DE3782071T2 - Verfahren zur herstellung von halbleiterbauelemente mit gehaeusestruktur. - Google Patents
Verfahren zur herstellung von halbleiterbauelemente mit gehaeusestruktur.Info
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Description
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterbauelementepackung, die einen Zuleitungssockel und eine Kappe enthält. Das Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung ist auf die Herstellung von IC-Packungen, z. B. in Form einer Anschlußstiftrasteranordnung (PGA), einer zweireihigen Schaltkreispackung (DIP) und eines zuleitungsfreien Chipträgers (LCC), anwendbar.
- Im allgemeinen besteht ein Zuleitungssockel für eine Halbleiterbauelementepackung aus äußerst wärmebeständigen Duroplasten, wie wärmebeständiges Epoxyharz, Bismaleimid-Triazin-Harz (BT-Harz) oder Polyimidharz. Der Zuleitungssockel hat eine quadratische Form in der Draufsicht, und eine Nut zum Befestigen eines Halbleiterchips ist in der Mitte des Zuleitungssockels vorgesehen. Eine Barriere zum Verhindern, daß Versiegelungsplaste den Seitenteil des Zuleitungssockels erreichen, ist auf der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels vorgesehen. Anschlußstifte sind am Boden des Zuleitungssockels vorgesehen, und diese Anschlußstifte sind mit dem Halbleiterchip durch Drähte verbunden.
- Bei der Herstellung der Packungsstruktur wird ein Flüssigplast zum Füllen innerhalb einer Barriere auf der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels, der die Nut enthält, aufgetragen, und der aufgetragene Füllplast wird durch Abbinden gehärtet. Eine Duroplastlösung, wie eine Epoxyharzlösung, wird als Füllplast verwendet, und das Abbinden erfolgt durch Erhöhen der Temperatur.
- Dann wird eine dem Füllplast ähnliche Duroplastlösung zum Befestigen in der mit der Oberseite nach unten gedrehten Kappe aufgetragen. Die Tiefe der Plastlösung zur Befestigung wird nach einer Zeitspanne gleichmäßig, und die Anordnung wird mit der Oberseite nach unten gedreht und in die Kappe eingepaßt, die die Plastlösung zur Befestigung enthält.
- Dann wird die Plastlösung zur Befestigung durch Abbinden bei erhöhter Temperatur gehärtet, um die Kappe auf der Anordnung zu befestigen, und somit ist eine Packung hergestellt.
- Jedoch tritt bei der Herstellung der Packungsstruktur nach Stand der Technik das Problem auf, daß der Schritt, nach einer Zeitspanne eine gleichmäßige Tiefe der Plastlösung zur Befestigung zu erreichen, mühsam ist, eine perfekte Gleichmäßigkeit der Tiefe der Plastlösung zur Befestigung läßt sich schwer realisieren, und in Kantenbereichen entstehen leicht Hohlräume, die die effektive Länge des Wasserkriechweges reduzieren und somit die Eigenschaft der Wasserundurchlässigkeit mindern. Falls solch ein Wasserkriechen auftritt, kann ein Leiter in der elektrischen Schaltung der Anordnung durchbrennen, und falls Wasser in die Hohlräume in den Kantenbereichen kriecht, kann ein Kriechstrom oder ein Kurzschluß auftreten.
- Es tritt auch ein Problem dahingehend auf, daß geschmolzenes Lötmittel in die Hohlräume kriechen kann, und ein weiteres Problem besteht darin, daß der gehärtete Plast zur Befestigung zwischen der Kappe und dem Zuleitungssockel herausgedrängt werden kann, was die Qualität der Packungsstruktur als Produkt mindert.
- Gegenstand der Erfindung ist das Realisieren eines verbesserten Verfahrens zum Herstellen einer Halbleiterbauelementepackung, die einen Zuleitungssockel und eine Kappe enthält, zum Produzieren einer qualitativ hohen Packung bei relativ niedrigen Kosten, unter Anwendung eines relativ einfachen Verfahrens.
