DE3330806C2 - - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft die Verwendung der Röntgenröhre nach der DE-OS 32 22 511 in einem Röntgenlithographiegerät.

Die Röntgenlithographie hat ihre besonderen Probleme, denn im Submikrometerbereich müssen präzise Schattenrisse von Masken hergestellt werden, um bei der Herstellung von integrierten Schaltungen feinste Strukturen im Submikrometerbereich scharf abzubilden.

Ein derartiges Röntgenlithographiegerät ist in der DE-OS 28 54 693 beschrieben. Als Targetmaterial wird hier Wolfram verwendet, ein Material hoher Ordnungszahl und hohen Schmelzpunktes. In der Elektronenkanone der Röntgenröhre befindet sich eine Glühkathode mit einem Wolframfaden. Mit dieser Röntgenröhre wird langwellige Röntgenstrahlung erzeugt, welche für die Röntgenlithographie besonders geeignet ist. Jedoch waren die mit diesem Gerät zu erzeugenden Schattenrisse nicht präzise genug.

Auch durch die DE-AS 23 02 116 und die US-PS 38 92 973 sowie die in den USA erscheinende Zeitschrift "J. Electrochem. Soc.: SOLID-STATE SCIENCE AND TECHNOLOGY; Vol. 128, No. 5" Mai 1981, Seiten 1106 bis 1111 sind Röntgenlithographiegeräte bekannt geworden, die sich aber für die scharfe Abbildung feinster Strukturen im Submikrometerbereich nicht eignen.

Durch die DE-OS 32 22 511 ist eine Röntgenröhre bekannt geworden, die sich mit einem äußerst kleinen Brennfleck auf der Antikathode betreiben läßt. Es ist der Gedanke der vorliegenden Erfindung, die bei Röntgenlithographiegeräten auftretenden Probleme durch die Verwendung dieser Röntgenröhre für ein hoch leistungsfähiges Röntgenlithographiegerät zu verwenden und einerseits Maßnahmen vor dem Target vorzusehen, um effektiv und ökonomisch die benötigte langwellige Röntgenstrahlung zu erzeugen und andererseits aber auch am Target selbst und hinter dem Target Maßnahmen für eine effektive Bestrahlung und somit für kurze Bestrahlungszeiten vorzunehmen.

Es ist die Aufgabe der Erfindung, ein leistungsfähiges Röntgenlithographiegerät zu schaffen, welches mit geringem Energieaufwand bei einfacher Bauart so ausreichend langwellige Röntgenstrahlung mit einer solchen Schärfe erzeugt, daß relativ kurze Belichtungszeiten ermöglicht werden.

Die Erfindung ist im Hauptanspruch gekennzeichnet.

Die hier verwendete Elektronenkanone erzeugt auf einem besonders kleinen Fokus einen besonders intensiven Elektronenstrom, der schon infolge des kleinen Fokus in sich gut gebündelt ist, durch Elektronenstrahlbündelungsvorrichtungen jedoch noch weiter gebündelt werden kann, so daß auf dem Target ein besonders kleiner Brennfleck entsteht, der jedoch, da Beschleunigungsspannungen von 3 KV bis 25 KV verwendet werden, in diesem kleinen Brennfleck eine sehr intensive langwellige Röntgenstrahlung erzeugt. Durch die Anpassung der Beschleunigungsspannung für den Elektronenstrom an das Targetmaterial hoher Ordnungszahl und hohen Schmelzpunktes in der Art, daß eine errechnete Spannung verwendet wird, die gewährleistet, daß der größte Anteil der Elektronen des Elektronenstromes bereits in den ersten zwei oder drei Molekülreihen gebremst wird, wird erreicht, daß die intensive langwellige Strahlung erzeugt wird. Hier wirkt der intensive, stark gebündelte Elektronenstrom mit den Atomen des Targets derart zusammen, daß die sich gegenseitig beeinflussenden Elektronen des Elektronenstromes ein Ausweichen, wie es bei weniger gebündelten und nicht so intensiven Elektronenströmen die Regel ist, nicht vorkommen kann. - So wird durch eine Röntgenröhre mit extrem kleinem Glühemissionsfleck, elektrische Mittel zur Verkleinerung der Abbildung des Glühemissionsflecks auf dem Target, dem Target aus einem Material hoher Ordnungszahl und hohem Schmelzpunkt, z. B. Wolfram, und dem Brennfleck auf dem Target mit einem Durchmesser von weniger als 10^-4 m bereits in dem Bereich vor dem Target und auf dem Target die Voraussetzung für eine effektive Röntgenlithographie geschaffen. Durch die Wahl eines ungewöhnlich geringen Abstandes zwischen Target und Fenster und zwischen Target und Lithographiemaske wird dieses günstige Ergebnis noch weiter verbessert.

