EP0046522B1 - Verfahren zum Regenerieren einer ammoniakalischen Ätzlösung - Google Patents

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EP0046522B1
EP0046522B1 EP81106058A EP81106058A EP0046522B1 EP 0046522 B1 EP0046522 B1 EP 0046522B1 EP 81106058 A EP81106058 A EP 81106058A EP 81106058 A EP81106058 A EP 81106058A EP 0046522 B1 EP0046522 B1 EP 0046522B1
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etching
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solution
carbon powder
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Bertel Professor Dr. Kastening
Wolfgang Faul
Leander Fürst
Walter Holzer
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Elo Chem Atztechnik GmbH
Forschungszentrum Juelich GmbH
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Elo Chem Atztechnik GmbH
Forschungszentrum Juelich GmbH
Kernforschungsanlage Juelich GmbH
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/46—Regeneration of etching compositions

Definitions

  • the invention relates to a method for regenerating an ammoniacal etching solution and for etching with this solution which is supplied with oxygen for the reoxidation of the etchant contained in the etching solution.
  • Alkaline etchants are used for etching metallic objects, in particular for the production of printed circuit boards, which are also known under the name "printed circuits", especially when the printed circuit boards to be etched are metal parts which are not resistant to acidic etching media, for example made of lead, tin or nickel exhibit.
  • a re-oxidation of the alkaline etching solution after etching off the metal is carried out with the addition of ammonia gas and / or ammonium chloride in the presence of oxygen or air.
  • waste solutions are also created that cannot be removed without prior detoxification treatment. Compare, for example, H. Bruch et al., "Printed circuit boards", Eugen G. Leutze-Verlag, Saulgau / Kunststoff, 1978.
  • the object of the invention is to provide a method for regenerating alkaline etching solutions in which no toxic residual solutions are obtained and in which the etching solution rapidly reoxidizes.
  • activated carbon powder particles suspended in aqueous solution for removing pollutants are used as catalysts for the oxidation of pollutants such as nitrite, cyanide or sulfite.
  • the invention is based on this known effect of the activated carbon powder particles. It is known to use activated carbon powder particles when regenerating chloride-containing etching solutions, cf. EP-A1-0 011 788. The activated carbon powder particles are used in this process to prevent chlorine formation in the electrolysis cell.
  • the activated carbon powder particles effective in the etching solution were previously annealed in a vacuum, in an inert, reducing atmosphere containing CO 2 or water vapor at a temperature between 900 and 1200 ° C.
  • the amount of CO 2 and water vapor is adjusted so that only a slight degradation of the activated carbon powder takes place during the treatment. It has proven to be advantageous to glow the activated carbon powder particles in the aforementioned manner for over an hour, claim 2.
  • concentrations of the activated carbon powder particles in the etching solution between 5 and 25% by weight, preferably between 10 and 12% by weight, is obtained a viscosity suitable for transport and for spraying the etching solution, claims 3 and 4.
  • measures specified in patent claims 5 and 6 serve to separate metal ions dissolved in the etching solution.
  • part of the etching solution is passed through the cathode compartment of an electrolysis cell.
  • the partial amount of the etching solution passed through the electrolytic cell and the electrolysis current are adjusted so that the metal concentration which results from the deposition of the metal ions on the cathode is sufficient for an optimal etching speed within the etching solution containing the suspended activated carbon powder parts.
  • the part of the etching solution passed through the electrolytic cell is returned to the etching solution circuit after flowing through the cathode space.
  • FIGS. 1 to 3 show the improvements achieved in the etching of copper using activated carbon powder.
  • An ammonium sulfate solution with a content of 150 g ammonium sulfate per liter is used as the etching solution, which is adjusted to a pH of 9 by adding gaseous ammonia.
  • etching rate as a function of the copper content in the solution
  • different copper contents are set and the dissolution rate of a copper plate sprayed with air in an etching solution is measured.
  • the etching speeds achieved in the case of etching solutions without activated carbon powder particles are shown in curve 1 in FIG. 1; the etching speed with 12% by weight of activated carbon powder particles suspended are shown in curve 11. From the course of the curve of curve 11 and 11 it can be seen that solutions with a copper content of about 20 g copper per liter or more when adding activated carbon powder have a considerably higher etching rate than etching solutions without activated carbon powder. It is particularly advantageous that the maximum of the etching speed in etching solutions with carbon powder particles compared to etching solutions without carbon powder particles is shifted towards higher copper contents in the solution.