- Gemäß der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterbauelementepackung, die einen Zuleitungssockel und eine Kappe enthält, mit folgenden Schritten vorgesehen: Befestigen eines Halbleiterchips auf einem Zuleitungssockel; Anordnen eines Befestigungspellets in einer Kappe, wobei das Befestigungspellet aus einem duroplastischen Material besteht, das nach einem Temperaturanstieg gehärtet ist; und Anordnen des Zuleitungssockels, der den Halbleiterchip trägt, mit der Oberseite nach unten auf dem Befestigungspellet in der Kappe. Danach wird das Befestigungspellets zwischen der Kappe und dem Zuleitungssockel, der den Halbleiterchip trägt, erwärmt, um das Befestigungspellet zu schmelzen und anschließend das geschmolzene Befestigungspellet zu härten. Somit ist der Zuleitungssockel, der den Halbleiterchip trägt, an der Kappe befestigt, um eine Packung zu bilden.
- In den Zeichnungen zeigen die Fig. 1A bis 1D ein Verfahren des Standes der Technik zum Herstellen einer Halbleiterbauelementepackung;
- Fig. 2A bis 2D zeigen ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterbauelementepackung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
- Fig. 3 zeigt eine Draufsicht auf einen Zuleitungssockel, der bei den in Fig. 2A bis 2D gezeigten Vorgängen verwendet wird;
- Fig. 4A und 4B zeigen Draufsichten auf das Füllpellet und das Befestigungspellet, die bei den in Fig. 2A bis 2D gezeigten Vorgängen verwendet werden;
- Fig. 5A bis 5D zeigen eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
- Fig. 6A bis 6C zeigen Draufsichten auf die Pellets, die bei den in Fig. 5A bis 5D gezeigten Vorgängen verwendet werden;
- Fig. 7A bis 7D zeigen eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
- Fig. 8A bis 8C zeigen Draufsichten auf das Pellet, das bei den in Fig. 7A bis 7D gezeigten Vorgängen verwendet wird;
- Fig. 9 zeigt eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
- Fig. 10A bis 10D zeigen noch eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
- Fig. 11A bis 11D zeigen eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; und
- Fig. 12 zeigt eine Draufsicht auf das Pellet, das bei den in Fig. 11A bis 11D gezeigten Vorgängen verwendet wird.
- Vor dem Beschreiben der bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren des Standes der Technik zum Herstellen einer Halbleiterbauelementepackung unter Bezugnahme auf Fig. 1A bis 1D beschrieben.
- In Fig. 1A besteht der Zuleitungssockel 2 aus äußerst wärmebeständigem Plast, wie wärmebeständiges Epoxyharz, oder aus einem Duroplast, wie Bismaleimid-Triazin-Harz (BT-Harz) oder Polyimidharz. Der Zuleitungssockel 2 hat in der Draufsicht eine quadratische Form. Eine Nut 21 zum Befestigen des Halbleiterchips 1 ist in der Mitte des Zuleitungssockels 2 vorgesehen, und der Halbleiterchip 1 ist auf dem Boden der Nut 21 durch Silberpaste 11 befestigt. Eine Barriere 22 zum Verhindern, daß die Versiegelungsplaste 71 das Seitenteil des Zuleitungssockels 2 erreichen, ist auf der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels 2 vorgesehen. Die Anschlußstifte 311, 312, 313; 321, 322 und 323 sind am Boden des Zuleitungssockels 2 vorgesehen, und diese Anschlußstifte sind mit dem Halbleiterchip 1 durch die Drähte 35 und 36 verbunden.
- Bei der Produktion der Packungsstruktur wird der Flüssigplast 71 zum Füllen innerhalb der Barriere 22 auf der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels 2, der die Nut 21 enthält, aufgetragen, wie in Fig. 1B gezeigt. Der aufgetragene Füllplast 71 wird durch Abbinden gehärtet. Eine Duroplastlösung, wie eine Epoxyharzlösung, wird als Füllplast 71 benutzt, und wird durch Erhöhen der Temperatur abgebunden.
