DE2952589C2

DE2952589C2 - Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln eines Gasstromes durch Bestrahlung mit Elektronenstrahlen

Info

Publication number: DE2952589C2
Application number: DE2952589A
Authority: DE
Inventors: Tsutomu Higo; Katsumi Kitakyushu Fukuoka Kengaku; Shoji Chigasaki Kanagawa Mizutani; Yasuhiro Fuchu Tokio/Tokyo Sawada
Original assignee: Ebara Corp; Japan Iron and Steel Federation
Current assignee: Ebara Corp
Priority date: 1978-12-29
Filing date: 1979-12-28
Publication date: 1986-04-30
Also published as: US4507265A; JPS5844009B2; US4596642A; JPS5597232A; DE2952589A1

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zum Behandeln eines Gasstromes durch Bestrahlung mit Elektronenstrahlen. Insbesondere finden das Verfahren und die Vorrichtung Anwendung zum Entfernen von Schwefeloxiden (SO_x) und/oder Stickoxiden (NO_x) aus abströmenden Gasen.

Ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff von Patentanspruch 1 sowie eine Vorrichtung gemäß dem Oberbegriff von Patentanspruch 2 sind bekannt (US-PS 38 69 362). Gemäß dem bekannten Verfahren wird der Gasstrom, bei dem es sich beispielsweise um Abgase eines Verbrennungsvorgangs handelt, bestrahlt, um darin enthaltenes 5O_x und/oder NO_x in Feststoffe oder Nebel umzuwandeln und diese Feststoffe bzw. den Nebel mit Hilfe eines Staubsammlers, beispielsweise eines elektrostatischen Abscheiders, zu entfernen. Auf der Außenseite des Reaktionsbehälters, durch den der Gasstrom strömt. Ist zumindest eine Strahlungsquelle In Form eines Elektronenbeschleunigers derart angeordnet, daß der Gasstrom den Elektronenstrahlen ausgesetzt Ist. Bei der bekannten Vorrichtung wird der Gasstrom in der Bestrahlungszonc mehrfach umgelenkt. Eine dem Strahlenschulz dienende Abschirmung Ist um die gesamte Vorrichtung herum angeordnet. Für große Gasdurchflüsse eignet sich die bekannte Vorrichtung wegen der dann erforderlichen großen Abschirmung und der großen erforderlichen räumlichen Erstreckung des Elektronenbeschleuniger nicht.

Es ist möglich, die Bestrahlungszone als Zone auszubilden. In der im wesentlichen keine Umlenkung des Gasstromes erfolgt, und auf diese Weise einen Reaktionsbehälter zu schaffen, der auch für große Durchflüsse hinreichend kompakt ist und mit einer kompakten Strahlungsquelle auskommt. Erforderlich sind jedoch stromauf und stromab der Bestrahlungszone mehrere Krümmer mit entsprechenden Abschirmungen, um Bremsstrahlungs-Röntgenstrahlen abzuschirmen, die aus der Bestrahlungszone und vom Elektronenbeschleuniger kommen. Wenn die Leitung, durch die der Gasstrom transportiert wird. Krümmer aufweist, treten vegen der Trägheit des Gases ungleichmäßige Strömung bzw. Kanalislerung auf, wobei mit Kanalisierung die Erscheinung bezeichnet wird, daß die Strömung bevorzugt durch bestimmte Bereiche des freien Strömungsquerschnitts erfolgt. Wenn beispielsweise die Leitung für den Gasstrom unmittelbar vor dem Reaktionsbehälter, in dem die Bestrahlung durchgeführt wird, einen Krümmer aufweist, Irin im Gasstrom innerhalb des Reaktlonsbehälters eine erhebliche Kanalisierung bzw. Ungleichmäßigkeit der Strömung auf, so daß die vom Gasstrom empfangene Dosis ebenfalls ungleichmäßig 1st. In diesem Zusammenhang wird schon hier auf Fig. 1, und zwar insbesondere auf Fig. la. Bezug genommen. In Fig. la sind eine Zuleitung (i), ein Reaktionsbehälter (H), d. h. ein Reaktor, in dem die strahlungsinduzlerte Reaktion abläuft, ein Elektronenbeschleuniger (M) sowie eine Bestrahlungszone (ix) erkennbar, in der das abströmende Gas bestrahlt wird.

