DE3546024A1 - Trocken vorsensibilisierte platte - Google Patents

Description

1. FUJI PHOTO FILM CO., LTD., KANAGAWA-KEN / JAPAN

2. SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD., TOKYO / JAPAN

Trocken vorsensibiLisierte P Latte

Die Erfindung betrifft eine trocken vorsensibiLisierte PLatte für die Verwendung von trockenen FLackdruckpLatten, bei denen man kein Befeuchtungswasser benötigt und bei weLcher aLs Druckfarben abstossende Schicht eine obenauf Liegende Si Liconkautschukschicht vorLiegt.

ZahLreiche trocken vorsensibiLisierte PLatten zur Herstellung von Druckplatten, bei denen man kein Befeuchtungswasser benötigt und bei denen eine Si Liconkautschukschicht, die aLs Druckfarben abstossende Schicht wirkt, verwendet, sind bereits bekannt. So wird in der GB-PS 1 399 949 (japanische Patentveröffent Lichung

■' ϊ -■ » ■* * ,

54-26923) "nd in der japanischen PätentveröffentLichung 56-23150 eine vorsensibiLi sierte PLatte beschrieben aus einem Träger, auf dem sich in der genannten Reihenfolge eine fotohärtbare LichtempfindLi ehe Schicht aus einer fotopoLymerisierbaren Zusammensetzung und darüber eine

SiLiconkautschukschicht befindet und in der 6B-PS 1 419 643 und der DE-PS 23 23 453 (japanische

PätentveröffentLichung 55-22781) wird eine vorsensibiIi sierte PLatte beschrieben mit einem Träger, auf dem sich in der genannten Reihenfolge eine fotohärtbare, Lichtempfindliche Schicht aus einem fotodimerisierbaren Harz und darüber eine Si Liconkautschukschicht befindet. In JP-OS 54-54702 wird eine vorsensibiLi sierte PLatte beschrieben aus einer LichtempfindLichen Schicht einer fotopoLymerisierbaren

Zusammensetzung und einer darüber befindLichen

SiLiconkautschukschicht aus einem OrganopoLysiLoxan und einem VinyItriacy loxysi lan . In der Letztgenannten vorsensibiLisierten PLatte ist es mögLich, den GehaLt an eth.ylen-i.sch ungesättigtem Monomer in der LichtempfindLichen Schicht zu vermindern und infοLgedessen die Abscheidung von Druckpapierpulver, Druckfarben, Sch Lamm oder Staub auf der LichtempfindLichen Schicht zu verhindern und dadurch nicht mit Bildern beaufsch Lagte Flächen auf der Si Liconkautschukschicht auszubilden mit einer erhöhten Adhäsionsfestigkeit an der lichtempfindlichen Schicht, wodurch man nicht mit Bildern beaufschlagte FLächen

auf der Siliconkautschukschicht mit einer hohen

Beständigkeit gegenüber Kratzern während der Entwicklung

oder eines Druckverfahrens erhält.

Diese Arten von vorsensibiLi sierten Platten haben jedoch

Eigenschaften, die, je nach den Umständen, darin bestehen, dass die Si Liconkautschukschicht fest an der fotoadhäsiven Lichtempfindlichen Schicht anhaftet, sobaLd sie auf der Lichtempfindlichen Schicht vorgesehen ist. Wenn man daher die vorsensibiLisierte Platte nicht ausreichend nach einer bildhaften Belichtung entwickelt, dann wird die Si Liconkautschukschicht auf den Bildflächen unvollständig entfernt, so dass die erhaltene trockene Druckplatte eine schlechte Wiedergabe von feinen Punkten ergibt. Wird die PLattenoberf lache zu stark während der Entwicklung gerieben, um die Wiedergabe von feinen Punkten zu verbessern, dann wird die Si Liconkautschukschicht in den nicht mit einem Bild beaufschlagten FLächen beschädigt und eine so zubereitete trockene Druckplatte zeigt schlechte Druckeigenschaften, d.h. sie ergibt Kopien mit Hintergrundverunreinigungen und anderen Defekten. Um dies.zu vermeiden, muss man die PLattenoberfIac he mit einem weichen EntwickLungspoLster vorsichtig reiben und dadurch wird die Zeit für die Entwicklung verlängert.

Die Erfinder der vorliegenden Anmeldung haben zahlreiche Untersuchungen vorgenommen, um die vorgenannten Nachteile zu vermeiden und sie haben die vorliegende Erfindung gemacht, mittels welcher man eine vorsensibiLisierte Platte zur Herstellung von FLachdruckpLatten erhält, bei denen man kein Befeuchtungswasser benötigt und bei denen auf einen Träger in der genannten Reihenfolge eine Lichtempfindliche Schicht aufgetragen ist aus einem fotodimerisierbaren Harz und eine SiLiconkatschukschicht

aus einem Organopolysiloxan, das mit einem

Vernetzungsmittel gehärtet ist. Das VernetzungsmitteL

umfasst eine reaktive Si lanverbindung mit einer

Kohlenstoff-KohLenstoff-DoppeLbindung, an welcher das

Siliciumatom nicht direkt gebunden ist. Die erfindungsgemässe vorsensibiIisierte Platte zeigt

gute Entwicklungseigenschaften und eine gute Wiedergabe von feinen Punkten, d.h. dass man sie leicht entwickeln kann unter Ausbildung einer trockenen Flachdruckp latte, bei welcher die Siliconkautschukschicht in den nicht

mit einem Bild beaufschlagten Flächen fest an der lichtempfindlichen Schicht anhaftet.

