DE3403726A1 - Verfahren und vorrichtung zur entschwefelung und denitrierung von rauchgasen durch elektronenbestrahlung - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur entschwefelung und denitrierung von rauchgasen durch elektronenbestrahlung

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Description

Beschreibung
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entschwefelung und Denitrierung von Rauchgasen durch Elektronenbestrahlung der Rauchgase, denen vor der Bestrahlung Ammoniak zugesetzt wurde sowie eine dazugehörende Vorrichtung,
Die Entschwefelung und Denitrierung von Rauchgasen aus Großfeuerungsanlagen nimmt heute zur Entsorgung unserer Umwelt einen hohen Stellenwert ein.
Neben katalytischen Trockenverfahren und einigen Naßverfahren, die teilweise simultan und teilweise selektiv arbeiten, ist in Japan in den letzten Jahren ein physikalisches Verfahren entwickelt worden, bei dem man die Umwandlung von SO- und NO durch Bestrahlen mit beschleunigten Elektronen in Gegenwart von Ammoniak durchführt. Es entstehen dabei Ammoniumsulfat und Ammoniumnitrat, die mittels Luftfilteranlacjen abgetrennt werden. Bei diesem Verfahren, das beispielsweise in Radiat. Phys. Chem., Vol. 18, No. 1-2, Seiten 389-398, 1981, beschrieben ist, werden die Rauchgase mit zwei sich gegenüberstehenden Elektronenstrahlquellen relativ hoher Beschleunigungsspannung (750 keV) in einem runden Durchlaufreaktor unter gleichzeitiger Durchmischung bestrahlt.
Die im Vakuum beschleunigten Elektronen treten durch eine 1. Metallfolie an die Atmosphäre aus (normalerweise Luft), durchdringen diesen Luftspalt und treten durch eine 2. Metallfolie in das Reaktorgefäß ein. Die 1. und 2. Metallfolie absorbieren einen erheblichen Teil der Elektronenstrahlenergie. Sie müssen aus diesem Grunde durch einen Preßluftstrom, der zwischen den Metallfolien hindurchgeblasen wird, gekühlt werden. Die Metallfolien bestehen
beispielsweise aus Titan.
Der Querschnitt des Reaktors ist rund; er ist lediglich an den Stellen des Elektroneneintritts leicht abgeflacht. Das Reaktorgefäß ist so ausgelegt, daß der gesamte Elektronenstrahl vom Rauchgas absorbiert wird und möglichst wenig Strahlungsverluste an den Reaktorwandungen auftreten.
Um die Absorption der Bestrahlung im Reaktor zu homogenisieren, wird während des Elektronenbeschusses zusätzlich das Gas durch einen Impeller umgewälzt.
Die beiden Elektronenstrahlquellen sind der wesentliche Teil dieses Verfahrens. Somit hängt die Wirtschaftlichkeit sowie die industrielle Anwendbarkeit von der Optimierung dieser" beiden Elektronenstrahlquellen ab.
Durch den Einsatz der Elektronenstrahlquellen mit der relativ hohen Beschleunigungsspannung (750 keV) ergeben sich folgende Nachteile:
(1) Durch die hohe Beschleunigungsspannung von 750 keV kann die Strahlung nur mit Beton wirtschaftlich abgeschirmt werden. Hierdurch ergibt sich eine Immobilität. Ein Arbeiten in direkter Umgebung des Strahlers während des Betriebs ist nicht möglich.
(2) Dadurch, daß eine Metallfolie für den Elektronenaustritt aus dem Beschleuniger und eine zweite Metallfolie für den Elektroneneintritt in das Reaktorgefäß vorgesehen ist, wird viel Energie von den beiden Metallfolien absorbiert. Der für die Fensterkühlung notwendige Preßluftstrom wird durch die Elektronenbestrahlung teilweise zu Ozon oxidiert. Dieses Ozon greift die Apparatur an und ist ein umweltbelastender Faktor.
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Verwendet man Inertgas, z.B. N~/ zur Kühlung der zwei Folien, so ist dies bei der großen Menge an erforderlichem Kühlgas sehr teuer.
(3) In einem runden Reaktor ergeben sich aufgrund der Absorptions- und Streuverhältnisse der Elektronen keine optimalen Verhältnisse.
