NL8004320A - Mengsel en werkwijze voor het chemisch strippen van metallische afzettingen. - Google Patents

Mengsel en werkwijze voor het chemisch strippen van metallische afzettingen. Download PDF

Info

Publication number
NL8004320A
NL8004320A NL8004320A NL8004320A NL8004320A NL 8004320 A NL8004320 A NL 8004320A NL 8004320 A NL8004320 A NL 8004320A NL 8004320 A NL8004320 A NL 8004320A NL 8004320 A NL8004320 A NL 8004320A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
ions
nickel
solution
stripping
mixture according
Prior art date
Application number
NL8004320A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Oxy Metal Industries Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oxy Metal Industries Corp filed Critical Oxy Metal Industries Corp
Publication of NL8004320A publication Critical patent/NL8004320A/nl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/44Compositions for etching metallic material from a metallic material substrate of different composition

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)

Description

f VO 804
Mengsel en werkwijze voor het chemisch strippen van metallische afzettingen.
De uitvinding heeft betrekking op het strippen van ongewenste metallische afzettingen van chemisch resistente substraten en meer in het bijzonder óp het chemisch verwijderen van ongewenste . metaalpla.teringsafzettingen van de contacttoppen van elektropla-*te-5 rende werkrekken en dergelijke.
Op het gebied van het elektropla· teren is het gebruikelijk te planteren werkstukken op een werkrek te ondersteunen bestaande uit een chemisch resistent metaal zoals titaan of roestvrij staal of een stalen werkrek voorzien van een beschermende békledingslaag, 10 zoals een plastisolbekleding. Het onder stroom zetten van de werk stukken terwijl zij opgehangen zijn in een elektrolyt, geschiedt door roestvrij stalen of geplatineerde titaancontacttoppen op het rek, aangebracht in elektrisch contact met de werkstukken. Gedurende de elektropla-rbeerbewerking vormt zich een ongewenste afzetting 15 van het metaal op de contacttoppen die de doelmatigheid en de con sistentie van de elektroplg-teerbewerking storen. Dientengevolge is het gebruikelijk dergelijke pl^-teerrekken aan mechanische of chemische reinigingsbehandelingen te onderwerpen om de ongewenste ophoping van afzetting van de contacttoppen te verwijderen.
20 Een gevarieerdheid van mechanische en chemische technieken is tot dusver toegepast of voorgesteld voor het verwijderen van ongewenste afzettingen van contacttoppen van elektropla-teerrekken om een optimaal werkingsrendement te onderhouden. Typisch voor dergelijke bekende technieken zijn die beschreven in de Amerikaanse 25 octrooischriften 3.015.630, 3.104.167, 3.367.874, 3.399.143 en 3.856.694. Ofschoon dergelijke bekende technieken en mengsels als geopenbaard in de bovengenoemde octrooischriften, bevredigend zijn gebleken voor het verwijderen van bepaalde metallische afzettingen, was een voortgaahd probleem verbonden met dergelijke bekende technie-30 ken de betrekkelijk kleine snelheid waarmede de metallische afzet- 8 00 4 3 2 0 - 2 - tingen worden gestript, waarbij het betrekkelijk laag vermogen van het stripmengsel voor de gestripte metalen veelvuldige aanvulling noodzakelijk maakte, de selectiviteit van de specifieke metalen die bevredigend kunnen worden gestript en het onvermogen andere metalen 5 , te. strippen die andere stripsamenstellingen vereisen en de afvalbe-handelingsproblemen vereist voor het behandelen van dergelijke stripmengsels zodat zij zonder bezwaar kunnen worden afgevoerd.