  • a solution of 150 g ammonium sulfate and 30 g copper per liter was adjusted to a pH of 9 by adding gaseous ammonia.
  • the solution was sprayed in air for oxidation by means of a nozzle, collected in an upwardly open solvent tank and circulated.
  • the overpressure in the solution was 0.7 bar in front of the nozzle.
  • the potential of the solution was measured using a platinum pen against a mercury / mercury oxide reference electrode. 1.5 liters of this solution, which had been heated to 50 ° C., were passed in the circuit.
  • the etching system consists of an etching chamber 1, in which the objects 2 to be etched are sprayed with ammoniacal etching solution by means of a spray device 3.
  • the etching solution is circulated by a solvent pump 4 from the bottom of the etching chamber 1 via a pipeline 5 connected to the spray device 3.
  • a section of the pipeline 5 consists of a filter 6 which is permeable to the etching solution, but which retains the activated carbon powder particles suspended in the etching solution.
  • the part of the etching solution which passes through the filter 6 is led to the cathode chamber 7 of an electrolytic cell 8 and, after the etched metal has been deposited, through the anode chamber 9
  • a diaphragm 10, i in the circuit of the etching solution, in the exemplary embodiment is returned to the etching chamber 1 through the electrolysis cell between the cathode and anode areas of the electrolysis cell.
  • etching solution which contained 150 g of ammonium sulfate and 50 g of copper per liter and activated carbon powder in an amount of 10% by weight are circulated and by means of the spray device equipped with nozzles at an overpressure of 0 , 5 bar sprayed in air.
  • the etching solution had been heated to 50 ° C. and was adjusted to a pH of 9 by adding ammonia gas. Copper plates were etched. The etch rate was approximately 2.6 g copper per minute.
  • About 20 milliliters of the solution were continuously separated from the circuit through a diaphragm, which was used as a filter in the pipeline, and activated carbon powder was introduced into the cathode compartment of the electrolytic cell.
  • Copper was deposited from the etching solution on a stainless steel cathode with 30 ampere direct current, corresponding to a current density of 5 ampere per dm 2 .
  • the copper-depleted etching solution penetrated into the anode space of the electrolysis cell through the diaphragm separating the cathode and anode space of the electrolysis cell.
  • a plastic net resistant to the etching solution was used as the diaphragm.
  • the etching solution was returned from the anode compartment to the circuit of the etching solution containing the suspended activated carbon powder particles.
  • the cell voltage was 2.3 volts.
  • Brass was etched in the etching system shown in Figure 4 with an ammoniacal etching solution.
  • a portion of the aqueous solution containing 150 g of ammonium sulfate, 21 g of copper and 44 g of zinc per liter was introduced into the cathode chamber of the stainless steel cathode electrolytic cell.
  • a solution temperature of 20 ° C and a current density of 5 amperes per dm 2 an alloy of 66% copper and 34% zinc is separated in the electrolytic cell on the stainless steel cathode.
  • the current efficiency for metal deposition was 92%.
  • activated carbon powder particles were suspended in the etching solution in the same way as in the previous exemplary embodiments, and the etching solution was sprayed in air to come into contact with oxygen.

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Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Regenerieren einer ammoniakalischen Ätzlösung und zum Ätzen mit dieser Lösung der zur Rückoxidation des in der Ätzlösung enthaltenden Ätzmittels Sauerstoff zugeführt wird.
  • Alkalische Ätzmittel werden zum Ätzen metallischer Gegenstände, insbesondere zur Herstellung von Leiterplatten, die auch unter der Bezeichnung "gedruckte Schaltungen" bekannt sind, vor allem dann verwendet, wenn die zu ätzenden Leiterplatten gegen saure Ätzmedien nicht beständige Metallteile, beispielsweise aus Blei, Zinn oder Nickel aufweisen. Eine Rückoxidation der alkalischen Ätzlösung nach Abätzen des Metalls wird unter Zugabe von Ammoniakgas und/oder ämmoniumchlorid in Gegenwart von Sauerstoff beziehungsweise Luft durchgeführt. Dabei werden nicht nur die eingesetzten Chemikalien verbraucht, es entstehen auch Abfallösungen, die nicht ohne eine vorausgehende Entgiftungsbehandlung abführbar sind. Vergleiche hierzu beispielsweise H. Bruch u.a.,"Leiterplatten", Eugen G. Leutze-Verlag, Saulgau/Württemberg, 1978.
