DE3031567C2 - - Google Patents

Info

Publication number
DE3031567C2
DE3031567C2 DE3031567A DE3031567A DE3031567C2 DE 3031567 C2 DE3031567 C2 DE 3031567C2 DE 3031567 A DE3031567 A DE 3031567A DE 3031567 A DE3031567 A DE 3031567A DE 3031567 C2 DE3031567 C2 DE 3031567C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
etching solution
etching
activated carbon
carbon powder
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE3031567A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3031567A1 (de
Inventor
Bertel Prof. Dr. 2000 Hamburg De Kastening
Wolfgang Faul
Leander 5170 Juelich De Fuerst
Walter 7758 Meersburg De Holzer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Forschungszentrum Juelich GmbH
Original Assignee
Kernforschungsanlage Juelich GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kernforschungsanlage Juelich GmbH filed Critical Kernforschungsanlage Juelich GmbH
Priority to DE19803031567 priority Critical patent/DE3031567A1/de
Priority to US06/287,492 priority patent/US4385969A/en
Priority to AT81106058T priority patent/ATE22935T1/de
Priority to EP81106058A priority patent/EP0046522B1/de
Priority to AU73975/81A priority patent/AU548856B2/en
Priority to CA000383975A priority patent/CA1175323A/en
Priority to DK368981A priority patent/DK158156C/da
Priority to JP56130397A priority patent/JPS5773183A/ja
Publication of DE3031567A1 publication Critical patent/DE3031567A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3031567C2 publication Critical patent/DE3031567C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/46Regeneration of etching compositions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Ätzen mit einer ammoniakalischen Ätzlösung und zum Regenerieren dieser Ätzlösung unter Zufuhr von Sauerstoff zur Rückoxidation des in der Ätz­ lösung enthaltenen Ätzmittels sowie auf eine Ätz­ lösung zur Duchführung des Verfahrens.
Alkalische Ätzmittel werden zum Ätzen metallischer Gegenstände, insbesondere zur Herstellung von Leiterplatten, die auch unter der Bezeichnung "ge­ druckte Schaltungen" bekannt sind, vor allem dann verwendet, wenn die zu ätzenden Leiterplatten ge­ gen saure Ätzmedien nicht beständige Meallteile, beispielsweise aus Blei, Zinn oder Nickel auf­ weisen. Eine Rückoxidation der alkalischen Ätz­ lösung nach Abätzen des Metalls wird unter Zu­ gabe von Ammoniakgas und/oder Ammoniumchlorid in Gegenwart von Sauerstoff beziehungsweise Luft durchgeführt. Dabei werden nicht nur die einge­ setzten Chemikalien verbraucht, es entstehen auch Abfallösungen, die nicht ohne eine vorausgehende Entgiftungsbehandlung abführbar sind. Vergleiche hierzu beispielsweise H. Bruch u. a., "Leiterplat­ ten", Eugen G. Leutze-Verlag, Saulgau/Württem­ berg 1978.
Bei der Rückoxidation der alkalischen Ätzlö­ sung durch Einblasen von Sauerstoff wird zwar bei alkalischen Ätzlösungen eine raschere Re­ generation als bei sauren Ätzlösungen erreicht, die Reaktionsgeschwindigkeit bleibt jedoch hin­ ter der unter Verwendung chemischer Oxidations­ mittel erreichten Reaktionsgeschwindigkeit zurück.
Aus DE-PS 27 14 075 ist ein Verfahren bekannt, bei dem zur Schadstoffbeseitigung in wäßriger Lösung suspendierte Aktivkohlepulverteilchen als Katalysator zur Oxidation von Schadstoffen, wie Nitrit, Zyanid oder Sulfit, eingesetzt werden. Von dieser bekannten Wirkung der Aktivkohlepul­ verteilchen geht die Erfindung aus.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zum Regenerieren einer ammoniakalischen Ätzlösung und zum Ätzen mit dieser Lösung zu schaffen, bei dem keine toxischen Restlösungen anfallen und bei dem neben einer raschen Rückoxidation der Ätzlösung zugleich eine Beschleunigung des Ätzvorganges er­ reicht wird.
