DE3018879A1

DE3018879A1 - Siebdruckrasterplatten, ihre herstellung und verwendung

Info

Publication number: DE3018879A1
Application number: DE19803018879
Authority: DE
Inventors: Tasker D King
Original assignee: CONS GROUP
Current assignee: CONS GROUP
Priority date: 1979-05-18
Filing date: 1980-05-16
Publication date: 1980-11-27
Also published as: FR2456620A1; GB2050104A; BE883305A; NL8001788A; ES491506A1

Description

CONSOLIDATED GROUP, INC. Charlotte, North Carolina 282o6 V.St.A.

Siebdruckrasterplatten, ihre Herstellung und

Verwendung

Auf dem Gebiet des Siebdrucks sind hohlzylindrische Rasterplatten, die elektrolytisch, bzw. galvanisch auf geeigneten zylindrischen Anoden mit einem Punktmuster

hergestellt werden,

aus Punkten aus einem nichtleitenden Material/zur Verwendung in herkömmlichen Rotations-Siebdruckverfahren bekannt.Aufgrund der Punkte aus nichtleitendem Material auf den Anoden weisen die Rasterplatten entsprechende Bildmuster aus Öffnungen auf, an denen Nickel und andere zur Elektroplattierung herangezogene Metalle nicht abgeschieden werden. Typischerweise werden die nichtleitenden Punkte auf der Elektrode photographisch durch Beschichten der Elektrodenoberfläche mit einem lichtempfindlichen oder einem Photoresistmaterial, Abdecken des Photoresistmaterials mit einem geeigneten photographischen Film, der einen opaken Untergrund mit den erwünschten Öffnungen in der Rasterplatte entsprechenden hellen Punkten aufweist, Belichten des Photoresists durch den Film hindurch, Entwickeln der belichteten Punkte unter Härtung und anschließendes Weglösen der nichtbelichteten Bereiche des

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Photoresists hergestellt. Das Verfahren kann auch in umgekehrter Weise als Negativprozeß durchgeführt werden, wie ebenfalls bekannt ist.

Hierfür verwendete Filme werden üblicherweise nach herkömmlichen photographischen Verfahren hergestellt, wobei die Bildmuster von handelsüblichen oder speziell hergestellten, mit Punkten oder Öffnungen der erwünschten Größe dem erwünschten Abstand und dem gewünschten geometrischen Muster bedeckten Platten bzw. Rasterplatten übertragen werden; die Bildmuster werden anschließend photographisch auf Film reproduziert, wobei sich der erwünschte endgültige Film mit den üblichen Positiv- und Negativeffekten ergibt. Derartige bisher angewandte Verfahren zur Herstellung von Siebdruckrasterplatten (im folgenden kurz als Siebdruckraster bezeichnet) sind beispielsweise aus den US-PSen 4 118 288, 2 225 733, 3 586 610, 3 192 136 und 1 466 033 bekannt. Unter Verwendung herkömmlicher photographischer Halbtonverfahren oder photographischer Verfahren mit kontinuierlicher Tonabstufung, wie sie bei. der.Reproduktion von Photographien für Zeitungen verwendet werden, wird ein Film von den Mustern oder Photographien mit Tonabstufungen hergestellt, der Punkte oder Öffnungen aufweist, deren Größe entsprechend der Tonabstufung des Originalmusters oder der Originalphotographie variiert, so daß derartige Filme in galvanisch hergestellten Rasterplatten zur Siebdruck-Reproduktion des Originals auf einem geeigneten Substrat reproduziert werden können.