  • Bei der Rückoxidation der alkalischen Ätzlösung durch Einblasen von Sauerstoff wird zwar bei alkalischen Ätzlösungen eine raschere Regeneration als bei sauren Ätzlösungen erreicht, die Reaktionsgeschwindigkeit bleibt jedoch hinter der unter Verwendung chemischer Oxidationsmittel erreichten Reaktionsgeschwindigkeit zurück.
  • Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zum Regenerieren alkalischer Ätzlösungen zu schaffen, bei dem keine toxisch wirksamen Restlösungen anfallen und bei dem eine rasche Rückoxidation der Ätzlösung eintritt.
  • Aus DE-D-2 714 075 ist ein Verfahren bekannt, bei dem zur Schadstoffbeseitigung in wässriger Lösung suspendierte Aktivkohlepulverteilchen als Katalysator zur Oxidation von Schadstoffen, wie Nitrit, Zyanid oder Sulfit, eingesetzt werden. Von dieser bekannten Wirkung der Aktivkohlepulverteilchen geht die Erfindung aus. Es ist bekannt, Aktivkohlepulverteilchen beim Regenerieren chloridhaltiger Ätzlösungen einzusetzen, vgl. EP-A1-0 011 788. Die Aktivkohlepulverteilchen dienen bei diesem Verfahren zur Verhinderung von Chlor-Bildung in der Elektrolysezelle.
  • Die Aufgabe wird beim eingangs genannten Verfahren gemäß der Erfindung durch die im Patentanspruch 1 angegebenen Maßnahmen gelöst. In der Ätzlösung werden zum Ätzen und Regenerieren Aktivkohlepulverteilchen suspendiert, die bei Rückoxidation des beim Ätzen des Metalles reduzierten Ätzmittels in Anwesenheit von Sauerstoff als Katalysator wirken. Überraschend hat sich gezeigt, daß nach Suspension von im Patentanspruch 1 angegebenen Aktivkohlepulverteilchen in der alkalischen Ätzlösung und nach deren Wirkung als Katalysator auch die Ätzgeschwindigkeit erheblich gesteigert wird.
  • Die in der Ätzlösung wirksamen Aktivkohlepulverteilchen wurden zuvor in Vakuum, in inerter, reduzierender, C02 oder Wasserdampf enthaltender Atmosphäre bei einer Temperatur zwischen 900 und 1200° C geglüht. Dabei wird beim Glühen in C02 oder Wasserdampf enthaltender Atmosphäre der Gehalt an C02 und Wasserdampf so eingestellt, daß während der Behandlung nur ein geringer Abbau des Aktivkohlepulvers erfolgt. Es hat sich als günstig erwiesen, die Aktivkohlepulverteilchen in der vorgenannten Weise über eine Stunde lang zu glühen, Patentanspruch 2. Bei Konzentrationen der Aktivkohlepulverteilchen in der Ätzlösung zwischen 5 und 25 Gew.-%, bevorzugt zwischen 10 und 12 Gew.-%, erhält man eine für Transport und zum Versprühen der Atzlösung geeignete Viskosität, Patentansprüche 3 und 4.
  • Zum Abscheiden von in der Ätzlösung gelösten Metallionen dienen in Ausgsstaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens in Patentansprüchen 5 und 6 angegebenen Maßnahmen. Ein Teil der Ätzlösung wird nach dem Ätzen des Metalls und nach Abtrennen der in der Ätzlösung suspendierten Aktivkohlepulverteilchen durch den Kathodenraum einer Elektrolysezelle geführt. Die durch die Elektrolysezelle geführte Teilmenge der Atzlösung und der Elektrolysestrom werden dabei so eingestellt, daß die durch Abscheiden der Metallionen an der Kathode sich einstellende Metallkonzentration innerhalb der die suspendierten Aktiokohlepulverteilohen enthaltenden Ätzlösung für eine optimale Ätzgeschwindigkeit ausreichend ist. Den durch die Elektrolysezelle geführten Teil der Ätzlösung leitet man nach Durchströmen des Kathodenraums in den Ätzlösungskreislauf wieder zurück.
  • Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert. Die in der Zeichnung wiedergegebenen Diagramme zeigen im einzelnen:
    • Figur 1 Abhängigkeit der Ätzgeschwindigkeit vom Kupfergehalt einer Ammoniumsulfat enthaltenden Atzlösung zum Atzen von Kupfer ohne (Kurve 1) und mit in der Ätzlösung suspendierten Aktivkohlepulverteilchen (Kurve II).