Door de onderhavige uitvinding wordt aan veel van de problemen en nadelen die met de bekende technieken en mengsels verbonden 10 zijn, tegemoet gekomen doordat een stripmengsel en werkwijze voor het. gebruik daarvan worden verschaft, welk stripmengsel een verhoogd vermogen voor- de opgeloste metaalionen bezit, dat de strippende werking sneller initieert en voorts een toename van de snelheid verschaft waarbij de afzettingen worden gestript, dat kan worden toege-15 past voor het strippen van een breder gebied van metallische afzet tingen waaronder metaallegeringen zoals nikkel-ijzerlegeringen, alsmede samengestelde meerlaagsafzettingen, en dat een betrekkelijk eenvoudige afvalbehandeling vereist alvorens het kan worden afge-voerd.
20 De voordelen van de uitvinding worden verkregen met een che mische stripoplossing omvattend een waterig zure oplossing, die als essentiële bestanddelen bevat: salpeterzuur, chloride-ionen en mangaan CII]ionen, die in een voldoende hoeveelheid aanwezig zijn om de initiëring en de stripsnelheid van een gevarieerdheid van metalli-25 sche afzettingen te versnellen. De concentratie aan salpeterzuur kan variëren van ongeveer 15% tot ongeveer 65 vol.% C235 tot onge- 3 veer 1050 g/dm )j de chloride-ionconcentratie kan variëren van onge- 3 veer 0,2 g/dm tot verzadiging; terwijl de mangaanionconcentratie gewoonlijk wordt geregeld in hoeveelheden van ongeveer 0,2 tot onge- 3 30 veer 10 g/dm .
De oplossing kan met voordeel ook als keuzebestanddelen bevatten: geregelde doelmatige hoeveelheden van kopertII)ionen, ijzerCIDionen en nikkelionen alsmede combinaties daarvan, waardoor de strippende werking van de stripoplossing verder wordt vergroot.
35 Overeenkomstig de werkwijzeaspecten van de onderhavige uit- §004320 J? -* - 3 - vinding kunnen metallische afzettingen zoals koper, glanzend nik- kei, zwavelvrij nikkel, nikkel-ijzerlegeringen, nikkel-fosfarlege-ringen, chroom, messing, tin, cadmium, zink en rhodium doelmatig worden gestript door toepassing van bovenstaande stripoplossingen 5- bij temperaturen variërend van ongeveer 15 - 65°C en de metaalafzet- ting met de oplossing in aanraking wordt gehandhaafd gedurende een tijd, die voldoende is om de gewenste mate van strippen van de afzetting te verkrijgen.
Het chemische stripmengsel volgens de uitvinding omvat een 10. waterige oplossing die een betrekkelijk hoge concentratie aan sal peterzuur bevat in combinatie met een geregelde hoeveelheid, chlori-de-ionen en een geregelde doelmatige hoeveelheid mangaan(II)ionen voor het verkrijgen van een versnelling van de initiëring van de strippende werking en voor het verder verhogen van de snelheid waar-15 bij de metaalafzetting wordt verwijderd. De waterige zure oplossing kan ruim bevatten van ongeveer 15 tot ongeveer 65 vol.% salpeterzuur, bij voorkeur van ongeveer 30 tot 55 vol.% salpeterzuur, waarbij een hoeveelheid van ongeveer 50% salpeterzuur bijzonder bevredigend is. Op een gewichtsbasis kan de salpeterzuurconcentratie ruim 3 3 20 variëren van ongeveer 235 g/dm tot ongeveer 1050 g/dm , bij voor- 3 keur van 490 - 900 g/dm waarbij concentraties van ongeveer 825 3 g/dm bijzonder bevredigend zijn.Het salpeterzuurbestanddeel van de oplossing wordt geschikt ingébracht:in de vorm van een betrekkelijk geconcentreerde oplossing zoals 42°Sé, die gewoonlijk een ongeveer 25 69 gew.% waterige oplossing van salpeterzuur bevat.
