DE3820595A1

DE3820595A1 - Organische salze enthaltend zwei bis vier cyclische oder acyclische amidinreste und ihre verwendung als basenvorlaeufer, insbesondere in waermeentwickelbarem aufzeichnungsmaterial

Info

Publication number: DE3820595A1
Application number: DE19883820595
Authority: DE
Inventors: Yoshiharu Yabuki; Taku Nakamura
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1987-06-17
Filing date: 1988-06-16
Publication date: 1989-01-05
Anticipated expiration: 2008-06-17
Also published as: DE3820595C2; GB2208166A; JPS63316760A; GB8814516D0; GB2208166B; JPH0759545B2

Description

Die Erfindung betrifft einen Basenvorläufer in Form eines Salzes einer organischen Base mit einer Carbonsäure sowie ein Verfahren zur Herstellung einer organischen Base aus diesem Basenvorläufer.

Basen sind Reagenzien, die in großem Umfange für verschiedene Reaktionen, wie z. B. Hydrolysereaktionen, Polymerisationsreaktionen, Farbbildungsreaktionen, Redoxreaktionen, Neutralisationsreaktionen und dgl., verwendet werden. So ist beispielsweise bei verschiedenen Aufzeichnungsmaterialien, wie z. B. photographischen Silbersalzmaterialien und photographischen Diazotypie-Materialien, während des Bilderzeugungsprozesses eine Base erforderlich.

Ein Bild kann auf einem Aufzeichnungsmaterial erzeugt werden unter Anwendung eines Naßentwicklungsverfahrens unter Verwendung einer Behandlungslösung (Entwicklerlösung) oder eines Trockenentwicklungsverfahrens, beispielsweise eines Wärmeentwicklungsverfahrens. Wenn ein Bild unter Anwendung eines nassen Verfahrens, wie z. B, eines Naßentwicklungsverfahrens, erzeugt wird, kann in der Entwicklerlösung eine Base enthalten sein. Wenn andererseits ein Bild unter Anwendung eines trockenen Verfahrens erzeugt wird, wird die Base vorher einem Aufzeichnungsmaterial einverleibt. Die dem Aufzeichnungsmaterial einverleibte Base bringt jedoch manchmal Probleme mit sich in bezug auf die Stabilität des Aufzeichnungsmaterials. Die Base kann beispielsweise die anderen Bestandteile in dem Aufzeichnungsmaterial in nachteiliger Weise beeinflussen oder die Base selbst kann während der Lagerung des Aufzeichnungsmaterials beeinträchtigt werden.

Um die obengenannten Probleme zu eliminieren, wurde bereits vorgeschlagen, anstelle der Base einen Basenvorläufer zu verwenden. Der Basenvorläufer ist eine neutrale oder schwach basische Verbindung und kann während des Bilderzeugungsverfahrens eine Base bilden. In einem wärmeentwickelbaren Aufzeichnungsmaterial wird vorzugsweise ein Basenvorläufer vom Wärmezersetzungs-Typ verwendet.

Es sind bereits verschiedene Arten von Basenvorläufern vom Wärmezersetzungs-Typ untersucht und vorgeschlagen worden. Ein typisches Beispiel für einen Basenvorläufer vom Wärmezersetzungs- Typ ist ein Salz einer organischen Base mit einer Carbonsäure. Die Basenvorläufer in Form eines Salzes einer organischen Base mit einer Carbonsäure sind in der US-PS 34 93 374 (Triazinverbindung und Carbonsäure) und GB-PS 9 98 949 (Trichloracetat), in der vorläufigen japanischen Patentpublikation 59 (1984)-180 537 (Propiolat) (entsprechend der US-PS 45 60 763) und in der vorläufigen japanischen Patentpublikation 61 (1986)-51 139 (Sulfonylacetat) beschrieben. Diese Basenvorläufer setzen eine Base frei, wenn die Carboxylgruppe in der Carbonsäure bei einer erhöhten Temperatur einer Decarboxylierung unterliegt.

Man ist nun seit langem bestrebt, einen Basenvorläufer zu finden, der während der Lagerung stabil ist, beim Erhitzen jedoch schnell zersetzt wird unter Bildung einer Base. In den vorgenannten Publikationen ist die Hauptaufmerksamkeit gerichtet auf eine Decarboxylierung der Carboxylgruppe der Carbonsäure und in erster Linie wird die Carbonsäure untersucht. Diese Basenvorläufer erfüllen jedoch nicht vollständig die beiden Anforderungen in bezug auf Stabilität während der Lagerung und schnelle Bildung einer Base.

Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, einen Basenvorläufer zu finden, der während der Lagerung (bei Raumtemperatur) sehr stabil ist und beim Erhitzen schnell eine Base freisetzt. Ziel der Erfindung ist es ferner, ein Verfahren zur Bildung einer Base zu schaffen, bei dem die Base aus einem sehr stabilen Basenvorläufer schnell gebildet wird.

Gegenstand der Erfindung ist ein Basenvorläufer in Form eines Salzes einer organischen Base mit einer Carbonsäure, der dadurch gekennzeichnet ist, daß die organische Base eine disäurige bis tetrasäurige Base ist, die aus 2 bis 4 Amidinresten und mindestens einem Rest eines Kohlenwasserstoffs oder eines heterocyclischen Ringes als verbindender Gruppe für die Amidinreste aufgebaut ist, wobei der Amidinrest einer Atomgruppe entspricht, die gebildet wird, wenn man ein oder zwei Wasserstoffatome von einem Amidin der nachstehend angegebenen allgemeinen Formel (I) entfernt:

worin bedeuten:

R¹, R² R³ und R⁴ unabhängig voneinander jeweils eine monovalente Gruppe, die ausgewählt wird aus der Gruppe, die besteht aus Wasserstoff, einer Alkylgruppe, einer Alkenylgruppe, einer Alkinylgruppe, einer Cycloalkylgruppe, einer Aralkylgruppe, einer Arylgruppe und einer heterocyclischen Gruppe, wobei jede dieser Gruppen eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen kann und jeweils zwei der Reste R¹, R², R³ und ⁴ miteinander kombiniert sein können unter Bildung eines 5gliedrigen oder 6gliedrigen heterocyclischen Ringes, der aus Stickstoff- und Kohlenstoffatomen besteht.

Gegenstand der Erfindung ist ferner ein Verfahren zur Herstellung einer Base, das dadurch gekennzeichnet ist, daß ein Basenvorläufer in Form eines Salzes einer organischen Base mit einer Carbonsäure, bei dem die organische Base des Basenvorläufers eine disäurige bis tetrasäurige Base ist, die aus 2 bis 4 Amidinresten und mindestens einem Rest eines Kohlenwasserstoffs oder eines heterocyclischen Ringes als verbindender Gruppe für die Amidinreste aufgebaut ist, wobei der Amidinrest einer Atomgruppe entspricht, die beim Entfernen von einem oder zwei Wasserstoffatomen von einem Amidin mit der oben angegebenen Formel (I) entsteht, erhitzt wird.

Der erfindungsgemäße Basenvorläufer ist dadurch charakterisiert, daß die organische Base 2 bis 4 Amidinreste aufweist, die von dem Amidin der allgemeinen Formel (I) abgeleitet sind.