Durch einen so kleinen Brennfleck auf dem Target wird naturgemäß das Target stark belastet. Daher ist es zweckmäßig, wenn die Oberfläche des Targets aus einer gewölbten oder mindestens zwei, durch eine Kante voneinander getrennten winklig zueinander angeordneten ebenen Flächen besteht, wenn ein Teil der gewölbten Fläche oder die eine ebene Fläche dem Röntgenstrahlenaustrittsfenster zugewandt und der andere Teil der gewölbten Fläche oder die andere ebene Fläche dem Röntgenstrahlenaustrittsfenster abgewandt ist, wenn man für die durch jedes Austrittsfenster der Röntgenröhre austretenden Strahlen den Targetwinkel so wählt, daß er zwischen 0 und 10°, vorzugsweise bei 5,5° liegt, und wenn eine Steuervorrichtung für die in die Ablenkvorrichtung eingespeisten Spannungen vorgesehen ist, mit der der Elektronenstrom bei der Wanderung von einem Abstrahlpunkt auf einen anderen Abstrahlpunkt zweimal über den der Elektronenkanone zugewandten Zenit oder eine der Elektronenkanone zugewandte Kante auf dem Target abgelenkt wird. Hierdurch wird ein ständiger Brennfleckwechsel erreicht, nämlich ein Arbeiten im Impulsbetrieb der Röntgenröhre, wobei jedoch die Röntgenröhre ständig im Betrieb bleibt, so daß nicht Nachteile durch Ein- und Abschalten des Elektronenstromes auftreten können.

In diesem Impulsbetrieb ist es zweckmäßig, wenn die Steuervorrichtung den Auftreffpunkt des Elektronenstrahles auf einem Abstrahlpunkt verharren läßt und dann den Elektronenstrahl mit hoher Geschwindigkeit auf den nächsten Abstrahlpunkt bewegt und ihn dort wieder verharren läßt, weil dann diejenigen Zeiten, in denen der emittierte Elektronenstrom genutzt wird, groß sind gegenüber denjenigen Zeiten, in denen der Elektronenstrom nicht genutzt wird.

Besonders wirkungsvoll für die Ausnutzung des Elektronenstromes ist es jedoch, wenn die Röntgenröhre auf mindestens zwei gegenüberliegenden Seiten je ein Röntgenstrahlenaustrittsfenster aufweist, zwischen denen das Target angeordnet ist, wenn die Oberfläche des Targets aus einer gewölbten Fläche mit der Elektronenkanone zugewandten Zenit oder aus mindestens zwei ebenen, durch mindestens eine Kante voneinander getrennten, winklig zueinander angeordneten ebenen Flächen besteht, wenn beidseits des Zenits je ein Teil der gewölbten Fläche oder beidseits der Kante je eine ebene Fläche je einem Röntgenaustrittsfenster zugewandt ist, wenn man für die durch jedes Austrittsfenster der Röntgenröhre austretenden Strahlen den Targetwinkel so wählt, daß er zwischen 0 und 10°, vorzugsweise bei 5,5° liegt, und wenn eine Steuervorrichtung für die in die Ablenkvorrichtung eingespeisten Spannungen vorgesehen ist, mit der der Elektronenstrom bei der Wanderung von einem Abstrahlpunkt auf einer Fläche (bzw. Flächenteil) auf einen anderen Abstrahlpunkt auf der anderen Fläche (bzw. Flächenteil) über den Zenit oder die Kante abgelenkt wird. Hierdurch wird ein Röntgenlithographiegerät geschaffen, welchen zu beiden Seiten der Röntgenröhre Träger für Lithographiemasken und Träger für das zu belichtende Substrat aufweist. Abwechselnd wird hier einmal das zur einen Seite, dann anschließend das zur anderen Seite angeordnete Substrat bestrahlt, so daß der Elektronenstrom der Röntgenröhre ständig ausgenutzt wird. Aber nicht nur die ständige Ausnutzung des Elektronenstromes der Röntgenröhre ist hier ein besonderer Vorteil, sondern es besteht auch der weitere Vorteil, daß in derjenigen Zeit, in der das eine Substrat nicht bestrahlt wird, dieses Substrat gegen ein völlig unbestrahltes Substrat ausgewechselt werden kann. Während der Auswechselungszeit wird somit das auf der anderen Seite angeordnete Substrat bestrahlt.

