DE2838159C2 - Vorrichtung zum Verteilen eines Gasstromes entlang einem langgestreckten Einlaß einer Gasbehandlungsvorrichtung - Google Patents
Vorrichtung zum Verteilen eines Gasstromes entlang einem langgestreckten Einlaß einer GasbehandlungsvorrichtungInfo
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- B03C—MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C3/00—Separating dispersed particles from gases or vapour, e.g. air, by electrostatic effect
- B03C3/01—Pretreatment of the gases prior to electrostatic precipitation
- B03C3/011—Prefiltering; Flow controlling
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zum Verteilen eines Gasstromes entlang einem langgestreckten
Einlaß einer Gasbehandlungsvorrichtung nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Bei verschiedenen Anlagen zum Behandeln von Gas ist es zuweilen notwendig, das Gas einer Behandlungsvorrichtung
im Winkel zur Strömurigsrichtung des Gase, durch die Gasbchandlungsvorriehtung zuzufüii
ι cn, und ,war z. B. wegen der räumlichen Verhältnisse
oder aus Gründen der Materialersparnis. Bei vielen
solcher Gasbehandlungsanlagen ist es wichtig, daß das zu behandelnde Gas einigermaßen gleichmäßig entlang
einem Einlaß der Gasbehamdlungsvorrichtung verteilt
wird, damit die Gasbehandlung mit optimalem Nutzeffekt durchgeführt werden kar.ii. Bei im Winkel zur
Strömungsrichtung des Gases durch die Gasbehandlungsvorrichtung erfolgendem Zuführen von Gas zu
dieser Vorrichtung besteht zuweilen die Tendenz, daß das Gas diejenigen Bereiche des Einlasses der
ίο Gasbehandlungsvorrichtung umgeht, die sich stromaufwärts
des Gasstromes zum Einlaß hin befinden.
Ein spezielles, wenn auch nicht ausschließliches Beispiel für eine einschlägige Gasbehandlung ist eine
Gasreinigung, ζ. B. durch Elektroabscheidung, wobei die Gasverteilung bei feinen Abgasen, d. h. bei mit
Schmutzpartikeln beladenen Gasen, bei denen die Partikelgröße relativ klein ist, von besonderer Bedeutung
sein kann. Das mit Schmutzpartikeln beladene, zu reinigende Gas wird 2. B. aus einem Gebäude abgeführt,
in dem industrielle Verfahren, z. B. metallurgische Vorgänge, wie Sauerstoff-Stahlgewinnung, Lichtbogen-Stahlschmelzung,
Nichteisengewinnung, Eisen- und Nichteisen-Gieß- und Schmelzvorgänge, durchgeführt
werden. Naturgemäß sind üblicherweise Vorkehrungen für da·; Auffangen und Reinigen des von dem
indunriellen Verfahren direkt ausströmenden Schmutzgases getroffen. Dabei bleibt jedoch das Problem von
durch das primäre Auffangsystem nicht erfaßtem Gas, das aus dem Gebäude abzuführen ist. Es versteht sich,
daß dieses Gas üblicherweise weitgehend mit atmosphärischer Luft verdünnt ist. Hinsichtlich Einzelheiten
eines primären und sekundären Gasreinigungssystems wird auf die schwebende deutsche Patentanmeldung P
27 45 784.7-23 verwiesen, auf deren Gesamtoffenbarung hier ausdrücklich Bezug genommen wird.
Andere Gasreinigungsanwendungen umfassen die abschließende Reinigung von aus Kraftwerken mit
Kohlefeuerung oder aus Zementwerken stammenden Gasen, die zur Verringerung des Staubanteils einem
Vorreinigungsverfahren unterworfen worden sind.
Bei einer bekannten Vorrichtung zum Umlenken und gleichmäßigen Verteilen eines strömenden Mediums bei
der Einführung in eine Gasbehandlungseinrichtung (DE-PS 10 08 068) ist in einem dem Einlaßbereich der
Gasbehandlungseinrichtung benachbarten Bereich eine Ausbuchtung am Ende eines Zuflußkanals für das
gasförmige Medium vorgesehen, die eine Einschnürung des Kanalquerschnitts und damit eine Erhöhung der
Strömungsgeschwindigkeit nach Art eines Ventunrohres herbeiführt. Dabei sind ferner vor dem Einlaß der
Gasbehandlungseinrichtung vorgesehene Umlenkflächen abgerundet und der Winkel der Austrittstangenten
der Umlenkflächen kleiner als der gewünschte Umlenkwinkel gewählt, um durch diese Maßnahmen insgesamt
Widerstände bei der Umlenkung des strömenden Mediums im Interesse einer gleichmäßigen Strömungsverteilung des Gases herabzusetzen. Dementsprechend
ist auch die dem Einlaß der Gasbchandlungseinrichtung benachbarte Wandausbuchtung bzw. Einschnürung des
Zuflußkanals mit sanften Übergängen ausgeführt. Diese sanften Profilgebungen bewirken jedoch, daß Schichtbildungen
von im Gasstrom insbesondere enthaltenen Schmutzpartikeln aufrechterhalten werden und keine
Verteilung erfahren, wie sie fur eine wrk^am'.'