Het chloride-ion is aanwezig in een hoeveelheid van tenmin- 3 ste ongeveer 0,2 g/dm tot concentraties die de verzadiging van de oplossing benaderen. Gewoonlijk wordt de concentratie van het chloride-ion geregeld binnen een gebied van ongeveer 0,5 tot ongeveer 3 3 30 10 g/dm , waarbij concentraties van ongeveer 3 g/dm typisch zijn.
Het chloride-ion kan geschikt worden ingébracht in de vorm van elk alkalimetaalzout zoals b.v. natriumchloride, ammoniumchloride, chloorwaterstofzuur of dergelijke, alsmede chloridezouten van de andere metaalionen die gewenst aanwezig zijn in de stripoplossing 35 waaronder mangaanchloride (MnC^l, koperCII3 chloride (CuC^J en a η n k 9 0 - 4 - ijzer(II)chloride (FeClg) en niKKelchloride CNiCl2).
Behalve de salpeterzuur- en chloride-ionbestanddelen bevat, de waterige stripoplossing verder als essentieel' bestanddeel, mangaan- (II)ionen in een geregelde doelmatige hoeveelheid die dienen als 5 activator en de tijdsperiode volgend op onderdompeling in de che mische stripoplossing alvorens initiëring van het strippen begint, verkcrten én ook de stripsnelheid van de metaalafzetting na initi- ering van de stripreactie versnilan.t?ewoonlijk worden mangaanion- 3 concentraties van ongeveer 0,2 tot ongeveer 10 g/dm toegepast, 3 10 waarbij hoeveelheden van ongeveer 1 tot ongeveer 3 g/dm geprefe reerd zijn. Het mangaanion kan worden ingébracht in de oplossing in de vorm van elke waterig zuur oplosbaar zout zoals mangaan(II)-sulfaat, mangaan(II)oxyde, mangaanCII)halogenidezouten waaronder mangaanchloride, dat tevens het chloride-ion inbrengt.
15 Behalve de genoemde bestanddelen kan het waterige stripmeng- sel. naar keuze en met voordeel geregelde doelmatige hoeveelheden van bijkomende metaalionen bevatten waaronder kopertII)ionen, ijzer(II)ionen en nikkelionen,. die verder de stripreactie versnellen alsmede de snelheid waarmee de metaalafzetting wordt verwijderd. 20 Bij het strippen van koper- of nikkelafzettingen alsmede samenge stelde meerlaagspla-teringsafzettingen, die koper en nikkel bevatten zal de concentratie van koper en nikkel in de stripoplossing geleidelijk toenemen gedurende het gebruik van de oplossing. De begintoevoeging van koperionen aan de chemische stripoplossing 25 is van voordeel voor het verschaffen van een kunstmatige veroude ring van de stripoplossing waardoor deze aan het begin actiever wordt dan een vers bereide oplossing die geen koperionen bevat. De concentratie van kopertll)ionen in het bad kan ruim variëren en 3 ongeveer 0,2 tot ongeveer 10 g/dm in de aan het begin bereide op-30 lossing en kan verder toenemen in een concentratie gedurende het gebruik van een dergelijke oplossing bij het strippen van koper-afzettingen.
Het gebruik van ijzer(II)ionen in hoeveelheden ruim varië- 3 rend van ongeveer 0,2 tot ongeveer 10 g/dm en bij voorkeur van on- 3 35 geveer 0,5 tot ongeveer 3 g/dm verhoogt ook de stripwerking, in het 8004320 - 5 - bijzonder bij het strippen van niKKel-ijzerlegeringsafzettingen.