Um eine solche Kanalisierung zu vermeiden, weist die zum Reaktionsbehälter führende Zuleitung vorzugsweise einen geraden Rohrabschnitt ausreichender Länge auf, bevor die Zuleitung die Bestrahlungszone erreicht, wie dies in Fig. Ib erkennbar ist, in der ein gerader Rohrabschnitt (v) dargestellt ist. Wenn jedoch die Länge des geraden Rohrabschnitts zunimmt, nimmt auch entsprechend die Fläche derjenigen Aschnitte zu, die abgeschirmt werden müssen. Daher ist es sowohl unter technischen als auch unter wirtschaftlichen Gesichtspunkten schwierig, zur Behandlung großer Menget; abströmender Gase diese Konstruktion zu realisieren. Es könnte erwogen werden, in gewisser Entfernung vor dem Einlaß des Reaktionsbehälter eine poröse Platte, eine Lochplatte oder ein Gitter In der Zuleitung anzuordnen, um die Gasströmung einzustellen, wie dies die Fig. Ic und Id 7cigen, in denen eine Lochplatte (vi) bzw. ein Gitter (vii) erkennbar sind. Auch diese Alternativen haben Nachteile, da ein beträchtlicher Druckverlust auftritt. Da ferner Im abströmenden Gas enthaltene Aerosolteilchen so die Neigung haben, sich auf den Oberflächen der Lochplatte bzw. des Gitters abzulagern, besteht darüber hinaus die Gefahr, daß nach längerer Betriebszelt möglicherweise sogar eine stärkere Kanalisierung der Strömung auftritt, als wenn keine Lochplatte bzw. kein Gitter verwendet wird. Eine weitere Alternative besteht darin, mehrere Zuleitungen vorzusehen, dlR sich unmittelbar vor dem Einlaß des Reaktionsbehälters vereinigen, wie dies in Flg. Ie dargestellt ist. Bei diesem Vorgehen besteht der Nachteil, daß es sehr schwierig Ist, die Durchflüsse des Gases In den verschlendenen Zuleitungen aneinander anzugleichen, und daß darüber hinaus die Kanalislerung bzw. Ungleichmäßigkeit der Strömung noch stärker ausgeprägt Ist als bei nur einer Zuleitung.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das gattungsgemäße Verfahren so zu führen und die gultungsgemäße Vorrichtung derart auszubilden, daß sie für große Gasdurchfirisse geeignet sind, wobei alle Teile des Gasstromes eine möglichst gleichmäßige Dosis aufnehmen sollen. Dabei sollen ferner die vorstehend anhand der Fig. la bis Ie erläuterten Nachteile vermieden sein.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale in den kennzeichnenden Teilen der Patentansprüche 1 und 2 gelöst.

Für die Erfindung ist wesentlich, daß der Bestrahlungszone unmittelbar ein Beschleunigungs- und Einstellabschnltt vorausgeht und daß diesem wiederum eine Verzögerungskammer vorausgeht. Dadurch ist erreicht, daß In der Verzögerungskammer die Gasströmung insgesamt verlangsamt wird, damit selbst örtliche Geschwindigkeitsspitzen nur geringe Absolutgeschwindigkeiten sind, und daß im Beschleunigungs- und Einstellabschnitt die Geschwindigkeitsverteilung vor Eintritt des Gasstroms in die Bestrahlungszone der Dosisleistungsverteilung angepaßt wird. Dies heißt mit anderen Worten, daß sich die Geschwindiy-'.aitsverteilung, die der Gasstrom vor der Verzögerungskamrr-er hat, nicht rnehr nachtellig auf die Geschwindigkeitsverteilung in der Bestrahlungszone auswirken kann; vielmehr wird diese unmittelbar vor der Bestrahlungszone optimal entsprechend der Dosislelstungsverteilung eingestellt.

Durch die FR-PS 5 51 124 ist ein elektrostatischer Staubabscheider bekannt, für den wesentlich Ist, daß dessen Elektroden nicht parallel verlaufen. Vielmehr soll sich deren Abstand vom Eintrittsenrte bis zum Austrittsende der Behandlungszone verringern. Dadurch soll eine Zunahme der elektrischen Feldstärke in Strömungsrichtung und eine Zunahme der Strömungsgeschwindigkeit in Strömungsrichtung innerhalb der Behandlungszone erreicht werden. Der ->ich verjüngenden Behandlungszone strömt der Gasstrom aus einer Eintrittskammer der Vorrichtung zu, in der es zu einer Verzögerung des Gasstromes kommen kann. Eine Verzögerungskammer stromauf einer Behandlungszone ist somi' an sich bekannt.