Die Absorption der Elektronen erfolgt in Form einer auslaufenden Glockenkurve (s. Ionisationskurven für einseitige Bestrahlung, Fig. 3).
Die Streuung der Elektronen im Reaktorgefäß bei Bestrahlung mit einer Elektronenstrahlquelle ergibt eine birnenförmige Verteilung vom Elektroneneintritt in den Reaktor aus gesehen.
(4) Die zur Bestrahlung von Rauchgasen notwendige Elektronenstrahldosis liegt in der Größenordnung von 2 Mrd. Die Dosisleistung der Elektronenstrahlquellen liegt bei ca. 40 Mrd/sec, d.h. der Gasaustausch im Elektronenstrahlbereich muß pro Sekunde mindestens 20 mal erfolgen, um eine möglichst wirtschaftliche Bestrahlung zu erreichen.
Je kleiner das Bestrahlungsfeld bei gleicher Elektronenstrahlleistung ausgebildet ist, um so ungünstiger sind die Bestrahlungsverhältnisse.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfahren zur Verfügung zu stellen, das die vorstehend geschilderten Nachteile nicht mehr aufweist.
Gelöst wird diese Aufgabe gemäß der Erfindung dadurch, daß man niederenergetische Elektronenstrahlquellen mit einer Beschleunigungsspannung für die Elektronen von 250 keV ein-
setzt, von denen jede nur ein Elektronenaustrittsfenster aufweist, dessen Stützgitter aus mehreren doppelkammartigen, mit dem Fensterrahmen lösbar verbundenen Stegelementen gebildet ist, die jeweils einen Hauptsteg aufweisen, der mit einer Bohrung als Kühlleitung versehen ist.
Durch die Verwendung einer Beschleunigungsspannung für die Elektronen von 250 keV (sog. niederenergetische Elektronenstrahlquelle) können Beschleuniger, Elektronenaustritt und Reaktionskammer mit Bleiblech so abgeschirmt werden, daß außerhalb der Bestrahlungsapparatur die Röntgenstrahlung unterhalb der Nachweisgrenze liegt.
In Umgebung des Strahlers können bei vollem Betrieb Arbeiten durchgeführt werden ohne Einschränkungen für die daran beteiligten Personen.
Die mit Bleiblech abgeschirmten Elektronenstrahlquellen sind beweglich; sie können für Wartungsarbeiten von der Bestrahlungszone mit der gesamten Abschirmung wegbewegt werden. Sie sind kompakter und billiger in der Herstellung.
Die Beschleunigungsstrecke für die Elektronen ist einstufig und nur vakuumisoliert, dadurch für rauhen industriellen Einsatz aufgrund ihrer Servicefreundlichkeit besonders geeignet.
Unter Verwendung eines Elektronenaustrittsfensters mit im Vakuum gekühlter Stützkonstruktion, wie sie in dem deutschen Patent 26 06 169 beschrieben ist, entfällt die Kühlung durch Anblasen mit Preßluft. Somit kann mit nur einer Metallfolie gearbeitet werden, d.h. der Strahler ist direkt an das Reaktionsgefäß angekoppelt, was zu einem wesentlich geringeren Energieverlust der Elektronen beim Durchtritt durch das Lenardfenster führt und zusätzlich die Anwendung niederenergetischer Elektronenstrahlquellen rechtfertigt.
Durch programmierte digitale Elektronenstrahlablenkung läßt sich die Elektronenverteilung im Reaktionsgefäß weitgehend rechteckig einstellen. In Kombination mit einer Bestrahlung von zwei Seiten ergibt sich eine quasi rechteckige gleichmäßige Dosisverteilung über den Querschnitt eines rechteckigen Reaktorgefäßes (vergl. Fig. 4, die die Ionisationsdichte bei zweiseitiger Bestrahlung
2 als Funktion der durchstrahlten Massendicke in g/m zeigt), Die Gleichmäßigkeit der Bestrahlung kann durch Herstellung einer Turbulenz innerhalb des Reaktors oder besser des Bestrahlungskanals (es handelt sich um einen kontinuierlichen Prozeß) verbessert werden.
