DE3708876A1 - Verfahren zur herstellung eines gesinterten gegenstandes aus siliziumnitrid mit sehr guter hochtemperatur-festigkeit und durch das verfahren erzeugter gegenstand - Google Patents
Verfahren zur herstellung eines gesinterten gegenstandes aus siliziumnitrid mit sehr guter hochtemperatur-festigkeit und durch das verfahren erzeugter gegenstandInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung eines
gesinterten Gegenstandes, der hauptsächlich aus Siliziumnitrid
gebildet ist (später als "gesinterter Siliziumnitrid-
Gegenstand" bezeichnet), insbesondere einem hochfesten gesinterten
Gegenstand, der keinen Festigkeitsabfall bei hohen
Temperaturen von 1000°C und darüber zeigt, und betrifft
einen durch dieses Verfahren hergestellten Gegenstand.
Da der Werkstoff Siliziumnitrid einen kleinen Temperaturdehnungskoeffizienten,
eine hohe thermische Leitfähigkeit,
geringe Dichte und hohe Bruchfestigkeit besitzt, wird auf
der ganzen Welt daran gearbeitet, Gegenstände aus gesintertem
Siliziumnitrid als technische Keramik (hochwärmefestes
Baumaterial) herzustellen.
Reines Siliziumnitrid läßt sich nur sehr schwer sintern.
Gesinterte Gegenstände aus Siliziumnitrid wurden bisher
durch ein der beiden folgenden Verfahren erzeugt:
- (1) Es wird Siliziumnitridpulver mit MeO (ein Metalloxid wie z. B. MgO) gemischt und das entstandene Gemisch gesintert; dabei entsteht ein Metall-Silikat (flüssige Phase) in dem gesinterten Gemisch.
- (2) Siliziumnitridpulver wird gemischt mit MeO x -Me′O y (z. B. Al2O3 · Y2O3), das entstandene Gemisch wird aufgeheizt, und dadurch entsteht eine flüssige Phase in dem gesinterten Gemisch, und das gesinterte Gemisch wird einer Nachbehandlung zur Rekristallisierung des Flüssigphasenanteils unterzogen.
Bei den nach dem Verfahren (1) erzeugten Gegenständen bleibt
das Me-Silikat als glasartige oder amorphe Phase kontinuierlich
in den Zwischenräumen zwischen den Siliziumnitridteilchen
erhalten. Bei dem nach dem Verfahren (2) erhaltenen
gesinterten Gegenstand sind, da Sauerstoff in den pulverisierten
Rohmaterialien mitgeschleppt wird, die Korngrenzen
nicht vollständig kristallisiert, und glasartige Phasen
existieren auch hier in einer zusammenhängenden Verteilung.
In beiden Fällen besteht der Nachteil, daß deshalb bei erhöhten
Temperaturen der gesinterte Gegenstand einen bemerkenswerten
Festigkeitsabfall zeigt.
Daneben wurde ein Verfahren berichtet (Journal of American
Ceramic Society, Bd. 66, Heft 12, S. 835-839), bei dem außer
MeO x , wie Ce2O3, auch SiO2 dem Siliziumnitridpulver hinzugefügt
wurde und das entstehende Gemisch gesintert wurde. Nach diesem
Verfahren ist jedoch die hinzuzufügende MeO x -Menge größer
als die des hinzuzufügenden SiO2, und das Molarverhältnis
SiO2/MeO x steigt nicht über 10 an.
In diesem Fall wird eine Kristallphase wie β-Si3N4 in dem
gesinterten Gegenstand eines Si3N4-SiO2-CeO2-Systems entdeckt.
Es wird jedoch ein großes Volumen an Flüssigphase
gebildet und besteht dann nach dem Sintern als amorphe
Phase weiter. Infolge des hohen Anteils dieser glasartigen
oder amorphen Phase ergibt sich auch bei dem so hergestellten
Gegenstand ein Abfall der Festigkeit bei erhöhten Temperaturen,
wie in S. 838, Fig. 3 und 5 der erwähnten Veröffentlichung
dargestellt ist.