Es wurde nun gefunden, daß zur Verbesserung des Basenvorläufers, der aus einer Carbonsäure und einer organischen Base besteht, die Hauptaufmerksamkeit mehr auf die organische Base als auf die Carbonsäure gerichtet werden muß. Nach umfangreichen Untersuchungen wurde ein Basenvorläufer gefunden, der allen Anforderungen genügt, wenn als organische Base die vorstehend beschriebene disäurige bis tetrasäurige Base verwendet wird. Der dabei erhaltene Basenvorläufer ist während der Lagerung sehr stabil und setzt bei erhöhter Temperatur schnell eine Base frei. Dieser überraschende Effekt wird nachstehend näher erläutert.

Das Salz, das aus einer disäurigen, trisäurigen oder tetrasäurigen Base und einer Carbonsäure besteht, weist eine stabile Kristallstruktur auf, verglichen mit einem Salz, bei dem die organische Base eine monosäurige Base ist. Insbesondere dann, wenn die disäurige bis tetrasäurige Base eine symmetrische Struktur hat, ist die Kristallstruktur sehr stabil.

Außerdem wird häufig eine funktionelle Gruppe, welche die Decarboxylierung beschleunigt, wie z. B. eine Arylgruppe, in die Carbonsäure des Basenvorläufers eingeführt. Daher weist die Carbonsäure im allgemeinen einen hydrophoben Rest auf. In einem Salz, der aus der Carbonsäure mit einem hydrophoben Rest und der disäurigen bis tetrasäurigen Base besteht, ist eine Vielzahl der hydrophoben Reste in der Carbonsäure über ionische Bindungen um die organische Base herum angeordnet. Die Base ist somit im Zentrum des Salzes angeordnet, das von den hydrophoben Resten der Carbonsäure umgeben ist. Die obengenannte Struktur ist viel stabiler als die Struktur eines Salzes, bei dem die organische Base eine monosäurige Base ist, in der die organische Base und der hydrophobe Rest der Carbonsäure an beiden Enden der Struktur über eine ionische Bindung angeordnet sind.

Es wurde nun gefunden, daß der Basenvorläufer, bestehend aus einer Carbonsäure und einer organischen Base, in einem Bindemittel, das in einem Aufzeichnungsmaterial enthalten ist, bei einer erhöhten Temperatur schmilzt oder darin gelöst wird und daß dann die Decarboxylierung der Carbonsäure initiiert wird. Der erfindungsgemäße Basenvorläufer hat eine stabile Kristallstruktur, wie vorstehend beschrieben. Daher wird die Kristallstruktur des Basenvorläufers beibehalten, bis er bei einer erhöhten Temperatur schmilzt oder gelöst wird. Die Carbonsäure wird deshalb schnell decarboxyliert unter Freisetzung einer Base zum gleichen Zeitpunkt wie die Kristallstruktur zerbricht.

Wenn die Carbonsäure einen hydrophoben Rest aufweist, sind die Carboxylgruppe der Carbonsäure und die organische Base durch den hydrophoben Rest in dem erfindungsgemäßen Basenvorläufer blockiert. Der hydrophobe Rest verhindert demnach, daß der Basenvorläufer in einem Bindemittel (das im allgemeinen hydrophil ist) gelöst wird. Die Kristallstruktur des Salzes wird weiter stabilisiert durch eine intramolekulare Wechselwirkung zwischen den hydrophoben Resten. Deshalb weist der erfindungsgemäße Basenvorläufer eine viel höhere Stabilität während der Lagerung auf, wenn die Carbonsäure hydrophobe Reste aufweist.

Die von einem Amidin der Formel (I) abgeleitete disäurige bis tetrasäurige Base wird als organische Base in dem erfindungsgemäßen Basenvorläufer verwendet. Der erfindungsgemäße Basenvorläufer setzt daher das Amidinderivat frei, das eine starke Base ist, so daß die freigesetzte Base in verschiedenen Systemen eine starke Wirkung aufweist, in denen eine Base erforderlich ist, z. B. in einem Aufzeichnungsmaterial.

Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigt

Fig. 1 bis 5 Diagramme, welche die Ergebnisse der Messung von Änderungen des pH-Wertes der Proben während des Erhitzens darstellen, in denen auf der Abszisse die Erhitzungsdauer und auf der Ordinate der pH-Wert aufgetragen sind;

Fig. 6 ein Diagramm, das die Ergebnisse der Messung der Änderungen des pH-Wertes der Proben während der Lagerung darstellt, wobei auf der Abszisse die Lagerungsdauer und auf der Ordinate der pH-Wert aufgetragen sind; und

Fig. 7 ein Diagramm, das die Ergebnisse der Messung der Änderungen des pH-Wertes der Proben während des Erhitzens nach der Lagerung zeigt, wobei auf der Abszisse die Erhitzungsdauer und auf der Ordinate der pH-Wert aufgetragen sind.

Der erfindungsgemäße Basenvorläufer liegt in Form eines Salzes einer organischen Base mit einer Carbonsäure vor. Die organische Base weist 2 bis 4 Amidinreste in ihrer Molekülstruktur auf. Der Amidinrest entspricht einer Atomgruppe, die gebildet wird, wenn man ein oder zwei Wasserstoffatome von einem Amidin der folgenden allgemeinen Formel (I) entfernt.

In der vorstehenden Formel (I) bedeuten R¹, R², R³ und R⁴ unabhängig voneinander jeweils eine monovalente Gruppe, wie z. B. Wasserstoff, eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe und eine heterocyclische Gruppe. Jede der monovalenten Gruppen kann eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen. Unter ihnen sind Wasserstoff, eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Aralkylgruppe und eine Arylgruppe bevorzugt. Die Alkylgruppe, die Alkenylgruppe und die Alkinylgruppe weisen vorzugsweise jeweils 1 bis 6 Kohlenstoffatome auf. Ein Beispiel für eine geeignete Cycloalkylgruppe ist eine Cyclohexylguppe. Ein Beispiel für eine geeignete Aralkylgruppe ist eine Benzylgruppe. Ein Beispiel für eine geeignete Arylgruppe ist eine Phenylgruppe.

Jeweils zwei der Reste R¹, R², R³ und R⁴ können miteinander kombiniert sein unter Bildung eines 5gliedrigen oder 6gliedrigen heterocyclischen Ringes, der aus Stickstoff- und Kohlenstoffatomen besteht (die 5 oder 6 Glieder des Ringes sind nur Stickstoff- und Kohlenstoffatome). Es ist besonders bevorzugt, daß R¹ und R² miteinander kombiniert sind unter Bildung eines cyclischen Amidins der allgemeinen Formel

In der obigen Formel (I-2) steht R¹⁵ für eine divalente Gruppe, wie z. B. Ethylen, Propylen, Vinylen und Propenylen. Jede der divalenten Gruppen kann eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen. Unter ihnen sind Ethylen und Propylen bevorzugt und Propylen ist am meisten bevorzugt. Das heißt mit anderen Worten, daß das cyclische Amidin der Formel (I-2) vorzugsweise bedeutet 2-Imidazolin, 1,4,5,6-Tetrahydropyrimidin oder ein Derivat davon und insbesondere 1,4,5,6- Tetrahydropyrimidin oder Derivate davon.