Eine Verunreinigung des Elektronenaustrittfensters durch Reaktionsprodukte ist nicht zu erwarten, da bei Abscheidung solcher Produkte auf dem Fenster ein Selbstreinigungseffekt eintritt. Die Fensterfolie erwärmt sich an Stellen erhöhter Massendicke und die Produkte lösen sich dabei ab. Vorzugsweise ist daher das Elektronenaustrittfenster vertikal angeordnet, damit solche Feststoffe sich selbständig ablösen und sich nicht am Ort des Elektronenaustritts aufgrund ihrer Schwerkraft ablagern können.
Aufgrund der hohen Dosisleistung von Elektronenstrahlquellen sollte bei konstantem Elektronenstrom die Fläche des Elektronenaustritts möglichst groß gehalten werden, um die Elektronenstromdichte der Geschwindigkeit des Gasflusses anpassen zu können.
Hierzu eignet sich das Scanningsystem besonders gut. Man erreicht mit ihm eine großflächige Bestrahlung und somit einen breiten Reaktionskanal. Die Tiefe des Reaktionskanals wird durch die Beschleunigungsspannung und damit durch die Eindringtiefe der beiden Elektronenstrahlquellen bestimmt.
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Der Gasstrom, d.h. die bestrahlte Gasmenge,' richtet sich nach der für die chemische Umwandlung notwendigen Dosis. Hierfür wurde von Bailey und Wright, Paint Technology, 35/1971, Heft 9-12, folgende für die Praxis recht brauchbare Formel angegeben:
R = (Mrd/sec)
°'6'Vxo'yo
Hierin bedeuten:
I~, . der nach dem Elektronenaustrittsfenster in das Ob 3
Objekt fließende Elektronenstrom in mA ϋΛ> . die nach Durchtritt durch das Elektronenaustritts-
fenster noch vorhandene Elektronenstrahlenergie in keV
r die max. Reichweite der Elektronen im Objekt in mg/cm
χ die Länge des Elektronenaustrittfensters in cm ο
y die Breite des Elektronenaustrittfensters in cm
Die Erfindung wird nachfolgend weiterhin anhand der Figuren und eines Ausführungsbeispiels erläutert:
Fig. 1 zeigt einen Querschnitt durch die Bestrahlungsvorrichtung ;
Fig. 2 zeigt eine Draufsicht auf die Bestrahlungsvorrichtung ;
Fig. 3 zeigt den glockenförmigen Verlauf einer Ionisationskurve bei 1-seitiger Bestrahlung
Fig. 4 zeigt den Verlauf der Ionisationskurven bei zweiseitiger Bestrahlung.
Beispiel
In den Fig. 1 und 2 ist ein praktisches Ausführungsbeispiel für eine Elektronenbestrahlungsanlage vom niederenergetischen Typ mit zwei sich gegenüberliegenden Elektronenstrahlquellen dargestellt.
Die Anlage hat folgende Betriebsdaten:
Beschleunigungsspannung Beschleunigungsspannung im Objekt Elektronenstrom Elektronenstrom im Objekt wirksame Eindringtiefe bei 1-seitiger Bestrahlung Abmessung des Elektronenaus tritt fens ters
Dies ergibt eine Dosisleistung für eine Elektronenstrahl· quelle von
ft . IQO'75.230 m
250 keV 2
2 30 keV cm
150 mA
75 mA
58 mg/cm
140 χ 10
Ο,6·58·14Ο·1Ο
Dies entspricht bei einem Vo1urnenstrom von 212,4 m/min einer Bestrahlungsdosis von 1 Mrd.
Bei 2-seitiger Bestrahlung läßt sich nach Fig. 4 der Abstand der Elektronenaustrittfenster der zwei Elektronenstrahlquellen,auf 0,5 m Abstand festlegen.
Bei einer Bestrahlungsdosis von 3 Mrd ergibt dies einen Gasstrom von 70,8 m/min und bei einem Reaktorquerschnitt
2 3
von 1,4 χ 0,5 m einen Durchsatz von 2973,6 m /h.
Die Elektronenstrahlquellen sind horizontal angeordnet und mit ihrem vertikal angeordneten Elektronenaustrittsfenster direkt auf den Reaktionskanal gasdicht aufgesetzt,
Zu Wartungsarbeiten können die Elektronenstrahlquellen vom Reaktionskanal komplett mit ihrer Röntgenstrahlabschirmung weggefahren werden.