Damit ist der allgemein bestehende Wunsch, einen gesinterten
Gegenstand aus Siliziumnitrid mit hoher Festigkeit bei normaler
Raumtemperatur herzustellen, der diese hohe Festigkeit
auch bei erhöhten Temperaturen beibehält, nicht erfüllt
worden.
Damit bleibt es weiterhin Ziel dieser Erfindung, ein Verfahren
zur Herstellung eines gesinterten Siliziumnitridgegenstandes
zu schaffen, der auch bei erhöhten Temperaturen wie
1000° und mehr die erwünschte hohe Festigkeit aufweist.
Gleichzeitig ist es Ziel der Erfindung, ein praktikables
Verfahren zur Herstellung eines solchen Gegenstandes zu
schaffen.
In langen Versuchsreihen hat es sich gezeigt, daß der angestrebte
gesinterte Gegenstand aus Siliziumnitrid erzielt werden
kann, wenn erfindungsgemäß Siliziumnitridpulver mit besonders
angegebenen Anteilen von SiO2 und einem hochschmelzenden
Metalloxid gemischt und das entstehende Gemisch gesintert
wird.
Damit schafft die Erfindung ein Verfahren zur Erzeugung eines
gesinterten Gegenstandes, der hauptsächlich aus Siliziumnitrid
besteht und auch bei erhöhter Temperatur seine ausgezeichnete
Festigkeit beibehält, das darin besteht, daß Siliziumnitridpulver
mit pulverisiertem SiO2 und einem pulverisierten
Metalloxid gemischt wird, wobei das Metall Yttrium
oder ein seltenes Erdmetall der Lanthan-Reihe ist, und zwar
in solchen Anteilen, daß der Anteil der SiO2-Pulvers in dem
Bereich von 0,1 bis 0,7 mol und das des Metalloxidpulvers
in dem Bereich von 0,001 bis 0,005 mol, bezogen auf 1 mol
Siliziumnitridpulver, liegt, und das Molverhältnis des
IO2-Pulvers zu dem Metalloxidpulver nicht kleiner als 10
ist, und daß daraufhin das entstandene Gemisch gesintert
wird.
Erfindungsgemäß entsteht ein gesinterter Gegenstand, der
hauptsächlich aus Siliziumnitrid gebildet ist und seine Festigkeit
auch bei erhöhten Temperaturen beibehält, der sich
dadurch auszeichnet, daß er Siliziumnitridteilchen,
Si2N2O-Kristallphasen und ein Metall-Silikat enthält,
von dem zumindestens ein Teil eine glasartige Phase bildet, daß
eine Korngrenzenphase des gesinterten Gegenstands aus einer kristallinen
Si2N2O-Phase und dem Metallsilikat zusammengesetzt ist, und
daß die glasartige Phase nicht zusammenhängend, sondern als
unterbrochene Verteilung vorhanden ist.
Die dieser Beschreibung beigefügte Zeichnung zeigt
Fig. 1 Röntgenstrahl-Beugungsdiagramme gesinterter, unter
unterschiedlichen Bedingungen hergestellter Gegenstände,
und
Fig. 2 eine schematische Darstellung eines Mikroschliffes
eines auf erfindungsgemäße Weise hergestellten
gesinterten Gegenstandes aus Siliziumnitrid.
Es wird 1 mol Siliziumnitridpulver mit 0,1 bis 0,7 mol SiO2
und 0,001 bis 0,05 mol von Metalloxid oder -oxiden gemischt,
wobei als Metall ein oder mehrere der folgenden Metalle Verwendung
finden: Yttrium und die seltenen Erden der Lanthan-
Reihe, wie La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Db, Ho, Er,
Tm, Yb und Ln, wobei das Molverhältnis von SiO2 zu dem
Metalloxid auf einen Pegel eingestellt wird, der nicht unter
10 liegt. Das so entstandene Gemisch wird dann gesintert.
