DE3030919A1

DE3030919A1 - Zusammensetzung und verfahren zur chemischen abloesung metallischer ablagerungen

Info

Publication number: DE3030919A1
Application number: DE19803030919
Authority: DE
Inventors: Lillie C. Dearborn Mich. Tomaszewski
Original assignee: Oxy Metal Industries Corp
Current assignee: OMI International Corp
Priority date: 1979-11-15
Filing date: 1980-08-16
Publication date: 1981-05-21
Also published as: JPS5684477A; FR2469443B1; FR2469443A1; AU6075880A; IT8050149A0; NL8004320A; MX154502A; US4244833A; ES8105791A1; AU531247B2; AR223719A1; BR8005840A; IT1142184B; CA1137396A; GB2063923B; ES494329A0; GB2063923A; JPS6045274B2

Description

Die Erfindung ist in weitem Sinne anwendbar auf die Ablösung unerwünschter metallischer Ablagerungen von chemisch beständigen Substraten, insbesondere auf die chemische Entfernung unerwünschter Metallplattierungsablagerungen von den Kontaktspitzen bei Galvanisierungsverfahren verwendeter vferkstackhalterahiTiGn oder dergleichen.

Es ist auf dem Gebiet der Galvanisierung allgemein üblich, zu galvanisierende Werkstücke auf einem WerkstueVrahmen zu lagern, der aus einem chemisch beständigen Metall, wie beispielsweise Titan oder rostfreien Stahl besteht, oder auf einem Stahlrahinen, der mit einem Schutzüberzug, beispielsweise einem Plastisolüberzug versehen ist. Die Elektrifizierung der Werkstücke bei Ilängelage in einem Elektrolyten wird erzielt durch Kontaktspitzen aus rostfreiem Stahl oder platiniertem Titan, die auf dem Rahmen in elektrischer Berührung mit den Werkstücken angeordnet sind =. Bei der Galvanisierung baut sich auf den Kontaktspitzen eine unerwünschte Ablagerung des Galvanisierungsmetalis auf, die die Leistungsfähigkeit und Gleichmäßigkeit des Galvanisierungsvorgangs beeinträchtigt. Demzufolge ist es allgemein üblich, die Galvanisierungsrahmen mechanischen oder chemischen Reinigungsbehandlungen zu unterwerfen, um die unerwünschte Anhäufung von Ablagerungen von den Kontaktspitzen zu entfernen.

Es sind bereits verschiedene mechanische und chemische Techniken zur Anwendung gekommen oder vorgeschlagen worden, um uner-

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wünschte Ablagerungen von Kontaktppitzen der Galvanisierungs-"rahmen zu env^fernen, um eine optimale Leistungsfähigkeit im Betrieb aufrechtzuerhalten. Kennzeichnend, für derartige bekannte Techniken sind die in den US-Patenten 3 015 630, 3 104 1S7 ,-3 367 874, 3 399 143 und 3 855 694 offenbarten Verfahren. Während derartige bekannte Techniken und Zusammensetzungen, wie sie in den oben erwähnten Patenten offenbart werden, bei der Entfernung bestimmter metallischer Ablagerungen befriedigend waren, besteht doch bei den bekannten Techniken eine Schwierigkeit weiterhin in der relativ langsamen*Geschwindigkeit, bei welcher die metallischen Ablagerungen abgelö',u werden, sowie in der verhältnismäßig geringen Leistungsfähigkeit der Ablösezusammensetzung für die abgelösten Metalle, was eine häufige Nachfüllung erforderlich macht, ferner in der Auswahl der spezifischen Metalle, die befriedigend abgelöst v/erden können, und in der Unmöglichkeit, andere Metalle abzulösen, was alternative Ablösezusaiamensetzungen erfordert,, sowie in den Einrichtungen zur Behandlung des Abfalls, die für derartige Ablösezusarnmen-Setzungen erforderlich sind, um sie ohne Schaden in den Abfall z\i überführen.