Der bei der vorliegenden Erfindung verwendete Träger muss flexibel sein, so dass er in eine Druckmaschine eingebracht werden kann und er muss beständig gegenüber der Belastung bei dem Druckverfahren sein-. Typische Beispiele für solche Träger sind Metallplatten aus Aluminium, Kupfer, Stahl etc., oder Filme oder Folien aus einem Plastikmaterial, wie Polyethylenterephthalat, beschichtetem Papier, Kautschukplatten etc..

Ein Verbundträger aus einem Träger mit Kautschukelastizität oder einer kautschukelastischen Schicht und einem zylindrischen Träger kann bei der vorliegenden Erfindung ebenfalls verwendet werden.

Für die Antihalationswirkung oder für andere Zwecke kann eine Unterbeschichtung auf dem Träger vorgesehen sein.

Die Lichtempfindliche Schicht aus einem fotodimerisierbaren Harz, welches erfindungsgemäss verwendet werden kann, ist so ausgebildet, dass die darüber befindliche Siliconkautschukschicht beim Bestrahlen mit aktivem Licht fest daran haftet. Die Dicke der lichtempfindlichen Schicht ist nicht besonders begrenzt unter der Voraussetzung, dass die Schicht gleichmässig auf dem Träger aufgebracht ist, aber sie liegt vorzugsweise im Bereich von 0,05 bis 100,um und noch bevorzugter bei 0,1 bis 10,um. Erforderlichenfalls kann eine Verankerungsschicht oder eine Adhäsionsschicht zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht vorgesehen sein, um die Anhaftung zu verbessern oder aus Antihalationsgründen.

Das erfindungsgemäss verwendete fotodimerisi erbare Harz schliesst Polyester, Polycarbonate, Polyamide, Polyacrylate und PolyvinylaIkohoIderivate, die als Haupt- oder Seitenkette eine Gruppe der Formeln

-CH = CH - CO -

oder

1 2
worin R i'nd R eine ALkylgruppe mit 1 bis 10

KohLens torfatomen bedeuten, ein. Das MoLekuLargewicht dieser Harze ist nicht besonders begrenzt, solange diese Harze in einem Lösungsmittel löslich sind, aber im allgemeinen ist es vorteilhaft, das Molekulargewicht im Bereich von 1.000 bis einigen Zehntausend zu wählen. Bevorzugte Beispiele für solche Polymere sind ■: Lichtempfindliche Polymere mit einer lichtempfindlichen Gruppe als Hauptkette, z.B. ein lichtempfindlicher Polyester aus p-PhenylendiacryIsäure und einem Diol (US-PSen 3 030 208 und 3 707 373), ein lichtempfindliches Polymer, z.B. ein lichtempfindlicher Polyester aus einer 2-Properidinmalonsäure-Verbindung, wie Cinnamy IidenmaLonsäure und einem bifunktione I len Glykol gemäss US-PSen 2 956 878 und 3 173 787 und ein lichtempfindliches Polymer wie ein Cinnamat eines Hydroxygruppen enthaltenden Polymers, wie Polyvinylalkohol, Stärke, Cellulose oder einem Analogen davon, gemäss US-PSen 2 690 966, 2 752 372 und 2 732 301, die alle durch die Bestrahlung mit aktivem Licht unlöslich werden.

Fotosensibi Iisatoren, die in der lichtempfindlichen Schicht gemäss der vorliegenden Erfindung inkorporiert sein können, schliessen solche ein, die in den US-PSen 2 610 120, 2 670 285, 2 670 286, 2 670 287, 2 690 966,

2 732 301, 2 835 656, 2 956 878, 3 023 100, 3 066 117,

3 141 770, 3 173 787, 3 357 831, 3 409 593, 3 418 295, 3 453 110, 3 475 617, 3 561 969, 3 575 929, 3 582 327, 3 647 470, 3 721 566 und 3 737 319 beschrieben werden. Spezielle Beispiele für besonders brauchbare FotosensibiIisatoren

sind 2~BenzoylmethyLen-1-methyl-beta-naphthothiazolin, 5-Νίtro-acenaphthen, beta-ChLoroanthrachinon, 1,2-Benzalanthrachinon, ρ,ρ'-Tetraethyldiaminodiphenylketon, ρ,ρ'-Di met hyLaminobenzophenon und 4-Nitro-2-chloraniLi η. Die FotosensibiLisatoren werden vorzugsweise in einer Menge von 0,5 bis 15 Gew.% und insbesondere 2 bis 8 Gew.%, bezogen auf das Gewicht des Lichtempfindlichen Polymers, verwendet.

Ausser den vorgenannten FotosensibiLisatoren können eine oder mehrere der nachfolgenden FotosensibiLisatoren zur Beschleunigung der Lichtadhäsion zwischen der lichtempfindlichen Schicht und dem Siliconkautschukharz inkorporiert werden: (1) vicinale PoLyketaLdonyL-Verbindungen gemäss US-PS 2 367 660; (2) a Ipha-CarbonyL-a IkohoL-Verbindungen gemäss US-PSen 2 367 661 und 2 367 670; (3) AcyLoinether-Verbindungen gemäss US-PS 2 448 828; (4) aromatische AcyLoin-Verbindungen, die durch eine Koh lenwasserstoffgruppe in der aLpha-SteI lung substituiert sind, gemäss US-PS 2 722 512 und mehrkernige Chinon-Verbindungen gemäss US-PSen 3 046 127 und 2 951 758; (5) Kombinationen von TriaryLi midazoLdimer und p-AminophenyLketon gemäss US-PS 3 549 367;

(6) Benzothiazol-Verbindungen gemäss US-PS 3 870 524;

(7) Kombinationen von Benzothi azoL-Verbindungen und Trihalomethyl-s-triazin-Verbindungen gemäss US-PS 4 239 850; (8) Acridin- und Phenazin-Verbindungen gemäss US-PS 3 751 259; und (9) OxadiazoL-Verbindungen gemäss US-PS 4 212 970.