Das Sintern wird bei einer Temperatur im Bereich von beispielsweise
1700° bis 1900°C ausgeführt. Es kann ohne
Druck (d. h. unter Umgebungsdruck), durchgeführt werden, jedoch
ergeben sich Vorteile bei der Kompaktheit des gesinterten
Gegenstandes, wenn der Sinterungsvorgang mit Druckgas
oder unter Verwendung einer Heißpresse durchgeführt
wird.
Oxide, die vom praktischen Gesichtspunkt vorteilhaft eingesetzt
werden können, sind CeO2, Y2O3, La2O3 und Nd2O3. Wenn
SiO2-Pulver und das Metalloxidpulver in den genannten Anteilen
mit Siliziumnitridpulver gemischt werden, d. h. so, daß
der Anteil von SiO2-Pulver in den Bereich von 0,1 bis 0,5 mol
und der des Metalloxidpulvers in den Bereich von 0,01 bis
0,02 mol, beides auf 1 mol Siliziumnitridpulver bezogen, und
das Molverhältnis des SiO2-Pulvers zu dem Metalloxidpulver
in den Bereich von 15 bis 75 fällt, so ergibt sich ein gesinterter
Gegenstand mit besonders hoher Festigkeit.
Der so hergestellte gesinterte Gegenstand enthält 22 bis 84 Gew%
Siliziumnitridpartikel, 15 bis 70 Gew% Si2N2O Kristallphase
und 0,3 bis 7,5 Gew% Metall-Silikat. Zu den besonders
für das Metallsilikat vorteilhaften Metallen gehören Zer,
Yttrium, Lanthan und Neodym.
In der Darstellung der Fig. 1 sind Röntgenstrahl-Beugungsdiagramme
von gesinterten Gegenständen gezeigt, die unter
unterschiedlichen Bedingungen hergestellt wurden. Die Kurve
(d) zeigt die Beugungskurve bei einem gesinterten Gegenstand,
bei dem CeO2 als Metalloxid eingesetzt wurde, und der SiO2
bzw. CeO2 in Anteilen von 0,25 mol bzw. 0,02 mol je mol Siliziumnitridpulver
enthält. Das Molverhältnis SiO2 zu CeO2
ist also 12,5. Dabei sind die Brechungswinkel von α-Si3N4
mit ○ bezeichnet, ⚫ bezeichnet β-Si3N4 und ∇ bezeichnet
Si2N2O.
Der erfindungsgemäße gesinterte Gegenstand, der auf die angegebene
Weise hergestellt ist, setzt sich also, wie die
Kurve (d) zeigt, aus Siliziumnitrid des β-Typs, einer
Kristallphase Si2N2O und einer amorphen oder glasigen Phase
eines anderen Metallsilikates (das in der Kurve nicht erscheint)
zusammen. In diesem Fall ist Si2N2O in großem Anteil
vorhanden, wie die Spitzen bei 2 R = 20 und 26 anzeigen,
während die glasartige Phase des Metallsilikates in geringem
Anteil vorhanden ist und keine Siliziumnitridpartikel
umschließt. Dazu ist die glasartige Phase nicht kontinuierlich
verteilt, sondern in jeweils unterbrochener Verteilung vorhanden.
Praktisch die gesamte glasartige Phase besteht in
der Nähe der Tripelpunkte der Siliziumnitridpartikel innerhalb
der Korngrenzen. Damit zeigt dieser gesinterte Siliziumnitridgegenstand
nur einen sehr geringen Abfall der Festigkeit
bei erhöhter Temperatur.
Es kann vorkommen, daß das Metallsilikat statt in der erwähnten
glasartigen Phase auch in Kristallphase auftritt. Diese
Kristallphase tritt dann auf, wenn der erzeugte gesinterte
Gegenstand einer Wärmebehandlung unter bestimmten Bedingungen
unterworfen wird, bei der die glasartige Phase an den
Korngrenzen kristallisiert.
Aus den Untersuchungen, die bei der Entwicklung der Erfindung
gemacht wurden, kann der Schluß gezogen werden, daß der
gesinterte Gegenstand aus Siliziumnitrid, wie er bisher beschrieben
wurde, mit dem folgenden Mechanismus entsteht.
