoff umfaßt, mit dem erhitzten Metallsubstrat. Die Gasmischung wird vor der Diamantkristall- Bildung oder Kernbildung daraus auf dem Substrat gleich-Zeitig Mikrowellenenergie und einem erhitzten wolframfaden ausgesetzt und in ein Gasplasma umgewandelt. Diamantkristalle, die nach diesem Verfahren erhalten wurden, das als ein Verfahren zur chemischen Dampfabscheidung bezeichnet ist, hatten nach etwa 48 Stunden des Züchtungsverfahrens etwa 180 um in ihrer längeren Abmessung.
  • JP-A-59-182 300 offenbart ein Verfahren zum Herstellen von Diamant, bei dem eine Mischung aus Wasserstoff und Methan durch einen Glühfaden derart aktiviert wird, daß Diamant auf einem Substrat abgeschieden wird, das aus Metall hergestellt ist, das auf seinen Oberflächen mit Cermet oder Keramik mit mindestens einer Verbindung überzogen ist, ausgewählt aus Carbiden, Nitriden, Carbonitriden, carboxynitriden, Boriden, Borcarbid und Bornitrid von Metallen der Gruppe IV, Va und VIa, sowie Si und Al, Borcarbid und Bornitrid.
  • Eine Hauptaufgabe der Erfindung ist es,ein verbessertes Verfahren zur chemischen Dampfabscheidung zum Herstellen von Diamantkristallen kontrollierter Korngröße zu schaffen.
  • Es ist noch eine andere Aufgabe der Erfindung, ein Abscheidungsverfahren mit Gas geringen Druckes zur Herstellung von Diamant zu schaffen, bei dem ein verbessertes Substrat benutzt wird, auf dem die Diamantkristalle gebildet oder gezüchtet werden.
  • Es ist noch eine andere Aufgabe dieser Erfindung, ein verbessertes, die Kristallkernbildung unterstützendes Substrat zur Verwendung bei einem Dampf-Flüssigkeit-Feststoff-Verfahren zur chemischen Dampf abscheidung zur Herstellung von Diamantkristallen durch Auftreffen einer aktivierten Gasmischung aus Wasserstoff und Kohlenwasserstoff auf einem erhitzten Substrat zu schaffen.
  • Eine andere Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung einer Einrichtung zum Mustern eines Substrates mit Diamantkristallen gleicher oder verschiedener Größe.
  • Eine andere Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zum Züchten von Diamant auf einer durch chemische Dampfabscheidung gebildeten Schicht oder einem solchen Film von polykristallinem Diamant zu schaffen.
  • Eine andere Aufgabe ist es, ein Verfahren zur Verfeinerung der Korngröße von polykristallinem Diamant durch chemische Dampfabscheidung zu schaffen.
  • Eine andere Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zum Kontrollieren der Korngröße von polykristallinem Diamant zu schaffen, der durch ein Verfahren zum chemischen Dampfabscheiden hergestellt ist, bei dem eine Gasmischung aus Wasserstoff und Kohlenwasserstoff durch einen Glühf aden oder Mikrowellenernergie aktiviert wird.
  • Eine Gasmischung aus Wasserstoff und Kohlenwasserstoff wird in eine Reaktionskammer zur chemischen Dampf abscheidung geleitet, wo sie durch Aussetzen gegenüber Mikrowellenenergie oder einem Glühf aden aus Wolframdraht aktiviert wird, während sie sich in Kontakt mit einer borfreien Substratstruktur befindet, die eine Oberfläche umfaßt, auf der es eine wirksame Menge eines, die Kristallkernbildung und das Wachstum fördernden Materials gibt, das die Kristallkernbildung und das Wachstum von Diamantkristallen unterstützt.
  • Es wurde nun festgestellt, daß die Anwesenheit von elementarem Bor auf dem borfreien Substrat beträchtlich verbesserte Resultate und eine Fähigkeit ergibt, die Wachstumsrate, Ausbeute und Größe der auf dem Substrat gebildeten Diamantkristalle zu kontrollieren. Eine verbesserte Substratoberfläche gemäß dieser Erfindung umfaßt eine Trägeroberfläche, die vor dem Abscheidungsverfahren mit elementarem Bor behandelt worden ist. Das borfreie Substrat kann die Form eines schmalen Streifens einer Metallfolie oder eines Bleches haben, vorzugsweise eines Metalles, das selbst für die Bildung von Diamantkristal len bei einem Verfahren zur chemischen Dampfabscheidung darauf förderlich ist. Zu solchen Metallen gehören die starken Carbidbildner, besonders die hochschmelzenden Metalle Molybdän, Tantal, Silicium und Wolfram.