Das Wesen der Erfindung ist nachstehend anhand von in der Zeichnung schematisch dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert. Es zeigt:

Fig. 1 einen Querschnitt durch eine Elektronenkanone mit sehr kleinem Emissionsfleck und hoher Elektronenemission,

Fig. 2 einen Querschnitt durch die Lithographievorrichtung,

Fig. 3 einen Querschnitt durch die Röntgenröhre im Bereich des Targets,

Fig. 4 einen Querschnitt durch eine Röntgenlithographievorrichtung für die wechselseitige Bestrahlung zweier Substrate,

Fig. 5 einen Querschnitt durch die Röntgenröhre im Bereich des Targets der Vorrichtung nach Fig. 4,

Fig. 6 einen Schnitt durch die Röntgenröhre der Fig. 4, unterhalb des Targets mit einer Darstellung der Brennflecke auf dem Target,

Fig. 7 eine perpektivische Ansicht eines halbkugelförmigen Targets,

Fig. 8 eine perspektivische Ansicht eines pyramidenstumpfförmigen Targets,

Fig. 9 eine schematische Darstellung der Anordnung der zu bestrahlenden Substrate um die Röntgenröhre.

Für die vorliegende Erfindung ist von hoher Wichtigkeit, daß eine Elektronenkanone mit einer Glühkathode Verwendung findet, deren Elektronenaustrittsstelle einen möglichst kleinen Durchmesser aufweist. Eine solche Elektronenkanone ist in der Fig. 1 dargestellt:

Der U-förmig gebogene Heizfaden 1 der Glühkathode ist mit seinen beiden Schenkeln in Klemmvorrichtungen 2, 3 mittels der Schrauben 4 geklemmt. Die Klemmvorrichtungen 2, 3 laufen in Stecker 5 aus, die an eine elektrische Stromquelle angeschlossen werden. Die beiden Klemmvorrichtungen 2, 3 sind in eine Isolierscheibe 6 eingesetzt, die von einem Ring 7 getragen wird, der auf seiner Außenseite ein Außengewinde trägt, auf das das Innengewinde des topfförmigen Gitters 9 geschraubt ist. Hierdurch bilden Gitter 9 und die Glühkathode eine Baueinheit, die mittels der Stecker 5 auf einen Sockel steckbar ist. Dabei kann die Stellung des Gitters 9 gegenüber der Glühkathode 1 verändert werden. Das Gitter 9 weist einen zylindrischen Teil auf, welcher das Innengewinde an einem Ende trägt und welcher am anderen, dem nicht dargestellten Target der Röntgenröhre zugewandten Ende einen nach innen gerichteten Flansch 10 als nach innen gerichteten Vorsprung trägt. Zentrisch in diesem Flansch befindet sich die Öffnung 11, welche die Spitze des als Glühkathode dienenden Glühdrahtes 1 umgibt. Die der Glühkathode 1 zugewandte Seite 12 dieses Flansches ist entweder eben (Fig. 1) oder in Richtung auf die Glühkathode 1 abgewinkelt, wobei die Abwinkelungsstelle auch direkt an dem Übergang der Fläche 12 in die Innenwandung des zylindrischen Teiles des Gitters 9 befindliche sein kann, so daß hier der Winkel zwischen der Innenseite des zylindrischen Teiles des Gitters 9 und der Fläche 12 weniger als 90° beträgt. Die Außenseite des Flansches ist konisch bzw. trichterförmig gestaltet, derart, daß sich der Flansch 10 in Richtung auf die Öffnung 11 verjüngt. Das Zentrum dieser trichterförmigen Fläche 13 befindet sich in der Spitze des Glühdrahtes 1 oder dicht unterhalb der Spitze des Glühdrahtes 1. Die Fläche 12 ist ebenfalls auf die Spitze des Glühdrahtes 1 oder einen Punkt dicht unterhalb der Spitze des Glühdrahtes 1 gerichtet. Die Kante des Randes 14, also der Übergangsstelle von der trichterförmigen Fläche 13 in die Fläche 12 ist abgerundet, und zwar im Querschnitt in etwa halbkreisförmig gestaltet. Der Durchmesser dieses Halbkreises ist klein.