Die Steuerung der Geschwindigkeitsverteilung des Gasstromes in der Bestrahlungszone ermöglicht es einerseits, die Vorrichtung kompakt auszubilden, und andererseits, auch große Gasmengen zu behandeln. Es 1st möglich, Gasmengen in der Größe von einigen Hundert oder einigen Tausend Nm' je Stunde oder mehr mit Elektronenstrahlen zu bestrahlen, ohne daß Nachteils wie Totraumbildung, Gegenströmung, Kanalislerung oder ungleichmäßige Strömung Im Reaktionsbehälter auftreten und daß die Teile des Gasstromes unterschiedliche Dosen erhalten.

Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.

Bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und werden im folgenden näher erläutert. Cs zeigt

Flg. la bis Ie schematisch die Ausbildung verschiedener Vorrichtungen zum Behandeln eines Gasstromes durch Bestrahlung mit Elektronenstrahlen;

Flg. 2 eine schematische Draufsicht auf eine erste Aüsführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung;

Flg. 3 eine Seltenansicht der Vorrichtung gemäß Flg. 2;

Flg. 4a bis 4c drei verschiedene Möglichkeiten zur Steuerung bzw. Einstellung der Geschwindigkeitsverteilung des Gasstromes am Einlaß der Bestrahlungszone; und

Flg. 5 eine weitere Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Behandlung abströmenden Gases.

Wie die Flg. 2 und 3 zeigen, umfaßt die Vorrichtung zum Behandeln abströmender Gase durch Bestrahlung mit Elektronenstrahlen Im wesentlichen eine Verzögerungskammer 1 zur Verringerung der Strömungsgeschwindigkeit eines Gasstromes 13, einen Beschleunl- s gungs- und Einstellabschnitt 2 sowie einen Reaktionsbehälter 3. In dem die Bestrahlung mit Elektronenstrahlen erfolgt.

Die Verzögerungskammer 1 Ist ein Abschnitt, In dem die Geschwindigkeit des Gasstromes verringert wird. Wie aus Flg. 2 erkennbar ist. sind ebene Seltenwände 4 de^r Verzögerungskammer 1 jeweils unier einem Winkel von ungefähr 15^C zur Strömungsrichtung des abströmenden Gases so angeordnet, daß die Verzögerungskammer In Strömungsrichtung welter wird. Die ebenen Seltenwände 4 gehen tangential In eine gekrümmte bzw. kreisförmige Seitenwand 6 über, die einen rotationssymmetrischen Bereich 5 umgibt.

Der Beschleunlgungs- und Einstellabschnitt 2 Ist ein Abschnitt, In dem die Geschwindigkeit des Gasstromes, die zuvor In der Verzögerungskammer 1 verringert worden Ist, wieder erhöht wird, bevor der Gasstrom In die Bestrahlungszone 11 im Reaktionsbehälter 3 geleitet wird. Dieser Abschnitt umfaßt einen im rotationssymmetrischen Bereich 5 angeordneten Zylinder, der als Kanal dient, der direkt den Zentralbereich der Verzögerungskammer 1 und die Zone miteinander verbindet, in der die Elektronenbestrahlung erfolgt. Damit das abströmende Gas glatt und ungestört In den Zylinder einströmen kann, Ist dessen Schürze bzw. freies Ende Innen glockenförmig aufgeweitet. Unmittelbar unter dem Beschleunlgungs- und Einstellabschnitt 2 sind an einem am Boden 14 der Verzögerungskammer 1 eine kreuzförmige Leitplatte 8 sowie ein die Gasströmung einstellender Leitkegei 9 koaxial angeordnet, damit das abströmende Gas In einen glockenförmigen Rand 7 des Beschleunigungs- und Einstellabschnittes glatt und ungestört einströmen kann, wobei der Gasstrom rotationssymmetrisch In den Beschleunigungs- und Einstellabschnitt strömt.