R¹⁶ hat die gleichen Bedeutungen wie R³ in der Formel (I). Es ist besonders bevorzugt, daß R¹⁶ für Wasserstoff oder eine Alkylgruppe steht.

R¹⁷ hat die gleiche Bedeutung wie R⁴ in der Formel (I). Es ist besonders bevorzugt, daß R¹⁷ für Wasserstoff steht.

Ein anderer heterocyclischer Ring, aliphatischer Ring (wie z. B. Cyclohexan) und/oder aromatischer Ring kann mit dem cyclischen Amidin der Formel (I-2) kondensiert sein.

Erfindungsgemäß ist die organische Base des Basenvorläufers eine disäurige bis tetrasäurige Base, die aus 2 bis 4 Amidinresten, die einer Atomgruppe entsprechen, die beim Entfernen von 1 oder 2 Wasserstoffatomen aus dem obengenannten Amidin entsteht, und mindestens einer verbindenden Gruppe für die Amidinreste besteht. Die verbindende Gruppe ist ein Rest eines Kohlenwasserstoffs oder eines heterocyclischen Ringes. Die verbindende Gruppe kann eine oder mehr Sibstituentengruppen aufweisen.

Der Amidinrest ist vorzugsweise eine monovalente Substituentengruppe eines Kohlenwasserstoffs oder heterocyclischen Ringes, wie in der nachstehenden Formel (II) angegeben. Das heißt mit anderen Worten, es ist bevorzugt, daß der Amidinrest einer Atomgruppe entspricht, die beim Entfernen eines Wasserstoffatoms aus einem Amidin der Formel (I) entsteht. Der Amidinrest kann aber auch einer Atomgruppe entsprechen, die beim Entfernen von zwei Wasserstoffatomen aus einem Amidin der Formel (I) entsteht. In diesem Falle kann die organische Base in Form eines kondensierten heterocyclischen Ringes (z. B. eines tricyclischen kondensierten Ringes) vorliegen.

In dem erfindungsgemäßen Basenvorläufer hat die disäurige bis tetrasäurige Base vorzugsweise die folgende Formel

R⁵(-B)_n (II)

In der Formel (II) steht R⁵ für einen n-valenten Rest eines Kohlenwasserstoffs oder heterocyclischen Ringes. n steht für eine ganze Zahl von 2 bis 4, vorzugsweise für die Zahl 2 oder 4, insbesondere für die Zahl 2. Wenn n=2, ist es bevorzugt, daß der divalente Rest des Kohlenwasserstoffs, der R⁵ darstellen kann, eine Alkylengruppe (insbesondere eine solche mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen) oder eine Arylengruppe (insbesondere eine Phenylgruppe) ist. Ein Beispiel für den Rest des heterocyclischen Ringes, der durch R⁵ repräsentiert sein kann, ist ein von einem Pyridinring abgeleiteter Rest.

Die disäurige bis tetrasäurige Base der Formel (II) ist vorzugsweise symmetrisch. In der vorliegenden Erfindung bedeutet der Ausdruck "symmetrische organische Base", daß alle durch B dargestellten Gruppen in der Molekülstruktur der organischen Base äquivalent sind. Dies bedeutet konkret ausgedrückt, daß kein Isomeres gebildet wird, selbst wenn die durch B dargestellten Gruppen durch andere (verschiedene) Gruppen ersetzt werden.

In der Formel (II) ist die durch B dargestellte Gruppe eine monovalente Gruppe, die einer Atomgruppe entspricht, die beim Entfernen eines Wasserstoffatoms von einem Amidin der Formel (I) gebildet wird.

Es besteht keine spezifische Beschränkung in bezug auf die Position des Wasserstoffatoms, das entfernt werden soll. Wenn jedoch R⁴ in der Formel (I) für Wasserstoff steht, wird vorzugsweise das R⁴ entsprechende Wasserstoffatom entfernt. Das heißt mit anderen Worten, es ist besonders bevorzugt, daß die durch die Formel (II) dargestellte organische Base eine disäurige bis tetrasäurige Base der allgemeinen Formel ist:

In der Formel (II-1) haben R²¹, R²² und R²³ die gleichen Bedeutungen wie R¹, R² und R³ in der Formel (I). R²⁴ und n haben die gleichen Bedeutungen wie R⁵ und n in der Formel (II).

Jeweils zwei der Reste R²¹, R²² und R²³ können miteinander kombiniert sein unter Bildung eines 5gliedrigen oder 6gliedrigen heterocyclischen Ringes, der aus Stickstoff- und Kohlenstoffatomen besteht. Es ist besonders bevorzugt, daß R²¹ und R²² miteinander kombiniert sind unter Bildung einer disäurigen bis tetrasäurigen Base mit der nachstehend angegebenen allgemeinen Formel

In der Formel (II-2) haben R²⁵ und R²⁶ die gleichen Bedeutungen wie R¹⁵ und R¹⁶ in der Formel (I-2). R²⁷ und n haben die gleichen Bedeutungen wie R⁵ und n in der Formel (II).

Beispiele für organische Basen, die in dem erfindungsgemäßen Basenvorläufer verwendet werden können, sind folgende:

Die Carbonsäure des erfindungsgemäßen Basenvorläufers sollte die Eigenschaft haben, daß die Carboxylgruppe unter bestimmten Bedingungen einer Decarboxylierung unterliegt. Eine Carboxylgruppe hat jedoch im allgemeinen die obengenannte Eigenschaft, so daß verschiedene Arten von Carbonsäuren in dem erfindungsgemäßen Basenvorläufer verwendet werden können.

Wenn der erfindungsgemäße Basenvorläufer für ein wärmeentwickelbares Aufzeichnungsmaterial verwendet wird, ist es bevorzugt, daß die Carboxylgruppe bei einer erhöhten Temperatur einer Decarboxylierung unterliegt. Die für die Decarboxylierung der Carboxylgruppe erforderliche Temperatur liegt vorzugsweise in dem Bereich von 80 bis 250°C, insbesondere in dem Bereich von 110 bis 200°C.

Zu Beispielen für geeignete Carbonsäuren mit der obengenannten Eigenschaft gehören Trichloressigsäure, Propiolsäure und Sulfonylessigsäure, wie sie in den auf Seite 10 genannten Publikationen beschrieben sind. Vorzugsweise weist die Carbonsäure eine funktionelle Gruppe auf, welche die Decarboxylierung beschleunigt, beispielsweise eine Arylgruppe oder eine Arylengruppe, wie oben angegeben. Die Carbonsäure ist vorzugsweise eine Sulfonylessigsäure mit der nachstehend angegebenen allgemeinen Formel (III-1) oder eine Propiolsäure mit der nachstehend angegebenen allgemeinen Formel (III-2).

In der Formel (III-1) stehen R³¹ und R³² jeweils für eine monovalente Gruppe, wie z. B. Wasserstoff, eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe und eine heterocyclische Gruppe. Jede der monovalenten Gruppen kann eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen. Unter ihnen sind Wasserstoff, eine Alkylgruppe und eine Arylgruppe bevorzugt. Die Alkylgruppe, die Alkenylgruppe und die Alkinylgruppe weisen jeweils vorzugsweise 1 bis 8 Kohlenstoffatome auf.