Die Aufgabe wird beim eingangs genannten Verfah­ ren gemäß der Erfindung durch die im Patentan­ spruch 1 angegebenen Maßnahmen gelöst. In der Ätz­ lösung werden sowohl zum Ätzen als auch zum Re­ generieren Aktivkohlepulverteilchen suspendiert, die zuvor in Vakuum, inerter, reduzierender, CO2 oder Wasserdampf enthaltender Atmosphäre bei ei­ ner Temperatur zwischen 900 und 1200°C geglüht werden.
Überraschend hat sich gezeigt, daß nach Suspen­ sion der Aktivkohlepulverteilchen in der alka­ lischen Ätzlösung neben deren Wirkung als Kata­ lysator auch die Ätzgeschwindigkeit erheblich gesteigert wird. Beim Glühen der Aktivkohlepul­ verteilchen in CO2 oder Wasserdampf enthaltender Atmosphäre wird der Gehalt an CO2 und Wasserdampf so eingestellt, daß während der Behandlung nur ein geringer Abbau des Aktivkohlepulvers erfolgt. Es hat sich als günstig erwiesen, die Aktivkohle­ pulverteilchen in der vorgenannten Weise über ei­ ne Stunde lang zu glühen, vergleiche Patentanspruch 2. Bei Konzentrationen der Aktivkohlepulverteilchen in der Ätzlösung zwischen 5 und 25 Gew.-% bevor­ zugt zwischen 10 und 12 Gew.-%, erhält man eine für Transport und zum Versprühen der Ätzlösung geeignete Viskosität, vergleiche Patentansprüche 3 und 4.
Zum Abscheiden von in der Ätzlösung gelösten Me­ tallionen dienen in Ausgestaltung des erfindungs­ gemäßen Verfahrens die in Patentansprüchen 5 und 6 angegebenen Maßnahmen. Ein Teil der Ätzlösung wird nach dem Ätzen des Metalls und nach Abtrennen der in der Ätzlösung suspendierten Aktivkohlepulverteilchen durch den Kathodenraum einer Elektrolysezelle geführt. Die durch die Elektrolysezelle geführte Teilmenge der Ätzlösung und der Elektrolysestrom werden dabei so einge­ stellt, daß die durch Abscheiden der Metallionen an der Kathode sich einstellende Metallkonzentra­ tion innerhalb der die suspendierten Aktivkohle­ pulverteilchen enthaltenden Ätzlösung für eine optimale Ätzgeschwindigkeit ausreichend ist. Den durch die Elektrolysezelle geführten Teil der Ätzlösung leitet man nach Durchströmen des Kathodenraums in den Ätzlösungskreislauf wieder zurück.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungs­ beispielen näher erläutert. Die in der Zeichnung wieder­ gegebenen Diagramme zeigt im einzelnen
Fig. 1 Abhängigkeit der Ätzgeschwindigkeit vom Kupfergehalt einer Ammoniumsulfat enthalten­ den Ätzlösung zum Ätzen von Kupfer ohne (Kurve I) und mit in der Ätzlösung suspen­ dierten Aktivkohlepulverteilchen (Kurve II),
Fig. 2 zeitlicher Verlauf des Potentials einer Ätzlösung für das Ätzen von Kupfer ohne (Kurve I) und mit suspendierten Aktivkohle­ pulverteilchen (Kurve II) bei Rückoxidation in Gegenwart von Sauerstoff,
Fig. 3 Abhängigkeit der Ätzgeschwindigkeit einer Ätzlösung für Kupfer vom Potential der Ätz­ lösung ohne (Kurve I) und mit suspendierten Aktivkohlepulverteilchen (Kurve II),
Fig. 4 Ätzanlage mit Elektrolysezelle (schematisch).
In den Diagrammen werden im Vergleich mit Ätzlösungen, die keine Aktivkohlepulverteilchen enthalten, die unter Zugabe von Aktivkohlepulverteilchen zu den Ätzlösungen er­ reichten Wirkungen verdeutlicht. Die suspendierten Aktivkohlepulverteilchen wurden zuvor in Vakuum oder reduzierender Atmosphäre bei 1000°C eine Stunde lang geglüht. Vergleichbare Resultate wurden auch mit Aktivkohle­ pulvern erzielt, die in inerter CO2 oder Wasserdampf enthaltender Atmosphäre bei Temperaturen über 900°C geglüht wurden. Dabei war der CO2 oder Wasserdampfge­ halt in der Atmosphäre so eingestellt, daß das Aktiv­ kohlepulver nur geringfügig oxidiert wurde.