In gewisser Entfernung oberhalb des Beschleunigungsund Einstellabschnittes 2 befindet sich der Reak.ionsbehälter 3. Zur Vergleichmäßigung der Dosis, die das abströmende Gas erhält, sind in gleichen Abständen voneinander mehrere Elektronenbeschleuniger 10 iim den Reaktionsbehälter 3 herum angeordnet. Innerhalb des Reaktionsbehälters 3 befindet sich die Bestrahlungszone 11. die eine Mittelachse 12 hat. Oberhalb des Bodens 14 der Verzögerungskammer 1 befindet sich deren Decke 14'.

Wegen der vorstehend beschriebenden Ausbildung strömt das zu behandelnde abströmende Gas waagerecht, und zwar von links in Fig. 3. in die Verzögerungskammer 1. in der die Geschwindigkeit des Gasstromes verringert wird, wonach der Gasstrom, unterstützt von den Leitelementen, beispielsweise der kreuzförmigen Leitplatte 8 und dem Leitkegel 9. in senkrechte Richtung nach oben (oder nach unten) umgeleitet wird und ip den Beschleunigungs- und Einstellabschnitt 2 strömt, in dem die Gasgeschwindigkeit wieder erhöht wird, bevor der Gasstrom den Reaktionsbehälter 3 unmittelbar oberhalb 'oder unterhalb) des Beschleunigungs- und Einstellabschnittes 2 erreicht. Im Reaktionsbehälter wird dann das abströmende Gas mit Elektronenstrahlen bestrahlt, die in vorstehend erwähnter Weise von den Elektronenbeschleunigem erzeugt werden.

Wenn die Geschwindigkeit des Gasstromes In der Verzögerungskammer 1. die aufgrund des erhöhten freien Strömungsquerschnittes verringert Ist, mit ι·, bezeichnet wird und wenn die Geschwindigkeit des Gasstromes in dem Beschleunlgungs- und Elnstcllabschnltt 2 mit V₁ bezeichnet wird und wenn schließlich die Dichte des abströmenden Gases mit ρ bezeichnet wird, kann die Beziehung der dynamischen Drücke In der Verzögerungskammer 1 und Im Beschlcunlgungs- und Einstellabschnitt 2 wiedergegeben werden durch: p\\ << ρ v\/2. Wie sich aus dieser Ungleichung ergibt, ist der Einfluß der Geschwindigkeit des Gasstromes In der Verzögerungskammer I auf die Geschwindigkeit des Gasstromes nach der Geschwindigkeitserhöhung sehr gering, so daß die Trägheit des abströmenden Gases in der Verzögerungskammer 1 vernachlässigt werden kann. Durch die beschriebene Ausbildung kann somit die ungünstige Kanalisierung bzw. Ungleichmäßigkeit der Strömung eines abströmenden Gases, die gemeinhin an einer Rohrkrümmung entsteht, stromab Im Gasstrom verhindert werden.

Der Beschleunigungs- und Einsteilabschnitt 2 Ist oberhalb der Verzögerungskammer 1 angeordnet und rotationsymmetrisch geformt, wobei die Innenseite der Wand der Einlaßöffnung des Beschleunlgungs- und Einstellabschnittes glockenförmig ausgebildet Ist und sowohl die kreuzförmige Leitplatte 8 als auch der LeItkegel 9 unmittelbar unterhalb des Beschleunlgungs- und Einstellabschnittes 2 befestigt sind. Diese Ausbildung ermöglicht, daß das abströmende Gas glatt und ungestört durch den Beschleunlgungs- und Einstellabschnlti 2 strömt, ohne daß der Gasstrom verwirbelt wird oder aufeinandertrifft. Well die Vorrichtung keine zusätzlichen Oberflächen hat an denen sich Aerosolteilchen oder andere Feststoffe im abströmenden Gas ablagern können, besteht die Gefahr nicht, daß die Funktion der Vorrichtung ganz oder teilweise beeinträchtigt wird.