Ausser den vorgenannten Komponenten können erforderlichenfalls

Additive, wie ein Farbstoff, ein Pigment, ein Weichmacher und ein Po .ymerisationsinhibitor in die Lichtempfindliche Schicht eingebracht werden.

Die Si Liconkautschuk-Zusammensetzung, die zur Herstellung

der Si Liconkautschukschicht gemäss der Erfindung

verwendet werden kann, umfasst als Hauptkomponente ein Lineares OrganopoLysiLoxan mit einem MoLekuLargewicht von 2.000 bis 900.000 mit der nachfolgenden wiederkehrenden

Einheit

R³

-4 Si — 0 3— R³

worin R eine Alkyl- oder Phenylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen bedeutet und wobei vorzugsweise mehr als 60 % der R -Gruppen Methyl bedeuten.

Dieses Lineare 0rganopoLysiloxan wird mit einem reaktiven Vernetzungsmittel unter Ausbildung eines vernetzten Silikonkautschuks vermischt. Vernetzungsmittel, die bei einem bei Raumtemperatur vulkanisierenden Siliconkautschuk verwendbar sind, schliessen ein Silan ein, wie Acetoxysilan, ein Ketoximsilan, ein Aminosilan, ein Amidosilan, ein Alkoxysilan und ein Vinyloxysi lan, und ein 0rgano-Wasserstoff-PoIysiloxan. Das Vernetzungsmittel reagiert mit einer endständigen Hydroxygruppe des linearen Organopo lysi loxans unter Ausbildung eines vernetzten Siliconkautschuks. Die Vernetzungsmittel werden vorzugsweise in einer Menge von 1 bis 20 Gew.%,

bezogen auf das Gewicht des Linearen organischen Polysiloxans verwendet.

Die vorliegende Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass der gesamte Teil oder ein Teil des Vernetzungsmittels, welches üblicherweise zum Härten der Siliconkautschukschicht verwendet wird, durch eine reaktive Si lanverbindung ersetzt wird, welche eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung, an welche ein Siliciumatim nicht direkt gebunden ist, enthält und wodurch man eine trocken vorsensibiIisierte Platte mit einer guten Feinpunktwiedergabe erhält.

Die Erfinder der vorliegenden Anmeldung haben auch eine reaktive Si lanverbindung mit einer Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppe Ib i ndung, an welche ein Siliciumatom direkt gebunden ist, untersucht.

Sie haben festgestellt, dass dann, wenn man eine Siliconkautschuk-Zusammensetzung verwendet, sie eine starke Anhaftung an eine lichtempfindliche Schicht aufweisen, entsprechend der JP-OS 54-547Q2, die so erhaltene vorsensibiLi sierte Platte schlechte EntwickLungseigenschaften und eine schlechte Feinpunktwiedergabe aufweist und dass man dann, wenn man eine Siliconkautschuk-Zusammensetzung verwendet, die keine starke Anhaftung' an die lichtempfindliche Schicht aufweist, eine ausreichende Fotoanhaftung, wie sie erfindungsgemäss erzielt wird, nicht erzielen kann und dass die Siliconkautschukschicht auf die nicht mit einem Bild beaufschlagten Flächen zum Teil

während dr Entwicklung entfernt wird.

Eine reaktive Silanverbindung mit einer Kohlenstoff-Kohlenstoff -DoppeLbindung, an welche ein Si Iiciumatom direkt gebunden ist, ergibt keine ausreichende Fotoadhäsion, weil die Reaktivität der Kohlenstoff-Kohlenstoff -Doppe Ibindung durch sterische Hinderung erheblich beeinträchtigt wird. Wenn man dagegen eine reaktive Si lanverbindung gemäss der vorliegenden Erfindung verwendet, bei welcher eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung vorliegt, an welcher.ein Siliciumatom nicht direkt gebunden ist, sondern durch wenigstens ein Atom, dann erzielt man leicht eine ausreichende Fotoadhäsion, weil die Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung relativ beweglich ist und infolgedessen leicht mit der fotoanhaftenden lichtempfindlichen Schicht reagiert. Die reaktive Silanverbindung mit einer Koh lenstoff-Koh lenstoff'-Doppe Ibindung, an welcher ein Siliciumatom nicht direkt gebunden ist, wird vorzugsweise in einer Menge von 1 bis 15 Gew.%, bezogen auf das Gewicht des linearen 0rganopoIysi loxans verwendet.