In den Fig. 1 und 2 haben die Bezugszeichen folgende Bedeutung:
1 Bleiblechabschirmung
2 Elektronenbeschleuniger
3 Digitale Elektronenstrahlablenkung
4 Scanning-System
5 Elektronenaustrittsfenster
6 Reaktionskanal
7 GasZuführungskanal
8 Gleitschienen zum Öffner. . r Elektronenbestrahlungsaniage

Claims (11)

D R. JOACH IM STEFFENS DIPLOM-CHEMIKER UNO PATENTANWALT STEUBSTRASSE10 D-8032 GRAFELFING-MDNCHEN TELEFON1 (08?) 85 23 TELEXi J2? 830 staff d IHR ZEICHENi MEINZEICHENi
1. Februar 1984
Polymer-Physik GmbH & Co. KG 2844 Lemförde
Verfahren und Vorrichtung zur Entschwefelung und Denitrierung von Rauchgasen durch Elektronenbestrahlung
Patentansprüche
1. Verfahren zur Entschwefelung und Denitrierung von Rauchgasen durch Elektronenbestrahlung der Rauchgase, denen vor der Bestrahlung Ammoniak zugesetzt wurde, dadurch gekennzeichnet, daß man niederenergetische Elektronenstrahlquellen mit einer Beschleunigungsspannung für die Elektronen von 250 keV einsetzt, von denen jede nur ein Elektronenaustrittsfenster aufweist, dessen Stützgitter aus mehreren doppelkammartigen, mit dem Fensterrahmen
Professional Representative before the European Patent Office PoMctocfckomoMinchtnr* IfOSSO-WS(BU 700100BO) ■ BayariKha Vereinbar* München Nr 906 200 (BLZ 700 203 70)
lösbar verbundenen Stegelementen gebildet ist, die jeweils einen Hauptsteg aufweisen, der mit einer Bohrung als Kühlleitung versehen ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in den eingesetzten Elektronenstrahlquellen das Elektronenaustrittsfenster vertikal angeordnet ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die zur Anwendung gelangenden Elektronenstrahlen durch programmierte digitale Elektronenstrahlablenkung eine im Querschnitt rechteckige Elektronenverteilung aufweisen.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeich:- net, daß die eingesetzten Elektronenstrahlquellen lediglich eine Bleiblech-Abschirmung aufweisen.
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die eingesetzten Elektronenstrahlquellen zusammen mit ihren Bleiblech-Abschirmungen gegenüber der Rauchgas-Bestrahlungszone beweglich angeordnet sind.
6. Vorrichtung zur Entschwefelung und Denitrierung von Rauchgasen durch Elektronenbestrahlung der Rauchgase, denen vor der Bestrahlung Ammoniak zugesetzt wurde, bestehend im wesentlichen aus einem Reaktionskanal und zwei Elektronenstrahlquellen, dadurch gekennzeichnet, daß man niederenergetische Elektronenstrahlquellen mit einer Beschleunigungsspannung für die Elektronen von 250 keV einsetzt, von denen jede nur ein Elektronenaustrittsfenster aufweist, dessen Stützgitter aus mehreren doppelkammartigen, mit dem Fensterrahmen lösbar verbundenen Stegelementen gebildet ist, die jeweils einen Hauptsteg aufweisen, der
mit einer Bohrung als Kühlleitung versehen ist, wodurch die durch das Elektronenfenster aus der Elektronenstrahlguelle austretenden Elektronen direkt in den Reaktionskanal gelangen.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß in den eingesetzten Elektronenstrahlquellen das Elektronenaustrittsfenster vertikal eingesetzt ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 6 und 7, dadurch gekennzeichnet, daß die zur Anwendung gelangenden Elektronenstrahlen durch programmierte digitale Elektronenstrahlablenkung eine im Querschnitt rechteckige Elektronenverteilung aufweisen.
9. Vorrichtung nach Anspruch 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die eingesetzten Elektronenstrahlquellen lediglich eine Bleiblech-Abschirmung aufweisen.
10. Vorrichtung nach Anspruch 6 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die eingesetzten Elektronenstrahlquellen zusammen mit ihren Bleiblech-Abschirmungen gegenüber der Rauchgas-Bestrahlungszone beweglich angeordnet sind.
11. Vorrichtung nach Anspruch 6 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Reaktionskanal eckig ausgebildet ist.
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