Siliziumnitrid tritt in zwei Formen, nämlich als α-Siliziumnitrid
(Niedertemperatur-Typ) und als β-Siliziumnitrid
(Hochtemperatur-Typ) auf. Das als Rohmaterial benutzte Siliziumnitrid
besteht zu etwa 90% aus α-Siliziumnitrid. Wenn
das Siliziumnitridpulver mit dieser Zusammensetzung mit
SiO2 und dem Metalloxid gemischt und dann gesintert wird,
schmilzt Siliziumnitrid in die in dem Sintergemisch gebildete
Flüssigphase hinein. Ein Teil des Siliziumnitrids, das
sich als Schmelze in die Flüssigphase begeben hat, reagiert
mit SiO2 und demzufolge entsteht Si2N2O. Der größere Teil
des restlichen Siliziumnitrids wird in β-Siliziumnitrid gewandelt,
d. h. umkristallisiert. Wenn das SiO2 und das genannte
Metalloxid in den erfindungsgemäß angegebenen Anteilen
hinzugefügt werden, entsteht bei dem Gemisch eine flüssige
Phase, die es einem Anteil von α-Siliziumnitrid erlaubt,
einzuschmelzen, und damit kann das geschmolzene Siliziumnitrid
in der Flüssigphase mit SiO2 reagieren und einen
großen Anteil von kristallinem Si2N2O bilden. Gleichzeitig
nimmt mit der Erhöhung des Anteils an so gebildetem Si2N2O
das in Flüssigphase vorhandene Metallsilikat ab, und zwar
in einem solchen Anteil, daß der geringe ursprünglich
zugegebene Metalloxidanteil eine glasartige Phase
aus Metallsilikat bildet.
Bei dem erfindungsgemäßen gesinterten Gegenstand sind deswegen
die Siliziumnitridteilchen durch einen großen Anteil
kristallinem Si2N2O umgeben, das die Siliziumnitridteilchen
"benetzen" kann. Damit erstarrt der gesinterte Gegenstand
beim Abkühlen sehr leicht, und die glasartige Phase von
Metallsilikat ist kaum in der Nähe der Tripelpunkte der
Siliziumnitridpartikel vorhanden, und kann auf diese Weise
keine kontinuierlichen Gebiete erfüllen. Damit kann dieser
Gegenstand bei erhöhten Temperaturen, wenn zusammenhängende
Gebiete von Metallsilikat zu Gleitungen führen würden, keine
Festigkeitsabfälle erleiden, auch nicht bei mehr als 1000°C.
Eine schematische Darstellung eines vergrößerten Mikroskopschliffes
nach Fig. 2 zeigt das Gefüge eines gesinterten
erfindungsgemäßen Gegenstandes. In dieser Darstellung sind
die leergehaltenen Gebiete 1 Kristallteilchen aus Si3N4,
die schraffierten Gebiete 2 sind kristalline Teilchen aus
Si2N2O, die punktierten Gebiete 3 sind kristalline Metallsilikat-Teilchen
und nur die geschwärzten Flächen 4 zeigen glasartige
Metallsilikat-Phasengebiete an.
Falls der Anteil hinzugefügten Metalloxides, bezogen auf den
SiO2-Anteil, den vorhin erwähnten Bereich überschreitet, nimmt
der Volumenanteil des glasartigen Metallsilikates zu, und
demzufolge nimmt die Festigkeit des gesinterten Gegenstandes
bei höheren Temperaturen ab.
Die Röntgenstrahl-Beugungskurven (a), (b) und (c) sind an
gesinterten Gegenständen aus Si3-N4-SiO2-CeO2-Gemischen ähnlich
dem, an dem Kurve (d) erhalten wurde, gewonnen. Wie jedoch nachher
gezeigt wird, ist nur der gesinterte Gegenstand, an dem das
Diagramm (c) gewonnen wurde, erfindungsgemäß gestaltet, während
die gesinterten Gegenstände, an denen die Diagramme (a)
und (b) gewonnen wurden, nicht der Erfindung entsprechen.