Bevorzugte Beispiele für die erfindungsgemäss verwendeten reaktiven Si lanverbindungen mit einer Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppe Ibindung, an welcher ein Siliciumatom nicht direkt gebunden ist, haben die Formel

CH₂ = CH(R¹) - R² - SiR³ ₃__nX_n

1
worin R ein Wasserstoffatom oder eine Alkygruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen, R eine zweiwertige verbindende

Gruppe aus einem oder mehreren Kohlenstoff-, Sauerstoffoder Stickstoffatomen, wie -COOC₃H₆-, -CONHC₃H₆-, -COOCH₂CH(OH)CH₂Oc₃H₆-, -CH₂-, -C₂H₄- und -C₃H₆, R eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 KohLenstoffatomen oder eine PhenyLgruppe, X eine hydroLysierbare Gruppe,

wie -OR⁴, -OCOR⁴, -ON = C-R⁴, -N-R⁴ und -OC = CH-,,

• 5 15 «λ ^c R R R

bedeuten und worin R und R gleich oder verschieden sein können und jeweils eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe bedeuten und η 0 oder eine ganze Zahl von 1 bis 3 bedeutet.

Die Siliconkautschuk-Zusammensetzung, die zur Herstellung der erfindungsgemässen Siliconkautschukschicht verwendet wird, enthält im allgemeinen als Katalysator eine geringe Menge eines Metallsalzes einer organischen Carbonsäure, z.B. ein Salz des Zinns, Zinks oder Bleis. Ein Verstärkungsfüllstoff kann der Siliconkautschuk-Zusammensetzung in einer Menge von 0 bis 300 Gew.% zugegeben werden. Der gleiche Fotosensibi I isator, der auch in der lichtempfindlichen Schicht enthalten ist, kann auch in der Siliconkautschuk-Zusammensetzung enthalten sein.

Die Siliconkautschuk-Zusammensetzung wird auf die lichtempfindliche Schicht aufgebracht, unter Ausbildung einer Si liconkautschukschicht.

Um die so hergestellte Siliconkautschukschicht zu schützen, kann man darauf einen dünnen, glatten oder gravierten Schutzfilm oder ein Schutzblatt aus

PoLyethyLenterephthaLat, PoLyethyLen, PoLypropyLen, PoLystyro*., PoLyviny Lch Lori d, PoLyvinyLidenchLorid, CeLLuLosehydrat etc., aufbringen. Ein soLcher SchutzfiLm kann nach der biLdhaften BeLichtung entfernt werden. ALternativ ist es nicht erforder Lieh, den SchutzfiLm vor der biLdhaften BeLichtung zu entfernen, wenn der FiLm ausreichend uLtravioLettes Licht hindurch Lässt und eine Dicke unterhaLb 100.um und vorzugsweise unterhaLb 30.um aufweist, so dass die BiLdschärfe nicht beeinträchtigt wird.

Die trockene, vorsensibiLisierte, erfindungsgemässe PLatte besteht aus einem Träger, auf dem in der genannten ReihenfoLge gewünschtenfa LLs eine KLebeschicht bzw. eine Primerschicht, eine LichtempfindLiche Schicht, eine SiLiconkautschukschicht und gewünschtenfa LLs eine Schutzschicht aufgebracht sind. Die Kautschukschicht soLLte so dünne wie mögLich sein, um eine gute Tonwiedergabe zu erzieLen, aber sie soLL eine ausreichende Dicke haben, um während des Druckes dauerhaft zu sein und um ein Verwischen oder Verschmieren zu vermeiden. Ihre Dicke beträgt deshaLb vorzugsweise 0,5 bis 10,um und noch bevorzugter 1,0 bis 3,0.um. Die Primerschicht und die KLebeschicht soLLen ebenfaLLs so dünn wie mögLich sein, so dass sie aber noch ihre Funktionen erfüLLen können·.

Die erfindungsgemässe vorsensibiLisierte PLatte wird mit Licht durch ein positives Transparent beLichtet und dann mit einem EntwickLer entwickeLt, weLcher die LichtempfindLiche Schicht in den BiLdfLächen (d.h. den

nicht-belichteten Flächen) auflöst und dadurch die lichtempfindliche Schicht und die darüber befindliche Siliconkautschukschicht an den belichteten Flächen entfernt (Typ I) oder mittels eines Entwicklers, welcher selektiv nur die Siliconkautschukschicht auf den Bildflächen schmilzt, um dadurch nur die Siliconkautschukschicht auf den Bildflächen zu entfernen (Typ II). Nach einer der vorgenannten Methoden kann man dann eine trockene Flachdruckplatte, die kein Befeuchtungswasser benötigt, herstellen.

Als Entwickler für die erfindungsgemässe, vorsensibiIi sierte Platte kann man solche verwenden, wie sie üblicherweise für trocken vorsensibi Ii sierte Platten verwendet werden. Vorzugsweise kann man hierzu aliphatische Kohlenwasserstoffe (z.B. Hexan, Heptan, Iso Par E, H und G (Handelsnamen für aliphatische Kohlenwasserstoffe, hergestellt von der Exxon Chemicals Ind. Inc.), Benzin und Kerosin), aromatische Kohlenwasserstoffe (z.B. Toluol und Xylol) oder halogenierte Kohlenwasserstoffe (z.B. Trichlorethylen), denen man die nachfolgenden polaren Lösungsmittel zugegeben hat, verwenden: Wasser, Alkohole (z.B. Methanol und Ethanol), Ether (z.B. Methy lcel loso Ive, EthyIce IlosoIve, ButyIce Iloso Ive, Methylcarbito I, Ethy lcarbitoi, Buty I carbito I und Dioxan), Ketone (z.B. Aceton und Methylethylketon) und Ester (z.B. Ethylacetat, Methy lcel losoIveacetat, Ce IlosoLveacetat und Carbitolacetat).