- Dann wird eine dem Füllplast 71 ähnliche Duroplastlösung 720 zum Befestigen in der mit der Oberseite nach unten zeigenden Kappe 6 aufgetragen, wie in dem unteren Teil von Fig. 1C gezeigt. Die Tiefe der plastischen Befestigungslösung 720 wird mit der Zeit gleichmäßig. Die in Fig. 1B gezeigte Anordnung wird mit der Oberseite nach unten gedreht, wie im oberen Teil von Fig. 1C gezeigt, und in die Kappe 6, die die plastische Befestigungslösung 720 enthält, eingepaßt.
- Dann wird die plastische Befestigungslösung durch Abbinden bei erhöhter Temperatur gehärtet, um die Kappe 6 an der Anordnung zu befestigen, womit die in Fig. 1D gezeigte Packungsstruktur hergestellt ist. Zu diesem Zeitpunkt ist der gehärtete Befestigungsplast 72 zwischen der Kappe 6 und dem Zuleitungssockel 2 herausgedrängt, wie bei Teil 72a gezeigt.
- Ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterbauelementepackung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird unter Bezugnahme auf Fig. 2A bis 2D beschrieben.
- In Fig. 2A besteht der Zuleitungssockel 2 aus einem äußerst wärmebeständigen Duroplast, wie wärmebeständiges Epoxyharz, Bismaleimid-Triazin-Harz (BT-Harz) oder Polyimidharz, oder aus Keramik, wie Aluminiumoxid, Siliziumkarbid, Aluminiumnitrid oder Mullit. Der Zuleitungssockel 2 hat eine quadratische Form in der Draufsicht, wie in Fig. 3 dargestellt. Die Nut 21 oder Aussparung zum Befestigen des Halbleiterchips 1 ist in der Mitte des Zuleitungssockels 2 vorgesehen. Die Barriere 22 zum Verhindern, daß das Füllplastpellet 40 das Seitenteil des Zuleitungssockels 2 erreicht, wenn es geschmolzen ist, ist auf der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels 2 vorgesehen. Die Anschlußstifte 311, 312, 313; 321, 322 und 323 sind am Boden des Zuleitungssockels 2 vorgesehen und sind mit dem Halbleiterchip 1 durch die Drähte 35 und 36 verbunden, die z. B. aus Gold oder Aluminium bestehen.
- Das Füllpellet 40 wird innerhalb der Barriere 22 auf der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels 2 angeordnet. Das Füllpellet 40 besteht aus einem Duroplast, wie Epoxyharz, zum Beispiel E-Pellet 6050, hergestellt von Nitto Denko K.K. Die Größe des Füllpellets 40 ist so, daß der geschmolzene Plast, wenn der Plast durch einen Temperaturanstieg geschmolzen ist, den gesamten Raum innerhalb der Barriere 22, der die Nut 21 enthält, einnimmt. Als Material des Füllpellets 40 wird vorzugsweise ein Plast mit einer niedrigen Viskosität, einer niedrigen Wärmespannung und einem Anti-thermik-Versatzvermögen beim Schmelzen gewählt, damit der geschmolzene Plast die Eckteile der Nut 21 ausfüllen kann, ohne übermäßige Kraft auf die Drähte 35 und 36 auszuüben. Eine Draufsicht auf das Füllpellet 40 ist in Fig. 4A gezeigt.
- Das Füllpellet 40 wird auf der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels 2 geschmolzen und durch Abbinden gehärtet, um die Plastversiegelung 4 zu bilden, wie in Fig. 2B gezeigt.
- Dann wird das Duroplastbefestigungspellet 50 in der mit der Oberseite nach unten zeigenden Kappe 6 angeordnet, wie im unteren Teil von Fig. 2C gezeigt. Die in Fig. 2B gezeigte Anordnung wird mit der Oberseite nach unten gedreht, wie im oberen Teil von Fig. 2C gezeigt, und wird in die Kappe 6, die das Befestigungspellet 50 enthält, eingepaßt. Das Befestigungspellet 50 ist zum Beispiel ein F-Pellet 6050, hergestellt von Nitto Denko K.K., oder Ablefilm 564, hergestellt von Ablestik Co. Eine Draufsicht auf das Befestigungspellet 50 ist in Fig. 4B gezeigt. Die Dicke des Befestigungspellets 50 beträgt etwa 0,8 bis 1,2 mm.