Die gesinterten Gegenstände (a) und (b) sind aus Gemischen
gefertigt, bei denen auf 1 mol Siliziumnitrid 0,233 mol
SiO2 und kein CeO2 hinzugefügt wurden. Die gesinterten Gegenstände
(a) und (b) sind jeweils bei Temperaturen von
1800°C bzw. 1850°C heißgepreßt worden. Der gesinterte
Gegenstand (c) ist dagegen aus einem Gemisch entstanden,
bei dem 0,233 mol SiO2 und 0,008 mol CeO2 auf ein mol Siliziumnitrid
gemischt und mit einer Heißpresse bei 1800° gesintert
wurde.
Die Beugungskurven zeigen folgendes an:
Die Kurve (a) zeigt, daß bei dem Siliziumnitrid ein hoher Anteil von Niedrigtemperatur-α-Typ vorhanden ist, und dieses α-Siliziumnitrid schmilzt in die Flüssigphase ein, die sich beim Ausheizen des Gemisches bei erhöhten Temperaturen bildet, und das β-Siliziumnitrid wird in kleinem Anteil während der Kristallisation gebildet. Es ist kein Anzeichen für die Bildung von Si2N2O vorhanden (die Spitzen bei 2 R = 20°, 26° und um 35 ... 40° fehlen in der Kurve (a) vollständig).
Die Kurve (a) zeigt, daß bei dem Siliziumnitrid ein hoher Anteil von Niedrigtemperatur-α-Typ vorhanden ist, und dieses α-Siliziumnitrid schmilzt in die Flüssigphase ein, die sich beim Ausheizen des Gemisches bei erhöhten Temperaturen bildet, und das β-Siliziumnitrid wird in kleinem Anteil während der Kristallisation gebildet. Es ist kein Anzeichen für die Bildung von Si2N2O vorhanden (die Spitzen bei 2 R = 20°, 26° und um 35 ... 40° fehlen in der Kurve (a) vollständig).
Die Kurve (b) zeigt, daß bei der etwas erhöhten Temperatur
von 1850°C außer dem gleichen Anteil von α- und β-Siliziumnitrid
wie beim Gegenstand (a) auch noch kleinere Anteile
von Si2N2O auftreten.
Das bedeutet, daß dann, wenn nur SiO2 hinzugefügt wird,
Si2N2O auch bei den Schmelzpunkt von SiO2 überschreitenden
Temperaturen nur in kleinem Anteil gebildet wird, und damit
wird die "Benetzbarkeit" der Siliziumnitridpartikel mit dem
flüssigen SiO2 gering, die Kompaktierung des gesinterten
Gegenstandes wird nicht so weit gefördert, und die angestrebte
Beibehaltung hoher Festigkeit bei erhöhten Temperaturen
kann nicht in dem durch die Erfindung angestrebten
Maß erzielt werden.
Im Gegensatz dazu sind in der Kurve (c) bei einem Gegenstand,
der auch CeO2 enthält, Anzeichen vorhanden, daß sowohl
β-Siliziumnitrid als auch Si2N2O in größeren Anteilen auftreten.
In der Kurve (d) sind praktisch nur Spitzen vorhanden,
die β-Siliziumnitrid und Si2N2O anzeigen.
Aus diesen Kurven ist zu ersehen, daß bei den ohne Zusatz von
CeO2 hergestellten Gegenständen, deren Diagramme mit (a) und
(b) bezeichnet sind, die Umwandlung von Siliziumnitrid vom
α- in den β-Typ nicht weiter fortgeschritten ist, und die
Ausbildung von Si2N2O2 nicht ausreicht, während bei den gesinterten
Gegenständen nach Kurven (c) und (d) mit Hinzufügung
von CeO2 die Umwandlung von Siliziumnitrid in
β-Siliziumnitrid fortgeschritten oder praktisch vollständig
und die Ausbildung von Si2N2O beträchtlich ist. Wenn SiO2
und eines der genannten Metalloxide zu dem Siliziumnitridpulver
hinzugemischt wird mit einem Molverhältnis, das
kleiner als 10 ist, wird jedoch, auch wenn der gebildete
Anteil von Si2N2O groß ist, die glasartige Phase des Metallsilikates
so zahlreich vorhanden sein, daß eine kontinuierliche
Verteilung an den Korngrenzen der Silizium-Nitridkörner
gebildet wird, und dadurch ergibt sich ein ähnliches
Korngrenzenverhalten wie bei dem nach dem üblichen Verfahren
hergestellten Gegenstand aus Siliziumnitrid.