In der Formel (III-1) steht k für die Zahl 1 oder 2. Wenn k=1, steht Y für eine monovalente Gruppe, wie z. B. eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe und eine heterocyclische Gruppe. Unter ihnen sind eine Arylgruppe und eine heterocyclische Gruppe bevorzugt und eine Arylgruppe ist besonders bevorzugt. Die monovalenten Gruppen können jeweils eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen. Zu Beispielen für eine geeignete Substituentengruppe für die Arylgruppe gehören ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine Alkoxylgruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe, eine Acylaminogruppe, eine Carbamoylgruppe und eine Sulfamoylgruppe.

Wenn k=2, steht Y für eine divalente Gruppe, wie z. B. eine Alkylengruppe, eine Arylengruppe und eine heterocyclische Gruppe. Jede der divalenten Gruppen kann eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen. Unter ihnen sind eine Arylengruppe und eine heterocyclische Gruppe bevorzugt und eine Arylengruppe ist besonders bevorzugt. Beispiele für die Substituentengruppen für die Arylengruppe sind die gleichen wie diejenigen, wie sie oben für die Arylgruppe angegeben worden sind.

Z(-C≡C-CO₂H)_m (III-2)

In der Formel (III-2) steht m für die Zahl 1 oder 2. Wenn m=1, steht Z für eine monovalente Gruppe, wie z. B. Wasserstoff, eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe, eine heterocyclische Gruppe und eine Carboxylgruppe. Jede der monovalenten Gruppen kann eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen. Unter ihnen ist eine Arylgruppe besonders bevorzugt.

Wenn m=2, steht Z für eine divalente Gruppe, wie z. B. eine Alkylengruppe, eine Arylengruppe und eine heterocyclische Gruppe. Jede der divalenten Gruppen kann eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen. Unter ihnen ist eine Arylengruppe besonders bevorzugt.

Geeignete Beispiele für die Carbonsäure sind folgende:

Der erfindungsgemäße Basenvorläufer liegt in Form eines Salzes vor, das aus der obengenannten Carbonsäure und einer organischen Base besteht. Es besteht keine spezifische Beschränkung in bezug auf die Kombination aus Carbonsäure und organischer Base. Es ist jedoch bevorzugt, daß das Salz der Carbonsäure und der organischen Base einen Schmelzpunkt von 50 bis 200°C, besonders bevorzugt von 80 bis 120°C, hat.

Konkrete Beispiele für erfindungsgemäße Basenvorläufer sind nachstehend angegeben, es sei jedoch darauf hingewiesen, daß die Erfindung keineswegs darauf beschränkt ist.

Nachstehend werden Synthesebeispiele für die Basenvorläufer (3) und (5) angegeben. Die anderen Basenvorläufer können auf ähnliche Weise wie in den Synthesebeispielen beschrieben synthetisiert werden.

Synthesebeispiel 1 Synthese von 1-Naphthalinsulfonylchlorid

In einem gemischten Lösungsmittel aus 260 ml Acetonitril und 7 ml Dimethylacetamid wurden 133 g Natrium-α-naphthalinsulfonat suspendiert. Unter Kühlen der Suspension mit Wasser wurden 80 ml Phosphoroxychlorid zu der Suspension zugetropft. Nach der Zugabe wurde die Mischung 1 Stunde lang bei 65°C reagieren gelassen. Die Reaktionsmischung wurde abgekühlt und in 2 l eiskaltes Wasser gegossen. Die ausgefallenen gräulichweißen Kristalle wurden durch Filtration abgetrennt und an der Luft getrocknet. Die Ausbeute betrug 110,8 g (84,6% der Theorie), F. 66 bis 68°C.

Synthese von 1-Naphthalinsulfinsäure

Zu 500 ml einer wäßrigen Lösung von 122 g Natriumsulfit wurden 110 g α-Naphthalinsulfonylchlorid zugegeben. Unter Kühlen der Mischung mit Wasser wurde eine 20%ige wäßrige Lösung von 36 g Natriumhydroxid zu der Mischung zugetropft, um so die Reaktionsmischung bei einem pH-Wert von etwa 8 zu halten. Nach etwa 1 Stunde wurde die Reaktionsmischung einheitlich. Zu der Mischung wurden 135 ml 35%ige Chlorwasserstoffsäure zugetropft. Die gebildeten gräulich-weißen Kristalle wurden durch Filtrieren abgetrennt und an der Luft getrocknet. Die Ausbeute betrug 91,4 g (98% der Theorie).

Synthese von 1-Naphthylsulfonylessigsäure )A-9)

In 45 ml Isopropylalkohol wurden 44 g 1-Naphthalinsulfinsäure, 17,4 g Kaliumcarbonat und 34,4 g Isopropylchloroacetat suspendiert. Die Suspension wurde 3 Stunden lang unter Rückfluß erhitzt. Die Reaktionsmischung wurde abgekühlt und es wurde eine 20%ige wäßrige Lösung von 13,8 g Natriumhydroxid zu der Mischung zugegeben. Die Mischung wurde 1 Stunde lang gerührt. Die resultierende Lösung wurde mit 58 ml Wasser verdünnt. Zu der Lösung wurden 58 ml Chlorwasserstoffsäure zugegeben. Die ausgefallenen Kristalle wurden durch Filtrieren abgetrennt und an der Luft getrocknet. Die Ausbeute betrug 54,9 g (95,8% der Theorie).

Die rohen Kristalle wurden aus 165 ml Acetonitril umkristallisiert, um sie zu reinigen. Die Ausbeute betrug 44 g, F. 168 bis 172°C.

Synthese einer organischen Base (B-1)

In 600 ml Toluol wurden 384 g Terephthalonitril, 533 g 1,3-Diaminopropan und 0,9 g Schwefel suspendiert. Die Suspension wurde 12 Stunden lang unter Rückfluß erhitzt und dann auf 70°C abgekühlt. Zu der Reaktionsmischung wurden 300 ml Methanol zugegeben. Die Mischung wurde auf Raumtemperatur abgekühlt. Die ausgefallenen Kristalle wurden durch Filtrieren abgetrennt und getrocknet. Die Ausbeute betrug 706,5 g (97,3% der Theorie).

Die rohen Kristalle wurden aus 3 l Methanol umkristallisiert. Die Ausbeute betrug 567 g (78% der Theorie), F. 313°C.

Synthese eines Basenvorläufers (3)

Eine Lösung von 41,2 g 1-Naphthylsulfonylessigsäure (A-9) in 120 ml Methanol wurde zu einer Suspension von 19,3 g der organischen Base (B-1) in 160 ml Methanol zugegeben. Die aus der resultierenden einheitlichen Lösung ausgefallenen Kristalle wurden durch Filtrieren abgetrennt und an der Luft getrocknet. Die Ausbeute betrug 55,0 g (92,7% der Theorie).