- Durch Erwärmen, zum Beispiel für 15 bis 20 Stunden, wird die Kappe 6 an der Anordnung durch den gehärteten Plast befestigt, um die in Fig. 2D gezeigte Packungsstruktur herzustellen.
- Ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterbauelementepackung gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird unter Bezugnahme auf Fig. 5A bis 5D beschrieben.
- In Fig. 5A besteht der Zuleitungssockel 2 aus einem äußerst wärmebeständigen Plast, wie wärmebeständiges Epoxyharz, einem Duroplast, wie Bismaleimid-Triazin-Harz (BT-Harz) oder Polyimidharz, oder aus Keramik, wie Aluminiumoxid, Siliziumkarbid, Aluminiumnitrid oder Mullit. Der Zuleitungssockel 2 hat in der Draufsicht eine quadratische Form, ähnlich wie in Fig. 3 gezeigt. Die Nut 21 zum Befestigen des Halbleiterchips 1 ist in der Mitte des Zuleitungssockels 2 vorgesehen, und der Halbleiterchip 1 ist an der Nut 21 durch Silberpaste 11 befestigt.
- Die Barriere 22 zum Verhindern, daß das geschmolzene Füllpellet 40 den Seitenteil des Zuleitungssockels 2 erreicht, wenn es geschmolzen ist, ist auf der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels 2 vorgesehen. Die Anschlußstifte 311, 312, 313; 321, 322 und 323 sind am Boden des Zuleitungssockels 2 vorgesehen und sind mit dem Halbleiterchip 1 durch die Drähte 35 und 36, die zum Beispiel aus Gold oder Aluminium bestehen, verbunden.
- Danach wird das Füllpellet 40 innerhalb der Barriere 22 auf der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels 2 angeordnet. Das Füllpellet 40 besteht aus einem Duroplast, wie Epoxyharz, zum Beispiel E-Pellet 6050, hergestellt von Nitto Denko K.K. Die Größe des Füllpellets 40 ist so, daß der geschmolzene Plast, wenn der Plast durch einen Temperaturanstieg geschmolzen ist, den gesamten Raum innerhalb der Barriere 22, der die Nut 21 enthält, einnimmt. Als Material des Füllpellets 40 wird vorzugsweise ein Plast mit einer niedrigen Viskosität, einer niedrigen Wärmespannung und einem Anti-thermik-Versatzvermögen beim Schmelzen gewählt, damit der geschmolzene Plast die Eckteile der Nut 21 ausfüllen kann, ohne übermäßige Kraft auf die Drähte 35 und 36 auszuüben. Eine Draufsicht auf das Füllpellet 40 ist in Fig. 6A gezeigt.
- Dann wird ein Rahmenpellet 80 für das vorläufige Versiegeln außerhalb der Barriere 22 auf der peripheren oberen Oberfläche des Zuleitungssockels 2 angeordnet. Das Rahmenpellet 80 ist zum Beispiel ein F-Pellet 6050, hergestellt von Nitto Denki Kogyo K.K., aufgetragen auf ein Glasvliesblatt mit einer Dicke von etwa 40 um bis 200 um. Eine Draufsicht auf das Rahmenpellet 80 ist in Fig. 6B gezeigt. Die Dicke des Rahmenpellets 80 beträgt etwa 0,2 mm bis 0,5 mm.
- Das Füllpellet 40 und das Rahmenpellet 80 werden dann auf der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels 2 geschmolzen und durch Abbinden gehärtet, um den Füllplast 4 und die vorläufige Versiegelungsschicht 8, wie in Fig. 5B gezeigt, zu bilden.