  • Polykristalliner Diamant kann auch auf Graphit 5oder einem Substrat aus gesintertem Diamantpulver oder auf einem Substrat aus polykristallinem Diamant, das durch chemische Dampfabscheidung gebildet wurden ist, mittels Dampfabscheidung gebildet werden. Der gesinterte oder dampf abgeschiedene Diamant wird vorteilhafterweise vor einer weiteren Abscheidungsstufe mit elementarem Bor behandelt, um die Bildung von Kristallkernbildungsstellen für die nachfolgenden Abscheidungscyclen zu fördern. Die Anwesenheit selbst einer geringen Menge von elementarem Bor auf der Oberfläche dieser Substratmaterialien stimuliert die Diamant-Kristall-Kernbildung auf den Substraten. Die Anwesenheit von elementarem Bor auf dem Substrat scheint als ein Förderer der Diamantkristall-Kernbildung zu wirken, wie durch die Anwesenheit einer großen Anzahl von Kernbildungsstellen gezeigt, wenn es benutzt wird und von weniger Kernbildungsstellen unter ähnlichen Bedingungen, wenn es nicht vorhanden ist. Die besten Ergebnisse werden bei der Ausführung dieser Erfindung erzielt, wenn das elementare Bor direkt der lumineszenten Gasmischung ausgesetzt ist. In einer bevorzugten Ausführungsform dieser Erfindung ist die Oberfläche des Substrates, die direkt der Wolframdraht-Heizeinrichtung und dem strömenden Gasstrom vom Gaseinlaßrohr ausgesetzt ist, vor dem Abscheidungsverfahren mit einer dünnen Schicht einer Mischung gewisser Materialien, einschließlich Bor, in fein zerteilter, kleinteiliger oder pulverisierter Form, überzogen worden. Die Materialien schmelzen und legen dem auftreffenden Gasstrom eine Bor enthaltende flüssige Metallschicht frei.
  • Ein verbessertes Substrat gemäß dieser Erfindung umfaßt eine sehr dünne Schicht aus feinem Teilchenmaterial einschließlich elementarem Bor auf einer Trägeroberfläche, wobei die feine Teilchenschicht direkt dem auf treffenden Gasstrom ausgesetzt ist.
  • Sehr geringe Mengen von elementarem Bor scheinen die Kristallkernbildung zu erleichtern. In einer anderen Ausführungsform dieser Erfindung war amorphes Bor aus sehr feinen Teilchen in einem Methanolträger enthalten und wurde auf die Oberfläche eines Substrates auf gebracht. Die Anwesenheit von Bor resultierte in mehr Kristallkernbildung, verglichen mit der Ausführung des Verfahrens ohne die Anwesenheit von Bor. Nicht verbundenes oder elementares Bor kann zu der Oberfläche eines Substrates hinzugegeben oder auf diese aufgebracht werden, die der lumineszenten Gasmischung ausgesetzt ist, so daß das Bor auch der Gasmischung ausgesetzt ist. Das Substrat dieser Erfindung kann als ein Trägerteil beschrieben werden, zum Beispiel ein streifen aus hochschmelzendem Metall und elementarem Bor auf mindestens einem Teil der Oberfläche des Trägerteiles. Elementares Bor kann der Oberfläche als eifte feine Teilchenschicht hinzugefügt werden oder es kann mit einem Trägermedium, das auf die Oberfläche eines Substrates aufgebracht werden soll, benutzt werden. Es ist eher bevorzugt, daß die Oberfläche eines Substrates, die dem Gasplasma ausgesetzt ist, das Bor auf seiner Oberfläche aufweist, als daß Bor in der Substratmatrix enthalten ist. Es ist vorteilhafter, elementares oder chemisch nicht gebundenes Bor zu verwenden. Wie bemerkt, können Borteilchen in einem Träger oder einem Wirtsmedium vorhanden sein, wie Methanol, das dann auf ein Substrat aufgebracht wird. Alternativ kann Bor in einem festen Material oder einer Matrix enthalten sein, das bzw. die dann mit einem Substrat verbunden wird.