Alle in Fig. 1 bis 3 wiedergegebenen Diagramme zeigen die unter Verwendung von Aktivkohlepulver erzielten Ver­ besserungen beim Ätzen von Kupfer. Als Ätzlösung wird eine Ammonium-Sulfat-Lösung mit einem Gehalt von 150 g Ammoniumsulfat pro Liter verwendet, die durch Zugabe gasförmigen Ammoniaks auf einen pH-Wert von 9 einge­ stellt ist.
Für das Messen der Ätzgeschwindigkeit in Abhängigkeit vom Kupfergehalt in der Lösung werden unterschiedliche Kupfergehalte eingestellt und die Auflösungsgeschwindig­ keit einer an Luft mit Ätzlösung besprühten Kupferplatte gemessen. Die erzielten Ätzgeschwindigkeiten bei Ätz­ lösungen ohne Aktivkohlepulverteilchen sind in Fig. 1 in Kurve I, die Ätzgeschwindigkeit mit 12 Gew.-% suspendierten Aktiv­ kohlepulverteilchen sind in Kurve II wiedergegeben. Aus dem Kurvenverlauf der Kurve I und II ist ersichtlich, daß Lösungen mit einem Kupfergehalt ab etwa 20 g Kupfer pro Liter bei Zugabe von Aktivkohlepulver eine erheb­ lich höhere Ätzgeschwindigkeit aufweisen als Ätzlösungen ohne Aktivkohlepulver. Vorteilhaft ist insbesondere, daß das Maximum der Ätzgeschwindigkeit bei Ätzlösungen mit Kohlepulverteilchen gegenüber Ätzlösungen ohne Kohle­ pulverteilchen zu höheren Kupfergehalten in der Lösung hin verschoben ist.
Um den Einfluß des Aktivkohlepulvers auf die Rückoxida­ tion einer Ätzlösung festzustellen, wurden die folgen­ den Ausführungsbeispiele durchgeführt.
Ausführungsbeispiel 1
Eine Lösung von 150 g Ammoniumsulfat und 30 g Kupfer pro Liter wurde durch Zugabe gasförmigen Ammoniaks auf einen pH-Wert von 9 eingestellt. Die Lösung wurde zur Oxidation mittels einer Düse in Luft versprüht, in einem nach oben offenen Lösungsmittelbecken gesammelt und im Kreislauf geführt. Vor der Düse betrug der Überdruck in der Lösung 0,7 bar. Das Potential der Lösung wurde über einen Platin­ stift gegen eine Quecksilber/Quecksilberoxid-Referenz­ elektrode gemessen. Im Kreislauf wurden 1,5 Liter dieser Lösung geführt. Die auf 50°C erwärmt worden war.
In der Lösung wurden dann 40 g Kupferpulver gelöst, was eine Absenkung des Potentials in der Lösung um 330 Milli­ volt zur Folge hatte. Der zeitliche Verlauf des Poten­ tials in der Lösung ist in Fig. 2, Kurve I wiederge­ geben. Das Ausgangspotential in der Lösung war zu 80% etwa nach 32 Minuten wieder erreicht.
Unter den gleichen Bedingungen wurde eine Ätzlösung gleicher Zusammensetzung gemessen, in der zusätzlich 12 Gew.-% Aktivkohlepulver suspendiert waren. Nach Zugabe von 40 g Kupferpulver in die im Kreislauf ge­ führten 1,5 Liter der Ätzlösung sank das Potential der Lösung um 310 Millivolt. Bereits nach etwa 15 Mi­ nuten war das Ausgangspotential in der Ätzlösung zu 80% wieder erreicht. Der Verlauf des Potentials der Lösung ist in Fig. 2, Kurve II wiedergegeben.
Ausführungsbeispiel 2
Bei einer Temperatur von 48°C und einem pH-Wert von 9,2 wurden 1,5 Liter einer wäßrigen Lösung mit 150 g Ammoniumsulfat und 35 g Kupfer pro Liter bei einem Druck von 1,5 bar mittels einer Düse in Luft versprüht und im Kreislauf geführt. In Abhängigkeit vom Poten­ tial der Lösung gemessen gegen eine Quecksilber/Queck­ silberoxid-Referenzelektrode wurde die Ätzgeschwindigkeit beim Ätzen von Kupfer gemessen. Die Abhängigkeit von Ätzgeschwindigkeit und Potential der Lösung ist in Fig. 3 dargestellt. Kurve I in Fig. 3 zeigt die Ab­ hängigkeit der Ätzgeschwindigkeit vom Potential einer Ätzlösung ohne Aktivkohlepulverteilchen. Werden einer Ätzlösung gleicher Zusammensetzung 12 Gew.-% Aktiv­ kohlepulver zugegeben, wird bei gleichem Potential der Lösung eine weit höhere Ätzgeschwindigkeit erreicht, Kurve II in Fig. 3.
In Gegenwart von Aktivkohlepulver in der Ätzlösung wird demnach nicht nur die Rückoxidation der Ätzlösung beschleunigt, es werden darüber hinaus auch höhere Ätz­ geschwindigkeiten erreicht.