- Dann wird das Duroplastbefestigungspellet 50 in der mit der Oberseite nach unten gedrehten Kappe 6 angeordnet, wie im unteren Teil von Fig. 5C gezeigt. Die in Fig. 5B gezeigte Anordnung wird mit der Oberseite nach unten gedreht, wie im oberen Teil von Fig. 5C gezeigt, und wird in die Kappe 6, die das Befestigungspellet 50 enthält, eingepaßt. Das Befestigungspellet 50 ist zum Beispiel ein F-Pellet 6050, hergestellt von Nitto Denki Kogyo K.K. und auf ein Glasvliesblatt aufgelegt. Eine Draufsicht auf das Befestigungspellet 50 ist in Fig. 6C gezeigt. Die Dicke des Befestigungspellets 50 beträgt etwa 0,5 mm bis 1,0 mm.
- Somit wird die Kappe 6 durch Erhöhen der Temperatur an der Anordnung durch den gehärteten Plast befestigt, um die in Fig. 5D gezeigte Packungsstruktur zu erzeugen.
- Ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterbauelementepackung gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird unter Bezugnahme auf Fig. 7A bis 7D beschrieben.
- In Fig. 7A werden das Füllpellet 40 und das Rahmenpellet 80 für die Barrierenbildung auf der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels 2 angeordnet. Die Materialien des Füllpellets 40 und des Rahmenpellets 80 sind ähnlich jenen des Füllpellets 40 und des Rahmenpellets 80 im Fall von Fig. 5A. Draufsichten auf das Füllpellet 40 und das Rahmenpellet 80 von Fig. 7A sind in Fig. 8A und 8B gezeigt. Die Dicke des Rahmenpellets 80 beträgt etwa 0,3 mm bis 0,7 mm.
- Somit wird das Rahmenpellet 80 durch einen Temperaturanstieg geschmolzen und gehärtet, um es an dem Zuleitungssockel 2 zu befestigen, um die direkte Barriere 8 für das Füllpellet 40 zu bilden, das innerhalb des von dem Rahmenpellet 80 umgebenen Bereichs zu schmelzen ist. Somit wird das Füllen durch den geschmolzenen und gehärteten Plast 4 ausgeführt, wie in Fig. 7B gezeigt.
- Dann wird das Duroplastbefestigungspellet 50 in der mit der Oberseite nach unten gedrehten Kappe 6 angeordnet, wie im unteren Teil von Fig. 7C gezeigt. Die in Fig. 7B gezeigte Anordnung wird mit der Oberseite nach unten gedreht, wie im oberen Teil von Fig. 7C gezeigt, und in die Kappe 6 eingepaßt, die das Befestigungspellet 50 enthält. Das Material des Befestigungspellets 50 ist ähnlich jenem im Fall vom Fig. 2C. Eine Draufsicht auf das Befestigungspellet 50 ist in Fig. 8C gezeigt. Die Dicke des Befestigungspellets 50 beträgt etwa 0,2 mm bis 0,5 mm.
- Somit wird die Kappe 6 durch einen Temperaturanstieg an der Anordnung durch den gehärteten Plast befestigt, um die in Fig. 7D gezeigte Packungsstruktur zu erzeugen.
- Anstelle der in Fig. 7A gezeigten Anordnung ist es möglich, die in Fig. 9 gezeigte Anordnung zu wählen. Die Dicke des Rahmenpellets 80 ist ähnlich jener in Fig. 7A.
- Ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterbauelementepackung gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird unter Bezugnahme auf Fig. 10A bis 10D beschrieben.
- In Fig. 10A wird das Füllpellet 40 auf der Mitte der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels 2, der die Nut 21 enthält, angeordnet. Das Material des Füllpellets 40 ist ähnlich jenem in den Fällen von Fig. 2A, 5A, 7A und 9.
- Somit wird durch einen Temperaturanstieg die Versiegelung des Zentralteils der Anordnung, der die Nut 21, den Halbleiterchip 1 und die Drähte 35 und 36 enthält, ausgeführt, um eine hügelförmige Plastfüllung 4 zu bilden, wie in Fig. 10B gezeigt.