  • Bor wird in Form von elementarem Bor eingesetzt, sei es kristallin oder amorph. Das Bor kann einfach mit einem flüchtigen Träger, zum Beispiel niederem Alkohol, wie Methanol oder Ethanol, auf geschlämmt und dann in irgendeinem erwünschten Muster auf die Substratoberfläche aufgestrichen oder aufgebracht werden. Es wurde festgestellt, daß die Grenze zwischen Bor tragenden Bereichen und borfreien Bereichen scharf ist, wobei zumindest anfänglich sehr viel kleinere Körner in den mit Bor behandelten Bereichen zu sehen sind. Es ist klar, daß Verwendungen, die kleine Diamantkörner erfordern, durch den Einsatz von mit Bor überzogenen Substraten einfacher bedient werden können. So können zum Beispiel Schleifpreßlinge und Maschinenwerkzeuge mit Arbeitsoberflächen versehen werden, die durch kleine Kristalle charakterisiert sind. Die Bereiche oder Zonen kleiner Körner können ein Muster variierender Gestalt und Abmessung bilden, die von benachbarten Zonen mit großen Körnern oder kornfreien Zonen unterschieden werden können. Dieses Merkmal der Erfindung kann als Korngrößenmusterung bezeichnet werden.
  • Der Begriff "Korngrößenmusterung", wie er hier benutzt wird, bedeutet ein Bilden von Mustern oder Bereichen, die durch die Korngröße der Diamantkristalle in der Fläche oder dem Bereich unterschieden sind, z.B. Bereiche mit Kristallen geringer Größe sind von Bereichen mit Diamantkristallen großer Abmessungen unterschieden. Solche Bereiche mit Kristallen geringer Größe sind als eine beträchtlich höhere Dichte der Kristallkernbildungsstellen aufweisend erkennbar, d.h. es gibt mehr Kernbildungsstellen pro Flächeneinheit und daher beträchtlich kleinere Diamantkristalle, wenn auch in größerer Zahl.
  • Überraschenderweise ist die Grenze zwischen Bor tragenden und borfreien Bereichen des Substrates scharf und klar hinsichtlich der Größe der Diamantkörner oder Kristalle. Wenn eine Kristallkernbildung in der borfreien Zone stattfindet, dann sind die Kristalle deutlich größer und leicht unterscheidbar von dem kleinkörnigen Diamant, der sich auf der Bor tragenden Oberfläche des Substrates bildet.
  • Die die Kristallkernbildung fördernde Borbehandlung kann nach irgendeinem geeigneten Verfahren an dem Substrat ausgeführt werden. So kann z.B. eine Lösung oder Aufschlämmung von Bor, z.B. amorphem Bor, in einem geeigneten Lösungsmittel oder Träger, auf die Oberfläche mittels einer Walze, einer Bürste oder einer Aufbringvorrichtung aufgebracht werden. Ein niederer aliphatischer Alkohol hat sich als ein geeigneter Träger erwiesen.
  • Siebdruck ist ein besonders wirksames Mittel zum Aufbringen des Bors in einem vorbestimmten Muster oder einer solchen Figur. Alternativ kann Bor in Pulver- oder Teilchenform direkt auf das Substrat aufgebracht werden durch Einstäuben oder es kann in Form einer haf tenden Mischung aufgebracht werden.
  • Es können all die obigen Verfahren benutzt werden, um die Anwesenheit von Bor auf der Substratoberfläche zu verursachen.
  • Wie in der EP-A-272 418 beschrieben, wird die Zugabe von Borverbindungen, wie Diboran, zur Gasmischung üblicherweise benutzt, um ein zusätzliches Element, Bor in diesem Falle, in den gebildeten Diamantkristall einzuführen und nicht dazu, Bor auf einer Substratoberfläche zu schaffen. Die Injektion von Boratomen in einen Diamantkristall ändert die elektrischen Eigenschaften des Diamantkristalls deutlich. In der vorliegenden Erfindung, die eine Anwesenheit von elementarem Bor auf einer Substratoberfläche schafft, auf der eine Diamantkristall- Kernbildung und ein Wachstum von Diamantkristallen stattfindet, beeinf lußt diese sowohl die Kristallkernbildung als auch das Wachstum deutlich.