Behand;u,ig in der Gasbehf rOlungsemnehtiiü;/ winschensv'.'crt
wäre.
Der Erfindung lieg! die Aufgabe .aiszru.iJ.:. ein:.
Vorrichtung zum Verteilen eines Gassüor;v:s cri^nnj
einem langgestreckten Einlaß einer Gasbehandlungsvorrichtung der eingangs angegebenen Art zu schaffen,
mittels welcher eine sehr gleichmäßige Verteilung insbesondere eines Schmutzpartikel enthaltenden Gasstromes
entlang dem Einlaß der Gasbehandlungseinrichtung bei zugleich entsprechend gleichmäßiger
Verteilung der im Gasstrom enthaltenen Schmutzpartikel erreichbar ist.
Diese Aufgabe wird nach der Erfindung dadurch gelöst, daß eine Staueinrichtung mit einer Mehrzahl von
Vorsprüngen am zweiten Wandbereich nahe dem Einlaß für eine gleichmäßige Verteilung des Gasstromes
über den Einlaß vorgesehen ist
Bei dieser Ausgestaltung hat der Stauvorgang, den die Gasströmung im Emlaßbereicb der Gasbehandlungsvorrichtung
erfährt, die Wirkung, daß die Dicke der Wirbelzone der Gasgrenzschicht vergrößert wird,
wodurch das Gas zu dem stromaufwärts befindlichen Bereich des Einlasses gedruckt wird. Hierdurch wird
nicht nur eine gleichmäßige Gasstromverteilung erreicht, sondern es hat sich auch gezeigt, daß die
gleichmäßige Verteilung von im Gasstrom enthaltenen Schmutzpartikeln erhalten bleibt, was für eine wirksame
anschließende Behandlung des staubbeladenen Gases wesentlich ist. Etwa vorhandene Schichtbildungen der
Partikel im Gasstrom erfahren an den Vorsprüngen der Stauvorrichtung eine wirksame Verwirbelung im
Interesse ihrer gleichmäßigen Verteilung.
In weiterer vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung sind die Vorsprünge zur stromaufwärts befindlichen so
Begrenzung des Einlasses hin als Gruppe angeordnet, wobei die Ausgestaltung der Vorsprünge derart
vorgenommen sein kann, daß jeder Vorsprung dreieckigen Querschnitt aufweist, die Grundlinie des Dreieckes
an dem zweiten Wandbereich liegt und jeder Vorsprung in Längsrichtung quer zur Richtung des Gasstromes
verläuft.
Im Zusammenhang mit der Förderung von Strömungsmedien
durch Leitungen sind zwar schon dreieckige Querschnitte in Leitungswandbereichen
bekanntgeworden, jedoch handelt es sich hierbei um eine besondere Ausgestaltung von Rohrkrümmern,
durch die keine gleichmäßige Verteilung oder Verwirbelung des Strömungsmediums einschließlich in diesem
etwa enthaltener Partikel herbeigeführt wird, sondern senkrecht zur Strömungsrichtung des Mediums angeordnete
Prallflächen geschaffen werden, die einem vorzeitigen Verschleiß des Rohrkrümmers entgegenwirken
sollen (GB-PS 12 22044).
Die Breite des Einlasses beträgt z. B. etwa 2,25 bis
23 m.
In der nachstehenden Beschreibung sind in Verbindung mit der Zeichnung zwei Ausführungsbeispiele
einer erfindungsgemäßen Vorrichtung schematisch veranschaulicht. In der Zeichnung zeigt
Fig. 1 eine Draufsicht auf eine Gasreinigungsvorrichtung.