Ein Farbstoff, wie Kristall-Violett und Astrazone-Rot, kann dem Entwickler zum Anfärben der Bildflächen während der Entwicklung zugegeben werden.

Ί ο

Die Entwicklung kann in üblicher Weise durchgeführt werden, z.B. indem man die mit einem Bild beaufschlagte Platte mit einem Entwicklungsschwamm, in dem der vorgenannte Entwickler aufgesaugt ist, reibt, oder indem man den Entwickler auf die belichtete Platte giesst und dann mit einer Entwicklerbürste reibt.

Durch die Entwicklung werden bei Platten vom Typ I die Si liconkautschukschicht und die lichtempfindliche Schicht in den mit einem Bild beaufschlagten Flächen entfernt und die Oberfläche des Trägers oder der Primerschicht an den entsprechenden Flächen wird freigelegt und ergibt eine Druckfarben aufnehmende Fläche, während bei den Typ II-Platten nur die Si Iiconkautschukschicht an den Bildflächen entfernt wird und die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht in den entsprechenden Flächen freigelegt wird und dadurch Druckfarben aufnehmende Flächen ergibt.

Die erfindungsgemässe, trocken vorsensibi Ii sierte Platte weist verbesserte Entwicklungseigenschaften auf und ergibt eine, verbesserte Wiedergabe von feinen Fpunkten im Vergleich zu trocken vorsensibi Ii sierten Platten des Standes der Technik, bei denen die Siliconkautschukschicht fest an der lichtempfindlichen Schicht schon vor der Belichtung anhaftet und man erhält trockene Flachdruckplatten, bei denen die Siliconkautschukschicht bei den Nicht-Bildflächen fest an der lichtempfindlichen Schicht anhaftet.

Die Erfindung wird ausführlich in den nachfolgenden

Beispielen erläutert.

BEISPIEL 1

Eine glatte, in üblicher Weise entfettete Aluminiumplatte wurde mit einem Primer der nachfolgenden Zusammensetzung in einer Menge von 0,5 g/m (Trockengewicht) beschichtet und getrocknet.

Gew .-TeiIe

lichtempfindlicher, ungesättigter Polyester, erhalten durch Polykondensation von p-Phenylendiacrylsäure und 1,4-Dihydroxy-

ethy loxycyclohexan (1/1 Molverhältnis) 10

i.-Methyl-2-benzoylmethylen-beta-

naphthothiazo Ii η 0,6

N-beta-Aminoethyl-gammaaminopropyltrimethoxysi lan (Silankupplungsmittel KBM-603

der Shinetsu Chemical Co. Ltd.) 0,5

Methylcel losoLveacetat 150

Toluol 150

MethylcellosoLve 150

Die mit der Zusammensetzung beschichtete Aluminiumplatte wurde 30 Sekunden unter Verwendung von ET 26V UDNS ULTRA-PLUS FLIP-TOP PLATE MAKER (hergestellt von nu Are Ind. Inc.) ausgesetzt. Die erhaltene Primerschicht löste sich nicht in der Entwick lungs lösung oder in einem Mi schlösungsmittel (MethylcellosoIveacetat/

Toluol - 2/1 Gew./6ew.) beim Beschichten mit der lichtempfindlichen Zusammensetzung, wenn es in diese eingetaucht wurde, auf.

Die nachfolgende lichtempfindliche Zusammensetzung wurde, auf die Primerbeschichtung in einer Menge von 0,25 g/m (Trockengewicht) aufgebracht und getrocknet.

Gew.-Tei Ie

lichtempfindlicher, ungesättigter Polyester, erhalten durch
Polykondensation von p-PhenyLendiacryIsäureester und 1/4-Dihydroxyethyloxycyclohexan (1/1 Molverhältnis) 10

i-Methyl-2-benzoylmethylen-beta-

naphthothiazoLiΠ 0/6

MICROHTH BLUE 4GK

(Phthalocyanin-Blau-Pigment,

hergestellt von Cina-Geigy Co.) 2

MethyIce I losoIveacetat " 600

Toluol 300

Auf die erhaltene lichtempfindliche Schicht wurde die nachfolgende Siliconkautschuk-Zusammensetzung in einer Menge von 2,0 g/m (Trockengewicht) aufgebracht und unter Erhalt einer Siliconkautschukschicht getrocknet.

Gew.-Tei Ie

Dimethy Ipo Iy siloxan mit einer Hydroxygr-ppe an den beiden

Endgruppen (Molekulargewicht

etwa 600.000) 100

MethyLhydrogenpoLysiLoxan mit

TrimethyLsiLyLgruppen an beiden

Endgruppen (Molekulargewicht

etwa 2.500) 3,5

gamma-Methacryloxypropyl-

trimethoxysi Lan 10

Dibuty Izinndioctoat 2

Iso Par G (hergestellt von

Exxon Chemicals Ind. Inc.) 2.000

: Die so erhaltene Si Liconkautschukschicht konnte von

der Lichtempfindlichen Schicht durch starkes Reiben

j mit dem Finger abgeblättert werden. Wenn man jedoch

( eine Schutzschicht in einer Dicke von 12,um aus

PolypropylenfiLm auf die Siliconkautschukschicht

! a-uf laminierte, unter Verwendung eines First-Electronic-

ί Laminators (hergestellt von Dai-Ichi Denshi Kogyo)

\ erhält man eine vorsensibilisierte Platte, die für

die Praxis verwendbar ist. Die vorsensibilisierte

' Platte wurde 30 "Counts" durch ein positives Transparent

und ein Testbild (d.h. Plain Control Wedge PCW; hergestellt von Gretag Co.) unter Verwendung des

ι "Plate Makers", hergestellt von nu Arc Ind. Inc.,

! belichtet und dann wurde der laminierte Film abgezogen.