  • Diese Erfindung schafft eine verbesserte Substratoberf läche in Form einer metallischen Substratschicht, die Bor enthält, um größere Diamantkristalle zu züchten. Weiter schafft die Verwendung einer Schicht aus Borpulver enthaltendem pulverförmigem Material auf der Oberfläche eines Substrates eine der Gasmischung ausgesetzte körnige Oberfläche und eine außerordentlich große Zunahme der Oberfläche, die der Gasmischung ausgesetzt ist, sowie eine dramatische Zunahme der Diamantkristall-Kernbildungsstellen, wobei jedes Teilchen eine Vielzahl potentieller Stellen schafft. Ein primäres Merkmal dieser Erfindung ist jedoch die Anwesenheit von Bor an der Kristallkerne bildenden Oberfläche, das die Kristallkernbildung beschleunigt oder fördert. Eine verbesserte Substratkombination schließt einen Molybdänfolienstreifen als einen Teil der Kombination, sowie die Anwesenheit von Bor, z.B. als eine pulverschicht, als dem anderen Teil ein. Es ist eine Kombination, die die Trägeroberfläche sowie den Katalysator für die Diamantkristall-Kernbildung direkt der Gasmischung aus Wasserstoff und Kohlenwasserstoff darbietet. Die Ausführung dieser Erfindung zeigt, daß Bor, in fester oder flüssiger Form, die Kristallkern-Bildung fördert. Es wird jedoch angenommen, daß es die tatsächliche Anwesenheit von Bor auf dem Substrat ist, die die fördernde Wirkung erzeugt, und daß die Form seiner Anwesenheit nicht der bedeutsame Faktor ist.
  • Diese Erfindung schafft verbesserte Substrate zum Züchten von Diamantkristallen variierender Größe mittels eines Verfahrens zur chemischen Dampfabscheidung durch Einbeziehen oder Schaffen der Anwesenheit von Bor an der Kernbildungsstelle für den Diamantkristall durch Gebrauch von feinteiligem oder pulverisiertem elementarem Bor, zumindest als ein Teil eines Substrates und vorzugsweise in Kombination mit einer Trägeroberfläche eines hochschmelzenden Metalles, wie Molybdän.
  • Im allgemeinen umfaßt eine Vorrichtung zur chemischen Dampfabscheidung, die bei der Ausführung dieser Erfindung geeignet ist, eine Reaktionskammer, die ein Substrat enthält, auf dem Diamant abgeschieden wird, sowie ein Wolfram-Widerstandselement, Einrichtungen zur Zufuhr einer Gasmischung aus Wasserstoff und Kohlenwasserstoff in die Kammer, einen Mikrowellengenerator zur Bestrahlung des Substrates und der Gasmischung in der Nähe des Substrates, sowie eine Einrichtung zum Kontrollieren des Druckes innerhalb der Reaktionskammer.
  • Mehr im besonderen umfaßt eine Vorrichtung zur chemischen Dampfabscheidung eine Reaktionskammer in Form eines Quarzrohres mit einem verschlossenen und einem gegenüberliegenden offenen Ende. Die Reaktionskammer ist innerhalb einer Mikrowellenkammer oder eines Mikrowellenhohlraumes angeordnet. Innerhalb der Reaktionskammer sind vier gleichermaßen beabstandete Molybdän-Trägerstäbe in einer quadratischen Konfiguration angeordnet, wobei sich ein Stab an jeder Ecke eines definierten Quadrates befindet. Ein Paar diagonal gegenüberliegender Stäbe trägt einen elektrischen Widerstandsfaden oder -spulenerhitzer benachbart dem verschlossenen Ende des Reaktionskammerrohres. Das andere Paar diagonal gegenüberliegender Stäbe stützt ein Substrat in einer vom verschlossenen Ende der Reaktionskammer entfernteren Position als die Heizeinrichtung. Es ist eine weite Vielfalt von Substratmaterialien verfügbar. Hochschmelzende Metalle, wie Molybdän, Rhenium, Tantal und Wolfram, sind bevorzugt. Andere zur Verwendung als ein Substrat geeignete Materialien schließen Graphit und Diamant ein. Ein Gaszufuhr- oder Einlaßrohr aus Quarz mit geringem Durchmesser erstreckt sich allgemein parallel, aber im Abstand von den Trägerstäben und benachbart dem Zentrum des durch die Trägerstäbe definierten Quadrates, in die Reaktionskammer, ohne die eizeinrichtung oder das Substrat zu berühren. Da sich das Einlaßrohr bis nahe dem verschlossenen Ende der Reaktionskammer erstreckt, ist es in einer 180º-Kurve auf sich selbst zurückgebogen so daß sein Austrittsende benachbart der Wolfram-Heizspule endet. Während die Gasmischung aus dem Gas-Einlaßrohr in die Reaktionskammer strömt, wird es dadurch, daß es mit der Heizeinrichtung bei der Glühtemperatur und/oder der Elektromagnetischen Mikrowellenenergie ausgesetzt ist, ein Glühgasplasma.