F i g. 2 die Gasreinigungsvorrichtung in Seitenansicht, F i g. 3 eine Draufsicht einer abgewandelten Gasreinigungsvorrichtung
und
F i g. 4 eine Schemazeichnung zur Veranschaulichung der Breiten- und Abstandsverhältnisse der Trennplatten
in Draufsicht.
Die dargestellte Gasreinigungsvorrichtung umfaß' einer, Elektroabscheider 10, der in herkömmlicher
Weise eine Mehrzahl von im Abstand zueinander angeordneten, vertikalen Sammelelektroden 12 umfaßt,
zwischen denen eine Mehrzahl von Reihen vertikaler
Entladungselektroden 14 angeordnet ist Im Betrieb des Abscheiders 10 strömt ein mit Schmutzpartikeln
beladenes und zu reinigendes Gas im wesentlichen horizontal durch den Abscheider 10; an die Entladungselektroden 14 ist eine hohe Spannung angelegt,
während die Sammelelektroden 12 geerdet sind, woraus eine Koronaentladung resultiert, die ein Niederschlagen
von im Gas vorhandenen Partikeln an den Sammelelektroden 12 hervorruft, von denen das sich darauf
abgesetzte Material durch die Tätigkeit eines (nicht dargestellten) Abklopfgerätes entfernt wird und in
Trichter 13 fällt. Das gereinigte Gas wird alsdann in die Atmosphäre abgelassen. Der Abscheider 10 ist von
gedrungener Bauweise und dabei relativ breit und niedrig. Zum Beispiel betragen die Höhe der Sammelelektroden
12 etwa 0,3 m bis 15 m, die Gesamtbreite des Abscheiders 10 (quer zur Richtung des Gasstromes
gemessen) etwa 9 m bis 90 m und die Länge des Abscheiders in Richtung des Gasstromes etwa 2,7 m bis
22 m.
Eine horizontale Leitung 16 mit rechteckigem Querschnitt lei'et das mit Festpartikeln beladene, zu
reinigende Schmutzgas zum Elektroabscheider 10. Das Gas in der Leitung 16 besteht z. B. aus schädliche
Abgase enthaltender Luft aus einem Gebäude 9 mit einem Stahlerzeugungskonverter, von dem die Abgase
entweichen. Die Leitung 16 ist auf dem Dach des Gebäudes angebracht, während der Abscheider 10
etwa in Dachhöhe auf einem gesonderten Gestell (Fig.2) angebracht ist. Die Querschnittsfläche der
Leitung 16 beträgt z. B. etwa 9 m2bis 140 m2.
Der Elektroabscheider 10 umfaßt Seitenwände 19 und ist durch vertikale Unterteilungsglieder 17 in z. B. vier
gesonderte, gleichwertige, in Querrichtung miteinander fluchtende Abscheidungseinheiten 15 unterteilt, wobei
jede Einheit einen rechteckigen Einlaß 20 umfaßt, der sich in vertikaler Richtung über die volle Höhe der
Leitung 16 erstreckt. Der Einlaß 20 ist in horizontaler Richtung langgestreckt, wobei seine Breite im wesentlichen
25% der Gesamtbreite des Abscheiders 10 beträgt. Jede Einheit umfaßt Trenneinrichtungen im Einlaß 20,
bestehend aus einer geraden Reihe von in gleichmäßigem Abstand zueinander angeordneten vertikalen,
ebenen Trennblechen bzw. -platten 22, die planparallel zur Strömungsrichtung des Gases durch die Einheit 15
verlaufen. Die Trenneinrichtung umfaßt weiter zwischen den Trennblechen 22 und den Sammelelektroden
12 eine gerade Reihe von in gleichmäßigem Abstand zueinander angeordneten, vertikalen kreiszylindrischen
Rohren 24. Der kreisförmige Querschnitt der Rohre 24 bildet eine Düse, um örtliche Veränderungen in der
Gasgeschwindigkeit auf ein Mindestmaß herabzusetzen. Die beiden Reihen 22 und 24 sind zueinander parallel
und rechtwinklig zur Richtung der Gasströmung durch die Einheit 15 angeordnet, und sowohl die Trennbleche
22 wie auch die Rohre 24 erstrecker, sich über im wesentlichen die gesamte Höhe des Einlasses 20. Es ist
jeweils ein Rohr 24 fluchtend mit jedem Trennblech 22, ein Rohr 24 mitten zwischen jedem Paar von
Trennblechen 22, ein Rohr 24 mitten wischen jedem Unterteilungsglied 17 und dem benachbarten Trennblech
22 und ein Rohr 24 mitten zwischen jeder Abscheiderseitenwand 19 und dem jeweils benachbarten
Trennblech 22 angeordnet. Bei einer Abwandlung sinH die Rohre halbzylindrisch, wobei die gekrümmten
Bereiche in bezug auf den an den Rohren vorbeigetichteten
Gasstrom vorn sind. Jede Einheit (5 umfaßt einen nach oben Gerichteten Auslaß 26 zum Fntlasscn von
gereinigtem Gas in die Atmosphäre.