Der Durchmesser des Glühfadens wird zweckmäßigerweise mit 0,2 bis 0,4 mm gewählt, der Abstand A von dem Rand 14 des Flansches 10 des Gitters 9 von der am nächsten liegenden Stelle des Glühfadens 1 wird zweckmäßigerweise 0,4 bis 4 mm gewählt. Der Winkel α, das ist der von der konischen Fläche 13 und der Innenfläche 12 des Flansches eingeschlossene Winkel wird zweckmäßigerweise 15 bis 60° gewählt, während der Winkel β, das ist der Konuswinkel bzw. Trichterwinkel der konischen Fläche 15 wird zweckmäßigerweise mit 100 bis 140° gewählt.

Die Röntgenlithographievorrichtung ist in Fig. 2 dargestellt. Sie besteht aus einer Röntgenröhre mit dem Gehäuse 15, 16, in welchem die Elektronenkanone 17 eingebaut ist, die im Querschnitt in Fig. 1 dargestellt ist. Diese Elektronenkanone 17 ist auf dem Sockel 18 mittels der zwei Stecker aufgesteckt. Das Gehäuse ist durch die Trennwand 19 unterteilt. Die Trennwand 19 weist mittig eine Öffnung 20 für den Durchtritt des Elektronenstromes 21 auf. An dem Gehäuseteil 16, das auch den Evakuierungsstutzen 22 trägt, mit dem die gesamte Röntgenröhre für den Betrieb evakuiert wird, ist der Gehäuseteil 15 angeflanscht. In diesem befinden sich Ablenk- und Fokussierspulen 23, 24, 25 und auf eine stirnseitige Öffnung ist der das Target 26 aufnehmende Gehäuseteil 27 angebracht. Dieser Gehäuseteil weist ein Austrittsfenster 28 für die am Target 26 erzeugte Röntgenstrahlung auf. Im Strahlungsfeld dieses Röntgenfensters 28 ist ein Träger mit der Lithographiemaske 29 sowie ein Träger mit dem zu bestrahlenden Substrat angeordnet. Bei diesem Substrat handelt es sich um einen Chip für elektronische Schaltungen.

In Fig. 3 ist in Vergrößerung ein Querschnitt durch den Gehäuseteil 27 mit dem Target 26 dargestellt. Die gestrichelte Linie 30 liegt in der geometrischen Mitte der Röntgenröhre und geht durch den Zenit der gewölbten Fläche 31 des Targets 26. Der Elektronenstrom 21 verläuft versetzt zu der Linie 30 und fällt unter einem Targetwinkel von 0 bis 10° auf die Oberfläche 31 des Targets 26 und erzeugt hier die Röntgenstrahlung 33, die durch das Fenster 28 ausfällt. Der Innenraum des Gehäuseteiles 27 ist mit einer Röntgenstreustrahlung absorbierenden Auskleidung 34 versehen.