Die belichtete Platte wurde 1 Minute in einen Entwickler eingetaucht, der aus 90 Gew.-Teilen Iso Par G, 7 Gew.-Teilen DiethyLenglyko Imonobutylether, 3 Gew,-Teilen DiethyLenglykolmonoethyLether und 5 Gew.-Teilen j DiethyLsuccinat bestand, und dann leicht mit einem

: Entwicklungspolster gerieben. Die lichtempfindliche

Schicht und die Siliconkautschukschicht auf den nicht-beLichteten Flächen wurden schnell entfernt.

Wie vorher dargelegt, war die Adhäsionsfestigkeit zwischen der Si Liconkautschukschicht und der LichtempfindLichen Schicht an den nicht-beLichteten (BiLd) Flächen bei dieser Platte sehr schwach aber sehr fest an den belichteten (Nicht-Bild) Flächen und war beständig bei dem Druckverfahren. Eine so hergestellte Troqken-Druckplatte wurde in eine Druckmaschiene (Heidelberg GTO) eingespannt, bei welcher man die Wasserzufuhr entfernt hatte. Der Druck wurde unter Verwendung von SUMI INK, TOYO KING ULTRA TUK AQUALESS G, hergestellt von Toyo Ink Co., durchgeführt. ALIe Stufen 1 bis 12 (Halbton "Dot"-FLache von 4 bis 96 %) wurden in einem HaLbton-StufenkeiL mit 120 Linien/cm wiedergegeben und man erhielt 30.000 Kopien ohne Hintergrundverschniutzung.

VERGLEICHSBEISPIEL 1

Auf den gleichen Aluminiumträger wie in Beispiel 1 wurde eine Primerschicht und eine IichtempfindLiehe Schicht in gleicher Weise wie in Beispiel 1 aufgebracht.

Auf die Lichtempfindliche Schicht wurde eine

SiLiconkautschukschicht aufgetragen, mit der nachfolgenden

Zusammensetzung und in einer Menge von 2,0 g/m

(Trockengewicht) und dann getrocknet.

Gew.-Tei Le

DimethyLpoLysilo*an mit Hydroxygruppen an beiden Endgruppen (MoLekuLargewicht etwa 000.000) 100

Methy lhydrogenpoLy siLoxan mit TrimethyLsi LyLgruppen an beiden Endgruppen (MoLekuLargewicht etwa

2.500) 3,5

N-beta-(AminoethyL)-gamma-

aminopropyLtrimethoxysi Lan 1

DibutyLzinndioctoat 2

Iso Par G 2.000

Die Si Liconkautschukschicht haftete fest an der LichtempfindLichen Schicht, sobaLd sie auf dieser ausgebi Ldet war.

In gLeicher Weise wie in BeispieL 1 wurde ein PoLypropyLenfiLm auf die Si Liconkautschukschicht aufLaminiert und dann wurden die Eigenschaften der so hergesteLLten vorsensibiLi sierten PLatte bewertet. Die Ergebnisse werden in TabeLLe 1 gezeigt.

VERGLEICHSBEISPIEL 2

Auf den gleichen ALuminiumtrager wie in BeispieL 1 wurde, wie in BeispieL 1, eine Primerschicht und eine LichtempfindLiche Schicht aufgetragen. Auf die LichtempfindLiehe Schicht wurde eine Siliconkautschuk-Zusammensetzung der nachfοLgenden Zusammensetzung in

2
einer Menge von 2,0 g/m (Trockengewicht) aufgetragen

und getrocknet.

Gew.-Teile

Dimethylpolysiloxan mit

Hydroxygruppen an beiden

Endgruppen (MolekuLargewicht

etwa 600.000) 100

Methy lhydrogenpolysiloxan mit Trimethy lsi LyLgruppen an beiden Endgruppen (Molekulargewicht

etwa 2.500) 3,5

VinyLtriacetoxysiLan 4

DibutyLzinndioctoat 2

Iso Par G 2.000

Die SiLiconkautschukschicht der vorsensibiLisierten Platte, entsprechend der in Vergleichsbeispiel 1 erhaltenen, haftete fest an der lichtempfindlichen Schicht, sobald sie darauf aufgetragen wurde.

In gleicher Weise wie in Beispiel 1 wurde ein Polypropylenfilm auf die Siliconkautschukschicht auflaminiert und dann wurden die Eigenschaften der so hergesteLLten vorsensibiIi sierten PLatte bewertet. Die Ergebnisse werden in Tabelle 1 gezeigt.

VERGLEICHSBEISPIEL 3

Auf den gleichen ALuminiumtrager wie in Beispiel 1 wurde, wie in Beispiel 1, eine PM merschi cht und eine lichtempfindliche Schicht aufgetragen. Auf die lichtempfindliche Schicht wurde eine Si Likonkautschuk-Zusammensetzung der nachfolgenden Zusammensetzung in

einer Menge von 2,0 g/m (Trockengewicht) aufgetragen und getrocknet.