Die Leitung 16 ist in einem spitzen Winkel Θ (F i g. 1)
zur Gasströmungsrichtung durch die Einheiten 15 geneigt, und drei parallele ebene vertikale Leitbleche 28
sind in der Leitung 16 über deren volle Höhe angeordnet, um einen stromabwärts befindlichen
Endbereich der Leitung 16 in vier gesonderte, parallele Leitungsbereiche 30, und zwar jeweils einen für jede
Einheit 15, zu unterteilen. Jede Leitplatte 28 erstreckt sich von einer stromabwärts befindlichen Begrenzung
eines Einlasses 20 bis zu einer etwas stromaufwärts der Stromaufwärtsbegrenzung des Einlaßteils 20 liegenden
Stelle. Jede Leitplatte 28 ist im spitzen Winkel θ geneigt.
Einander gegenüberliegende parallele Leitungswandbereiche 34,35 sind entweder von einer Außenwand der
Leitung 16 oder von einem Leitblech 28 gebildet. Bei jedem Einlaß 20 erstreckt sich ein erster Leitungswandbereich
34 zur stromaufwärts befindlichen Begrenzung des zugehörigen Einlasses 20, und ein zweiter
Leitungswandbereich 35 erstreckt sich zu der stromabwärts befindlichen Begrenzung des Einlasses 20. An
jedem Wandbereich 35 angrenzend an den Einlaß 20 der entsprechenden Einheit 15 ist eine Staueinrichtung
vorgesehen, die vier Vorsprünge 38 umfaßt. Diese ragen (wie in F i g. 1 gesehen) in typischer Weise um 4 bis 30%
des senkrechten Abstandes (d. h. des kleinsten Abstandes) zwischen die Wandbereiche 34 und 35 vor. Die
Vorsprünge 38 bilden sich vertikal erstreckende Glieder mit gleichseitigem dreieckigem Querschnitt, wobei die
Grundlinie des Dreiecks auf dem Wandbereich 35 gelegen ist. Die Vorsprünge 38 erstrecken sich über die
volle Höhe der Leitung 16 und sind in gleichmäßigem gegenseitigem Abstand und entlang dem Wandbereich
35 angeordnet, wobei sie innerhalb der geometrischen Projektion (in Draufsicht nach F i g. 1 gesehen) des
Einlasses 20 auf dem Wandbereich 35 liegen. Die Vorsprünge sind zur stromaufwärts befindlichen Begrenzung
des Einlasses 20 hin als Gruppe bzw. Bündel angeordnet, wobei sie am stromaufwärts befindlichen
Ende der genannten geometrischen Projektion beginnen und an einer Stelle enden, die nicht mehr als 50%
des Abstandes von dem stromaufwärts befindlichen Ende zu der stromabwärts befindlichen Begrenzung
entlang dem zweiten Wandbereich 35 beträgt
Im Betrieb der Vorrichtung wird mit Partikeln beladenes, zu reinigendes Schmutzgas in Wirbelströmung
durch die Leitung 16 zum Elektroabscheider 10 geleitet. Die Vorsprünge 38 dienen dazu, eine
gleichmäßige Gasstromverteilung in horizontaler Richtung über den Einlaß 20 herbeizuführen, und die
Trennplatten 22 und Rohre 24 bewirken die Aufrechterhaltung einer relativen Beständigkeit der Gasverteilung
bis zu ..'en Sammelelektroden 12.
Die lineare Geschwindigkeit des Gases in den Leitungsbereichen 30 beträgt z. B. 6 bis 24 m/sec.
Die Vorsprünge 38 haben dabei die Wirkung, die Dicke der Wirbelzone der Gasgrenzschicht zu vergrößern,
wodurch das Gas dann zu den stromaufwärts befindlichen Bereichen der Einlasse 20 gedrückt wird.
Der Winkel θ beträgt z. B. zumindest 60° und vorzugsweise 60° bis 85", z. B. etwa 80°.