Het ijzer(II]ion kan geschikt worden ingébracht in de vorm van elk waterig zuur oplosbaar zout, waaronder ijzerClDammoniumsulfaat, ijzerCIUhalogenidezouten omvattend ijzer(II)chloride, ijzer(II)- 5 sulfaat of dergelijke. Evenzo is de aanwezigheid van nikkelionen in de stripoplossing eveneens gunstig en kan deze variëren in con- 3 centraties van ongeveer 0,2 tot ongeveer 10 g/dm en bij voorkeur 3 3 van ongeveer 0,5 g/dm tot ongeveer 3 g/dm . Het nikkelion kan eveneens worden ingébracht, in de vorm van elk waterig zuur oplos-10 baar zout waaronder nikkelhalogenidezout, nikkelsulfaat en derge lijke.
Overeenkomstig de werkwijzeaspecten van de onderhavige uitvinding wordt het chemische stripmengsel in aanraking gebracht met dec te verwijderen metaalafzetting bij temperaturen van ongeveer 15 15.tot 65°C, waarbij temperaturen van ongeveer 32 tot ongeveer 54°C geprefereerd zijn. De contacttijd zal variëren afhankelijk van de dikte en de configuratie van de te strippen metaalafzetting en de gewenste mate waarin zij van het substraat moet worden verwijderd.
20 'Het waterige stripmengsel volgens de uitvinding is bijzon der geschikt gebleken voor het strippen van metaalafzettingen waaronder koper, glanzend nikkel, messing, tin, cadmium, zink, nikkel-ijzerlegeringen, nikkel-fosforlegeringen alsmede samengestelde meerlaagsafzettingen zoals chroom, nikkel en koper, en rhodium, 25 nikkel en koper. Het vermogen en de veelzijdige toepasbaarheid van het stripmengsel voor het doelmatig strippen van de bovengenoemde metaalafzettingen verschaft duidelijke voordelen boven de bekende mengsels waarbij het tot dusver naodzakelijk was speciaal samengestelde mengsels toe te passen voor het strippen van b.v. chroom en 30 rhodiumafzettingen vergeleken met die vereist voor het strippen van b.v. koper, nikkel en nikkel-fosforlegeringen. Het stripmengsel volgens de uitvinding verschaft voorts een verhoogd vermogen van de gestripte metaalionen waardoor een langere werkingslevensduur wordt verschaft voordat de stripoplossing moet worden aangevuld of inge-35 steld.
8004320 -6 -
De uitvinding wordt nader toegelicht aan de hand van onderstaande voorbeelden.
Voorbeeld I
Een chemisch stripbad wordt bereid volgens de stand van de 5 techniek als een controle, bevattend 75 vol.% 42°Bé salpeterzuur 3 (ongeveer 712 g/dm 100%’s HNQg) en 25 vol.% water. De waterigzure oplossing wordt verwarmd tot ongeveer 60°C. Proefstukken omvattend een roestvrij staal van het type 316! worden bereid door voorbehandeling in een nikkelchlorideboorzuuroplossing met hoog chloride-10 gehalte en daarna geëlektroplatteerd met (1) een heldere koperafzet- ting, (2) een glanzende nikkelafzetting, (33 een halfglanzende nikkelafzetting, (43 een nikkel-ijzerlegeringsafzetting bestaande uit 'ongeveer 75 gew.% nikkel en (53 een nikkel-fosforlegeringsafzetting. De gepla-teerde proefstukken worden ondergedompeld in de 15 stripoplossing' en de stripsnelheden zijn als volgt:
Stripsnelheden inches/min (13 koper 0,010 (23 glanzend nikkel 0,0058 - (3) halfglanzend nikkel 0,0000034 20 (43 nikkel-ijzerlegering 0,000068 (53 nikkel-fosforlegering 0,000408
Voorbeeld II