Bei den gezeigten Röntgenstrahl-Beugungsdiagrammen können
keine Spitzen des Ce-Si-O-N-Systems erfaßt werden, da das
vorhandene Metallsilikat in diesem System als amorphe oder
glasartige Phase vorhanden ist, die keine scharfen
Brechungswinkel ergibt.
Die Erfindung wird nachfolgend noch an einem Ausführungsbeispiel
und einem Vergleichsbeispiel beschrieben.
Es wurden unterschiedliche Zusätze in unterschiedlichen Anteilen
mit Siliziumnitridpulver gemischt. In einer nicht
oxidierenden Atmosphäre von Stickstoff und Argon wurden die
so erhaltenen Gemische mit Heißpreßsintern unter Benutzung
einer Kohlenstofform während 60 min mit einem Druck von
490 bar (500 kp/cm2) gesintert. Ein rechtwinkliger Stab von
3 × 4 × 40 mm3 wurde aus jedem gesinterten Gegenstand
herausgeschnitten und bei 1200°C und 1300°C nach dem Dreispitzenverfahren
auf Bruchfestigkeit untersucht. Die Herstell-
Bedingungen und die Resultate der Untersuchung sind
in Tabelle 1 zusammengefaßt.
Gesinterte Gegenstände wurden mit dem gleichen Verfahren
wie bei dem Ausführungsbeispiel hergestellt, jedoch waren
die verschiedenen Zusätze nicht in erfindungsgemäßem Rahmen.
Die Gegenstände wurden unter den gleichen Bedingungen
wie beim Ausführungsbeispiel auf Bruchfestigkeit untersucht.
Die Herstellbedingungen und die Untersuchungsergebnisse
sind in Tabelle 2 zusammengefaßt.
Aus Tabellen 1 und 2 ist klar zu ersehen, daß die erfindungsgemäßen
gesinterten Siliziumnitrid-Gegenstände, gemäß dem
erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt, sehr zufriedenstellende
Festigkeitsergebnisse bei erhöhter Temperatur
aufwiesen.
Claims (6)
1. Verfahren zur Herstellung eines gesinterten Gegenstandes
mit überwiegendem Anteil an Siliziumnitrid mit verbesserter
Festigkeit bei erhöhten Temperaturen, dadurch
gekennzeichnet, daß Siliziumnitridpulver
mit SiO2-Pulver und Oxidpulver von einem oder mehreren
der folgenden Metalle: Yttrium und seltene Erden der
Lanthan-Reihe, in solchen Anteilen gemischt werden, daß
der Anteil des SiO2-Pulvers in den Bereich von 0,1 bis
0,7 mol und der Anteil des Oxidpulvers in den Bereich
von 0,001 bis 0,05 mol fällt, jeweils auf 1 mol Siliziumnitridpulver
bezogen, und daß das Molverhältnis von
SiO2-Pulver zu Oxidpulver nicht unter 10 liegt, und daß
danach das erhaltene Gemisch gesintert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß als Oxidpulver CeO2, Y2O3, La2O3
oder Nd2O3 verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das SiO2-Pulver und das Oxidpulver
dem Siliziumnitrid-Pulver in solchen Anteilen hinzugefügt
werden, daß der Anteil von SiO2-Pulver in den Bereich
von 0,1 bis 0,5 mol und der des Oxidpulvers in den
Bereich von 0,001 bis 0,02 mol fällt, jeweils bezogen
auf 1 mol Siliziumnitridpulver, und daß das Molverhältnis
von SiO2-Pulver zu Oxidpulver im Bereich von 15 bis
75 liegt.