In dieser Röntgenröhre kann der Elektronenstrom 21 von der Teilfläche 31A durch elektronische Ablenkung über den Zenit 31B auf die Teilfläche 31C gelenkt werden, von wo die dort erzeugte Röntgenstrahlung nicht durch das Austrittsfenster 28 austritt. Dieses erfolgt bei einem Wechsel der dicht neben dem Zenit 35B liegenden Abstrahlorte auf dem Target 26. Dieser Wechsel erfolgt, damit das Target nicht an einzelnen Punkten überhitzt und dadurch beschädigt wird. Um von einem Abstrahlpunkt, z. B. dem in der Papierebene liegenden Abstrahlpunkt, zu einem anderen Abstrahlpunkt, der vor oder hinter der Papierebene gelegen ist, zu gelangen, läßt man den Elektronenstrom zweimal den Zenit 35B überschreiten und einen großen Teil des Weges von einem Abstrahlpunkt zum nächsten auf der dem Fenster 28 abgewandten Seite des Targets verlaufen. Hierdurch werden Verwischungseffekte auf dem Substrat vermieden.

Diese gewölbte Ausbildung des Targets und die Ablenkung des Elektronenstromes von einer Targetfläche 31A auf die andere Targetfläche 31C kann aber auch ausgenutzt werden, um im Impulsbetrieb zwei Substrate 35 wechselweise mit Röntgenstrahlung zu bestrahlen. Eine hierfür geeignete Vorrichtung ist in Fig. 4 dargestellt. Sie weist den gleichen Aufbau wie die Vorrichtung der Fig. 2 auf, hat lediglich zu beiden Seiten des Gehäuseteiles 27 je einen Träger für eine Lithographiemaske 29 und je einen Träger für ein Substrat 35 aufzuweisen. Darüber hinaus hat der Gehäuseteil 27 nicht ein Austrittsfenster 28, sondern zwei Austrittsfenster 28A, 28B, wie das auch aus Fig. 5 ersichtlich ist.

In Fig. 6 ist ein Schnitt durch den Gehäuseteil 27 gezeigt, bei dem man auf das Target 26 schaut. Zu beiden Seiten des Zenits 31 sind je drei Abstrahlpunkte 36, 37, 38 auf der Teilfläche 31A und 39, 40, 41 auf der Teilfläche 31C angeordnet. Wie durch die gestrichelten Pfeillinien angedeutet, wandert der Abstrahlpunkt vom Ort 36 nach Abstrahlort 40, dann nach Abstrahlort 38, dann nach Abstrahlort 39, dann nach Abstrahlort 37, dann nach Abstrahlort 41 und von dort wieder zurück zum Abstrahlort 36. Bei jeder dieser Wanderungen von einem Abstrahlort zum anderen wird der Zenit 31B überschritten. Jedes der beiden Substrate 35 wird somit für eine bestimmte Zeit bestrahlt, dann wird es ausgewechselt gegen ein unbestrahltes Substrat, wenn der Röntgenstrahl auf ein anderes Substrat gerichtet ist, und danach wird das unbestrahlte Substrat von einem anderen Fleck der gleichen Targetfläche bestrahlt. Im gezeichneten Ausführungsbeispiel werden von den sechs Abstrahlpunkten sechs Substrate bestrahlt, die sich der Zyklus für die nächsten sechs Substrate wiederholt.

Eine Impulspause kann hier für die Auswechslung eines ausreichend bestrahlten Substrats gegen ein unbestrahltes Substrat genutzt werden. Hierdurch befindet sich die Röntgenröhre in Dauerbetrieb, ohne jegliche Ausfallzeit.

Zur Erzeugung der gewünschten langwelligen Strahlung verwendet man Beschleunigungsspannungen von 3 bis 25 KV und ein Target aus Wolfram. Durch Berechnung wählt man die Beschleunigungsspannung derart, daß die Abbremsung der Elektronen möglichst in der obersten Atomschicht erfolgt, so daß lediglich in den obersten Atomschichten nahezu der gesamte Elektronenstrom abgebremst ist.

Fig. 7 zeigt ein gewölbtes Target, welches eine halbkugelförmig ausgebildete Abstrahlungsfläche aufweist. Von den Abstrahlungspunkten 36, 37, 38, 39 (und den nicht im Bild sichtbaren Abstrahlungspunkten (40, 41) werden Röntgenstrahlen in solche Richtungen ausgesandt, die in radialen Ebenen zur geometrischen Achse 30 des Targets 26 liegen. Der Elektronenstrahl 21 wird dabei Schritt für Schritt von einem Abstrahlpunkt zum nächsten Abstrahlpunkt weiterbewegt, um dann immer eine gewisse Zeit auf dem Abstrahlpunkt zu verharren. Bei dieser Ausführungsform sind die zu bestrahlenden Substrate 35 radial um die geometrische Achse 30 des Targets angeordnet, wie dieses die Fig. 9 zeigt. Hier sind auf dem Target acht Abstrahlpunkte vorgesehen, auf die der Elektronenstrahl 21 durch elektromagnetische Ablenkung gelenkt wird und es sind entsprechend acht Austrittsfenster 28 vorgesehen, durch die jeweils der Röntgenstrahl 38 austritt. Zwischen den einzelnen Austrittsfenstern 28 sind Abschirmbleche 42 vorgesehen, die einen unerwünschten Austritt der Röntgenstrahlung aus benachbarten Austrittsfenstern 28 verhindern. Die Substrate 35 sind auf einer Kreislinie um die geometrische Achse 30 angeordnet, hierfür sind besondere Halterungen vorgesehen. Andere Halterungen haltern vor dem Substrat 35 je eine Lithographiemaske 29.

In Fig. 8 ist eine andere mögliche Targetform dargestellt, die sechs ebene Flächen 45 aufweist, auf die der Elektronenstrahl 21 gelenkt wird und auf diesen Flächen den Abstrahlpunkt 36 bis 41 bildet. Hier ist das Target somit pyramidenstumpfförmig ausgebildet, in der Mitte befindet sich eine Fläche 44, welche durch eine Kante von den Flächen 43 getrennt ist und die senkrecht zur geometrischen Achse des Targets liegt.

Natürlich braucht die Anzahl der Abstrahlpunkte und die Anzahl der Abstrahlflächen 43 nicht gradzahlig zu sein, auch ungeradzahlige Anzahlen von Flächen und Abstrahlpunkten sind möglich. Wenn es räumliche äußere Bedingungen notwendig machen, ist es auch nicht notwendig, daß die Substrate im Kreis um die Röntgenröhre angeordnet sind, sondern sie können auch auf einem Teilkreis angeordnet sein. Diese Anordnung mehrerer zu bestrahlender Substrate und die Ausnutzung eines einzigen Targets für die Bestrahlung verschiedener Substrate durch verschiedene Austrittsfenster an verschiedenen Orten ist nicht abhängig von der im Anspruch 1 beschriebenen Elektronenkanone, wenn diese nur einen ausreichend scharf gebündelten Elektronenstrahl von ausreichend hoher Intensität auf das Target schießt.

Claims (4)

1. Verwendung der Röntgenröhre nach der DE-OS 32 22 511 in einem Röntgenlithographiegerät,

• a1) mit einer Elektronenkanone (17), bei der das Gitter (9) auf seiner dem Target (26) zugewandten Seite einen Flansch (10) mit einer nach innen gerichteten Ausdrehung aufweist, der eine Öffnung (11), in der sich die Spitze der Glühkathode (1) befindet, umschließt,
• a2) bei der die der Glühkathode (1) zugewandte Seite des Flansches eben ist,
• a3) bei der die dem Target zugewandte Seite des Flansches unter einem Winkel β von 100° bis 140° in Richtung auf die Spitze der Glühkathode verläuft,
• a4) bei der sich das Material des Flansches in Richtung auf den die zentrische Öffnung (11) begrenzenden Rand (14) unter einem Winkel von 15° bis 60° verjüngt,
• b) bei dem der Brennfleck auf dem Target (8) einen Durchmesser von weniger als 10^-2 cm aufweist,
• c1) bei dem der Abstand zwischen dem Target (26) und dem Röntgenstrahlaustrittsfenster (28) der Röntgenröhre maximal 2 cm beträgt,
• c2) und der Abstand zwischen dem Target (26) und der Lithographiemaske (29) maximal 20 cm beträgt.

2. Verwendung der Röntgenröhre nach Anspruch 1 mit einem Austrittsfenster in einem Röntgenlithographiegerät,

• d1) bei dem die Oberfläche des Targets (26) aus einer gewölbten oder mindestens zwei, durch eine Kante voneinander getrennten winklig zueinander angeordneten ebenen Flächen besteht,
• d2) bei dem ein Teil der gewölbten Fläche (31A) oder die eine ebene Fläche dem Röntgenstrahlenaustrittsfenster (28) zugewandt und der andere Teil (31C) der gewölbten Fläche oder die andere ebene Fläche dem Röntgenstrahlenaustrittsfenster (28) abgewandt ist,
• d3) bei dem man für die durch jedes Austrittsfenster (28A, 28B) der Röntgenröhre austretenden Strahlen den Targetwinkel so wählt, daß er zwischen 0 und 10°, vorzugsweise bei 5,5° liegt,
• e1) bei dem eine Steuervorrichtung für die in die Ablenkvorrichtung (23) eingespeisten Spannungen vorgesehen ist, mit der der Elektronenstrom (21) bei der Wanderung von einem Abstrahlpunkt (36) auf einen anderen Abstrahlpunkt (40) zweimal über den der Elektronenkanone (17) zugewandten Zenit (31B) oder eine der Elektronenkanone (17) zugewandte Kante auf dem Target (26) abgelenkt wird.

3. Verwendung einer Röntgenröhre in einem Lithographiegerät nach Anspruch 2,

• c2) bei dem die Steuervorrichtung den Auftreffpunkt des Elektronenstrahles (21) auf einem Abstrahlpunkt (36) verharren läßt und dann den Elektronenstrahl (21) mit hoher Geschwindigkeit auf den nächsten Abstrahlpunkt (40) bewegt und ihn dort wieder verharren läßt.

4. Verwendung einer Röntgenröhre in einem Röntgenlithographiegerät nach Anspruch 1,

• d4) bei dem die Röntgenröhre auf mindestens zwei gegenüberliegenden Seiten je ein Röntgenstrahlenaustrittsfenster (28A, 28B) aufweist, zwischen denen das Target (26) angeordnet ist,
• d5) bei dem die Oberfläche (31) des Targets (26) aus einer gewölbten Fläche mit der Elektronenkanone (17) zugewandtem Zenit (31B) oder aus mindestens zwei ebenen, durch eine Kante voneinander getrennten, winklig zueinander angeordneten ebenen Flächen besteht,
• d6) bei dem beidseits des Zenits (31B) je ein Teil (31A, 31B) der gewölbten Fläche (31) oder beidseits der Kante je eine ebene Fläche je einem Röntgenaustrittsfenster (28A, 28B) zugewandt ist,
• d7) bei dem man für die durch jedes Austrittsfenster (28A, 28B) der Röntgenröhre austretenden Strahlen den Targetwinkel so wählt, daß er zwischen 0 und 10°, vorzugsweise bei 5,5° liegt,
• e3) bei dem eine Steuervorrichtung für die in die Ablenkvorrichtung (23) eingespeisten Spannungen vorgesehen ist, mit der der Elektronenstrom (21) bei der Wanderung von einem Abstrahlpunkt (36) auf einer Fläche (bzw. Flächenteil 31A) auf einen anderen Abstrahlpunkt (40) auf der anderen Fläche (bzw. Flächenteil 31C) über den Zenit (31B) oder die Kante abgelenkt wird.