Een chemisch stripmengsel wordt bereid onder toepassing van 75 vol.% 42°Bé salpeterzuur (ongeveer 712 g/dnf* 100%’s HNO-3 en
3 J
25 25 vol.% water, waaraan worden toegevoegd 1,5 g/dm kopersulfaat- 3 3 pentahydraat, 8 g/dm natriumchloride en 1 g/dm mangaanoxyde. De oplossing wordt verwarmd tot een temperatuur van ongeveer 60QC. Proefstukken omvattend roestvrij staal van het type 316 worden bereid door voorbehandeling in een nikkelchlorideboorzuuroplossing 30 met hoog chloridegehalte en daarna geëlektropla-teerd met (13 een glanzende nikkelafzetting, (23 een halfglanzende nikkelafzetting* en (33 een nikkel-ijzerlegeringsafzetting, bestaande uit ongeveer 75 gew.% nikkel. Proefstukken worden gedompeld in de stripoplossing en de stripsnelheden zijn als volgt: 800 4 3 20 - 7 -
Strlpsnelheden inches/min
Cl] glanzend nikkel 0,0151 C2) halfglanzend nikkel 0,00452 C33 nikkel-ijzerlegering 0,0178 5 Het zal duidelijk zijn dat de stripsnelheden van glanzend nikkel, halfglanzend nikkel en nikkel-ijzerlegeringspla-teringen onder toepassing van het stripmengsel van voorbeeld II, volgens de onderhavige uitvinding dramatisch hoger zijn dan die verkregen voor soortgelijke plaatafzettingen onder toepassing van de controle-10 oplossing van voorbeeld I.
Voorbeeld III
Een chemische stripoplossing wordt bereid onder toepassing Λ van 75 vol.% 42°Bé salpeterzuur (ongeveer 712 g/dm 100%’s HN0,3 3 ύ en 25 vol.% water, waaraan worden toegevoegd 6 g/dm natriumchlori-3 3 15 de, 1,7 g/dm watervrij koper(II3oxyde, 2,5 g/dm mangaan(II3sul- 3 3 faatmonohydraat, 4,5 g/dm ijzer(II3sulfaatmonohydraat en 5 g/dm nikkelsulfaatpentahydraat. Proefstukken omvattend een roestvrij staal van het type 316 worden bereid overeenkomstig de voorbeelden I en II en de volgende metaalpla-teringen worden aangebracht: 20 · (1) glanzend koper, (23 glanzend nikkel, (33 nikkel-ijzerlegering, (43 nikkel-fosforlegering, (53 messing, (63 tin, (73 cadmium en (83 zink. De proefstukken worden gedompeld in het stripmengsel bij een temperatuur van ongeveer 50°C en de stripsnelheden zijn als volgt: 25 Stripsnelheden inches/min (13 glanzend koper 0,01334 (23 glanzend nikkel 0,014 (33 nikkel-ijzerlegering 0,0178 (43 nikkel-fosforlegering 0,00767 30 (53 messing 0,0178 (63 tin 0,005 (73 cadmium 0,035 (83 zink 0,044
Voorbeeld IV
35 Een chemischsstripoplossing wordt bereid onder toepassing van 75 vol.% 42°Bé salpeterzuur (ongeveer 712 g/dm^ 100%’s ΗΝ0^3 3 - a - en 25 vol.% water waaraan worden toegevoegd 15 g/dm natriumchlori- 3 3 de, 3,5 g/dm koperCII]sulfaatpentahydraat, 5 g/dm mangaanCII3sul- faatmonohydraat, 10 g/dm ijzer(II3sulfaatmonohydraat en 10 g/dm nikkelsulfaatpentahydraat. Stripmengsel van voorbeeld IV is soort-5 gelijk aan dat van voorbeeld III doch waarin de koper-, mangaan-, ijzer- en nikkelverbindingen van hogers concentratie zijn. Proefstukken bestaande uit een roestvrij staal van het type 316 worden bereid als eerder beschreven en voorzien van Cl] glanzende nikkel-afzetting en (23 een nikkel-ijzerlegeringsafzetting, bevattend IQ ongeveer 75 gew.% nikkel. De proefstukken worden ondergedompeld in het stripmengsel bij een temperatuur van ongeveer 60°C en de stripsnelheden zijn als volgt.·
Stripsnelheden inches/min
Cl] glanzend nikkel 0,027 15 (23 nikkel-ijzerlegering 0,028 8004320