Wie die Flg. 4a bis 4c zeigen, ist es möglich, die Geschwindigkeitsverteilung des Gasstromes so zu steuern bzw. einzustellen, daß sie der Doslslelstungsvertellung In der Bestrahlungszonc optimal angepaßt ist, indem die Form des Strömungskanals, der zur Bestrahlungszone führt, entsprechend gewählt wird. In Flg. 4a ist der Beschleunigungs- und Einstellabschnitt wiederum mit 2 bezeichnet und die Elektronenbeschleuniger sind wiederum mit 10 bezeichnet. Die Geschwlndlgkeltsvertellung des Gasstromes ist mit (viii) gekennzeichnet, und die Reichweite der Elektronenstrahlen Ist mit (ix) gekennzeichnet. Wenn beispielsweise der Reaktionsbehälter einen großen Durchmesser hat und demzufolge die Dosisleistung In seiner Mitte niedrig ist, ist es zw ,-kmäßig, den freien Strömungsquerschnitt des Beschleunlgungs- und Einstellabschnittes bis unmittelbar vor die Bestrahlungszone allmählich zu verringern, wie dies in F i g. 4a gezeigt ist. Wenn der Durchmesser derart ist, daß die Dosisleistungsverteilung flach ist, ist es zweckmäßig, das Ausmaß der Verringerung des freien Strömungsquerschnittes mit zunehmender Annäherung an die Bestrahlungszone allmählich kleiner werden zu lassen, wie dies in Fig. 4b gezeigt ist.

Wenn der Durchmesser klein ist und die Dosisleistung in der Mitte verhältnismäßig hoch ist, kann der Strömungskanal als einfaches gerades Rohr ausgebildet sein, wie dies in Fig. 4c gezeigt ist. Dies entspricht der Form der Zuleitung, wie sie in Fig. 3 gezeigt Ist. Es Ist somit möglich, die Dosisleistungsverteilung im Zentralbereich der Bestrahlungzone, die ganz allgemein vom Verhältnis der Reichweite der Elektronenstrahien zum Durchmesser des Reaktionsbehälters abhängt, zu berücksichtigen durch Änderung der Geschwindigkeitsverteilung des

abströmenden Gases, Indem die Form des Beschleunigungs- und Elnstellabschnities entsprechend gewählt wird.

In vorteilhafter Ausbildung kann die Vorrichtung zur Behandlung abströmenden Gases mit Elektronenstrahlen Im oberen Bereich des Reaktionsbehälters derart ausgehi-dct sein, wie dies In Flg. 5 gezeigt Ist. Bei der Ausführungsform gemäß Flg. 5 erreicht das abströmende Gas die Bestrahlungsüone auf gleiche Welse wie bei der Ausführungsform gemäß den Flg. 2 und 3. In der in Bcstrahlur.gszone wird das abströmende Gas mit Hilfe von Elektronensirahlen bestrahlt, die von mehreren Elektronenbeschleunigern 10 erzeugt werden, die um die Bestrahlungszone herum angeordnet sind. Das bestrahlte abströmende Gas wird zu einem oberhalb des Reaktlonsbehalters angeordneten, horizontalen Kanal 16 geleitet, dessen Enden so umgebogen sind, daß sich senkrechte Kanüle !? er"sbe!i die entweder direkt mit Staubsammlern verbunden sein können, nachdem sie erneut umgebogen worden sind, so daß sich waagerechte Kanäle 18 ergeben, wie dies In Flg. 5 gezeigt Ist. Der im horizontalen Kanal 16 abgelagerte Staub kann mit Hilfe eines oder mehrerer Schaber 15 in einen oder mehrere Staubsammler durch die horizontalen Kanäle 18 entfernt werden.

Flg. 5 zeigt ein Ausführungsbeispiel, bei dem das abströmende Gas, von unten nach oben strömt; es versteht sich jedoch, daß es ebenfalls möglich ist, die Vorrichtung derart auszubilden, daß das abströmende Gas von oben nach unten strömt.

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Hierzu 4 Blatt Zeichnungen

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Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zum Behandeln eines Gasstromes durch Bestrahlung mit Elektronenstrahlen, wobei der Gasstrom in eine Bestrahlungszone geleitet wird, in die Elektronenstrahlen gestrahlt werden, dadurch gekennzeichnet, daß der Gasstrom in eine Verzögeningskammer eingeleitet wird, in der die Geschwindigkeit des Gasstromes zunächst schnell verringert wird, und daß der Gasstrom aus der Verzögeningskammer in einen Beschleunigungs- und Einstellabschnitt geleitet wird. In dem die Geschwindigkeit des Gasstromes wieder schnell erhöht wird und vor dem Eintreten des Gasstroms in die Bestrahlungszone die Geschwindigkeitsverteilung derart eingestellt wird, daß sie der Dosislelstungsverteilung in der BesisJilungszone ähnlich ist.

2. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, mit einer Leitung für den Gasstrom, einem Reaktionsbehälter, in dem eine Bestrahlungszone ausgebildet ist, zumindest einen außen am Reaktionsbehälter angeordneten Elektronenbeschleuniger, der durch Bestrahlungsfenster Elektronenstrahlen in die Bestrahlungszone einstrahlt, und einer Ableitung, die direkt mit der Bestrahlungszone verbunden ist und von der das durch die Bestrahlungszone geströmte, behandelte und feste Aerosolteilchen enthaltende Gas zu einem Staubsammler transportiert wird, gekennzeichnet durch eine Verzögerungskammer (1) mit einem Einlaß, der direkt mit einem Ende der Leitung vevbunclen 1st, einem stromab des Einlasses angeordneten und mit diesem verbundenen, derart erweiterten Raum, daß die Geschwindigkeit des eingeleiteten Gasstromes schnell abnimmt, und einem Auslaß, durch den der verzögerte Gasstrom austritt, und durch einen Beschleunigungs- und Einstellabschnitt (2) mit einem Strömungskanal, der direkt mit dem Auslaß der Verzögerungskammer verbunden 1st und in dem der Gasstrom schnell beschleunigt und eingestellt wird, wobei die Bestrahlungszone (11) sich unmittelbar an den Beschleunigungs- und Einstellabschnitt (2) anschließt.

3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Leitung waagerecht verlaufend an den Einlaß der Verzögerungskammer (1) angeschlossen ist.

4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Strömungskanal des Beschleunigungs- und Einstellabschnitts (2) senkrecht verlaufend zylindrisch ausgebildet ist.

5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Gasstrom senkrecht nach oben aus dem Auslaß der Verzögerungskammer (1) austritt und Im Reaktionsbehälter (3) senkrecht nach oben strömt.

6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Gasstrom senkrecht nach unten aus dem Auslaß der Verzögerungskammer (1) austritt und Im Reaktionsbehälter (3) senkrecht nach unten strömt.

7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Reaktionsbehälter (3) als zylindrisches Rohr ausgebildet Ist.

8. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Ableitung einen ersten senkrechten Kanal, der direkt mit der Bestrahlungszone (11) verbunden Ist, einen ersten waagerechten Kanal (16), der mit dem ersten senkrechten Kanal an dessen oberem Ende direkt verbunden Ist, einen zweiten senkrechten Kanal (17), der mit dem ersten waagerechten Kanal an dessen Ende so verbunden Ist, daß der Gasstrom senkrecht nach unten umgelenkt wird, und einen zweiten waagerechten Kanal (18) umfaßt, der mit dem zweiten senkrechten Kanal an dessen Ende verbunden Ist und direkt mit dem Staubsammler verbunden ist.

9. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Ableitung einen ersten senkrechten Kanal, der direkt mit der Bestrahlungszone (II) verbunden ist, einen ersten waagerechten Kanal, der mit dem ersten senkrechten Kanal an dessen unterem Ende direkt verbunden ist, einen zweiten senkrechten Kanal, der mit dem ersten waagerechten Kanal an dessen Ende so verbunden ist, daß der Gasstrom senkrecht nach oben umgelenkt wird, und einen zweiten waagerechten Kanal umfaßt, der mit dem zweiten senkrechten Kanal an dessen Ende verbunden Ist und direkt mit dem Staubsammler verbunden ist.

10. Vorrichtung nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß im ersten waagerechten Kanal (16) ein Schaber\15) vorgesehen ist, der zum Entfernen von festen Aerosoltellchen dient, die sich Im ersten waagerechten Kanal angesammelt haben.

11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß am Boden (14) bzw. an der Decke (14') der Verzögerungskammer (1) ein Leitkegel (9) für den Gasstrom, der bezüglich der Bestrahlungzone (11) koaxial befestigt Ist, sowie eine kreuzförmige Leitplatte (8) angeordnet sind, die aus zwei Flügeln aus senkrechten, ebenen Platten besteht und ebenfalls koaxial bezüglich der Bestrahlungszone angeordnet ist.