In jeder Einheit 15 beträgt der Abstand zwischen jedem Paar benachbarter Sammelelektroden 12 z. B.
250 bis 700 mm, vorzugsweise 450 bis 7öö mm, oder statt dessen 250 bis 350 mm.
Bei dem dichteren Sammelelektrodenabstand ist zwischen den Trennplatten 22 z. B. derselbe Abstand
vorhanden wie zwischen den Sammelelektroden 12, d. h. ein Abstand von 250 bis 350 mm, wobei die Trennplatten
22 jedoch nicht mit den Sammelelektroden 12 fluchten müssen. Bei dem breiteren Sammelelektrodenabstand
ist der Abstand der Trennplatten z. B. halb so groß wie derjenige der Sammelelektroden 12, d. h. er beträgt 225
bis 350 mm, wobei die Trennplatten 22 jedoch wiederum nicht mit den Sammelelektroden 12 zu fluchten
brauchen.
Der Abstand S (Fig.4) zwischen benachbarten
Trennplatten 22 kann zu deren Breite w, die einheitlich ist, in einem bestimmten Verhältnis stehen. So ist Sz-B.
nicht größer als 0,75 w und beträgt vorzugsweise nicht mehr als 0,5 w.
Die F i g. 3 zeigt eine Ausführungsform, bei der die
Leitung 16 in einem Winkel von 90° zur Richtung des Gasstromes durch die Einheiten 15 zum Elektroabscheider
10 führt. Dabei sind der Leitungsaußenwandbereich 35 und die Leitplatten 28 jedoch nach wie vor in einem
Winkel θ geneigt, wobei die Schrägstellung des Wandbereiches 35 bei 50 unmittelbar stromabwärts des
stromaufwärts befindlichen Endes der stromaufwärts liegenden Einheit 15 beginnt Im Falle der stromaufwärts
befindlichen Einheit 15 liegt hierbei der erste Wandbereich 34 in einem Winkel von 90° zur Richtung
des Gasstroms durch den Abscheider 10.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (7)
1. Vorrichtung zum Verteilen eines Gasstromes entlang einem langgestreckten Einlaß einer Gasbehandlungsvorrichtung
mit einer Leitung, die Gas zum Einlaß leitet und in einem Winkel zur Strömungsrichtung des Gases durch die Gasbehandlungsvorrichtung
verläuft, wobei ein erster Leitungswandbereich sich von der stromaufwärts des
Gasstroms durch die Leitung befindlichen Begrenzung des Einlasses aus stromaufwärts erstreckt und
ein zweiter Leitungswandbereich sich im spitzen Winkel zur Strömungsrichtung des Gases durch die
Behandlungsstation von der stromabwärts des Gasstromes durch die Leitung befindlichen Begrenzung
des Einlasses aus stromaufwärts erstreckt, dadurch gekennzeichnet, daß eine
Staueinrichtung mit einer Mehrzahl von Vorsprüngen (38) am zweiten War.db-:reich (35) nahe dem
ninlaß (20) für eine gleichmäßige Verteilung des Gasstromes über den Einlaß vorgesehen ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorsprünge (38) zur stromaufwärts
befindlichen Begrenzung des Einlasses (20) hin als Gruppe angeordnet sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß jeder Vorsprung (38) dreieckigen
Querschnitt aufweist, die Grundlinie des Dreiecks an dem zweiten Wandbereich (35) liegt und
jeder Vorsprung (38) in Längsrichtung quer zur Richtung des Gasstromes verläuft.
4. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Vorsprünge (38) innerhalb der geometrischen Projektion des Einlasses (20) auf den zweiten
Wandbereich (35) in der Sirömungslinie des Gases durch die Gasbehandlungsvorrichtung (10) liegen.
5. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß im
Bereich des Einlasses (20) eine Gasstromtrennvorrichtung (22,24) vorgesehen ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Trenneinrichtung eine Mehrzahl
von zur Richtung des Gasstroms durch die Gasbehandlungsvorrichtung (10) planparallelen,
ebenen Trennplatten (22) und eine Mehrzahl von stromabwärts der Trennplatten angeordneten Gliedern
(24) zur Erzeugung eines Düseneffekts umfaßt.
7. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, gekennzeichnet durch eine
Mehrzahl von in Querrichtung miteinander fluchtenden benachbarten Einlassen (20) mit sich jeweils zu
diesen erstreckenden ersten und zweiten Leitungswandbereichen (34,35).
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