Claims (24)

  1. 2. Mengsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het voorts ijzer(II]ionen bevat.
  2. 3. Mengsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het voorts koperdl] ionen bevat.
  3. 4. Mengsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het voorts nikkelionen bevat.
  4. 5. Mengsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het onge- 3 veer 235 - 1050 g/dm salpeterzuur bevat.
  5. 6. Mengsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het onge- 3 15 veer 490 - 900 g/dm salpeterzuur bevat.
  6. 7. Mengsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het onge- 3 veer 0,2 tot ongeveer 10 g/dm mangaan(II]ionen bevat.
  7. 8. Mengsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het onge- 3 veer 0,5 tot ongeveer 3 g/dm mangaan(IIJionen bevat.
  8. 9. Mengsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het onge- 3 veer 0,2 g/dm chloride-ionen tot verzadiging bevat.
  9. 10. Mengsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het onge- 3 veer 0,5 tot ongeveer 10 g/dm chloride-ionen bevat.
  10. 11. Mengsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het voorts 3 25 0,2 tot ongeveer 10 g/dm koper(II]ionen bevat.
  11. 12. Mengsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het voorts 3 ongeveer 0,2 tot ongeveer 10 g/dm ijzerCIIlHonen bevat.
  12. 13. Mengsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het voorts 0,5 tot ongeveer 3 g/dm ijzer(III)ionen bevat.
  13. 14. Mengsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het voorts 3 ongeveer 0,2 tot 10 g/dm nikkelionen bevat.
  14. 15. Werkwijze voor het chemisch strippen van metallische afzet- 8004320 -lotingen van een substraat, met het Kenmerk, dat men de te strippen metallische afzettingen in aanraking brengt met een waterig zure oplossing bij een temperatuur van ongeveer 15 tot 65°C, welke oplossing salpeterzuur, chloride-ionen en mangaan(II]ionen bevat, 5 in een voldoende hoeveelheid om de initiêring en de stripsnelheid van de metallische afzetting te vergroten, en men het contact van genoemde oplossing met genoemde afzetting voortzet gedurende een tijdsperiode, dat de gewenste mate van strippen plaats vindt. 16^ Werkwijze volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat het 10 salpeterzuur aanwezig is in een hoeveelheid van ongeveer 235 tot 1050 g/dm3.
  15. 17. Werkwijze volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat de mangaanCII)ionen aanwezig zijn in een hoeveelheid van ongeveer 3 0,2 tot ongeveer 10 g/dm .
  16. 18. Werkwijze volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat de chlo- 3 ride-ionen aanwezig zijn in een hoeveelheid van ongeveer 0,2 g/dm tot verzadiging.
  17. 19. Werkwijze volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat de oplossing voorts bevat koper(II3 ionen in een voldoende hoeveelheid 20 om de stripwerking van genoemde oplossing te vergroten.
  18. 20. Werkwijze volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat de oplossing voorts ijzer(II3ionen bevat in een voldoende hoeveelheid om de stripwerking van genoemde oplossing te vergroten.
  19. 21. Werkwijze volgens conclusie 19, met het kenmerk, dat de ge- 25 noemde koper(II3ionen aanwezig zijn in een hoeveelheid van ongeveer 3 0,2 tot ongeveer 10 g/dm .
  20. 22. Werkwijze volgens conclusie 20, met het kenmerk, dat genoemde ijzer(H3ionen aanwezig zijn in een hoeveelheid van ongeveer 0,2 tot 10 g/dm3.
  21. 23. Werkwijze volgens conclusie 13, met het kenmerk, dat genoem de metallische afzetting een metaal gekozen uit de groep bestaande uit koper, glanzend nikkel, zwavelvrij nikkel, nikkel-ijzerlegerin-gen, nikkel-fosforlegeringen, chroom, messing, tin, cadmium, zink en rhodium bevat.
  22. 24. Werkwijze volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat de op- 8004320 - „__. . -*« - 11 - lossing voorts nikkelionen bevat in een voldoende hoeveelheid om de stripwerking van genoemde oplossing te vergroten.
  23. 25. Werkwijze volgens conclusie 24, met het kenmerk, dat de \ nikkelionen aanwezig zijn in een hoeveelheid van ongeveer 0,2 tot ' 5 10 g/dm3.
  24. 26. Werkwijze volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat de ap- 3 lossing ongeveer 235 tot 1050 g/dm salpeterzuur, ongeveer 0,2 tot 3 3 10 g/dm mangaan(113ionen, ongeveer 0,2 g/dm tot verzadiging chlo- ride-ionen bevat en voorts een metaalion, gekozen uit de groep be-10 staande uit koperClI], ijzerClI], nikkel en mengsels daarvan aanwe zig in een hoeveelheid dat de stripwerking van genoemde oplossing wordt vergroot. » 8004320
NL8004320A 1979-11-15 1980-07-28 Mengsel en werkwijze voor het chemisch strippen van metallische afzettingen. NL8004320A (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US9461779 1979-11-15
US06/094,617 US4244833A (en) 1979-11-15 1979-11-15 Composition and process for chemically stripping metallic deposits

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL8004320A true NL8004320A (nl) 1981-06-16

Family

ID=22246187

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8004320A NL8004320A (nl) 1979-11-15 1980-07-28 Mengsel en werkwijze voor het chemisch strippen van metallische afzettingen.

Country Status (13)

Country Link
US (1) US4244833A (nl)
JP (1) JPS6045274B2 (nl)
AR (1) AR223719A1 (nl)
AU (1) AU531247B2 (nl)
BR (1) BR8005840A (nl)
CA (1) CA1137396A (nl)
DE (1) DE3030919A1 (nl)
ES (1) ES8105791A1 (nl)
FR (1) FR2469443A1 (nl)
GB (1) GB2063923B (nl)
IT (1) IT1142184B (nl)
MX (1) MX154502A (nl)
NL (1) NL8004320A (nl)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4289576A (en) * 1980-05-27 1981-09-15 Halliburton Company Method for removing cobalt-containing deposits from surfaces
US4402800A (en) * 1981-10-02 1983-09-06 Ash James J Apparatus and method of treating tabs of printed circuit boards and the like
US4402799A (en) * 1981-10-02 1983-09-06 Chemcut Corporation Apparatus and method of treating tabs of printed circuit boards and the like
US4385967A (en) * 1981-10-07 1983-05-31 Chemcut Corporation Electroplating apparatus and method
US4746369A (en) * 1982-01-11 1988-05-24 Enthone, Incorporated Peroxide selective stripping compositions and method
US4608091A (en) * 1982-01-11 1986-08-26 Enthone, Incorporated Peroxide selective stripping compositions and method
US4404074A (en) * 1982-05-27 1983-09-13 Occidental Chemical Corporation Electrolytic stripping bath and process
US4554049A (en) * 1984-06-07 1985-11-19 Enthone, Incorporated Selective nickel stripping compositions and method of stripping
US4666625A (en) * 1984-11-27 1987-05-19 The Drackett Company Method of cleaning clogged drains
CH674851A5 (nl) * 1987-12-01 1990-07-31 Bbc Brown Boveri & Cie
US5227016A (en) * 1992-02-25 1993-07-13 Henkel Corporation Process and composition for desmutting surfaces of aluminum and its alloys
JPH1072682A (ja) * 1996-08-30 1998-03-17 Mec Kk 錫および錫合金の剥離液
GB2334969B (en) * 1998-03-05 2003-03-12 British Steel Plc Coated metal products
US7285229B2 (en) * 2003-11-07 2007-10-23 Mec Company, Ltd. Etchant and replenishment solution therefor, and etching method and method for producing wiring board using the same
JP4827252B2 (ja) * 2006-09-25 2011-11-30 ダイハツ工業株式会社 車両の車体構造
CA2808981A1 (en) * 2013-03-05 2014-09-05 Sherritt International Corporation Method of recovering metals while mitigating corrosion
WO2016147709A1 (ja) * 2015-03-13 2016-09-22 奥野製薬工業株式会社 治具用電解剥離剤

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2200486A (en) * 1939-05-10 1940-05-14 Western Electric Co Material and method for removing coatings of nickel or the like from a metal base
US3015630A (en) * 1959-08-24 1962-01-02 Gen Electric Aqueous solution for stripping nickel
US3367874A (en) * 1966-09-23 1968-02-06 Haviland Products Co Process and composition for acid dissolution of metals
GB1353960A (en) * 1971-09-21 1974-05-22 Rolls Royce Method of etching a partially masked surface
ES427394A1 (es) * 1973-06-18 1977-02-01 Oxy Metal Industries Corp Mejoras introducidas en un metodo de decapado de depositos de niquel acumulados en los dispositivos de metalizado y si-milares.
GB1518038A (en) * 1975-12-19 1978-07-19 Sterling Drug Inc Process for removing calcium oxalate scale

Also Published As

Publication number Publication date
DE3030919A1 (de) 1981-05-21
IT8050149A0 (it) 1980-11-13
AR223719A1 (es) 1981-09-15
ES494329A0 (es) 1981-06-16
CA1137396A (en) 1982-12-14
BR8005840A (pt) 1981-06-09
FR2469443A1 (fr) 1981-05-22
GB2063923A (en) 1981-06-10
FR2469443B1 (nl) 1984-01-27
MX154502A (es) 1987-09-24
IT1142184B (it) 1986-10-08
AU531247B2 (en) 1983-08-18
ES8105791A1 (es) 1981-06-16
GB2063923B (en) 1983-09-21
US4244833A (en) 1981-01-13
JPS6045274B2 (ja) 1985-10-08
AU6075880A (en) 1981-05-21
JPS5684477A (en) 1981-07-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL8004320A (nl) Mengsel en werkwijze voor het chemisch strippen van metallische afzettingen.
US2965551A (en) Metal plating process
DE3048083C2 (de) Verfahren zur chemischen Entfernung von Oxidschichten von Gegenständen aus Titan oder Titanlegierungen
US4713144A (en) Composition and method for stripping films from printed circuit boards
EP0393169B1 (en) Method for plating on titanium
US3367874A (en) Process and composition for acid dissolution of metals
US3230098A (en) Immersion plating with noble metals
US2541083A (en) Electroplating on aluminum
US3935005A (en) Composition and method for stripping gold and silver
Warwick et al. The autocatalytic deposition of tin
US4548791A (en) Thallium-containing composition for stripping palladium
US4400415A (en) Process for nickel plating aluminum and aluminum alloys
US4196061A (en) Direct nickel-plating of aluminum
EP0030305B1 (en) Chemical pretreatment for method for the electrolytical metal coating of magnesium articles
US3097117A (en) Method of and composition for producing electroless black nickel coatings
CA1160981A (en) Dewatering metal surface using aliphatic carboxylic acid salt
JPS6256579A (ja) 亜鉛または亜鉛−アルミニウム合金表面の不動態化用酸性水溶液および不動態化方法
JPS6320489A (ja) めつきの剥離方法
JPS63186879A (ja) リン酸塩皮膜の形成方法
US2738289A (en) Hot dip aluminum coating process
US2563229A (en) Method of producing bright electroplate on electropolished surfaces
US2871172A (en) Electro-plating of metals
JPH031383B2 (nl)
US3558349A (en) Adherent coatings by immersion plating from non-aqueous solutions
US3730192A (en) Method for inhibiting staining of electrodeposited coatings formed in a cyanide containing bath

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
BB A search report has been drawn up
CNR Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection)

Free format text: HOOKER CHEMICALS & PLASTICS CORP. TE WARREN

DNT Communications of changes of names of applicants whose applications have been laid open to public inspection

Free format text: OCCIDENTAL CHEMICAL CORPORATION TE WARREN

CNR Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection)

Free format text: OMI INTERNATIONAL CORPORATION

BV The patent application has lapsed