Die folgenden Ausführungsbeispiele 3 und 4 werden in einer in Fig. 4 schematisch dargestellten Ätzanlage durchgeführt.
Die Ätzanlage besteht aus einer Ätzkammer 1, in der die zu ätzenden Gegenstände 2 mittels einer Sprüheinrichtung 3 mit ammoniakalischer Ätzlösung besprüht werden. Die Ätz­ lösung wird von einer Lösungsmittelpumpe 4 vom Boden der Ätzkammer 1 über eine mit der Sprüheinrichtung 3 verbundene Rohrleitung 5 im Kreislauf geführt. Ein Ab­ schnitt der Rohrleitung 5 besteht aus einem Filter 6, der für die Ätzlösung durchlässig ist, die in der Ätz­ lösung suspendierten Aktivkohlepulverteilchen jedoch zu­ rückhält. Der den Filter 6 passierende Teil der Ätzlösung wird zum Kathodenraum 7 einer Elektrolysezelle 8 ge­ führt und nach Abscheidung des abgeätzten Metalls durch den Anodenraum 9 der Elektrolysezelle hindurch, zwischen Kathoden und Anodenraum der Elektrolysezelle befindet sich ein Diaphragma 10, in den Kreislauf der Ätzlösung, im Ausführungsbeispiel in die Ätz­ kammer 1, zurückgegeben.
Ausführungsbeispiel 3
In der in Fig. 4 dargestellten Ätzanlage werden 15 Liter Ätzlösung, die 150 g Ammoniumsulfat und 50 g Kupfer pro Liter sowie Aktivkohlepulver in einer Menge von 10 Gew.-% enthielten, im Kreislauf geführt und mittels der mit Düsen ausgerüsteten Sprüheinrichtung bei einem Überdruck von 0,8 bar in Luft versprüht. Die Ätzlösung war auf 50°C erwärmt worden und wurde durch Zusatz von Ammoniak­ gas auf einen pH-Wert von 9 eingestellt. Es wurden Kupfer­ platten geätzt. Die Ätzgeschwindigkeit betrug etwa 2,6 g Kupfer pro Minute. Etwa 20 Milliliter der Lösung pro Minute wurden kontinuierlich durch ein Diaphragma hindurch, das in der Rohrleitung als Filter eingesetzt war, aktivkohle­ pulverfrei aus dem Kreislauf abgetrennt und in den Kathodenraum der Elektrolysezelle eingeführt. Mit 30 Ampere Gleichstrom, entsprechend einer Stromdichte von 5 Ampere pro dm2 wurde an einer Edelstahlkathode aus der Ätzlösung Kupfer abgeschieden. Die an Kupfer abge­ reicherte Ätzlösung drang durch den Kathoden- und Anoden­ raum der Elektrolysezelle trennende Diaphragma hin­ durch in den Anodenraum der Elektrolysezelle ein. Als Diaphragma wurde ein gegenüber der Ätzlösung beständiges Kunststoffnetz verwendet. Die Ätzlösung wurde aus dem Anodenraum in den Kreislauf der die suspendierten Aktivkohlepulverteilchen enthaltenden Ätzlösung zurückgeführt.
Im Verlauf 8 Betriebsstunden wurden in der Ätz­ anlage diskontinuierlich 306 g Kupfer abgetragen, entsprechend einer durchschnittlichen Menge von 0,64 g Kupfer pro Minute. Während dieser Zeit wurden 278 g Kupfer an der Kathode abgeschieden, entsprechend einer Kupfermenge von 0,62 g pro Minute. Diese Menge abge­ schiedenen Kupfers entspricht 98% der theoretisch möglich abscheidbaren Menge von 284,5 g bezogen auf den durch die Elektrolysezelle geflossenen Strom.
Bei einem Elektrodenabstand von 2 cm in der Elektrolyse­ zelle betrug die Zellspannung 2,3 Volt.
Ausführungsbeispiel 4
Mit einer ammoniakalischen Ätzlösung wurde in der in Fig. 4 dargestellten Ätzanlage Messing geätzt. Ein Teil der wäßrigen Lösung, die 150 g Ammoniumsulfat, 21 g Kupfer und 44 g Zink pro Liter enthielt, wurde in die Kathodenkammer der Elektrolysezelle mit Edelstahl­ kathode eingeführt. Bei einem pH-Wert von 9,5, einer Lösungstemperatur von 20°C und einer Stromdichte von 5 Ampere pro dm2 scheidet sich in der Elektrolysezelle an der Edelstahlkathode eine Legierung von 66% Kupfer und 34% Zink ab. Die Stromausbeute für die Metallabschei­ dung betrug 92%.
Zur Rückoxidation waren in der Ätzlösung in gleicher Weise wie bei den vorangegangenen Ausführungsbeispielen Aktivkohlepulverteilchen suspendiert und die Ätzlösung zum Kontakt mit Sauerstoff in Luft versprüht.