  • Die Vorrichtung ist mit einem elektromagnetischen Wellenenergie-Generator versehen, der Mikrowellenenergie in die Reaktionskammer abgibt. Um die Mikrowellenenergie in einem gewünschten Bereich zu fokussieren, kann ein Parabolref lektor benutzt werden. Es ist in diesem Bereich, in dem der Gasstrom ein lumineszentes Gasplasma wird. Komponenten und Strömungskontrolleinrichtung, um ein Gas oder eine Gasmischung einem Gaseinlaßrohr zuzuführen, können von der Art sein, wie sie allgemein bei Reaktoren zur chemischen Dampfabscheidung benutzt werden.
  • Ein Paar von Gasvorratstanks kann mittels Gasströmungs-Kontrollventilen mit einer gemeinsamen Leitung verbunden sein, wobei ein Tank nur mit Wasserstoff gefüllt ist. Der andere Tank ist mit einer Mischung von 90 Vol.-% Wasserstoff (H&sub2;)-Gas und 10 Vol.-% Methan (CH&sub4;)- Gas gefüllt. Durch Benutzen einer Mischung von Gasen in einem Tank und einem einzelnen Gas im anderen Tank können die Strömungsventile leichter eingestellt werden, um geringere und genauere Änderungen in der Gasmischung, die in die Reaktionskammer strömt, vorzunehmen. Eine Vakuumpumpe kontrolliert die Entfernung der Gase aus der Reaktionskammer und den Druck innerhalb der Reaktionskammer. Elektrische Leistung wird der Heizeinrichtung, die eine Drahtspule, z.B. aus Wolfram, Tantal, Molybdän oder Rhenium, ist, zugeführt, um seine Temperatur auf etwa 2000ºC zu erhöhen, bei der der Wolframdraht glüht. Während die Gasmischung über die glühende Heizeinrichtung streicht, kann sie gleichzeitig Mikrowellenenergie von einem Generator ausgesetzt werden, die mittels eines bewegbaren Parabolreflektors fokussiert wird. Andererseits kann Mikrowellenenergie allein benutzt werden, um die Gasmischung aus Wasserstoff und Kohlenwasserstoff anzuregen. Wie in der vorgenannten EP-A-272 418 beschrieben, führt das gleichzeitige Aussetzen der Gasströmung gegenüber der Aktivierung durch eine Heizeinrichtung aus einem glühenden Widerstandsdraht und der Mikrowellenenergie, im allgemeinen Bereich gegenüber dem Ende des Einlaßrohres und dem Substrat, zum Umwandeln des Gasstromes in ein lumineszentes Plasma mit einem hohen Grad atomaren Wasserstof fes in der Nähe des Substrates und erzeugt eine erhöhte Ausbeute an Diamantkristallen sowie größere Diamantkristalle auf dem Substrat.