In manchen Fällen wurden die oben erläuterten Verfahren zur Herstellung von Siebdruckrastern mit Öffnungsmustern mit zwei oder mehr verschiedenen Siebfeinheiten (Anzahl von Öffnungen pro Längeneinheit) verwendet, wobei

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die Flächen mit den beiden Siebfeinheiten getrennt waren und die Lochgröße der Öffnungen für jede Fläche einer SiebfeJbheit konstant und für jede Siebfeinheit unterschiedlich war. Derartige Siebdruckraster eignen sich zur Erzeugung von Effekten mit unterschiedlich texturierten! Aussehen auf Siebdrucksubstraten wie Teppichen sowie dunklerer oder hellerer FärbSchattierungen entweder durch direkte Einfärbung durch den Siebdruckraster hindurch oder durch Bedrucken des Substrats durch den Siebdruckraster hindurch

(Farbresist) mit einem farbstoffbeständigen chemischen Mittel/vor der Einfärbung zur Erzielung eines Negativeffekts, wobei jedoch Aussehen und Abstufung in jedem Bereich einer Siebfeinheit · konstant sind.

Halbton-Siebdruckraster oder Siebdruckraster mit kontinuierlicher Tonabstufung besitzen zwar Öffnungen unterschiedlicher Größe in einem Öffnungsmuster, jedoch besitzen bisher derartige Öffnungsmuster jeweils die gleiche Siebfeinheit in einem gegebenen Siebdruckraster. Während sich mit derartigen Halbton-Siebdruckrastern mit kontinuierlicher Tonabstufung entsprechend kontinuierliche Tonabstufungen oder hellere oder dunklere Farbschattierungen auf einem durch Siebdruck bedruckten Substrat wie etwa einem Teppich entweder durch direkte Einfärbung oder mit einem Farbresistverfahren herstellen lassen, zeigen allgemein verschiedene Bereiche des bedruckten Substrats unabhängig davon, ob sie die gleiche Farbschattierung oder nicht aufweisen, das gleiche texturierte Aussehen, das von den mechanischen Eigenschaften des bedruckten Substrats wie etwa eines Teppichs sowie von der für das Öffnungsmuster herangezogenen jeweiligen Siebfeinheit abhängt, insbesondere, wenn die Siebfeinheit normalerweise so fein ist, daß sie keinen Einfluß auf das texturierte Aus-

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sehen des bedruckten Substrats hat, jedoch beabsichtigtermaßen fein ist, um eine kontinuierliche Tonabstufung reproduzieren zu können, wie sie beispielsweise bei einer nicht vergrößerten Photographie vorliegt, ohne daß eine andere Textur als die des bedruckten Substrats wie etwa eines Teppichs vorliegt.

Die erfindungsgemäßen Siebdruckraster besitzen nicht nur zwei oder mehr unterschiedliche Sieböffnungsfeinheiten in unterschiedlichen Rasterbereichen, sondern die Größe der öffnungen in einem oder mehreren Bereichen kann wie bei Halbton-Siebdruckrastern oder Siebdruckrastern mit kontinuierlicher Tonabstufung variieren, wobei auch die öffnungsabstände, die öffnungsformen sowie die geometrischen Beziehungen der öffnungen zueinander nach Wunsch unabhängig oder in Kombination und wunschgemäß mehr oder weniger kontinuierlich und mit oder ohne allgemein gleichzeitige Änderung der Öffnungsgröße variieren können.

Normalerweise sind die öffnungen in zumindest einigen Bereichen eines erfindungsgemäßen Siebdruckrasters von einer solchen Größe, daß leicht sichtbare Abdrucke auf einem damit siebbedruckten Substrat erzeugt werden können.

Auf diese Weise können Substrate nach dem erfindungsgemäßen Verfahren unter Verwendung erfindungsgemäßer Siebdruck-Rasterplatten in einem einzigen Durchlauf unter einem Rotations-Siebdruckraster siebbedruckt werden, wobei das resultierende gefärbte Gewebe sowohl bei Direktfärbung durch den Siebdruckraster hindurch als auch bei vorherigem Aufdruck eines Farbresists durch den Siebdruckraster hindurch ausgezeichnete Tonabstufungen und texturiertes Aussehen aufweist, wie sie bisher bei Verwendung herkömm-

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licher Siebdruckraster in einem einzigen Durchlauf nicht erzielbar waren.