Claims (10)

1. Verfahren zum Ätzen mit einer ammoniakalischen Ätzlösung und zum Regenerieren dieser Ätzlösung unter Zufuhr von Sauerstoff zur Rückoxidation des in der Ätzlösung enthaltenen Ätzmittels, dadurch gekennzeichnet, daß in der Ätzlösung sowohl zum Ätzen als auch zum Regenerieren Aktivkohlepulverteilchen suspendiert werden, die zuvor in Vakuum, inerter, reduzierender, CO2 oder Wasserdampf enthaltender Atmosphäre bei einer Temperatur zwischen 900 und 1200°C geglüht wurden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Aktivkohlepulver über eine Stunde lang geglüht wurde.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß in der Ätzlösung Aktivkohlepulverteilchen in einer Konzentration zwischen 5 und 25 Gew.-% suspendiert werden.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß in der Ätzlösung Aktivkohlepulverteilchen in einer Konzentration zwischen 10 und 12 Gew.-% suspendiert werden.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden An­ sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Teil der Ätzlösung nach dem Ätzen des Metalls und nach Abtrennen der in der Lösung suspendierten Aktivkohlepulverteilchen zur Me­ tallrückgewinnung durch den Kathodenraum ei­ ner Elektrolysezelle hindurchgeführt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die, die Aktivkohlepulverteilchen enthaltende Ätzlösung im Kreislauf geführt wird und der den Kathodenraum der Elektrolysezelle durch­ strömende Teil der Ätzlösung nach Abscheiden des Metalls in den Kreislauf der Ätzlösung wieder eingeführt wird.
7. Ammoniakalische Ätzlösung zur Durchführung des Verfahrens nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in der Ätzlösung zum Ätzen und Regenerieren Aktivkohlepulverteilchen suspendiert sind, die zuvor in Vakuum, inerter, reduzierender, CO2 oder Wasserdampf enthaltender Atmosphäre bei einer Temperatur zwischen 900 und 1200°C ge­ glüht wurden.
8. Ammoniakalische Ätzlösung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Aktivkohlepulver über eine Stunde lang geglüht wurde.
9. Ammoniakalische Ätzlösung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß in der Ätzlösung Aktivkohlepulverteilchen in einer Konzentration zwischen 5 und 25 Gew.-% suspendiert sind.
10. Ammoniaklische Ätzlösung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß in der Ätzlösung Aktivkohlepulverteilchen in einer Konzentration zwischen 10 und 12 Gew.-% suspendiert sind.
DE19803031567 1980-08-21 1980-08-21 Verfahren zum regenerieren einer ammoniakalischen aetzloesung Granted DE3031567A1 (de)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19803031567 DE3031567A1 (de) 1980-08-21 1980-08-21 Verfahren zum regenerieren einer ammoniakalischen aetzloesung
US06/287,492 US4385969A (en) 1980-08-21 1981-07-27 Method of regenerating an ammoniacal etching solution
EP81106058A EP0046522B1 (de) 1980-08-21 1981-08-03 Verfahren zum Regenerieren einer ammoniakalischen Ätzlösung
AT81106058T ATE22935T1 (de) 1980-08-21 1981-08-03 Verfahren zum regenerieren einer ammoniakalischen aetzloesung.
AU73975/81A AU548856B2 (en) 1980-08-21 1981-08-11 Regenerating an ammoniacal etching solution
CA000383975A CA1175323A (en) 1980-08-21 1981-08-17 Method of regenerating an ammoniacal etching solution
DK368981A DK158156C (da) 1980-08-21 1981-08-20 Fremgangsmaade til aetsning af metal med en ammoniakalsk aetseoploesning og til regenerering af den ammoniakalske aetseoploesning
JP56130397A JPS5773183A (en) 1980-08-21 1981-08-21 Regeneration of ammoniacal etching liquid