Synthesebeispiel 2 Synthese einer organischen Base (B-4)

Eine Lösung von 40 g Bernsteinsäurenitril, 100 ml 1,3-Diaminopropan und 0,3 g Schwefel in 60 ml Toluol wurde 3 Stunden lang zum Rückfluß erhitzt und dann auf Raumtemperatur abgekühlt. Die ausgefallenen Kristalle wurden durch Filtrieren abgetrennt, mit Acetonitril gewaschen und getrocknet. Die Ausbeute betrug 95 g (98% der Theorie), F. 218°C.

Synthese eines Basenvorläufers (5)

Eine Lösung von 11,6 g der organischen Base (B-4) in 20 ml Methanol wurde zu einer Suspension von 36 g p-Methylsulfonylphenylsulfonylessigsäure (A-4) in 150 ml Methanol zugegeben. Die Mischung wurde 1 Stunde lang gerührt und die gebildeten Kristalle wurden durch Filtrieren abgetrennt. Die Ausbeute betrug 44,6 g (99% der Theorie).

Der erfindungsgemäße Basenvorläufer wird mit Vorteil in einem Verfahren zur Bildung einer Base verwendet, bei dem der Basenvorläufer erhitzt wird. Der Basenvorläufer wird vorzugsweise auf eine Temperatur von 80 bis 250°C, insbesondere auf eine Temperatur von 110 bis 220°C, erhitzt. Außerdem wird der Basenvorläufer vorzugsweise in Gegenwart eines Polymeren (insbesondere eines hydrophilen Polymeren) erhitzt. Das Polymere wird vorzugsweise in einer Menge von 0,5 bis 400 Gew.-%, insbesondere in einer Menge von 1 bis 200 Gew.-%, bezogen auf die Menge des Basenvorläufers, verwendet.

Der erfindungsgemäße Basenvorläufer kann mit Vorteil in verschiedenen chemischen Reaktionssystemen, in denen Basenkomponenten erforderlich sind, wie z. B. in anionisch-polymerisierbaren Klebstoffen, Beschichtungsmitteln, Abdichtungs- und Dichtungsmitteln sowie in den obengenannten Aufzeichnungsmaterialien, z. B. in photographischen Silbersalzmaterialien, photographischen Diazotypiematerialien und dgl., verwendet werden.

Die aus dem erfindungsgemäßen Basenvorläufer gebildete Base kann als basischer Katalysator für die Polymerisationsreaktion von anionisch polymerisierbaren Monomeren verwendet werden. Es besteht keine spezifische Beschränkung in bezug auf die anionische Polymerisation und die erfindungsgemäßen Basenvorläufer können in großem Umfange in den verschiedenen Produkten, beispielsweise in Klebstoffen, Beschichtungsmitteln, Abdichtungsmitteln, Dichtungsmitteln und dgl. verwendet werden.

Wenn der erfindungsgemäße Basenvorläufer in den obengenannten Produkten verwendet wird, kann eine Base gebildet werden durch Erhitzen des Basenvorläufers für die Verwendung des Produkts. Diese Produkte können neutral, sicher und stabil gemacht werden durch Verwendung des erfindungsgemäßen Basenvorläufers.

In dem Verfahren, in dem ein photographisches Diazotypie- Material verwendet wird, wird eine Kupplungsreaktion zwischen einem Kuppler und dem verbliebenen Diazoniumsalz in dem nicht-belichteten Bereich unter alkalischen Bedingungen durchgeführt zur Bildung eines Azofarbstoffes, wie in der folgenden Gleichung dargestellt:

Wenn der erfindungsgemäße Basenvorläufer in dem vorstehend beschriebenen photographischen Diazotypieverfahren, in dem beispielsweise ein Trockenverfahren angewendet wird, eingesetzt wird, werden der Basenvorläufer und ein Diazoniumsalz einem lichtempfindlichen Diazotypie-Papier in der Weise zugesetzt, daß das Diazoniumsalz und der Basenvorläufer gegeneinander isoliert sind (beispielsweise durch die Feststoffdispersion des Basenvorläufers). Nachdem das lichtempfindliche Papier bildmäßig belichtet worden ist, kann durch Wärmeentwicklung ein Azofarbstoffbild erhalten werden. Bei konventionellen photographischen Diazotypie-Verfahren, in denen eine Wärmeentwicklung angewendet wird, werden Basenvorläufer, wie z. B. Ammoniumcarbonat, Hexamethylentetramin und dgl., verwendet. Bei den konventionellen Verfahren ist die Entwicklungszeit verhältnismäßig lang und bei dem lichtempfindlichen Papier tritt ein Problem auf in bezug auf die Stabilität. Wenn der erfindungsgemäße Basenvorläufer in diesen Verfahren verwendet wird, kann das Bild schnell erzeugt werden und das lichtempfindliche Papier weist eine verbesserte Stabilität auf.

In einem konventionellen photographischen Silbersalzverfahren wird die Entwicklung (d. h. eine Oxidations-Reduktions-Reaktion zwischen Silberhalogenid und einer Entwicklerverbindung) unter alkalischen Bedingungen durchgeführt. Wenn der erfindungsgemäße Basenvorläufer in dem photographischen Material enthalten ist, kann die Entwicklung nur durch Erhitzen nach der Belichtung durchgeführt werden. In dem photographischen Material ist es bevorzugt, daß der Basenvorläufer gegenüber anderen Komponenten in dem photographischen Material isoliert wird durch Emulgieren, Dispergieren oder Einkapseln des Basenvorläufers. Es ist besonders bevorzugt, daß der Basenvorläufer in Form von feinen Feststoffteilchen dispergiert wird. Der erfindungsgemäße Basenvorläufer bietet noch einen weiteren Vorteil insofern, als er gegenüber den anderen Komponenten in dem lichtempfindlichen Material wirksam isoliert werden kann.

Außerdem kann der erfindungsgemäße Basenvorläufer mit Vorteil in einem lichtempfindlichen Material verwendet werden, das umfaßt eine auf einen Träger aufgebrachte lichtempfindliche Schicht, die ein Silberhalogenid, ein Reduktionsmittel und eine polymerisierbare Verbindung enthält. Dieses lichtempfindliche Material kann in einem Bilderzeugungsverfahren verwendet werden, in dem ein latentes Bild aus Silberhalogenid gebildet wird, und dann wird die polymerisierbare Verbindung polymerisiert unter Erzeugung des entsprechenden Bildes.

Beispiele für derartige Bilderzeugungsverfahren sind in den japanischen Patentpublikationen 45(1970)-11 149 (entsprechend der US-PS 36 97 275), 47(1972)-20 741 (entsprechend der US- PS 26 87 667) und 49(1974)-10697 sowie in den japanischen vorläufigen Patentpublikationen 57(1982)-139 632, 57(1982)- 142 638, 57(1982)-176 033, 57(1982)-211 146 (entsprechend der US-PS 45 57 997, 58(1983)-107 529 (entsprechend der US-PS 45 60 637), 58(1983)-121 031 (entsprechend der US-PS 45 47 450) und 58(1983)-169 143 beschrieben. In diesen Bilderzeugungsverfahren wird dann, wenn das belichtete Silberhalogenid unter Verwendung einer Entwicklerlösung entwickelt wird, die polymerisierbare Verbindung dazu gebracht, in Gegenwart eines oxidierten Reduktionsmittels zu polymerisieren unter Erzeugung eines Polymerbildes. Zur Durchführung dieser Verfahren ist somit ein Naßentwicklungsverfahren erforderlich, in dem eine Entwicklerlösung verwendet wird. Das Verfahren benötigt daher eine verhältnismäßig lange Zeit für die Durchführung.