Gew.-Tei Le

DimethylpoLysiLoxan mit
Hydroxygruppen an beiden Endgruppen (Molekulargewicht etwa 600.000) 100

MethyLhydrogenpoLysiLoxan mit T'rimethyLsi LyLgruppen an beiden Endgruppen (MoLekuLargewicht

etwa 2.500= 3,5

VinyLtrimethoxysiLan 6

DibutyLzinndioctoat 2

Iso Par G 2.000

Die Siliconkautschukschicht haftete schwach an der lichtempfindlichen Schicht an und wurde bei starkem Reiben mit dem Finger, ebenso wie in Beispiel 1, von der lichtempfindlichen Schicht entfernt.

Auf die SiLiconkautschukschicht wurde ein Polypropylenfilm in gleicher Weise wie in Beispiel 1 laminiert und dann wurden die Eigenschaften der so hergestellten vorsensibi Ii sierten Platte bewertet. Die Ergebnisse werden in Tabelle 1 gezeigt. Die Fotoadhäsionsfestigkeit, die durch die Siliconkautschukschicht auf den nicht mit einem Bild beaufschlagten Flächen erhöht wurde, wurde zum Teil während der Entwicklung entfernt.

TABELLE 1

O 33

	Adhäs Si Lic vor d Entw i	i onsfe onkaut er ck Lung	stigkeit der schukschicht nach der Entwi ck Lung	Entwi c k Lungs- geschw.indig- keit* (Sekunden)	Punkt-W gäbe** (120 Li	ι i e d e r - η i en)
BEISPIEL 1
gamma-MethacryL- oxypropy Lt ri- raethoxysi Lan	schwa	ch	stark	60	4 -	96 %
VERGLEICHS BEISPIEL 1
N-beta-AminoethyL- gamma-aminopropyL- t rimethoxys i Lan	stark		stark	120	24 -	96 %
VERGLEICHS BEISPIEL 2
VinyLtriacetoxy- si Lan	stark		stark	100	24 -	96 %
VERGLEICHS BEISPIEL 3
VinyLtrimethoxy- si Lan	schwa	ch	stark	die Si Licon- kautschukschi cht scha Lte sich ab

CO

cn CD

* Entwicklungsgeschwindigkeit: die Zeit, die erforderlich ist, um manuell eine PLatte der Grosse von 45G mm χ 370 mm zu entwickeln.

** Punktwiedergabe: der Bereich der HaLbtonpunktflache, die reproduziert wird, wenn man eine Platte durch einen HaItonstufenkei I mit 120 Linien/cm belichtet.

BEISPIEL 2

Wie in Beispiel 1 wurde auf eine Aluminiump latte eine Primerschicht aufgetragen, auf welcher eine lichtempfindliche Zusammensetzung der nachfolgenden Formulierung in einer Menge von 0,3 g/m (Trockengewi< aufgetragen und getrocknet wurde.

Gew.~TeiIe

Polyviny lcinnamat KPB

(hergestellt von Eastman

Kodak Co.) 100

MethyIce IlosoIveacetat 500

lichtempfindlicher, ungesättigter Polyester, erhalten durch

Polykondensation von p-PhenylendiacryIsäureester mit 1,4-

Dihydroxyethyloxycyc lohexan (1/1

Molverhältnis) 10

i-Methyl-2-benzoylmethylen-beta-

naphthotiazoliη 0,6

MICROLITH BLUE 4GK (Phtha locyanin-Blau-Pigment der Ciba-Geigy Co.) 2

MethylcelIosoIveacetat 600

Toluol 300

Auf die erhaltene lichtempfindliche Schicht wurde die nachfolgende Siliconkautschuk-Zusammensetzung in einer

2
Menge von 2,5 g/m (Trockengewicht) aufgetragen und getrocknet, unter Erhalt einer Siliconkautschukschicht,

Gew .-TeiIe

Oimethylpolysiloxan mit

Hydroxygruppen an beiden

Endgruppen (Molekulargewicht

etwa 600.000) 100

Methylhydrogenpolysiloxan

mit TrimethyIsi Iy Igrgppen

an beiden Endgruppen

(Molekulargewicht etwa 2.500) 3,5

gamma-Methacryloxypropy 1-ΐ r i met hoxy s i lan 15

DibutyIzinndiacetat 2

Iso Par G

(hergestellt von Exxon

Chemicals Ind. Inc.) 1.600

In gleicher Weise wie in Beispiel 1 wurde die so hergestellte vorsensibiIisierte Platte mit einem Polypropylenfilm bedeckt, bildhaft belichtet und entwickelt. Man erhielt eine trockene Druckplatte mit ausgezeichneten Entwicklungseigenschaften und sehr guter Punktwiedergabe. Es wurden mit diesen Druckplatten 10.000 Kopien gedruckt, ohne dass eine Verschmutzung festgestellt wurde.

BEISPIEL 3

Eine 0,24 mm dicke A LuminiumpLatte wurde mit einer NyLonbürste und einer wässrigen Suspension von 400 Mesh BimssteinpuLver angerauht, mit Wasser gewaschen, mit einer 10 Gew.%-igen Lösung von Natriumhydroxid in Wasser bei 70⁰C während 60 Sekunden geätzt, unter fLiessendem Wasser gewasch en, mit einer 20 Gew.%-igen SaLpetersäureLösung in Wasser neutraLi siert, nochmaLs mit Wasser gewaschen und eLektroLytisch nach der eLektroLytisehen Aufrauhmethode gemäss JP-OS 53-67507 gekörnt, d.h. mit einer 1 Gew.%-igen Lösung von SaLpetersäure in Wasser mit 160 CouLomb/dm unter Verwendung eines Sinusstroms CV = 12,7 V, V_c = 9,1 V).