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19803031567 DE3031567A1 (de) 1980-08-21 1980-08-21 Verfahren zum regenerieren einer ammoniakalischen aetzloesung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3031567A1 DE3031567A1 (de) 1982-04-29
DE3031567C2 true DE3031567C2 (de) 1987-09-03

Family

ID=6110120

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19803031567 Granted DE3031567A1 (de) 1980-08-21 1980-08-21 Verfahren zum regenerieren einer ammoniakalischen aetzloesung

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4385969A (de)
EP (1) EP0046522B1 (de)
JP (1) JPS5773183A (de)
AT (1) ATE22935T1 (de)
AU (1) AU548856B2 (de)
CA (1) CA1175323A (de)
DE (1) DE3031567A1 (de)
DK (1) DK158156C (de)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2133806B (en) * 1983-01-20 1986-06-04 Electricity Council Regenerating solutions for etching copper
DE3305319A1 (de) * 1983-02-16 1984-08-16 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Elektrolytisches vollregenerierverfahren einer ammoniakalischen aetzloesung
DE3348401C2 (en) * 1983-02-16 1993-08-26 Siemens Ag, 8000 Muenchen, De Electrolyte regeneration of ammoniacal etching soln.
DE3340343A1 (de) * 1983-04-13 1984-10-18 Kernforschungsanlage Jülich GmbH, 5170 Jülich Verfahren und anlage zum regenerieren einer ammoniakalischen aetzloesung
DE3376853D1 (en) * 1983-04-13 1988-07-07 Kernforschungsanlage Juelich Apparatus for regenerating an ammoniacal etching solution
DE3324450A1 (de) * 1983-07-07 1985-01-17 ELO-CHEM Ätztechnik GmbH, 7758 Meersburg Ammoniumsulfathaltige aetzloesung sowie verfahren zur regeneration der aetzloesung
DE3340342A1 (de) * 1983-11-08 1985-05-15 ELO-CHEM Ätztechnik GmbH, 7758 Meersburg Verfahren und anlage zum regenerieren einer ammoniakalischen aetzloesung
US4490224A (en) * 1984-04-16 1984-12-25 Lancy International, Inc. Process for reconditioning a used ammoniacal copper etching solution containing copper solute
FR2567914B1 (fr) * 1984-07-19 1989-04-07 Univ Languedoc Procede de recuperation de cations metalliques en continu a partir de solutions diluees et appareil pour sa mise en oeuvre
DE3539886A1 (de) * 1985-11-11 1987-05-14 Hoellmueller Maschbau H Verfahren und vorrichtung zum aetzen eines zumindest teilweise aus metall, vorzugsweise kupfer, bestehenden aetzguts
US6760931B1 (en) 2002-08-02 2004-07-13 Roy W. Mattson, Jr. Non-electric sanitation water vessel system
US20090106888A1 (en) * 2002-08-02 2009-04-30 Roy W. Mattson, Jr. Safety device
US7146659B2 (en) 2002-08-02 2006-12-12 Mattson Jr Roy W Hydromassage antimicrobial whirlpool bathtub
DE102006051952A1 (de) * 2006-11-01 2008-05-08 Merck Patent Gmbh Partikelhaltige Ätzpasten für Siliziumoberflächen und -schichten
CN108149249A (zh) * 2017-07-05 2018-06-12 叶涛 一种线路板碱性蚀刻废液的蒸氨回收循环工艺
WO2022022461A1 (zh) * 2020-07-28 2022-02-03 叶涛 碱性蚀刻废液再生回用的方法及其设备