Ein verbessertes Bilderzeugungsverfahren, in dem eine Trockenentwicklung angewendet wird, ist in den vorläufigen japanischen Patentpublikationen 61(1986)-69 062 und 61(1986)- 73 145 (die Inhalte beider Publikationen sind in der US-PS 46 29 676 und in der vorläufigen europäischen Patentpublikation 01 74 634A2 beschrieben) beschrieben. Bei diesem Bilderzeugungsverfahren wird ein Aufzeichnungsmaterial (d. h. ein lichtempfindliches Material), das umfaßt eine auf einen Träger aufgebrachte lichtempfindliche Schicht, die ein lichtempfindliches Silbersalz (d. h. ein Silberhalogenid), ein Reduktionsmittel, eine vernetzbare Verbindung (d. h. eine polymerisierbare Verbindung) und ein Bindemittel enthält, bildmäßig belichtet unter Erzeugung eines latenten Bildes und dann wird das Material erhitzt, um es innerhalb des Bereiches zu polymerisieren, in dem das latente Bild aus dem Silberhalogenid erzeugt worden ist. Das vorstehend beschriebene Verfahren, in dem die Trockenentwicklung angewendet wird, und das lichtempfindliche Material, das zur Durchführung dieses Verfahrens verwendbar ist, sind ebenfalls in den vorläufigen japanischen Patentpublikationen 61(1986)- 183 640, 61(1986)-188 535 und 61(1986)-228 441 beschrieben.

Die vorstehend beschriebenen Bilderzeugungsverfahren basieren auf dem Prinzip, wonach die polymerisierbare Verbindung innerhalb des Bereiches polymerisiert wird, in dem ein latentes Bild aus dem Silberhalogenid erzeugt worden ist.

In der vorläufigen japanischen Patentpublikation 61(1986)- 260 241 ist ein weiteres Bilderzeugungsverfahren beschrieben, bei dem die polymerisierbare Verbindung innerhalb des Bereiches, in dem ein latentes Bild aus dem Silberhalogenid nicht erzeugt worden ist, polymerisiert wird. Bei diesem Verfahren fungiert dann, wenn das Material erhitzt wird, das oxidierte Reduktionsmittel als Polymerisationsinhibitor innerhalb des Bereiches, in dem ein latentes Bild aus dem Silberhalogenid erzeugt worden ist, und die polymerisierbare Verbindung innerhalb des anderen Bereiches wird polymerisiert.

Die Polymerisationsreaktion in den vorstehend beschriebenen Bilderzeugungsverfahren läuft unter alkalischen Bedingungen glatt ab. Deshalb kann der erfindungsgemäße Basenvorläufer in der lichtempfindlichen Schicht des lichtempfindlichen Materials enthalten sein.

Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein.

Beispiel 1

In 80 g einer 3%igen wäßrigen Lösung von Polyvinylalkohol wurden 20 g des nachstehend angegebenen Basenvorläufers (3) unter Verwendung einer Dynomill-Dispergiervorrichtung dispergiert zur Herstellung einer Dispersion. Es wurde eine Beschichtungslösung hergestellt aus 37 g der dabei erhaltenen Feststoffdispersion des Basenvorläufers, 22 g einer wäßrigen Lösung von 5% Polyvinylalkohol und 11 g Wasser. Die Beschichtungslösung wurde in Form einer Schicht auf einen Polyethylenterephthalatfilm unter Verwendung eines Drahtstabes Nr. 40 in einer Beschichtungsmenge von 70 cm³/m² aufgebracht und 30 min lang bei 40°C getrocknet zur Herstellung einer beschichteten Probe des Basenvorläufers (3). Die Probe wurde auf einer heißen Platte auf 125°C erhitzt. Nach dem Verstreichen einer gegebenen Zeitspanne wurde die Probe herausgenommen und der pH-Wert auf der Oberfläche des Films wurde gemessen. Außerdem wurde ein Versuch durchgeführt durch Änderung der Erhitzungstemperatur auf 75°C, 100°C, 140°C und 150°C. Der pH-Wert wurde jeweils 10 Aufzeichnungen gemessen. Die Ergebnisse der Messungen sind in der Fig. 1 dargestellt.

Die Fig. 1 zeigt ein Diagramm, in dem die Beziehung zwischen der Zeit und dem dabei erhaltenen pH-Wert in Form eines Diagramms dargestellt ist. In der Fig. 1 sind auf der Abszisse die Zeit und auf der Ordinate der pH-Wert aufgetragen.

Basenvorläufer (3) Beispiel 2

Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, wobei diesmal 20 g des nachstehend angegebenen Basenvorläufers (1) anstelle von 20 g des Basenvorläufers (3) verwendet wurden zur Herstellung einer beschichteten Probe des Basenvorläufers (1).

Auf ähnliche Weise wie in Beispiel 1 beschrieben wurden die Änderungen des pH-Wertes auf der Oberfläche des Films beim Erhitzen gemessen. Die Ergebnisse der Messungen sind in der Fig. 2 dargestellt.

Basenvorläufer (1) Beispiel 3

Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, wobei diesmal 20 g des nachstehend angegebenen Basenvorläufers (5) anstelle von 20 g des Basenvorläufers (3) zur Herstellung einer beschichteten Probe des Basenvorläufers (5) verwendet wurden.

Auf ähnliche Weise wie in Beispiel 1 beschrieben wurden die Änderungen des pH-Wertes auf der Oberfläche des Films beim Erhitzen gemessen. Die Ergebnisse der Messungen sind in der Fig. 3 dargestellt.

Basenvorläufer (5) Vergleichsbeispiel 1

In 176,0 g einer 5%igen wäßrigen Lösung von Ethanol wurden 24,0 g Guanidintrichloracetat (Basenvorläufer (x)) gelöst. Zu der Lösung wurden 176,0 g einer 4%igen wäßrigen Lösung von Polyvinylalkohol zugegeben und der gebildete Niederschlag wurde in einer Dynomill-Dispergiervorrichtung dispergiert. Auf ähnliche Weise wie in Beispiel 1 wurde die erhaltene Dispersion in Form einer Schicht auf einen Polyethylenterephthalatfilm- Träger aufgebracht und getrocknet zur Herstellung einer beschichteten Probe des Basenvorläufers (x).

Auf ähnliche Weise wie in Beispiel 1 wurden Änderungen des pH-Wertes auf der Oberfläche des Films beim Erhitzen gemessen. Die Ergebnisse sind in der Fig. 4 dargestellt.

Vergleichsbeispiel 2

Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, wobei diesmal 20 g des nachstehend angegebenen Basenvorläufers (y) anstelle von 20 g des Basenvorläufers (3) verwendet wurden zur Herstellung einer beschichteten Probe des Basenvorläufers (y).