- Dann wird das Befestigungspellet 500 mit einem vorspringenden Teil 501 in der mit der Oberseite nach unten gedrehten Kappe 6 angeordnet, wie im unteren Teil von Fig. 10C gezeigt. Die in Fig. 10B gezeigte Anordnung wird mit der Oberseite nach unten gedreht, wie im oberen Teil von Fig. 10C gezeigt, und wird in die Kappe 6, die das Befestigungspellet 500 enthält, eingepaßt. Das Material des Befestigungspellets 500 ist ähnlich jenem in den Fällen von Fig. 2A, 5A, 7A und 9. Die Dicke des zentralen Teils des Befestigungspellets 500 beträgt etwa 0,3 mm bis 0,7 mm. Die Dicke des vorspringenden Teils 501 beträgt etwa 0,8 mm bis 1,2 mm.
- Somit wird durch die Temperaturerhöhung die Kappe 6 an der Anordnung durch den gehärteten Plast befestigt, um die in Fig. 10D gezeigte Packungsstruktur zu erzeugen.
- Ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterbauelementepackung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird unter Bezugnahme auf Fig. 11A bis 11D beschrieben.
- In Fig. 11A wird das Füllpellet 40 innerhalb der Barriere 22 auf der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels 2 angeordnet. Das Material des Füllpellets 40 ist ähnlich jenem in den Fällen von Fig. 2A, 5A, 7A, 9 und 10A.
- Dann wird das Füllpellet 40 auf der oberen Oberfläche des Zuleitungssockels 2 geschmolzen und durch Abbinden gehärtet, um die Plastfüllung 4 zu bilden, wie in Fig. 11B gezeigt.
- Dann wird das Befestigungspellet 550 in der mit der Oberseite nach unten gedrehten Kappe 6 angeordnet, wie im unteren Teil von Fig. 11C gezeigt. Die in Fig. 11B gezeigte Anordnung wird mit der Oberseite nach unten gedreht, wie im oberen Teil von Fig. 11C gezeigt, und wird in die Kappe 6, die das Befestigungspellet 550 enthält, eingepaßt.
- Das Befestigungspellet 550 besteht aus einem Harz- und Glasvliesblatteil 551, das zum Beispiel aus einem Epoxyharz, wie ein E-Pellet 6050, hergestellt von Nitto Denko K.K., und aus einem Glasvliesblatt 551 gebildet ist, und aus einem ausschließlichen Glasvliesblatteil 552 ohne den den Plast - und Glasvliesblatteil 551 umgebenden Plast. Eine Draufsicht auf das Befestigungspellet 550 ist in Fig. 12 gezeigt.
- Somit wird durch Erhöhung der Temperatur die Kappe 6 an der Anordnung durch den gehärteten Plast befestigt, um die in Fig. 11D gezeigte Packungsstruktur zu erzeugen. Der ausschließliche Glasblatteil 552 dient dazu, um den geschmolzenen Plast zu absorbieren, wenn die Temperatur erhöht wird, so daß ein Extrudieren des geschmolzenen Plasts nach außerhalb der Konfiguration der Packungsstruktur von Fig. 11D verhindert wird.
Claims (10)
1. Ein Verfahren zum Herstellen einer
Halbleiterbauelementepackung, die einen Zuleitungssockel (2)
und eine Kappe (6) umfaßt, mit den Schritten:
Befestigen eines Halbleiterchips (1) auf
einem Zuleitungssockel (2);
Anordnen eines Befestigungspellets (50, 500,
550) in einer Kappe (6), welches Befestigungspellet (50,
500, 550) aus einem duroplastischen Material besteht, das
nach einem Temperaturanstieg gehärtet wird;
Anordnen des genannten Zuleitungssockels (2),
der den genannten Halbleiterchip (1) trägt, mit der
Oberseite nach unten auf dem genannten Befestigungspellet
(50, 500, 550) in der genannten Kappe (6); und
Erwärmen des genannten Befestigungspellets
(50, 500, 550) zwischen der genannten Kappe (6) und dem
genannten Zuleitungssockel (2), der den genannten
Halbleiterchip (1) trägt, um das genannte Befestigungspellet
(50, 500, 550) zu schmelzen und anschließend das
geschmolzene Befestigungspellet (50, 500, 550) zu härten;
wodurch der genannte Zuleitungssockel (2),
der den genannten Halbleiterchip (1) trägt, an der genannten
Kappe (6) befestigt wird, um eine Packung zu bilden.