Die vorliegende Erfindung überwindet zahlreiche der Schwierigkeiten und Nachteile, die in Verbin-dung mit bekannten Techniken und Zusammensetzungen auftreten, indem sie eine Ablösezusammensetzung und ein Verfahren zur Anwendung dieser Zusammensetzung schafft, die eine erhöhte Kapazität für die aufgelösten

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Metallionen aufweist, den Ablösevorgang schneller einleitet und ferner fü;; eine Erhöhung in der Geschwindigkeit, bei welcher die Ablagerungen abgelöst werden, Sorge trägt, anwendbar ist für die Ablösung eines weiteren Bereichs metallischer Ablagerungen einschließlich Metallegierungen wie Nickel-Eisen- · legierungen, sowie auch mehrschichtiger Verbundablagerungen, und die verhältnismäßig einfache Abfallbehandlungseinrichtungen zur Behandlung vor Abgabe an den Abfall erfordert.

Der Nutzen bowie die Vorteile der Erfindung werden gemäß den Merkmalen der Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung, erzielt durch eine, chemische Ablöselösung., bestehend in einer wässrigen sauren Lösung, die als ihre wesentlichen Ingredientien Salpetersäure, Chloridionen und Manganionen enthält, die in ausreichender Menge zur Beschleunigung der Einleitung und der Geschwindigkeit der Ablösung einer Vielfalt metallischer Ablagerungen vorhanden sind. Die Konzentration der Salpetersäure kann in einem Bereich von etwa 15 Vol.-% bis etwa 65 Vol.-% liegen (235 bis etwa 1050 g/1); die Chloridionenkonzentration kann in einem Bereich von nur etwa 0,2 g/l bis zur Sättigung liegen, während die Manganionenkonzentration im wesentlichen bei Mengen von etwa 0,2 bis etwa 10 g/l gesteuert wird.

Die, Lösung kann vorteilhaft auch als wahlweise Bestandteile gesteuerte wirksame Mengen von Kupferionen, Eisenionen und Kickelionen, sowie auch KombinatJonen derselben enthalten, um die Ab-

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lösewirkung der Ablöselösung zu begünstigen.

Nach den Verf ahrensraerkmalen der vorliegenden Erfindung können Metallablagerungen wie Kupfer, glänzender Nickel, schwefelfreier Nickel, Nickel-Eisenlegierungen, Nickel-Phosphorlegierungen, Chrom, Messing, Zinn, Cadmium, Zink und Rhodium durch Anwendung der obigen 7\blöselösung bei Temperaturen im Bereich von etwa 6O⁰F bis etwa 15O°F wirksam abgelöst werden, und die metallische Ablagerung wird mit d«r Lösung während einer Zeitdauer in Berührung gehalten, die ausreicht, um das erwünschte Ausmaß der Ablösung der A^xagerung zu erwirken.

Weiterer Nutzen sowie Vorzüge der vorliegenden Erfindung gehen aus der Beschreibung der bevorzugten Ausführungsforrnen in Verbindung mit den gegebenen besonderen Beispielen hervor.

PJs folgt nunmehr eine Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen. Die chemische Ablösezusammensetzung gemäß der Erfindung beinhaltet eine wässrige Lösung, enthaltend eine verhältnismäßig hohe Konzentration an Salpetersäure in Kombination mit einer gesteuerten Mange an Chloridionen und einer gesteuerten wirksamen Menge an Manganionen, um eine Beschleunigung der Einleitung der Ablösewirkung zu erzielen und ferner die Geschwindigkeit, bei welcher die Metallablagerung entfernt wird, zu erhöhen. Die_r wässrige saure Lösung kann grob von etwa 15 bis etWci 65 Vol.-%

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Salpetersäure, vorzugsweise von etwa 30 bis etwa 55 Vol.-% Salpetersäure enthalten, wobei Kengen voi* etwa 50 % Salpetersäure besonders befriedigend sind. Auf Gewichtsbasiu kann die Salpetersäurekonzentration grub im Bereich von etwa 235 Gramm je Liter (g/l) bis zu etwa 1050 g/l liefen, vorzugsweise von etwa 490 bis etwa 900 g/l, wobei Konzentrationen von etwa 825 g/l besonders befriedigend sind. Der Salpetersäurebestandteil ^er Lösung wird zweckmäßigerweise in Form einer relativ konzentrierten Lösung wie 42 Baume eingeführt, die herkömmlicherweise etwa 69 Gew.-% wässrige Salpetersäurelösung enthält.

Das Chloridion ist vorhanden in einer Menge von wenigstens etwa 0,2 g/l bis zu Konzentrationen, die sich dem Sättigungsgrad der Lösung nähern. Häufiger wird die Konzentration des Chloridions in einem Bereich von etwa 0,5 bis etwa 10 g/l gesteuert, wobei Konzentrationen von etwa 3 g/l typisch sind. Das Chloridion kann zweckmäßigerweise in Form eines Alkaliiretallsalzes wie beispielsweise Natriumchlorid, Ammoniumchlorid, Salzsäure oder dergleichen eingeführt v/erden, wie auch als Chloridsalze der anderen Metallione, die wünschenswerter Weise in der Ablöselösung vorhanden sind, einschließlich Manganchlorid (24nCl_) , Kupferchlorid (CuCi₉) und Eisenchlorid (FeCl₂) und Kickelchlorid (NiCl„).

Zusätzlich zu den Salpetersäure- und Chloridionbestandteilen enthält die wässrige Ablöselösung ferner als einen wesentlichen

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Bestandteil Manganione in gesteuerten v/irksamen Mengen, welche
als ein Aktivator dienen und dia dem Eintauchen in die chemische Äblösezur-ainrcensetzung folgende Zeitdauer vor Eintritt der Einleitung der Ablösung reduzieren und auch die Geschwindigkeit der Ablösung der Metallablagerung nach Einleitung der Ablösereaktion beschleunigen. Es können hörköminlicherweise Manganionkonzentrationen von etwa 0,2 bis etwa ¹O g/l benutzt werden, wobei Mengen von etwa 1 bis etwa 3 g/l bevorzugt werden. Das Manganion kann
eingeführt werden in die Lösung in Forin eines beliebigen wässrigen säurelöslichen Salzes wie Mangansulfat, Manganoxid, Manganhalogenidsalze einschließlich Manganchlorid, welches gle.ieh:-seltig eine Einführung des Chloridions bewirkt.

Zusätzlich zu den obigen Bestandteilen kann die wässrige Ablösezusammensetzung wahlweise und vorteilhaft auch gesteuerte wirksame Mengen zusätzlicher Metallionen wie Kupferionen, Eisenionen und Nickelionen enthalten, die ferner die Ablösereaktion und die Geschwindigkeit, bei welcher die Ketallablagerung entfernt wird, begünstigen.Beim Ablösen von Kupfer- oder Nickelablagerungen wie auch vielschichtigen Verfoundplattierung«ablagerungen, die Kupfer und Nickel enthalten, erhöht sich die Konzentration an Kupfer
und Nickel in der Ablöselösung fortschreitend während des Gebrauchs der Lösung. Die anfängliche Einführung von Kupferionen
in die chemische Abl'jselösung ist vorteilhaft, indem sie eine
künstliche /».Iterung der Ablörelösung herbeiführt und sie im Anfang aktiver macht als eine frische aufbereitete Lösung, die

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keinerlei Kupferionen enthält. Die Konzentration an Kupferionen in dora cad kann grob im Bereich von etwa 0,2 bis etwa 10 g/l in der aufbereiteten Anfangslösung liegen und während der Verwendung einer derartigen Lösung beil?. Ablösen von Kupferablagerungen weiter in der Konzentration zunehmen.

Die Verwendung von. Eisenionen in Mengen, die grob zwischen etwa 0,2 und etwa 10 g/l und vorzugsweise zwischen etwa 0_f5 und etwa 3 g/l liegen, begünstigt auch die Ablösewirkung, insbesondere beim Ablösen von Hickel-Eisenlegierungsablagerungen. Das Eisenion kr.rjn sweckmäßigerweise in Form von irgendeineir; wässrigen säurelöalichen Salz wie Eisenammoniumsulfat, Eisenhclogenidsalsen wie Eisenchlorid, Eisensulfaten oder dergleichen eingeführt v/erden. In ähnlicher Weise ist auch die Gegenwart von Nickelienen in der Ablöselösung vorteilhaft und kann in einem Konzentrationsbereich von etwa 0,2 bis zu etwa 10 g/l liegen, vorzugsweise von etwa 0,5 g/l bis etwa 3 g/l. Das N-ickelion kann ähnlich in Form eines wässrigen säur elö suchen Salzes wie Nickelhalogenidsalz, Nickelsulfat und dergleichen eingeführt werden.

Nach den Verfahrensmerkrcalen der Erfindung wird die chemische Ablösezusanmensetzung bei Temperaturen von eiv/a 60 F (Raumtemperatur) bis etwa 150 V mit der zu entfernenden Metallablagerung in Berührung gebräche, wobei Temperaturen von etwa 90⁰F bis etwa 130 F bevorzugt werden. Die Berührungszeit ist veränderlich in Abhängigkeit von der Dicke und der Gestalt der abzulösenden Metal1-

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BAD ORIGfNAL

ablagerung und dem gewünschten Grad ihrer Entfernung von dem Substrat.

Die wässrige Ablösezus3.mmensetzung gemäß der Erfindung hat sie!; als besonders geeignet erwiesen beim Ablösen von Metallablagerungen wie Kupfer _e glänzendem Nickel, Messing, Zinn_f Cadmium, Zink, Nickel-Eisenlegierungen_? LJickel-Phosphorlegierungen sowie auch bei mehrschichtigen Verbundablagerungen wie Chrom, Nickel und Kupfer und auch Rhodium, Nickel und Kupfer, Die Kapazität und Vielseitigkeit der Ablösezusammensetzung zur wirksamen Ablösung der oben erwähnten Metallablagerungen schafft deutliche Vorteile gegenüber bekannten Formulierungen, bei denen es bisher erforderlich war, speziell formulierte Zusammensetzungen für das Ablösen von beispielsweise Chrom- und Rhodium-Ablagerungen zu verwenden,. im Vergleich zu derjenigen, die beispielsweise für die Ablösung von Kupfer, Nickel und Nickel-Phosphorlegierungen erforderlich ist. Die Ablösezusaminensetzung der, vorliegenden Erfindung schcifft ferner eine erweiterte Kapazität der abgelösten Metall ionen,- die eine längere Betriebsdauer vor Nachfüllung oder Einstellung der Abiöselösung herbeiführt.

Zur v/eiteren Erläuterung der Zusammensetzung und des Verfahrens gemäß der Erfindung werden die folgenden besonderen Beispiele gegeben. Es ist zu beachten, daß die Beispiele lediglich der Erläuterung und nicht als Begrenzung des Bereichs der Erfindung dienen, wie er hier offenbart und in den beigefügten Ansprüchen niedergelegt ist.

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BAD ORfGfMAL

Beispiel _1_

Es wird als Kontrolle ein chemisches Äblösebad gemäß der.¹. Stand der Technik bereitet Tiit einem Gehalt von 75 Vol.-% einer Salpetersäure von 42° Baume (etvr. 712 g/l 100 %Lger HNO₃) und 25 Vol.-% Wasser. Die wässrige saure Lösung wird auf etwa 140 F erwärmt. Es werden Probestücke eines Edelstahls der Type 316 durch Vorbehandlung in einer hcchchloridhsltigen Nickel-Chlorid-Borsäure-Vorüberzugslösung vorbereitet und anschließend mit (1) einer glänzenden Kupferabscheidung, (2) einer glänzenden Nickel~ abscheidung, (3) einer halbglänzenden Nickelabscheidung, (4) einer Nickeleisenlegierungs-Abscheidung enthaltend etwa 75 Gew.-% Nickel, und (5) einer Nickelphosphorlegierungs-Abscheidung galvanisiert. Die überzogenen Probestücke werden eingetaucht in die Ablöselösung, und die Ablösegeschwindigkeiten sind wie folgt:

Ablösegeschwindigkeiten: Zoll/Minute

(1) Kupfer 0,010

(2) glänzender Nickel 0,0058

(3) halbglänzender Nickel 0,0000034 (O Nickel-Eisen-Legierung 0,000068 (5) Nickel-Phosphor-Legierung 0,000408

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U ν U V ϋ ~=ί

Es wird oinc chemische Ablösezusavrionsetzung bereitet unter 7c3r-"/i-sn'i'ang von Il VcI,-' einer Salpetersäure von 4 2 Banne (etwa 712 g/l 100 %ige HNO-) und 25 Vol>-% Wasser, der 1,5 g/l Kupfersulf atpentahydrat zugesetzt wird, sowie C g/l Natriumchlorid und 1 g/l Manganoxid. Die Lösung wird erwärmt auf eine Temperatur von etwa 140°F. E.s werden Probestücke aus einer.¹. Edelstahl der Type 316 bereitet durch Vorbehandlung in einer hochchloridhaltigen Kickel-Chlorid-Borsäu^e-Yorübersugslüsung und anschließend galvanisiert mit (1) einer glänzenden Kickelschicht, (2) einer helbglänzenden Mickelschicht und (3) einer Hickel-Eisen-Legierimgsschicht, enthaltend etwa 7 5 Gew.-% Nickel. Die Probestücke werden eingetaucht in die Ablöselösung, u;.: die Ablösegescir.-.'indigkeitcn sind wie folc-t:

(1) glänzender Nickel 0,0151

(2) halbglänzender Nickel O_fOO452

(3) Nickel-Eisen-Legierung 0,0178

Es ist offensichtlich, daß die /iblösegepchv/indigkeiten der Überzüge aus glänzendem Nickel, halbglänzendem Nickel und der Nickel-Eisenlegierung unter Verv.'cndung der Ablüsezurammensetzung nach Beispiel 2 gemäß der Erfindung erheblich hoher sind als diejenigen, die bei ähnlichen Plattierungsauflagerungen unter Verwendung der Kontroilösung nach Beispiel 1 erzielt wurden.

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Beispiel 3

Es wird eine chemische Ablösezusammensetzung bereitet unter Verwendung von 75 Vol.-% einer Salpetersäure von 42 Baume (etwa 712 σ/1 100 %ige HNO₃) und 25 Vol.-% Kasser, welcher 6 g/l Natriumchlorid zugesetzt werden, sowie 1,7 g/l wasserfreies Kupferoxid, 2,5 g/l Mangansulfat-Monohydrat, 4,5 g/l Eisensulfatmonohydrat und 5 g/l Nickelsulfatpentafr/drat. Es v/erden Probestücke aus einem Edelstahl der Type 316 bereitet wie in den Beispielen 1 und 2 und mit den folgenden Metallplattierungen versehen: (1) glänzendes Kupfer, (2) glänzender Nickel, (3) Nickel-Eisen-Legierung, (4) Nickel-Phosphor-Legierung, CS) Messing, (6) 2.inn, (7> Cadmium, und (8) Zink. Die Probestücke werden eingetaucht in die Ablöselösung bei einer Temperatur von etwa 140°F, und die AblSsegeschwindigkeiten sind wie folgt:

Ablösegeschwindigkeiten:	Zoll/Minute
(1) glänzendes Kupfer	0,01334
(2) glänzender Nickel	0,014
(3) Nickel-Eisen-Legierung	0,0178
(4) Nickel-Phosphor-Legierung	0,00767
(5) Messing	0,0178
(6> Zinn	0,005
(7> Cadmium	0,035
(8} Zink	0,044

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BAD ORiGiNAL

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Beispiel· 4_

Es wird eine chemische Ablösezusaranensetzung bereitet unter Verwendung von 75 Vol.-% einer Salpetersäure von 42 Baume (etwa 712 σ/1 100 %ige KNO..) und 25 Vol.-% Wasser, der 15 g/l Natriumchlorid zugesetzt wird, sowie 3,5 g/l Kupfersulfatpentahydrat/ 5 g/l Mangannulfatmonohydrat, 10 g/l Eisensulfatmonohydrat und 10 g/l Nickelsulfatpentahydrc¹*.. Die Ablösexusammensetzung dos Beispiels 4 ist ähnlich derjenigen des Beispiels'3, wobei jedoch die Kupfer-, Mangan--, Eisen- und Nickel-Verbindungen von höherer Konzentration .sind. Es werden Probestücke aus einem Edelstahl der Type 316 bereitet wie bereits beschrieben und Tvit (1) einer glänzenden Nickelschicht und (2) einer Nickel-Eisen-Legierungsschicht mit 75 Gew.-% Nickelgehalt versehen. Die Probestücke werden eingetaucht in die Ablösezusammensetzung bei einer Temperatur von etwa 140 F, und die Ablösegeschwindigkeiten sind wie folgt:

Ablösegeschwindigkeiten: " Zoll/Minute

(1) glänzender Nickel 0,027

(2) Nickel-Eisen-Legierung 0,028

Während die Erfindung in ihrer hier gegebenen Beschreibung die oben beschriebenen Vorzüge voll erreicht, ist doch zu beachten, daß Abwandlungen, Abweichungen und Veränderungen vorgerioirjraen werden können, ohne von dem Gedanken der- Erfindung abzuweichen.

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Claims

29 814

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HAMlJURG - MÜNCHEN -1) OSSELDO W?

PATENTAKWALTI! · WKUEK V/ALL 41 · 2000 UAMIIURG 30

Oxy Metal Industries Corporation

P.O. Box 20201

Detroit, Michigan 48 220/USA

ZTJSTEl-LtJNGSANSCHIlIFT / PJLEASE HEPLY TO:

SCHHITSI-GIiAALFS NKUKH AVAIXiI · 2000 HAMBURG SO

TULEIOii + TKI.EOOI'IEK (OiOi 3G 07 Ca

TEI-EX 02 JJ ¹JOC ΙΝ>»ΛΤ D

CABLE NKGUDAl' ' "KNl' JTAMJ)UHG

IIATICK- WJ5TIN ERT- CARSTENS MOZARTSTRASSK 23 ·SOOO Tl^XCHEN TELEFON + TETECOPIEU(OSo) δ:, «κ» se TELEX 03 £16 C53 PAMTT IJ CABLE NUGEHArATENT Mi)KCHEK

BORING

K.-WILH.-RIXO ti■ 4000DÜSSELDORF

TELEFON (OiIX) »7 00 ί·7

CADLS NBeüJlAiiTSNT Dt)SSIiLI)OKF

HG, -14. August 1980

Zusammensetzung und Verfahren 'ur chemischen Ablösung metallischer Ablagerungen

Ansprüche

1. Zusammensetzung zum chemischen Ablösen metallischer Ablagerungen von einem Substrat, gekennzeichnet durch eine Salpetersäure enthaltende v/ässrige saure Lösung, bei welcher Chloridione und Mcnganione in ausreichender Menge vorhanden sind, um die Einleitung und die Geschwindigkeit des Äblösens der metallischen Ablagerung zu beschleunigen.

2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, ferner gekennzeichnet durch den Gehalt, an Eisenionen.

3» Zusammensetzung nach Anspruch i, rerner gekennzeichnet durch

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EXI·: νΚΚΤΙΙΚΤΚΚ L¹EIJl KUiIOI¹JISCHKN^- PATENTAMT ritOl'BSi-lON.M. Hiil'HESHXTATIX !.>, UKI-OIlIiVIiI: ElIH)I¹IUX IMTI.VT OITICK

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den Gehalt an Kupferionen.

4. Zusammensetzung nach Anspruch 1, ferner gekennzeichnet durch den Gehalt an Nickelionen.

5. Zusammensetzung nach Anspruch 1, ferner gekennzeichnet durch den Gehalt von etwa 235 bis etv/a 1050 g/l Salpetersäure.

6. Zusammensetzung nach Anspruch 1, ferner gekennzeichnet durch den Gehalt an etwa 490 bis etwa 900 g/l Salpetersäure.

7. Zusammensetzung nach Anspruch 1, ferner gekennzeichnet durch den Gehalt von etv/a 0,2 bis etv/a 10 g/1 Manganionen.

8. Zusammensetzung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch den
•Gehalt an etv/a 0,5 bis etv/a 3 g/l Manganionen.

9. Zusammensetzung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch den
Gehalt an etwa 0,2 g/l Chloridionen bis zur Sättigung.

10. Zusammensetzung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch den
Gebalt an etwa 0,5 bis etv/a 10 g/l Chloridionen.

11. Zusammensetzung nach Anspruch 1_r ferner gekennzeichnet durch den Gehalt an etv/a 0,2 bis etwa 10 g/l Kupferionen.

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12. Zusammensetzung nach Anspruch 1, ferner gekennzeichnet durch den Gehalt ε η etwa 0,2 bis etwa 10 g/l Eisenionen.

13. Zusammensetzung nach Anspruch 1, ferner gekennzeichnet durch den Gehalt an etwa 0,5 bis etwa 3 g/l Eisenionen.

14. Zusammensetzung nach Anspruch 1, ferner gekennzeichnet durch den Gehalt an etwa 0,2 bis etwa 10 g/l Nickelionen.

15« Verfahren zum chemischen Ablösen metallischer Ablagerungen von einem Substrat, gekennzeichnet durch die folgenden Schritte: Berühren der abzulösenden metallischen Ablagerung mit einer salpetersäurehaltigen wässrigen sauren Lösung bei einer Temperatur von etwa 60 F bis etwa 150°F, in welcher Chloridionen und Manganionenin ausreichender Menge vorhanden sind, um die Einleitung und die Geschwindigkeit der Ablösung der metallischen Ablagerung zu beschleunigen _r und Fortsetzen der Berührung der Lösung mit der Ablagerung für eine Zeitdauer zur Erwirkung der gewünschten Größe der Ablösung derselben.

16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Salpetersäure in einer Menge von etwa 235 bis etwa 1050 g/l vorhanden ist.

17. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Manganionenin einer Menge von etwa 0,2 bis etwa 10 g/l vorhanden sind.

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18. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Chloridioner.in einer Menge von etwa 0,2 g/l bis zur Sättigung enthalten sind.

19. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung ferner Kupferionen in einer ausreichenden Menge zur Begünstigung der Ablösewirkung der Lösung enthält.

20. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung ferner Eisenionenin einer ausreichenden Menge zur Begünstigung derAblösewirkung der Lösung enthalt.

21. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Kupferionen in einer Menge von etwa 0,2 bis etwa 10 g/l vorhanden sind.

22. Verfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Eisenionenin einer Menge von etwa 0,2 bis etwa 10 g/l vorhanden sind.

23. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die metallische Ablagerung ein aus der aus Kupfer, glänzendem Nickel, schwefelfreiem Nickel, Nickel-Eisenlegierungen, Nickel-Phosphorlegierungen, Chrom, Messing, Zinn, Cadmium, Zink und Rhodium bestehenden Gruppe ausgewähltes Metall enthält. . - -

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24c Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, „daß die Lösung ferner HickelIonen in einer ausreichenden Menge zur Begünstigung der Afolösewirkung der Lösung enthält,

25. Verfahren nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet,, άα,Α die Nickelionen in einer Menge von etwa. G„2 bis etwa 10 g/l vorhanden sind ο

26. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung etwa 235 bis etwa 1050 g/l Salpetersäure, etwa 0,2 bj.u etwa 10 g/l Manganionen, etwa 0,2 g/l bis zur Sättigung Chloridionen und ferner ein aus der aus Kupfer-, Eisen-, Nickelionen und Mischungen derselben bestehenden Gruppe ausgewähltes Metallion enthält, das in einer Menge zur Begünstigung der Ablösewirkung der Lösung'vorhanden ist.

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