  • BEISPIEL 1
  • Eine Vorrichtung zur chemischen Dampfabscheidung der oben beschriebenen Konfiguration wurde benutzt, bei der ein Molybdänfolien-Substrat als eine Trägeroberfläche für eine Schicht aus einer Mischung aus feinem Teilchenmaterial diente, das die folgenden Komponenten, in Gew.-%, umfaßte:
  • Palladium Pd 62,0%
  • Eisen Fe 5,5%
  • Nickel Ni 15,5%
  • Bor B 5,0%
  • Kohlenstoff C 2,0%
  • Die Strömungskontrollventile waren eingestellt, um eine Strömung einer Gasmischung aus 1% Methan und 99% 5wasserstoff durch das Gaseinlaßrohr zu leiten. Die Reaktionskammer war ein Quarzrohr mit einem inneren Durchmesser von 5,08 cm (2,0 Zoll). Eine Evakuierungspumpe wurde mit Energie versehen und hinsichtlich der Strömung eingestellt, so daß die Strömungsrate der Gasmischung durch den Gaseinlaß etwa 55 cm³/min betrug und der Gasdruck in der Reaktionskammer konstant bei 1,13 kPa (8,5 Torr) aufrechterhalten wurde. Eine Heizeinrichtungaus Wolframdraht, gebildet aus einem Wolframdraht von 0,508 mm (0,020 Zoll) Durchmesser, 2,54 cm (1,0 Zoll) Länge mit 18 Spulen und einem inneren Durchmesser von 3,175 mm (0,125 Zoll) , wurde mittels eines konstanten elektrischen Stromes von 27,3 Ampere mit Energie versehen. Ein Mikrowelnergie-Generator wurde mit seinem Betriebs-Energieniveau von 500 Watt versehen und ein Reflektor eingestellt, so daß der Gas strom die Spitzenlumineszens benachbart dem Substrat erreichte. Die obigen Bedingungen wurden während einer Dauer von 4 Stunden aufrechterhalten, wonach alle elektrische Leistung abgestellt, die Gasströmung beendet und das Substrat aus der Reaktionskammer herausgenommen wurde. Eine Anzahl von relativ großen Diamantkristallefl wurde mechanisch vom Substrat entfernt, wobei einige davon die folgenden allgemeinen Abmessungen in um hatten, was den Vorteil des beschriebenen Gebrauches von Bor betont, verglichen mit der Anwendung des Verfahrens zur chemischen Dampfabscheidung zur Herstellung von Diamantkristallen in Abwesenheit von Bor.
  • 120 x 20 x 30
  • 150 x 70 x 100
  • 105 x 70 x 100
  • 105 x 105 x 40
  • 75 x 75 x 100
  • 100 x 80 x 50
  • Eine Untersuchung des Substrates ergab, daß die Pulvermischung geschmolzen war und in situ eine Legierung gebildet hatte, die dann erstarrte, und daß die Diamantkristall-Kernbildung auf der geschmolzenen Metallschicht stattgefunden hatte. Die Diamantkristalle wurden mechanisch von der Metallschicht entfernt, was zeigte, daß das flüssige Metall die Oberfläche der Diamantkristalle nicht unter Erzeugung einer starken Bindung benetzt hatte, und daß die Diamantkristall-Kernbildung auf der Oberfläche der oder in der flüssigen Metallschicht stattgefunden hatte.
  • BEISPIEL 2
  • Eine Molybdänscheibe von 1,9 cm (3/4 Zoll) Durchmesser und 6,85 mm (1/4 Zoll) Dicke wurde auf einer Seite poliert. Eine Mischung von 0,196 g Natriumalginat, 0,206 g kristallinem Bor und 4 g Wasser wurde zubereitet und mittels Siebdruck auf die polierte Fläche der Scheibe aufgebracht. Das Drucksieb war ein MEG-Sieb von 12,7 cm x 12,7 cm (5 x 5 Zoll) mit einer Öffnungsweite von 75 um (Maschengröße 200). Der Drahtdurchmesser betrug 0,04 mm (1,6/1000 Zoll) und der Winkel des Drahtsiebes zum Druckhub war 22,50. ER-Harz wurde als Blockierungsmaterial für das Sieb benutzt. Das Siebmuster war eine quadratische Anordnung von 0,254 mm (10/1000 Zoll)-Linien mit 1,27 mm (50/1000 Zoll)-Zentren, die einen Gesamtdurchmesser von 2,54 cm (1 Zoll) bildeten.
  • Die siebbedruckte Scheibe wurde in einer Quarz-Reaktionskammer mit einem Durchmesser von 5,08 cm (2 Zoll), einer Vorrichtung zur chemischen Dampfabschei-
  • dung, angeordnet, und es wurde eine Mischung aus 1 Vol.-% Methan in wasserstoffgas mit einer Rate von 55 cm³/min in die Reaktionskammer eingeleitet. Der Gasdruck wurde bei etwa 1,13 kPa (8,5 Torr) aufrechterhalten.