4. Gesinterter Gegenstand, der hauptsächlich aus Siliziumnitridpulver
gebildet ist und eine ausgezeichnete Festigkeit
bei erhöhten Temperaturen zeigt, dadurch gekennzeichnet,
daß der gesinterte Gegenstand
Siliziumnitridteilchen, kristallines Si2N2O und ein Metallsilikat
enthält, von dem mindestens ein Teil eine glasartige
Phase bildet, daß der gesinterte Gegenstand eine
Korngrenzenphase besitzt, die kristallines Si2N2O und
Metallsilikat enthält, und daß die glasartige Phase in
der Struktur nicht kontinuierlich, sondern diskontinuierlich
verteilt vorhanden ist.
5. Gesinterter Gegenstand nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß der Gehalt an Siliziumnitrid
in den Bereich von 22 bis 84 Gew%, der von kristallinem
Si2N2O in den Bereich von 15 bis 70 Gew% und
der des Metallsilikates in den Bereich von 0,3 bis 7,5 Gew%
fällt.
6. Gesinterter Gegenstand nach Anspruch 4 oder 5, dadurch
gekennzeichnet, daß das Metall des Metallsilikates
Zer, Yttrium, Lanthan oder Neodym ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61062616A JPS62223066A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 高温強度が優れた窒化ケイ素焼結体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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DE3708876A1 true DE3708876A1 (de) | 1987-09-24 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19873708876 Ceased DE3708876A1 (de) | 1986-03-19 | 1987-03-18 | Verfahren zur herstellung eines gesinterten gegenstandes aus siliziumnitrid mit sehr guter hochtemperatur-festigkeit und durch das verfahren erzeugter gegenstand |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62223066A (de) |
DE (1) | DE3708876A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4975394A (en) * | 1987-04-28 | 1990-12-04 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Sintered high density silicon oxnitride and method for making the same |
DE19746286A1 (de) * | 1997-10-20 | 1999-04-22 | Fraunhofer Ges Forschung | Siliciumnitridwerkstoff und Verfahren zu seiner Herstellung |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2742596B2 (ja) * | 1988-02-29 | 1998-04-22 | 京セラ株式会社 | 窒化珪素質焼結体およびその製造方法 |
US5128285A (en) * | 1988-04-14 | 1992-07-07 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Silicon oxynitride sintered body |
JP2742619B2 (ja) * | 1989-11-30 | 1998-04-22 | 京セラ株式会社 | 窒化珪素質焼結体 |
JP2742622B2 (ja) * | 1989-12-27 | 1998-04-22 | 京セラ株式会社 | 窒化珪素質焼結体及びその製造方法 |
JPH0426549A (ja) * | 1990-05-18 | 1992-01-29 | Ngk Insulators Ltd | 耐熱衝撃性窒化珪素焼結体及びその製造法 |
JPH04219372A (ja) * | 1990-12-14 | 1992-08-10 | Kyocera Corp | 窒化珪素質焼結体 |
JP2746759B2 (ja) * | 1990-12-27 | 1998-05-06 | 京セラ株式会社 | 窒化珪素質焼結体 |
-
1986
- 1986-03-19 JP JP61062616A patent/JPS62223066A/ja active Granted
-
1987
- 1987-03-18 DE DE19873708876 patent/DE3708876A1/de not_active Ceased
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4975394A (en) * | 1987-04-28 | 1990-12-04 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Sintered high density silicon oxnitride and method for making the same |
DE19746286A1 (de) * | 1997-10-20 | 1999-04-22 | Fraunhofer Ges Forschung | Siliciumnitridwerkstoff und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE19746286B4 (de) * | 1997-10-20 | 2004-05-27 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Siliciumnitridwerkstoff und Verfahren zu seiner Herstellung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62223066A (ja) | 1987-10-01 |
JPH0258233B2 (de) | 1990-12-07 |
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Date | Code | Title | Description |
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8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8131 | Rejection |