    • Figur 2 Zeitlicher Verlauf des Potentials einer Ätzlösung für das Atzen von Kupfer ohne (Kurve I) und mit suspendierten Aktivkohlepulverteilchen (Kurve II) bei Rückoxidation in Gegenwart von Sauerstoff,
    • Figur 3 Abhängigkeit der Ätzgeschwindigkeit einer Ätzlösung für Kupfer vom Potential der Ätzlösung ohne (Kurve I) und mit suspendierten Aktivkohlepulverteilchen (Kurve 11),
    • Figur 4 Ätzanlage mit Elektrolysezelle (schematisch) In den Diagrammen werden im Vergleich mit Ätzlösungen, die keine Aktivkohlepulverteilchen enthalten, die unter Zugabe von Aktiokohlepulverteilchen zu den Ätzlösungen erreichten Wirkungen verdeutlicht. Die suspendierten Aktivkohlepulverteilchen wurden zuvor in Vakuum oder reduzierender Atmosphäre bei 1000° C eine Stunde lang geglüht. Vergleichbare Resultate wurden auch mit Aktivkohlepulvern erzielt, die in inerter, C02 oder Wasserdampf enthaltender Atmosphäre bei Temperaturen über 900° C geglüht wurden. Dabei war der C02 oder Wasserdampfgehalt in der Atmosphäre so eingestellt, daß das Aktivkohlepulver nur geringfügig oxidiert wurde.
  • Alle in Figuren 1 bis 3 wiedergegebenen Diagramme zeigen die unter Verwendung von Aktivkohlepulver erzielten Verbesserungen beim Ätzen von Kupfer. Als Ätzlösung wird eine Ammonium-Sulfat-Lösung mit einem Gehalt von 150 g Ammoniumsulfat pro Liter verwendet, die durch Zugabe gasförmigen Ammoniaks auf einen pH-Wert von 9 eingestellt ist.
  • Für dass Messen der Ätzgeschwindigkeit in Abhängigkeit vom Kupfergehalt in der Lösung werden unterschiedliche Kupfergehalte eingestellt und die Auflösungsgeschwindigkeit einer an Luft mit Ätzlösung besprühten Kupferplatte gemessen. Die erzielten Ätzgeschwindigkeiten bei Ätzlösungen ohne Aktivkohlepulverteilchen sind in Fig. 1 in Kurve I die Ätzgeschwindigkeit mit 12 Gew.-% suspendierten Aktivkohlepulverteilchen sind in Kurve 11 wiedergegeben. Aus dem Kurvenverlauf der Kurve und 11 ist ersichtlich, daß Lösungen mit einem Kupfergehalt ab etwa 20 g Kupfer pro Liter bei Zugabe von Aktivkohlepulver eine erheblich höhere Ätzgeschwindigkeit aufweisen als Ätzlösungen ohne Aktivkohlepulver. Vorteilhaft ist insbesondere, daß das Maximum der Ätzgeschwindigkeit bei Ätzlösungen mit Kohlepulverteilchen gegenüber Ätzlösungen ohne Kohlepulverteilchen zu höheren Kupfergehalten in der Lösung hin verschoben ist.
  • Um den Einfluß des Aktivkohlepulvers suf die Rückoxidation einer Ätzlösung festzustellen, wurden die folgenden Ausführungsbeispiele durchgeführt:
    • Ausführungsbeispiel 1
  • Eine Lösung von 150 g Ammoniumsulfat und 30 g Kupfer pro Liter wurde durch Zugabe gasförmigen Ammoniaks auf einen pH-Wert von 9 eingestellt. Die Lösung wurde zur Oxidation mittels einer Düse in Luft versprüht, in einem nach oben offenen Lösungsmittelbecken gesammelt und im Kreislauf geführt. Vor der Düse betrug der Überdruck in der Lösung 0,7 bar. Das Potential der Lösung wurde über einen Platinstift gegen eine Quecksilber/Quecksilberoxid-Referenzelektrode gemessen. Im Rreislauf wurden 1, 5 Liter dieser Lösung geführt, die auf 50° C erwärmt worden waren.
  • In der Lösung wurden dann 40 g Kupferpulver gelöst, was eine Absenkung des Potentials in der Lösung um 330 Millivolt zur Folge hatte. Der zeitliche Verlauf des Potentials in der Lösung ist in Figur 2, Kurve I wiedergegeben. Das Ausgangspotential in der Lösung war zu 80 % etwa nach 32 Minuten wieder erreicht.