  • Die Gasmischung wurde mit einem Wolfram-Glühfaden angeregt, der sich etwa 8 mm oberhalb der Scheibe befand und durch den ein konstanter Strom von 25 Ampere geleitet wurde. Der Faden war 2,54 cm (1 Zoll) lang, geformt durch Wickeln von 18 Windungen auf einem Dorn von 3,175 mm (1/8 Zoll) Durchmesser.
  • Die Reaktionskammer war innerhalb eines 500 Watt-Mikrowellenofens angeordnet, der auf hohe Leistung eingestellt war. Es wurde ein Parabol-Aluminiumreflektor benutzt, um die Mikrowellenenergie in die Reaktionskammer in die Nähe der Scheibe und des erhitzten Fadens zu fokussieren.
  • Die Reaktionsbedingungen wurden 5 Stunden lang aufrechterhalten, während dieser Zeit wurde die Temperatur der Scheibe im Bereich von 800 bis 900ºC gehalten.
  • Es bildeten sich schwarze Diamantkristallkerne und wuchsen auf den gedruckten Borlinien. In den unbedruckten Bereichen war die Diamantkristall-Kernbildung statistisch, und die Dichte der Diamantkörner war sehr viel geringer. Der mittlere Durchmesser der Diamantkristalle betrug 25,4 um bis 38,1 um (1/1000 bis 1,5/1000 Zoll)
  • BEISPIEL 3
  • Ein Substrat aus polykristallinein Diamant, hergestellt durch Sintern von Diamantpulver unter Druck, wurde teilweise mit amorphem Bor in Ethylalkohol überzogen durch streichen der Bor-Aufschlämmung auf eine Hälfte der substratoberf läche mit einem Baumwollappen. Man ließ den Alkohol bei Raumtemperatur in umgebungsluft verdampfen. Das Substrat wurde dann in einer Vorrichtung zur chemischen Dampfabscheidung angeordnet, wie sie oben beschrieben ist und unter den folgenden Bedingungen betrieben.
  • Strömungsraten: Querschnittsfläche = 100 cm²
  • Total = 210 cm³/min
  • 100 H&sub2; = 175 cm³/min
  • 10% CH&sub4; in H&sub2; = 35 cm³/min
  • Lineare Strömungsrate = 2 cm/min
  • Glühfaden = 7,62 mm (0,030 Zoll) 218-Wolframdraht von 20 cm (7 7/8 Zoll) Länge vertikaler Faden
  • Trennung Faden-Substrat = 8,5 mm
  • Fadentemperatur = 2.200ºC
  • Ampere = 52 A
  • Volt = 28 V
  • Druck = 1,19 kPa (9 mmHg&supmin;&sup9; Torr)
  • Versuchsdauer = 70 Stunden
  • Wachstumsrate = 1,7 um/h (1,7 x 10&supmin;&sup4; cm/h)
  • Dicke = 112 um (0,0112 cm)
  • Diamantkristallgröße ohne Uberzug = 75 um
  • Diamantkristallgröße mit Borüberzug < 15 um
  • Die Untersuchung des abgeschiedenen Diamantüberzuges zeigte, daß der nicht überzogene Teil des Substrates große Kristalle aufwies, von denen einige bis zu 1/4 mm quer aufwiesen. Die mittlere Korngröße betrug etwa 75 um. Die Grenze zwischen mit Bor überzogenen und nicht überzogenen Bereichen des Substrates war scharf und gut definiert, ohne Anzeichen eines Bortransportes. Die Diamantkorngröße auf dem mit Bor überzogenen Bereich betrug 1/2 bis 15 um.
  • Die in den Beispielen 1 bis 3 beschriebenen Bedingungen werden als repräsentativ für Bedingungen angesehen, die geeignet sind für die Diamantzüchtung gemäß der vorliegenden Erfindung. Die Variation von Strom, Strömungsrate, Spannung , Druck und ähnlichem kann erfolgen, um das Verfahren für spezifische Ergebnisse und Techniken zu optimieren, bei denen Widerstands- und Mikrowellen-Anregung separat oder gleichzeitig benutzt werden.