Die PLatte wurde in einer 30 Gew.%-igen SchwefeLsaureLösung in Wasser bei 55⁰C während 2 Minuten entmattiert und in einer 7 %-igen SchwefeLsaureLösung anodisiert, unter ErhaLt einer anodisierten ALuminiumschicht in einer Dicke von 2,0 g/m . Die so erhaLtene PLatte wurde mit der nachfοLgenden LichtempfindLichen Zusammensetzung in einer Menge von 1,5 g/m (Trockengewicht) beschichtet und dann getrocknet.

G e w.-T ei L e

LichtempfindL icher, ungesättigter PoLyester, erhaLten durch Po Ly kondensation von p-PhenyLendiacryLsäureester und 1,4-DihydroxyethyLoxycycLohexan (1 /1

MoLverhäLtnis) 10

1-Methyl-r-benzoylmethylenbeta-naphthotiazolin 0,6

MICROLITH BLUE 4GK

(PhthaLocyanin-BLau-Pigment

der Ciba-Geigy Co.) 1

MethyLceLlosoLveacetat 70

ToLuoL 35

Auf der erhaltenen lichtempfindlichen Schicht wurde die gleiche Siliconkautschukschicht wie in Beispiel

2
1 in einer Menge von 2,0 g/m (Trockengewicht) aufgetragen und getrocknet, unter Erhalt einer Si liconkautschukschicht.

Eine Schutzschicht aus einem 9.um dicken Po lypropylenfiLm wurde auf die SiLiconkautschukschicht wie in Beispiel 1 beschrieben auflaminiert.

Die so erhaltene vorsensibi I isierte Platte wurde wie in Beispiel 1 durch ein in engem Kontakt befindliches, positives Transparenz belichtet und dann wurde der laminierte Film abgeschält. Die Entwicklung erfolgte mit dem nachfolgenden Entwickler. Die Siliconkautschukschicht

wurde nur in den ηicht-beIichteten (Bild) Flächen schnell entfernt.

Gew .-TeiIe

Iso Par H (hergestellt von

Exxon Chemi ca Is) 100

DiethyLengLykoImonobutyLether 10

Di buty Isuccinat 5

Mit diesen TrockendruckpLatten wurde in gLeicher Weise wie in BeispieL 1 gedruckt. Man erhieLt Kopien mit einer ausgezeichneten Reproduzierbarkeit an den hochbeLichtet en FLächen.

Claims (7)

PATENTANSPRÜCHE

1. VorsensibiLi sierte Platte für die Verwendung bei

der Herstellung einer keine Befeuchtung erfordernden Flachdruckplatte, dadurch g e k e η η ζ e i c h η e t , dass sie einen Träger umfasst, auf den in der
genannten Reihenfolge eine lichtempfindliche Schicht aus einem fotodimerisi erbaren Harz und eine
Siliconkautschukschicht aus einem Organopolysi loxan, welches mit einem Vernetzungsmittel, umfassend
eine reaktive Si lanverbindung mit einer Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung, an welche ein
Siliciumatorn nicht direkt gebunden ist, gehärtet
ist, umfasst.

2. Vorsen-si bi Li si erte PLatte gemäss Anspruch 1, dadurch

ge kenn ze i c hnet , dass die reaktive Si lanverbindung die Formel

CH₀ = CH(R¹) - R² - SiR³, X 2 o-n η

1
hat, worin R ein Wasserstoffatom oder eine

Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen/. R eine zweiwertige Verbindungsgruppe, R eine Alkylgrgppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen oder eine Pheny Igruppe, X eine hydro Iy sierbare Gruppe und η 0 oder eine ganze Zahl von 1 bis 3 bedeutet.

3. VorsensibiIisierte Platte gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzei chnet, dass die reaktive Si lanverbindung in der Zusammensetzung in einer Menge von 1 bis 15 Gew.%, bezogen auf das Gewicht des OrganopoIysiloxans, enthalten ist.

4. VorsensibiIisierte Platte gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine Primerschicht zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht vorgesehen ist.

5. Vorsensibi Ii sierte Platte gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzei chnet, dass das OrganopoLysi loxan ein Molekulargewicht von 2.000 bis 900.000 mit der nachfolgenden wiederkehrenden Einhei t

R³

-4 Si — 0 ■>— R³

worin R eine ALkyl- oder PhenyIgruppe mit 1 bis 10 KohLenstoffatomen bedeutet, ist.

6. VorsensibiLisierte Platte gemäss Anspruch 5,

dadurch gekennzeichnet der R -Gruppen Met hy (.gruppen sind.

dass 60 %

7.' VorsensibiLisierte PLatte gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dassdas fotodime H sierbare Harz ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Polyestern, Polycarbonaten, Polyamiden, Polyacrylaten und Polyviny la Ikoholderivaten, die als Haupt- oder als Seitenkette eine Gruppe der Formeln

CH = CH - CO -

oder

1 2
worin R und R eine ALkylgruppe mit 1 bis 10

KohLenstoffatomen bedeuten, haben.

VorsensibiLisierte Platte gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dassdie lichtempfindliche Schicht einen Fotosensibi Iisator in einer Menge von 0,5 bis 15 Gew.%, bezogen auf das Gewicht des fotopolymerisierbaren Harzes, enthält.