  • Unter den gleichen Bedingungen wurde eine Ätzlösung gleicher Zusammensetzung gemessen, in der zusätzlich 12 Gew.-% Aktivkohlepulver suspendiert waren. Nach Zugabe von 40 g Kupferpulver in die im Kreislauf geführten 1,5 Liter der Ätzlösung sank das Potential der Lösung um 310 Millivolt. Bereits nach etwa 15 Minuten war das Ausgangspotential in der Ätzlösung zu 80 % wieder erreicht. Der Verlauf des Potentials der Lösung ist in Figur 2, Kurve II wiedergegeben.
    • Ausführungsbeispiel 2
  • Bei einer Temperatur von 45° C und einem pH-Wert von 9,2 wurden 1,5 Liter einer wäßrigen Lösung mit 150 g Ammoniumsulfat und 35 g Kupfer pro Liter bei einem Druck von 1,5 bar mittels einer Düse in Luft versprüht und im Kreislauf geführt. In Abhängigkeit vom Potential der Lösung gemessen gegen eins Quecksilber/Quecksilberoxid-Referenzelektrode wurde die Ätzgeschwindigkeit beim Ätzen von Kupfer gemessen. Die Abhängigkeit von Ätzgeschwindigkeit und Potential der Lösung ist in Figur 3 dargestellt. Kurve I in Figur 3 zeigt dis Abhängigkeit der Ätzgeschwindigkeit vom Potential einer Ätzlösung ohne Aktivkohlepulverteilchen. Werden einer Ätzlösung gleicher Zusammensetzung 12 Gew.-% Aktivkohlepulver zugegeben, wird bei gleichem Potential der Lösung eine weit höhere Ätzgeschwindigkeit erreicht, Kurve II in Figur 3.
  • In Gegenwart von Aktivkohlepulver in der Ätzlösung wird demnach nicht nur die Rückoxidation der Ätzlösung beschleunigt, es werden darüberhinaus auch höhere Ätzgeschwindigkeiten erreicht.
  • Die folgenden Ausführungsbeispiele 3 und 4 werden in einer in Figur 4 schematisch dargestellten Ätzanlage durchgeführt, wobei im wesentlichen der Rückoxidationsaspekt betrachtet wird.
  • Die Ätzanlage besteht aus einer Ätzkammer 1, in dem die zu ätzenden Gegenstände 2 mittels einer Sprüheinrichtung 3 mit ammoniakalischer Ätzlösung besprüht werden. Die Ätzlösung wird von einer Lösungsmittelpumpe 4 vom Boden der Ätzkammer 1. über eine mit der Sprüheinrichtung 3 verbundene Rohrleitung 5 im Kreislauf geführt. Ein Abschnitt der Rohrleitung 5 besteht aus einem Filter 6, der für die Ätzlösung durchlässig ist, die in der Ätzlösung suspendierten Aktivkohlepulverteilchen jedoch zurückhält. Der den Filter 6 passierende Teil der Ätzlösung wird zum Kathodenraum 7 einer Elektrolysezelle 8 geführt und nach Abscheidung des abgeätzten Metalls durch den Anodenraum 9 der Elektrolysezelle hindurch zwischen Kathoden-und Anodenraum der Elektrolysezelle befindt soch ein Diaphragma 10, i in den Kreislauf der Ätzlösung, im Ausführungsbeispiel in die Ätzkammer 1 zurückgegeben.