  • BEISPIEL 4
  • Dieses Beispiel beschreibt die Herstellung eines polykristallinen Mehrschichtaggregats, gekennzeichnet durch abnehmende Korngröße in jeder aufeinanderfolgenden Schicht abgeschiedenen Diamants, erhalten durch erneutes Überziehen der vorhergehenden Diamantschicht mit Bor, gefolgt von der Abscheidung der nächsten Diamantschicht. In jedem Falle war der Diamant der vorhergehenden Schicht das Substrat für die folgende Schicht, ausgenommen für die erste Diamantschicht, die auf einem mit Bor behandelten Molybdänsubstrat abgeschieden worden war.
  • Das Molybdän-Ausgangssubstrat war ein Blech von 0,381 mm x 3,175 cm x 22,86 cm (0,015 x 1,25 x 9 Zoll), das mit Bor überzogen worden war, das in Ethanol aufgeschlämmt war. Das behandelte Substrat wurde parallel zu einem Wolframfaden, der auf eine Temperatur von etwa 2.000ºC gebracht wurde, aufgehängt. Eine Mischung aus Wasserstoff und Methan (1%) wurde mit einer Strömungsrate von etwa 157 cm³/min durch das System geleitet. Nach einer Abscheidungsperiode bestimmter Zeit wurde das mit Diamant überzogene Substrat aus der Kammer herausgenommen und, wie vorher, mit Bor überzogen und dann in seine Position in der Kammer zur Abscheidung der nächsten Diamantschicht zurückgebracht. Diese Prozedur wurde mehrmals wiederholt, um eine Reihe aufeinanderfolgender Schichten unter im wesentlichen den gleichen Abscheidungsbedingungen zu schaffen, ausgenommen die Korngröße der vorhergehenden Diamantschicht.
  • Die Untersuchung der Diamant schichten mittels Lichtmikroskopie zeigte eine nachweisbare Veringerung der Größe der Diamantkörner oder -kristalle, die jede aufeinanderfolgende Schicht bildeten, bezogen auf die Anwesenheit einiger Körner von etwa 5 um Größe in der ersten Schicht, bis zu Körnern von etwa 2 bis 3 um in der zweiten Schicht, bis zu Körnern von Submicron-Größe in den folgenden Schichten.
  • Das Verfahren von Beispiel 4 wurde im wesentlichen wiederholt, ausgenommen, daß die Mikrowellen-Anregung allein unter Bedingungen benutzt wurde, die im wesentlichen die im Beispiel 1 beschriebenen waren, um zu demonstrieren, daß die Mikrowellenenergie und die Borbehandlung brauchbar waren für die Verfeinerung der Korngröße der auf einanderfolgenden Schichten von durch chemische Dampfabscheidung gebildetem Diamant. Die lichtmikroskopische Untersuchung des resultierenden Verbundstof fes zeigte eine auf einanderfolgende Verringerung der mittleren Korngröße, wie in Beispiel 4 beschrieben.

Claims (5)

1. Ein Verfahren zum Herstellen von Diamant durch einen Prozeß zum chemischen Dampfabscheiden, umfassend die Schaffung eines borfreien Substrates, Behandeln der Ober-fläche des genannten Substrates, auf der Diamant abge-schieden werden soll, vor dem Abscheidungsprozeß, mit elementarem Bor, um die Kristallkernbildung von Diamant zu fördern und
nachfolgendes Anregen einer Mischung aus Wasserstoff und einem Kohlenwasserstoffgas, indem man sie einem Glühfaden aus hochschmelzendem Metall und/oder Mikrowellenstrahlung aussetzt, während sie sich in Kontakt mit der behandelten Oberfläche des Substrates befindet.
2. Das Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Gasmischung durch Aktivierung, indem man sie Mikrowellenstrahlung aussetzt, in ein lumineszentes Gasplasma umgewandelt wird.
3. Das Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das elementare Bor in Form einer Mischung teilchenförmiger Materialien, umfassend Eisen, Nickel, Palladium, Bor und Kohlenstoff, auf die Substratoberfläche aufgebracht wird.
4. Das Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das elementare Bor in Form einer Aufschlämmung von elementarem Bor in einem Träger aus einem niederen aliphatischen Alkohol auf die Substratoberfläche aufgebracht wird.
5. Das Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das genannte Substrat ausgewählt ist aus Graphit, gesintertem Diamantpulver, Wolfram, Rhenium, Molybdän, Tantal, Niob und Silicium.
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