2. Ein Verfahren nach Anspruch 1, das ferner einen
Schritt zum vorläufigen Füllen eines Raumes um den genannten
Halbleiterchip (1) in dem genannten Zuleitungssockel (2) mit
Füllmaterial umfaßt, zwischen dem genannten Schritt des
Befestigens des genannten Halbleiterchips (1) und dem
genannten Schritt des Anordnens des genannten
Zuleitungssockels (2), der den genannten Halbleiterchip (1)
trägt, mit der Oberseite nach unten auf dem genannten
Befestigungspellet (50, 500, 550).
3. Ein Verfahren nach Anspruch 2, bei dem das
genannte vorläufige Füllen ausgeführt wird, indem ein
Füllpellet (40) auf dem genannten Halbleiterchipteil (1) auf
dem genannten Zuleitungssockel (2) angeordnet wird, das
genannte Füllpellet (40) geschmolzen und das geschmolzene
Füllpellet (40) gehärtet wird.
4. Ein Verfahren nach Anspruch 3, bei dem das
genannte vorläufige Füllen innerhalb des Bereichs
durchgeführt wird, der durch eine Barriere (22) definiert
ist, die auf der Oberfläche des genannten Zuleitungssockels
(2) gebildet ist.
5. Ein Verfahren nach Anspruch 4, bei dem die
genannte Barriere (22) ein Teil des genannten
Zuleitungssockels (2) ist.
6. Ein Verfahren nach Anspruch 2, ferner mit den
folgenden Schritten:
Plazieren eines Rahmenpellets (80) auf die
periphere obere Oberfläche der genannten Leiterbasis (2),
und
Erhitzen des genannten Rahmenpellets (80) zum
Schmelzen des Rahmenpellets (80) und anschließendes
Härten des geschmolzenen Rahmenpellets (80), um das
gehärtete Rahmenpellet (80) an der genannten Leiterbasis
(2) zu fixieren.
7. Ein Verfahren nach Anspruch 2, bei dem eine
vorläufige Dichtung des Raums um das genannte
Halbleiterchip (1) durch Schmelzen eines Füllpellets (40)
und eine Bildung einer Barriere durch Schmelzen eines
Rahmenpellets (80) und Fixieren des geschmolzenen
Rahmenpellets (80) an die genannte Leiterbasis (2)
gleichzeitig durchgeführt werden.
8. Ein Verfahren nach Anspruch 6, bei dem die
planare Größe der Rahmenpellets (80) zur Bildung der
Barriere kleiner als die planare Größe der Leiterbasis
(2) ist.
9. Ein Verfahren nach Anspruch 2, bei dem das
vorläufige Füllen auf der freien oberen Oberfläche der
genannten Leiterbasis (2) durch Schmelzen eines
Füllpellets (40) durchgefürt wird, und anschließend das
Fixieren des Halbleiterchips (1) an die Kappe durch
Schmelzen eines Fixierungspellets (500), das einen
vorstehenden Abschnitt (501) zwischen dem Halbleiterchip
(1) und der Kappe (6) hat, durchgeführt wird.
10. Ein Verfahren nach Anspruch 4, bei dem das
genannte Fixierungspellet (550), das in der Kappe (6)
plaziert ist, durch einen plastischen und nicht-gewobenen
Glasblattabschnitt (551) gebildet ist und ein
ausschließlich gewobener Glasblattabschnitt (552) den plastischen
und nicht-gewobenen Glasblattabschnitt (551) umgibt.