Auf ähnliche Weise wie in Beispiel 1 beschrieben wurden die Änderungen des pH-Wertes auf der Oberfläche des Films beim Erhitzen gemessen. Die Ergebnisse sind in der Fig. 5 dargestellt.

Basenvorläufer (y)

Aus den Ergebnissen der Fig. 1 bis 5 geht hervor, daß jeder der erfindungsgemäßen Basenvorläufer schnell eine Base freisetzt, wenn er auf 140°C oder höher erhitzt wird, daß sie jedoch auch dann keine Base freisetzen, wenn sie auf 100°C oder darunter für eine lange Zeitspanne erhitzt werden. Der konventionelle Basenvorläufer (x) setzt selbst bei einer Temperatur von 150°C eine Base nur langsam frei und bei einer niedrigen Temperatur setzt er portionsweise die Base frei. Der Basenvorläufer (y) setzt bei einer Temperatur von 125°C oder höher schnell eine Base frei, er setzt jedoch bei einer tiefen Temperatur allmählich eine Base frei wie der Basenvorläufer (x). Wenn die Struktur des Basenvorläufers (y) mit derjenigen des Basenvorläufers (3) gemäß der vorliegenden Erfindung verglichen wird, erkennt man, daß der Basenvorläufer (y) ein Salz einer monosäurigen Base mit einer ähnlichen Struktur wie der Basenvorläufer (3) mit der gleichen Säure wie in dem Basenvorläufer (3) ist. Es ist daher klar, daß das Zersetzungsverhalten eines Basenvorläufers gegenüber Temperatur stark verändert wird durch Ersatz einer monosäurigen Base durch eine disäurige Base.

Beispiel 4

Eine Beschichtungsprobe des Basenvorläufers (3), wie in Beispiel 1 hergestellt, wurde in eine Kiste aus einem Metall gestellt, verschlossen und bei 50°C gelagert. Nach dem Verstreichen einer gegebenen Zeitspanne wurde die Probe herausgenommen und der pH-Wert auf der Oberfläche des Films wurde gemessen. Die Ergebnisse der Messungen sind in der Fig. 6 dargestellt. Die Fig. 6 zeigt ein Diagramm, in dem die Beziehung zwischen dem pH-Wert und der Lagerzeit angegeben ist, die durch Eintragen derselben in Form eines Diagramms auf der Basis der Meßergebnisse erhalten wurde. In der Fig. 6 sind auf der Abszisse die Lagerzeit und auf der Ordinate der pH-Wert aufgetragen.

Beispiel 5

Die Schichtprobe des Basenvorläufers (1), hergestellt im Beispiel 2, wurde auf ähnliche Weise wie in Beispiel 4 beschrieben gelagert und der pH-Wert auf der Oberfläche des Films wurde gemessen. Die Ergebnisse der Messungen sind zusammen mit denjenigen des Beispiels 4 in der Fig. 6 dargestellt.

Beispiel 6

Eine Schichtprobe des Basenvorläufers (5), hergestellt in Beispiel 3, wurde auf ähnliche Weise wie in Beispiel 4 beschrieben gelagert und der pH-Wert auf der Oberfläche des Films wurde gemessen. Die Ergebnisse der Messungen sind zusammen mit denjenigen des Beispiels 4 in der Fig. 6 dargestellt.

Vergleichsbeispiel 3

Eine Schichtprobe des Basenvorläufers (x), hergestellt im Vergleichsbeispiel 1, wurde auf ähnliche Weise wie in Beispiel 4 beschrieben gelagert und der pH-Wert auf der Oberfläche des Films wurde gemessen. Die Ergebnisse der Messungen sind zusammen mit denjenigen des Beispiels 4 in der Fig. 6 dargestellt.

Vergleichsbeispiel 4

Eine Schichtprobe des Basenvorläufers (y) wurde hergestellt in Vergleichsbeispiel 2, wurde auf ähnliche Weise wie in Beispiel 4 beschrieben gelagert und der pH-Wert auf der Oberfläche des Films wurde gemessen. Die Ergebnisse der Messungen sind zusammen mit denjenigen des Beispiels 4 in der Fig. 6 dargestellt.

Aus den Ergebnissen der Fig. 6 geht hervor, daß die erfindungsgemäßen Basenvorläufer unter den Lagerungsbedingungen bei 50°C keine Base freisetzen, während die konventionellen Basenvorläufer (x) und (y) beträchtliche Mengen an Basen in einem Lagerungszeitraum von nur 1 Tag bei 50°C freisetzen.

Beispiel 7

Eine Schichtprobe des Basenvorläufers (3), hergestellt im Beispiel 1, wurde unter den Lagerbedingungen des Beispiels 4 8 Tage lang gelagert und dann auf einer heißen Platte auf 140°C erhitzt. Nach dem Verstreichen einer gegebenen Zeitspanne wurde die Probe herausgenommen und der pH-Wert auf der Oberfläche des Films wurde gemessen. Die Ergebnisse der Messungen sind in der Fig. 7 dargestellt. Die Fig. 7 zeigt ein Diagramm, das die Beziehung zwischen der Zeit und dem pH-Wert, erhalten durch Auftragen derselben auf der Basis der Meßergebnisse, darstellt. In der Fig. 7 sind auf der Abszisse die Zeit und auf der Ordinate der pH-Wert aufgetragen.

Beispiel 8

Eine Schichtprobe des Basenvorläufers (5), hergestellt im Beispiel 3, wurde unter den Lagerungsbedingungen des Beispiels 6 8 Tage lang gelagert und dann auf einer heißen Platte auf 140°C erhitzt. Nach dem Verstreichen einer gegebenen Zeitspanne wurde die Probe herausgenommen und der pH- Wert auf der Oberfläche des Films wurde gemessen. Die Ergebnisse der Messungen sind zusammen mit denjenigen des Beispiels 7 in der Fig. 7 dargestellt.

Aus den Ergebnissen der Fig. 7 geht hervor, daß die erfindungsgemäßen Basenvorläufer kaum zu einer Verminderung der Basen-Bildungsfunktion führen, wenn sie erhitzt werden, auch dann nicht, wenn sie unter strengen Bedingungen eine lange Zeitspanne gelagert werden.

Die Erfindung wurde zwar vorstehend unter Bezugnahme auf spezifische bevorzugte Ausführungsformen näher erläutert, es ist jedoch für den Fachmann selbstverständlich, daß sie darauf keineswegs beschränkt ist, sondern daß diese in vielfacher Hinsicht abgeändert und modifiziert werden können, ohne daß dadurch der Rahmen der vorliegenden Erfindung verlassen wird.