    • Ausführungsbeispiel 3
  • In der in Figur 4 dargestellten Ätzanlage werden 15 Liter Ätzlösung, die 150 g Ammoniumsulfat und 50 g Kupfer pro Liter sowie Aktivkohlepulver in einer Menge von 10 Gew.-% enthielten, im Kreislauf geführt und mittels der mit Düsen ausgerüsteten Sprüheinrichtung bei einem Überdruck von 0,5 bar in Luft versprüht. Die Ätzlösung war auf 50° C erwärmt worden und wurde durch Zusatz von Ammoniakgas auf einen pH-Wert von 9 eingestellt. Es wurden Kupferplatten geätzt. Die Ätzgeschwindigkeit betrug etwa 2,6 g Kupfer pro Minute. Etwa 20 Milliliter der Lösung wurden kontinuierlich durch ein Diaphragma hindurch, das in der Rohrleitung als Filter eingesetzt war, aktivkohlepulverfrei aus dem Kreislauf abgetrennt und in den Kathodenraum der Elektrolysezelle eingeführt. Mit 30 Ampere Gleichstrom, entsprechend einer Stromdichte von 5 Ampere pro dm2 wurde an einer Edelstahlkathode aus der Ätzlösung Kupfer abgeschieden. Die an Kupfer abgereicherte Ätzlösung drang durch das Kathoden- und Anodenraum der Elektrolysezelle trennende Diaphragma hindurch in den Anodenraum der Elektrolysezelle ein. Als Diaphragma wurde ein gegenüber der Ätzlösung beständiges Kunststoffnetz verwendet. Die Ätzlösung wurde aus dem Anodenraum in den Kreislauf der die suspendierten Aktivkohlepulverteilchen enthaltenden Ätzlösung zurückgeführt.
  • Im Verlauf von 8 Betriebsstunden wurden in der Atzanlage diskontinuierlich 306 g Kupfer abgetragen, entsprechend einer durchschnittlichen Menge von 0,64 g Kupfer pro Minute. Während dieser Zeit wurden 275 g Kupfer an der Kathode abgeschieden, entsprechend einer Kupfermenge von 0,62 g pro Minute. Diese Menge abgeschiedenen Kupfers entspricht 95 % der theoretisch möglich abscheidbaren Menge von 254,5 g bezogen auf den durch die Elektrolysezelle geflossenen Strom.
  • Bei einem Elektrodenabstand von 2 om in der Elektrolysezelle betrug die Zellspannung 2,3 Volt.
    • Ausführungsbeispiel 4
  • Mit einer ammoniakalischen Ätzlösungwurde in der in Figur 4 dargestellten Ätzanlage Messing geätzt. Ein Teil der wässrigen Lösung, die 150 g Ammoniumsulfat, 21 g Kupfer und 44 g Zink pro Liter enthielt, wurde in die Kathodenkammer der Elektrolysezelle mit Edelstahlkathode eingeführt. Bei einem pH-Wert von 9,5, einer Lösungstemperatur von 20° C und einer Stromdichte von 5 Ampere pro dm2 scheidet sich in der Elektrolysezelle an der Edelstahlkathode eine Legierung von 66 % Kupfer und 34 % Zink. Die Stromausbeute für die Metallabscheidung betrug 92 %.
  • Zur Rückoxidation waren in der Ätzlösung in gleicher Weise wie bei den vorangegangenen Ausführungsbeispielen Aktivkohlepulverteilchen suspendiert und die Ätzlösung zum Kontakt mit Sauerstoff in Luft versprüht.

Claims (6)

1. Verfahren zum Regenerieren einer ammoniakalischen Ätzlösung und zum Ätzen mit dieser Lösung der zur Rückoxidation des in der Ätzlösung enthaltenden Ätzmittels Sauerstoff zugeführt wird, dadurch gekennzeichnet, daß in der Ätzlösung zum Ätzen und Regenerieren Aktivkohlepulverteilchen suspendiert werden, die zuvor in Vakuum, inerter, reduzierender, C02 oder Wasserdampf enthaltender Atmosphäre bei einer Temperatur zwischen 900 und 1200 °C geglüht wurden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Aktivkohlepulver über eine Stunde lang geglüht wurde.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß in der Ätzlösung Aktivkohlepulverteilchen in einer Konzentration zwischen 5 und 25 Gew.% suspendiert werden.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß in der Ätzlösung Aktivkohlepulverteilchen in einer Konzentration zwischen 10 und 12 Gew.% suspendiert sind.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Teil der Ätzlösung nach dem Ätzen des Metalls und nach Abtrennen der in der Lösung suspendierten Aktivkohlepulverteilchen zur Metallrückgewinnung durch den Kathodenraum einer Elektrolysezelle hindurchgeführt wird.
6. Verfahren nach dem vorgehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, daß die die Aktivkohlepulverteilchen enthaltende Ätzlösung im Kreislauf geführt wird und der den Kathodenraum der Elektrolysezelle durchströmende Teil der Ätzlösung nach Abscheiden des Metalls in den Kreislauf der Ätzlösung wieder eingeführt wird.
EP81106058A 1980-08-21 1981-08-03 Verfahren zum Regenerieren einer ammoniakalischen Ätzlösung Expired EP0046522B1 (de)

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