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5264393A (en) * | 1988-11-25 | 1993-11-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Solid state image pickup device and method of manufacturing the same |
US5098864A (en) * | 1989-11-29 | 1992-03-24 | Olin Corporation | Process for manufacturing a metal pin grid array package |
US5086018A (en) * | 1991-05-02 | 1992-02-04 | International Business Machines Corporation | Method of making a planarized thin film covered wire bonded semiconductor package |
US5273940A (en) * | 1992-06-15 | 1993-12-28 | Motorola, Inc. | Multiple chip package with thinned semiconductor chips |
JP2888040B2 (ja) * | 1992-07-10 | 1999-05-10 | 日本電気株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US5663106A (en) * | 1994-05-19 | 1997-09-02 | Tessera, Inc. | Method of encapsulating die and chip carrier |
US5834339A (en) | 1996-03-07 | 1998-11-10 | Tessera, Inc. | Methods for providing void-free layers for semiconductor assemblies |
US5776796A (en) * | 1994-05-19 | 1998-07-07 | Tessera, Inc. | Method of encapsulating a semiconductor package |
JP3199963B2 (ja) * | 1994-10-06 | 2001-08-20 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
US5929517A (en) | 1994-12-29 | 1999-07-27 | Tessera, Inc. | Compliant integrated circuit package and method of fabricating the same |
US5723787A (en) * | 1996-03-04 | 1998-03-03 | Alliedsignal, Inc. | Accelerometer mounting system |
US6083768A (en) * | 1996-09-06 | 2000-07-04 | Micron Technology, Inc. | Gravitationally-assisted control of spread of viscous material applied to semiconductor assembly components |
US6214640B1 (en) | 1999-02-10 | 2001-04-10 | Tessera, Inc. | Method of manufacturing a plurality of semiconductor packages |
DE10297316T5 (de) * | 2001-10-09 | 2004-12-09 | Tessera, Inc., San Jose | Gestapelte Baugruppen |
US6977440B2 (en) * | 2001-10-09 | 2005-12-20 | Tessera, Inc. | Stacked packages |
US7335995B2 (en) * | 2001-10-09 | 2008-02-26 | Tessera, Inc. | Microelectronic assembly having array including passive elements and interconnects |
CN102779910A (zh) * | 2011-05-10 | 2012-11-14 | 弘凯光电股份有限公司 | 发光二极管封装方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3706840A (en) * | 1971-05-10 | 1972-12-19 | Intersil Inc | Semiconductor device packaging |
JPS50144758A (de) * | 1974-05-09 | 1975-11-20 | ||
US4218701A (en) * | 1978-07-24 | 1980-08-19 | Citizen Watch Co., Ltd. | Package for an integrated circuit having a container with support bars |
JPS5632736A (en) * | 1979-08-24 | 1981-04-02 | Nec Corp | Sealing method of hybrid integrated circuit device |
DE3040867C2 (de) * | 1980-10-30 | 1985-01-17 | Telefunken electronic GmbH, 7100 Heilbronn | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung |
JPS5814545A (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-27 | Citizen Watch Co Ltd | Icの実装方法 |
JPS5880845A (ja) * | 1981-11-09 | 1983-05-16 | Hitachi Ltd | 固体撮像装置の製造方法 |
US4477828A (en) * | 1982-10-12 | 1984-10-16 | Scherer Jeremy D | Microcircuit package and sealing method |
JPS59145534A (ja) * | 1983-02-09 | 1984-08-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体デバイスの封止方法 |
JPS59159547A (ja) * | 1983-03-03 | 1984-09-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体素子の保護方法 |
JPS6017936A (ja) * | 1983-07-12 | 1985-01-29 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用樹脂組成物 |
US4818812A (en) * | 1983-08-22 | 1989-04-04 | International Business Machines Corporation | Sealant for integrated circuit modules, polyester suitable therefor and preparation of polyester |
JPS6080258A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-08 | Fuji Xerox Co Ltd | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
JPS60111431A (ja) * | 1983-11-21 | 1985-06-17 | Toshiba Corp | 電子部品の製造方法 |
JPS60154543A (ja) * | 1984-01-24 | 1985-08-14 | Nec Corp | 合成樹脂基板を用いた半導体装置 |
JPS60222450A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-07 | Mitsui Toatsu Chem Inc | リジンエステルトリイソシアナ−トの製造方法 |
JPS6153321A (ja) * | 1984-08-23 | 1986-03-17 | Toshiba Corp | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた樹脂封止型半導体装置 |
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