Claims

1. Basenvorläufer in Form eines Salzes einer organischen Base mit einer Carbonsäure, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei der organischen Base um eine disäurige bis tetrasäurige Base handelt, die aus 2 bis 4 Amidinresten und mindestens einem Rest eines Kohlenwasserstoffs oder eines heterocyclischen Ringes als verbindender Gruppe für die Amidinreste aufgebaut ist, wobei der Amidinrest einer Atomgruppe entspricht, die gebildet wird beim Entfernen von einem oder zwei Wasserstoffatomen von einem Amidin mit der nachstehend angegebenen allgemeinen Formel: worin bedeuten:R¹, R², R³ und R⁴ unabhängig voneinander jeweils eine monovalente Gruppe, die ausgewählt wird aus der Gruppe, die besteht aus Wasserstoff, einer Alkylgruppe, einer Alkenylgruppe, einer Alkinylgruppe, einer Cycloalkylgruppe, einer Aralkylgruppe, einer Arylgruppe und einer heterocyclischen Gruppe, wobei jede dieser Gruppen eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen kann und wobei jeweils zwei der Reste R¹, R², R³ und R⁴ miteinander kombiniert sein können unter Bildung eines 5gliedrigen oder 6gliedrigen heterocyclischen Ringes, der aus Stickstoff- und Kohlenstoffatomen besteht.

2. Basenvorläufer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei der organischen Base um eine disäurige bis tetrasäurige Base der allgemeinen Formel handelt: R⁵(-B)_n (II)worin bedeuten:R⁵einen n-valenten Rest eines Kohlenwasserstoffs oder eines heterocyclischen Rings; Beine monovalente Gruppe, die einer Atomgruppe entspricht, die beim Entfernen eines Wasserstoffatoms von einem Amidin der Formel (I) gebildet wird; und ndie Zahl 2, 3 oder 4.

3. Basenvorläufer nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem Amidin der Formel (I) um ein cyclisches Amidin der allgemeinen Formel handelt: worin bedeuten:R¹⁵eine divalente Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus Ethylen, Propylen, Vinylen und Propenylen, wobei jede dieser Gruppen eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen kann; und R¹⁶ und R¹⁷unabhängig voneinander jeweils eine monovalente Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus Wasserstoff, einer Alkylgruppe, einer Alkenylgruppe, einer Alkinylgruppe, einer Cycloalkylgruppe, einer Aralkylgruppe , einer Arylgruppe und einer heterocyclischen Gruppe, wobei jede dieser Gruppen eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen kann.

4. Basenvorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem Amidin der Formel (I) um 1,4,5,6-Tetrahydropyrimidin handelt, das eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen kann.

5. Basenvorläufer nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Base der Formel (II) eine symmetrische chemische Struktur hat.

6. Basenvorläufer nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß n in der Formel (II) für die Zahl 2 steht.

7. Basenvorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei der organischen Base um eine disäurige bis tetrasäurige Base der allgemeinen Formel handelt: worin bedeuten:R²¹, R²²
und R²³unabhängig voneinander jeweils eine monovalente Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus Wasserstoff, einer Alkylgruppe, einer Alkenylgruppe, einer Alkinylgruppe, einer Cycloalkylgruppe, einer Aralkylgruppe, einer Arylgruppe und einer heterocyclischen Gruppe, wobei jede dieser Gruppen eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen kann und jeweils zwei der Reste R²¹, R²² und R²³ miteinander kombiniert sein können unter Bildung eines 5gliedrigen oder 6gliedrigen heterocyclischen Ringes, der aus Stickstoff- und Kohlenstoffatomen besteht; R²⁴einen n-valenten Rest eines Kohlenwasserstoffs oder eines heterocyclischen Ringes;
und ndie Zahl 2, 3 oder 4.

8. Basenvorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei der organischen Base um eine disäurige bis tetrasäurige Base der allgemeinen Formel handelt worin bedeuten:R²⁵eine divalente Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus Ethylen, Propylen, Vinylen und Propenylen, von denen jede eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen kann; R²⁶eine monovalente Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus Wasserstoff, einer Alkylgruppe, einer Alkenylgruppe, einer Alkinylgruppe, einer Cycloalkylgruppe, einer Aralkylgruppe, einer Arylgruppe und einer heterocyclischen Gruppe, von denen jede eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen kann; R²⁷einen n-valenten Rest eines Kohlenwasserstoffs oder eines heterocyclischen Ringes; und ndie Zahl 2, 3 oder 4.

9. Basenvorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Carbonsäure die Eigenschaft hat, daß ihre Carboxylgruppe bei einer erhöhten Temperatur von 50 bis 200°C einer Decarboxylierung unterliegt.

10. Basenvorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Carbonsäure eine Arylgruppe oder eine Arylengruppe aufweist.

11. Basenvorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Carbonsäure die allgemeine Formel hat worin bedeuten:R³¹ und R³²unabhängig voneinander jeweils eine monovalente Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus Wasserstoff, einer Alkylgruppe, einer Alkenylgruppe, einer Cycloalkylgruppe, einer Aralkylgruppe, einer Arylgruppe und einer heterocyclischen Gruppe, von denen jede eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen kann, kdie Zahl 1 oder 2; Yeine monovalente Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus einer Alkylgruppe, einer Cycloalkylgruppe, einer Alkenylgruppe, einer Alkinylgruppe, einer Aralkylgruppe, einer Arylgruppe und einer heterocyclischen Gruppe, von denen jede eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen kann, falls k = 1; oder eine divalente Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus einer Alkylengruppe, einer Arylengruppe und einer heterocyclischen Gruppe, von denen jede eine oder mehr Stubstituentengruppen aufweisen kann, falls k=2.

12. Basenvorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Salz der organischen Base mit der Carbonsäure einen Schmelzpunkt von 50 bis 200°C hat.

13. Verfahren zur Herstellung einer Base, dadurch gekennzeichnet, daß ein Basenvorläufer in Form eines Salzes einer organischen Base mit einer Carbonsäure, bei dem die organische Base des Basenvorläufers eine disäurige bis tetrasäurige Base ist, die aus 2 bis 4 Amidinresten und mindestens einem Rest eines Kohlenwasserstoffs oder eines heterocyclischen Ringes als verbindender Gruppe für die Amidinreste aufgebaut ist, wobei der Amidinrest einer Atomgruppe entspricht, die entsteht bei der Entfernung von einem oder zwei Wasserstoffatomen von einem Amidin der allgemeinen Formel worin bedeuten:R¹, R² R³ und R⁴ unabhängig voneinander jeweils eine monovalente Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus Wasserstoff, einer Alkylgruppe, einer Alkenylgruppe, einer Alkinylgruppe, einer Cycloalkylgruppe, einer Aralkylgruppe, einer Arylgruppe und einer heterocyclischen Gruppe, von denen jede eine oder mehr Substituentengruppen aufweisen kann und jeweils zwei der Reste R¹, R², R³ und ⁴ miteinander kombiniert sein können unter Bildung eines 5gliedrigen oder 6gliedrigen heterocyclischen Ringes, der aus Stickstoff- und Kohlenstoffatomen besteht,erhitzt wird.

14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Basenvorläufer auf eine Temperatur von 80 bis 250°C erhitzt wird.

15. Verfahren nach Anspruch 13 der 14, dadurch gekennzeichnet, daß der Basenvorläufer auf eine Temperatur von 110 bis 200°C erhitzt wird.

16. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Basenvorläufer in Gegenwart eines Polymeren erhitzt wird.

17. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß der Basenvorläufer in Gegenwart eines hydrophilen Polymeren erhitzt wird.

18. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß der Basenvorläufer in Gegenwart eines Polymeren erhitzt wird, das in einer Menge von 0,5 bis 400 Gew.-%, bezogen auf die Menge des Basenvorläufers, verwendet wird.