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL111200C (de) * 1958-07-31 1964-12-15
US3944487A (en) * 1974-02-06 1976-03-16 Thiokol Corporation Catalytic filtering-incinerating process and device for waste water
DE2714075C2 (de) * 1977-03-30 1980-04-17 Kernforschungsanlage Juelich Gmbh, 5170 Juelich Verfahren zur Oxidation von in wäßriger Lösung oxidierbaren Schadstoffen
DE2850564C2 (de) * 1978-11-22 1982-12-23 Kernforschungsanlage Jülich GmbH, 5170 Jülich Verfahren und Vorrichtung zum Regenerieren einer Kupfer(II)-Chlorid und/oder Eisen(III)-Chlorid enthaltenden Ätzlösung in einer Elektrolysezelle
DE2917597A1 (de) * 1979-04-30 1980-11-13 Siemens Ag Verfahren zur regenerierung ammoniakalischer aetzloesungen zum aetzen von metallischem kupfer

Also Published As

Publication number Publication date
EP0046522A1 (de) 1982-03-03
ATE22935T1 (de) 1986-11-15
AU548856B2 (en) 1986-01-02
JPS5773183A (en) 1982-05-07
DK368981A (da) 1982-02-22
EP0046522B1 (de) 1986-10-15
JPH0329868B2 (de) 1991-04-25
CA1175323A (en) 1984-10-02
DK158156B (da) 1990-04-02
DK158156C (da) 1990-09-03
AU7397581A (en) 1982-02-25
DE3031567A1 (de) 1982-04-29
US4385969A (en) 1983-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3031567C2 (de)
DE2537757C3 (de) Verfahren zum Wiederverwenden einer Ätzlösung
DE10007448B4 (de) Aktivierte Kathode und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE3049982A1 (en) Process and apparatus for producing metals at porous hydrophobic catalytic barriers
CH633497A5 (de) Verfahren zur reduktion von reduzierbaren schadstoffen in waessrigen loesungen.
DE2850564A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum regenerieren einer kupfer(ii)-chlorid und/oder eisen(iii)-chlorid enthaltenden aetzloesung in einer elektrolysezelle
EP0011800B1 (de) Verfahren zum Ätzen von Oberflächen aus Kupfer oder Kupferlegierungen
DE602004009572T2 (de) Verfahren zur regeneration von eisenhaltigen ätzlösungen zur verwendung beim ätzen oder beizen von kupfer oder kupferlegierungen und vorrichtung zur durchführung des verfahrens
DE2605887C2 (de) Verfahren zur Gewinnung von Kupfer aus kupfer- und eisenhaltigem sulfidischen Erz und Konzentrat durch Elektrolyse
EP0063560B1 (de) Verfahren zur gleichzeitigen Reinigung bzw. Entgiftung von Cr-(VI)-haltigen Abwässern oder Lösungen
DE1115322B (de) Verfahren zur Regeneration von Doppelskelett-Katalysator-Elektroden
DE2814765C2 (de) Verfahren zur Reduktion von Plutonium (IV) zu Plutonium (III)
EP0435382A1 (de) Elektrolyseverfahren zur Aufbereitung Metallionen enthaltender Altbeizen oder Produktströme
EP0137123B1 (de) Ammoniumsulfathaltige Ätzlösung sowie Verfahren zur Regeneration der Ätzlösung
DE1467342B2 (de) Verfahren zur reinigung von rohem nickelcarbonat
WO2000026440A2 (de) Kreislaufverfahren zum beizen von kupfer und kupferlegierungen
DE3135195A1 (de) Verfahren zur elektrochemischen zersetzung von salpetersaeure
DE3725715C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Verminderung der Stickoxide in Abgasen, vorzugsweise in Rauchgasen
DE3419119C1 (de) Verfahren zur Zinngewinnung aus zinnarmen oxidischen oder oxidisch-sulfidischen Vorstoffen oder Konzentraten
DE4109434A1 (de) Verfahren zur aufarbeitung von chromatloesungen
DD272878A1 (de) Verfahren zur regenerierung ammoniakalischer kupfer-aetzloesungen
DE2713992A1 (de) Verfahren zur reinigung eines schwefeldioxid enthaltenden abgases
DE460456C (de) Verfahren zur elektrolytischen Raffination von Kupfer oder Kupferlegierungen unter Verwendung eines kupferchloruerhaltigen Elektrolyten
DD208483A3 (de) Loesung zum chemischen abtrag von kupfer und kupferlegierungen
DE2714075B1 (de) Verfahren zur Oxidation von in waessriger Loesung oxidierbaren Schadstoffen

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee