JPS6045274B2 - 金属析出物の化学的剥離用組成物および方法 - Google Patents

金属析出物の化学的剥離用組成物および方法

Info

Publication number
JPS6045274B2
JPS6045274B2 JP55158043A JP15804380A JPS6045274B2 JP S6045274 B2 JPS6045274 B2 JP S6045274B2 JP 55158043 A JP55158043 A JP 55158043A JP 15804380 A JP15804380 A JP 15804380A JP S6045274 B2 JPS6045274 B2 JP S6045274B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ions
nickel
composition according
stripping
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55158043A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5684477A (en
Inventor
リリ−・シ−・トマスゼウスキ−
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oxy Metal Industries Corp
Original Assignee
Oxy Metal Industries Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oxy Metal Industries Corp filed Critical Oxy Metal Industries Corp
Publication of JPS5684477A publication Critical patent/JPS5684477A/ja
Publication of JPS6045274B2 publication Critical patent/JPS6045274B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/44Compositions for etching metallic material from a metallic material substrate of different composition

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は広義には化学的に抵抗性のある基質上から好
ましくない金属析出物を剥離するために有用であり特に
、メッキ用ラックその他の接触チップから好ましくない
金属メッキ析出物を化学的Iこ除去するのに有用である
通常、電気メッキを実施する場合には被メッキ物を、チ
タン、ステンレス鋼またはプラスチゾル被覆のような保
護被覆と施した鋼製ラック上に懸垂するのが普通である
電解質中に懸垂せられた.被メッキ物への通常は被メッ
キ物と電気的に接触するように配列されているラック上
のステンレス鋼または白金かチタン製接触チップを通し
て行なわれる。メッキ操作中、好ましくない金属析出物
が該接触チップ上に蓄積し電気メッキ操作の効率“およ
び持続性を防げる。したがつて、かかるメッキラックは
該接触チップから、蓄積した好ましくない析出物を除く
ために機械的または化学的なりリーニング操作を施すの
が普通である。従来最良の操作条件を維持するために、
電気メッキラックの接触チップから好ましくない析出物
を除去するために各種の機械的および化学的手法が用い
られ、あるいは呈案されてきた。
かかる典型的な技術は米国特許第3,015,630号
、同第3,104,167号、同第3,367,874
号、同第3,39S143号および同第3,856,6
94号中に開示せられている。これらの特許中に開示せ
られた先行技術および組成物はある種の金属析出物を除
くには満足なものではあるが、金属析出物の除去速度が
比較的遅く、該組成物の金属剥離能力が比較的低いため
にひんぱんな補給を必要とし、ある種の金属に対しては
十分な剥離が可能であるがその他の金属類の剥離に対し
ては異つた剥離組成物を必要とし、またかかる剥離組成
物の廃棄を無害にするような廃棄物処埋設備を必要とす
るという欠点を有していた。この発明は、溶解金属イオ
ンに対する能力が高く、剥離作用の開始を早め、剥離速
度を高め多層析出物ならびにニッケルー鉄合金のような
金属合金を含む広範な金属析出物の剥離に適応てき廃棄
に際して比較的簡単な処埋設備ですむような組成物を用
いた剥離組成物およびその方法を使用することにより従
来公知の手法および組成物にともなう多くの問題点なら
びに欠点を解決するものである。
この発明の利益と進歩性は、その必須成分として硝酸、
塩化物イオンおよび第一マンガンイオンを各種の金属析
出物の剥離ならびに速度を促進するに十分な量において
含有する水性の酸性溶液から成る化学的剥離溶液を用い
る該発明の組成物によつて達成せられる。
硝酸の濃度は約15%ないし約65容量%(約235y
/eないし約1050f/e)の範囲であり、塩化物イ
オン濃度は最底約0.2y/eからその飽和濃度以下の
範囲であり、第一マンガンイオン濃度は通常約0.2g
/eないし10y/eの範囲に制御せられる。該溶液は
また好ましい任意の成分として一定有効量の第二銅イオ
ン、第一鉄イオンおよびニッケルイオンならびにこれら
の混合物を含み該剥離溶液の剥離作用をさらに強化せし
める。
この発明の方法によれば、銅、光沢ニッケル、無硫黄ニ
ッケル、ニッケルー鉄合金、ニツケルーホスホラス合金
、クロム、真ちゆう、スズ、カドミウム、亜鉛およびロ
ジウムのような金属析出物を約600F(15.6ウC
)ないし約150物F(65.6$,C)の温度範囲に維
持した前記剥離溶液を用いて、該金属析出物が好ましい
程度に剥離するに十分な時間帯にわたつて該溶液と接触
せしめることにより効果的な剥離が達成される。
この発明のその他の利益と進歩性は特殊な実施例に付随
して述べられた好ましい実施態様の記載から明らかにな
ろう。
この発明の化学的剥離組成物は、剥離作用の開始を促進
し金属析出物の除去速度をさらに高めうるような塩化物
イオンの一定量および第一マンガンイオンの効果的な抑
制量ならびに比較的高濃度の硝酸を含む水性溶液から成
る。
該酸性水溶液は約1熔量%ないし約6喀量%の硝酸、好
ましくは約3喀量%ないし約5熔量%、特に好ましくは
約5喀量%の硝酸を含む。重量基準において、該硝酸濃
度は約235V/fないし約1050V/′、好ましく
は約490y/eないし約900y/eであり、特に好
ましくは約825v/eの濃度である。該溶液の硝酸成
分は通常約6踵量%の硝酸水溶液から成る42成ボーメ
のような比較的高濃度の溶液で添加する。塩化物イオン
は少なくとも約0.2y/eないし該溶液の飽和濃度以
下の量で存在する。
通常該塩化物イオン濃度は約0.5y/eないし約10
y/e以内に制御せられ約3y/eが典型的な濃度であ
る。通常塩化物イオンは塩化ナトリウムのようなアルカ
リ金属塩たとえば塩化アンモニウム、塩酸その他ならび
に塩化第一マンガン(MnCl.)、塩化第二銅(Cu
Cl2)、塩化第一鉄(FeCl。)および塩化ニッケ
ル(NiCl2)のような剥離溶液中に好ましく存在し
うるその他の金属イオンの塩化物の形で添加されうる。
硝酸および塩化物イオン成分のほかに、該水性剥離溶液
はさらにその必須成分として一定の範囲に制御せられた
第一マンガンイオンを含み、この第一マンガンイオンは
活性化剤として働くと共に該化学的組成物中に浸漬した
時点から剥離が生ずるまての時間を短縮せしめると同時
に、剥離反応が開始せられた後の金属析出物の剥離速度
を促進する。
通常、第一マンガンイオン濃度は約0.2y/eないし
約10v/eであり、好ましくは約1ないし約3y/e
である。該第一マンガンイオンは硫酸第一マンガン、酸
化第一マンガンおよび塩化物イオンの導入に対して同時
に効果的てある塩化第一マンガンなどのような第一マン
ガンハライド塩類の形て該溶液中に添加される。以上の
成分に加えて該水性の剥離組成物は該剥離反応をさらに
高め金属析出物の剥離速度を速めるために第2銅イオン
、第1鉄イオンおよびニッケルイオンなどのその他の金
属イオンの一定の有効量を含みうる。
銅およびニッケルを含有する多層メッキ析出物ならび銅
およびニッケル析出物を剥離する場合には、剥離溶液中
の銅およびニッケル濃度は該溶液の使用期間中において
著しく増加する。該化学剥離溶液中に銅イオンを最初に
導入することは該溶液の人工的なエージングを可能なら
しめ、銅イオンを含まない新規なメイクアップ溶液より
も初期の活性が高まる利点がある。該浴中の第二銅濃度
は初期メイクアップ溶液中においては約0.2y/′な
いし約10y/fの広範囲であり銅析出物を剥離する場
合の溶液においてはさらに高濃度が用いられうる。約0
.2y/lないし約10g/e1好ましくは約0.5y
/eないし約3f/eの広範囲における第1鉄イオンの
使用は同時に剥離作用を強化し特にニッケルー鉄合金析
出物の剥離に効果がある。
第1鉄イオンは塩化第1鉄、硫酸第1鉄その他のような
第1鉄アンモニウム硫酸塩、第1鉄ハライド塩のような
いかなる水性の酸溶解性塩類の形においても用いられう
る。同様に該剥離溶液中におけるニッケルイオンの存在
はまた有用であり、約0.2y/eないし約10ダ/e
1好ましくは約0.5y/eないし約3y/eの濃度で
用いられる。同じくニッケルイオンはニッケルハライド
塩、硫酸ニッケルその他の水性の酸可溶性塩類の形で添
加されうる。この発明の方法に従えば、被剥離金属析出
物を約60゜F(室温、15.6℃)ないし約150′
F(65.6℃)、好ましくは約90.F(32.第)
ないし約1305F(54.4℃)の温度において接触
せしめる。
接触時間は被剥離金属析出物の厚さおよび形態ならびに
剥離の程度によつて異る。この発明による水性の剥離組
成物は銅、光沢ニッケル、真ちゆう、スズ、カドミウム
、亜鉛、ニッケルー鉄合金、ニツケルーホスホラス合金
ならびにクロム、ニッケルおよび銅のような多層混合析
出物のような金属析出物ならびにロジウム、ニッケルお
よび銅を剥離するのに特に適している。
前記の金属析出物を効果的に剥離するための該剥離組成
物の能力およびその有用性については、たとえば従来公
知の組成物が銅、ニッケルおよびニツケルーホスホラス
合金を剥離する場合に比較してクロームおよびロジウム
析出物の剥離に対して.は特別に調製した組成物を用い
る必要があつたので、これら公知の組成物に比較しては
るかに有利なものである。さらにこの発明の剥離組成物
は剥離した金属イオンの収容能力が大きいので該剥離溶
液の補充または調製迄の操作時間が延長せられ!る利益
がある。この発明の組成物および方法をさらに詳しく説
明するために次に実施例を述べる。
これらの実施例は単に説明のためのものであつてここに
開示しまた特許請求の範囲に記載したようなこの発明の
・範囲をなんら制限するものではないことは明らかであ
ろう。実施例1 標準浴として42すボーメの硝酸(100%HNO3約
712f/e)の7溶量%および25容量%の水を含む
標準化学剥離浴を調製した。
該水性酸溶液を140準F(60.00C)に加熱した
。ステンレス鋼316から成る試験片を高塩化物含有ニ
ッケルー塩化物一ホウ酸ストライク溶液中で前処理し、
次いで(1)光沢銅析出物、(2)光沢ニッケル析出物
、(3)半光沢ニッケル析出物、(4)約75重量%の
ニッケルから成るニッケルー鉄合金析出物および(5)
ニツケルホスホラス合金析出物による電気メッキした。
該被メツ・ギ試験片を該剥離浴組成に浸したところ剥離
速度はつぎのようであつた。 剥離速度
インチ/分(1)銅 0.010(
2)光沢ニッケル 0.0058(3
)半光沢ニッケル 0.0000034(4
)ニッケルー鉄合金 0.000068(5
)ニツケルホスホラス合金 0.000408実施
例247ボーメ硝酸(100%HNO3約712f/e
)の7熔量%および1.5y/eの硫酸銅5水和物、8
y/eの塩化ナトリウムおよび1y/eの酸化第一マン
ガンを加えた2喀量%の水用いて化学剥離組成物を調製
した。
該溶液を約140゜F(60.0℃)に加温した。31
(代)ステンレス鋼から成る試験片を高塩化物含有塩化
ニッケル−ホウ酸ストライク溶液で前処理し、その後(
1)光沢ニッケル析出物、(2)半光沢ニッケル析出物
および(3)約75重量%のニッケルから成るニッケル
ー鉄合金析出物により電気メッキし、該剥離組成物中に
浸漬したところその剥離速度は次のようであつた。
剥離速度 インチ/分(1)光沢ニッ
ケル 0.0151(2)半光沢ニッケル
0.00452(3)ニッケルー鉄合金
0.0178この発明による実施例2の剥離組成
物を用いた光沢ニッケル、半光沢ニッケルおよびニッケ
ルー鉄合金メッキの剥離速度は実施例1の比較溶液を用
いる同様のメッキ析出物に対して得られるよりも著るし
く速いことが明らかである。
実施例3 47ボーメ硝酸(100%I(NO3約712y/e)
の7熔量%、および塩化ナトリウム6y/e1無水酸化
第二銅1.7y/e1硫酸第一マンガン・一水塩2.5
y/e1硫酸第一鉄・一水塩4.5y/eおよび硫酸ニ
ッケル・五水塩5f/fを加えた2時量%の水を用いて
化学的剥離組成物を調製した。
3托型ステンレス鋼から成るテスト片を実施例1および
2に従つて調製し、(1)光沢銅、(2)光沢ニッケル
、(3)ニッケルー鉄合金、(4)ニツケルーホスホラ
ス合金、(5)真ちゆう、(6)スズ、(7)カドミウ
ムおよび(8)亜鉛の金属メッキを施こした。
試験片を約1400Fにおいて該剥離組成物中に浸した
ところ該剥離速度は次のようであつた。 剥離速度
インチ/分(1)光沢銅
0.01334(2)光沢ニッケル
0.014(3)ニッケルー鉄合金
0.0178(4)ニツケルーホスホラス合金
0.00767(5)真ちゆう
0.0178(6)スズ 0.005(
7)カドミウム 0.035(8
)亜鉛 0.044実施例4 47ボーメ硝酸(100%HNO3約712f/e)の
−7熔量%および15y/eの塩化ナトリウム、硫酸第
二銅・五水塩3.5fI/e1硫酸第一マンガン・一水
塩5f/e1硫酸第一鉄・一水塩10g/eおよび硫酸
ニッケル・五水塩10y/eを含む2喀量%の水を用い
て化学剥離組成物を調製した。
実施例4の剥離組成物は実施例3と同様であるが、銅、
第一マンガン、第一鉄およびニッケル化合物をより高濃
度に含んでいた。31?ステンレス鋼から成る試験片を
前述のように調製し(1)光沢ニッケル析出物および(
2)75重量%のニッケルを含むニッケルー鉄合金析出
物でメッキした。
試験片を約1400F(6000C)において剥離浴中
に浸したところ剥離速度は次のようであつた。 剥離速
度 インチ/分 (1)光沢ニッケル 0.027(2)ニ
ッケルー鉄合金 0.028ここに開示した発
明はその利益と進歩性を達成するために十分なるもので
はあるが、その精神から逸脱することなく変化、変型お
よび変更が可能であることはいうまでもない。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 金属析出物の剥離の開始および剥離の速度を加速せ
    しめるに十分な量で存在する硝酸、塩化物イオンおよび
    第一マンガンイオンを含む水性の酸性溶液から成り、基
    質上から金属析出物を化学的に剥離するための組成物。 2 さらに任意成分として第一鉄イオンを含むことを特
    徴とする特許請求の範囲第1項に記載の組成物。3 さ
    らに任意成分として第二銅イオンを含むことを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項に記載の組成物。 4 さらに任意成分としてニッケルイオンを含むことを
    特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の組成物。 5 235g/lないし1050g/lの硝酸を含むこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の組成物。 6 490g/lないし900g/lの硝酸を含むこと
    を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の組成物。7
    0.2g/lないし10g/lの第一マンガンイオン
    を含むことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
    組成物。 8 0.5g/lないし3g/lの第一マンガンイオン
    を含むことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
    組成物。 9 0.2g/lないしその飽和濃度以下の塩化物イオ
    ンを含むことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載
    の組成物。 10 0.5g/lないし10g/lの塩化物イオンを
    含むことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の組
    成物。 11 さらに任意成分として0.2g/lないし10g
    /lの第二銅イオンを含むことを特徴とする特許請求の
    範囲第1項に記載の組成物。 12 さらに任意成分として0.2g/lないし10g
    /lの第一鉄イオンを含むことを特徴とする特許請求の
    範囲第1項に記載の組成物。 13 さらに任意成分として0.5g/lないし3g/
    lの第一鉄イオンを含むことを特徴とする特許請求の範
    囲第1項に記載の組成物。 14 さらに任意成分として0.2g/lないし10g
    /lのニッケルイオンを含むことを特徴とする特許請求
    の範囲第1項に記載の組成物。 15 基質上から金属析出物を化学的に剥離する方法で
    あつて、剥離するべき金属析出物を、該金属析出物の剥
    離開始および剥離速度を加速せしめるに十分な量で存在
    する硝酸、塩化物イオンおよび第一マンガンイオンを含
    む水性の酸性溶液と温度60゜F(15.6℃)ないし
    150゜F(65.5℃)において接触させ、該溶液と
    の接触を好ましい剥離が達成せられるに十分な時間にわ
    たつて継続する工程から成る化学的剥離方法。 16 該硝酸が235g/lないし1050g/lの量
    で存在することを特徴とする特許請求の範囲第15項に
    記載の方法。 17 該第一マンガンイオンが0.2g/lないし10
    g/lの量で存在することを特徴とする特許請求の範囲
    第15項に記載の方法。 18 該塩化物イオンが0.2g/lないしその飽和濃
    度以下の量で存在することを特徴とする特許請求の範囲
    第15項に記載の方法。 19 さらに任意成分として該溶液が該溶液の剥離作用
    を強化せしめるに十分な量の第二銅イオンを含むことを
    特徴とする特許請求の範囲第15項に記載の方法。 20 さらに任意成分として該溶液が該溶液の剥離作用
    を強化せしめるに十分な量の第一鉄イオンを含むことを
    特徴とする特許請求の範囲第15項に記載の方法。 21 該第二銅イオンが0.2g/lないし10g/l
    の量で存在することを特徴とする特許請求の範囲第19
    項に記載の方法。 22 該第一鉄イオンが0.2g/lないし10g/l
    の量で存在することを特徴とする特許請求の範囲第20
    項に記載の方法。 23 該金属析出物が銅、光沢ニッケル、無硫黄ニッケ
    ル、ニッケル−鉄合金、ニツケル−ホスホラス合金、ク
    ロム、真ちゆう、スズ、カドミウム、亜鉛およびロジウ
    ムから成る部類から選択せられた金属から成ることを特
    徴とする特許請求の範囲第15項に記載の方法。 24 さらに任意成分として該溶液が該溶液の剥離作用
    を強化せしめるに十分な量のニツケルイオンを含むこと
    を特徴とする特許請求の範囲第15項に記載の方法。 25 該ニッケルイオンが0.2g/lないし10g/
    lの量において存在することを特徴とする特許請求の範
    囲第24項に記載の方法。 26 該溶液が硝酸235g/lないし1050g/l
    、第一マンガンイオン0.2g/lないし10g/l、
    塩化物イオン0.2g/lないし飽和濃度以下を含み、
    さらに第二銅、第一鉄、ニッケルおよびそれらの混合物
    から成る部類から選択せられた金属イオンを該溶液の剥
    離作用を強化せしめるような量において含有することを
    特徴とする特許請求の範囲第15項に記載の方法。
JP55158043A 1979-11-15 1980-11-10 金属析出物の化学的剥離用組成物および方法 Expired JPS6045274B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US94617 1979-11-15
US06/094,617 US4244833A (en) 1979-11-15 1979-11-15 Composition and process for chemically stripping metallic deposits

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5684477A JPS5684477A (en) 1981-07-09
JPS6045274B2 true JPS6045274B2 (ja) 1985-10-08

Family

ID=22246187

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP55158043A Expired JPS6045274B2 (ja) 1979-11-15 1980-11-10 金属析出物の化学的剥離用組成物および方法

Country Status (13)

Country Link
US (1) US4244833A (ja)
JP (1) JPS6045274B2 (ja)
AR (1) AR223719A1 (ja)
AU (1) AU531247B2 (ja)
BR (1) BR8005840A (ja)
CA (1) CA1137396A (ja)
DE (1) DE3030919A1 (ja)
ES (1) ES494329A0 (ja)
FR (1) FR2469443A1 (ja)
GB (1) GB2063923B (ja)
IT (1) IT1142184B (ja)
MX (1) MX154502A (ja)
NL (1) NL8004320A (ja)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4289576A (en) * 1980-05-27 1981-09-15 Halliburton Company Method for removing cobalt-containing deposits from surfaces
US4402800A (en) * 1981-10-02 1983-09-06 Ash James J Apparatus and method of treating tabs of printed circuit boards and the like
US4402799A (en) * 1981-10-02 1983-09-06 Chemcut Corporation Apparatus and method of treating tabs of printed circuit boards and the like
US4385967A (en) * 1981-10-07 1983-05-31 Chemcut Corporation Electroplating apparatus and method
US4608091A (en) * 1982-01-11 1986-08-26 Enthone, Incorporated Peroxide selective stripping compositions and method
US4746369A (en) * 1982-01-11 1988-05-24 Enthone, Incorporated Peroxide selective stripping compositions and method
US4404074A (en) * 1982-05-27 1983-09-13 Occidental Chemical Corporation Electrolytic stripping bath and process
US4554049A (en) * 1984-06-07 1985-11-19 Enthone, Incorporated Selective nickel stripping compositions and method of stripping
US4666625A (en) * 1984-11-27 1987-05-19 The Drackett Company Method of cleaning clogged drains
CH674851A5 (ja) * 1987-12-01 1990-07-31 Bbc Brown Boveri & Cie
US5227016A (en) * 1992-02-25 1993-07-13 Henkel Corporation Process and composition for desmutting surfaces of aluminum and its alloys
JPH1072682A (ja) * 1996-08-30 1998-03-17 Mec Kk 錫および錫合金の剥離液
GB2334969B (en) * 1998-03-05 2003-03-12 British Steel Plc Coated metal products
US7285229B2 (en) * 2003-11-07 2007-10-23 Mec Company, Ltd. Etchant and replenishment solution therefor, and etching method and method for producing wiring board using the same
JP4827252B2 (ja) * 2006-09-25 2011-11-30 ダイハツ工業株式会社 車両の車体構造
CA2808981A1 (en) * 2013-03-05 2014-09-05 Sherritt International Corporation Method of recovering metals while mitigating corrosion
EP3168332B2 (en) * 2015-03-13 2023-07-26 Okuno Chemical Industries Co., Ltd. Use of a jig electrolytic stripper for removing palladium from an object and a method for removing palladium

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2200486A (en) * 1939-05-10 1940-05-14 Western Electric Co Material and method for removing coatings of nickel or the like from a metal base
US3015630A (en) * 1959-08-24 1962-01-02 Gen Electric Aqueous solution for stripping nickel
US3367874A (en) * 1966-09-23 1968-02-06 Haviland Products Co Process and composition for acid dissolution of metals
GB1353960A (en) * 1971-09-21 1974-05-22 Rolls Royce Method of etching a partially masked surface
US3856694A (en) * 1973-06-18 1974-12-24 Oxy Metal Finishing Corp Process for stripping nickel from articles and composition utilized therein
GB1518038A (en) * 1975-12-19 1978-07-19 Sterling Drug Inc Process for removing calcium oxalate scale

Also Published As

Publication number Publication date
NL8004320A (nl) 1981-06-16
ES8105791A1 (es) 1981-06-16
FR2469443A1 (fr) 1981-05-22
DE3030919A1 (de) 1981-05-21
ES494329A0 (es) 1981-06-16
GB2063923A (en) 1981-06-10
AR223719A1 (es) 1981-09-15
US4244833A (en) 1981-01-13
GB2063923B (en) 1983-09-21
JPS5684477A (en) 1981-07-09
BR8005840A (pt) 1981-06-09
IT8050149A0 (it) 1980-11-13
AU531247B2 (en) 1983-08-18
MX154502A (es) 1987-09-24
FR2469443B1 (ja) 1984-01-27
AU6075880A (en) 1981-05-21
CA1137396A (en) 1982-12-14
IT1142184B (it) 1986-10-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6045274B2 (ja) 金属析出物の化学的剥離用組成物および方法
US4713144A (en) Composition and method for stripping films from printed circuit boards
EP0041638B1 (de) Verfahren zur Vorbehandlung von Edelstahl für eine direkte galvanische Vergoldung
US3726771A (en) Process for chemical nickel plating of aluminum and its alloys
CA2007608C (en) Composition and method for stripping tin or tin-lead alloy from copper surfaces
US2541083A (en) Electroplating on aluminum
US3935005A (en) Composition and method for stripping gold and silver
US2457059A (en) Method for bonding a nickel electrodeposit to a nickel surface
US4548791A (en) Thallium-containing composition for stripping palladium
US4196061A (en) Direct nickel-plating of aluminum
US3617456A (en) Bath for the electrolytic stripping of galvanic coatings made of nickel, chromium or gold from base bodies made of copper, copper alloys, silver, zinc or titanium
JPS6150154B2 (ja)
JPS6320489A (ja) めつきの剥離方法
US3097117A (en) Method of and composition for producing electroless black nickel coatings
CA1153978A (en) Coating aluminium alloy with cyanide-borate before electroplating with bronze
US3674655A (en) Surface preparation of uranium parts
JP2962496B2 (ja) マグネ基合金のめっき方法
US2871172A (en) Electro-plating of metals
US2954289A (en) Dissolving of nickel-phosphorous alloys
JPS6047913B2 (ja) ステンレス鋼に直接金メツキを施す方法
JPS5914100B2 (ja) 高ニツケルクロム合金への無電解ニツケルメツキ法
KR850001441B1 (ko) 강, 아연, 알루미늄 또는 이들이 기재로 된 합금의 금속표면을 피복하기 위한 전처리용 조성물
DE19820001C2 (de) Verfahren zur Entfernung von Metallschichten auf Metall, Glas, Keramik und Kunststoffteilen
Ballay Modern Nickel‐Plating in France
Britton et al. The corrosion of tin by aqueous solutions of ammonia