Die Erfindung betrifft ferner auch ein neuartiges Verfahren zur Herstellung der

erfindungsgemäßen Siebdruckraster, mit dem die erfindungsgemäßen Siebdruckraster in einfacher und wirtschaftlicher Weise hergestellt werden können, was mit bisherigen Verfahrensweisen nicht unterstellt werden kann.

Der erfindungsgemäße Siebdruckraster besitzt Öffnungen, die in einem vorgegebenen Bildmuster mit einander benachbarten Bereichen angeordnet sind, in dem zumindest ein anderes Unterscheidungsmerkmal als die Größe der Öffnungen und die Bereichsform zwischen den benachbarten Bereichen zur Erzielung einer kontinuierlichen Struktureffekt-Abstufung auf damit siebbedruckten Substraten variiert ist.

Die Mitte-Mitte-Abstände der Öffnungen derartiger Siebdruckraster können Abstufungen aufweisen, die mindestens einem Unterscheidungsmerkmal des Bildmusters entsprechen; die Form des im Siebdruckraster angeordneten Bildmusters stellt ein weiteres Unterscheidungsmerkmal dar; die geometrische Form der Öffnungen oder die geometrische Anordnung, in der die Öffnungen angeordnet sind, können ferner zumindest ein Unterscheidungsmerkmal des Bildmusters darstellen.

Neben den oben genannten Eigenschaften weist das Öffnungsmuster in derartigen Siebdruckrastern Öffnungen abgestuften Durchmessers auf, wobei das vorgegebene Bildmuster derartiger Siebdruckraster Öffnungen aufweisen kann, die so angeordnet sind, daß mindestens zwei Bereiche des BiId-

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musters unterschiedliche Mitte-Mitte-Abstände der Löcher als Unterscheidungsmerkmale des Bildmusters aufweisen und mindestens einer der Bereiche darin vorgesehene Öffnungen abgestuften Durchmessers als weiteres Unterscheidungsmerkmal au fwei s t.

Nach einer bevorzugten Ausführungsform weist der erfindungsgemäße Siebdruckraster die Form eines Hohlzylinders für den Rotations-Siebdruck und zur Anlage am zu bedruckenden Substrat auf, um durch den Siebdruckraster hindurch einen Färb resist oder eine Farbe durch Siebdruck auf das zu bedruckende Substrat aufzubringen, wobei die Farbe bzw. der Färb resist in einem dem vorgegebenen Bildmuster der Öffnungen im Siebdruckraster entsprechenden Bild auf das Substrat aufgebracht wird, weshalb das bedruckte Substrat nach anschließendem Einfärben bzw. Fixierung des chemischen Farbstoffs im bedruckten Substrat ein Farbmuster mit unterschiedlichen Textureffekten aufweist, die dem vorgegebenen Öffnungsmuster entsprechen.

Das erfindungsgemäße Verfahren zum Einfärben eines Substrats in einem Farbmuster mit unterschiedlichem Textureffekt-Aussehen gemäß der Erfindung umfaßt folgende Schritte:

- Bedrucken des Substrats mit einem chemischen Farb-Schutzmittel (Farbresist) oder einer Farbstoffchemikalie in einem einzigen Durchlauf mit einem erfindungsgemäßen Rotations-Siebdruckraster,

wobei der Farbresist bzw. der Farbstoff in einem entsprechenden Farbresist- bzw. Farbbildmuster auf das Substrat aufgebracht werden, das dem vor-

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gegebenen Öffnungsmuster im Siebdruckraster entspricht ,

und

- Einfärben des mit dem Farbresist bedruckten Substrats, wobei das Substrat entsprechend dem darauf aufgebrachten Farbresist-Bildmuster gefärbt wird,

oder

Fixierung des Farbstoffs in bzw. auf dem damit bedruckten Substrat, wobei das Substrat entsprechend dem darauf aufgebrachten Farbstoffbildmuster gefärbt wird,

und wobei ein Farbbildmuster entsteht, das entsprechend dem vorgegebenen Öffnungsmuster des Siebdruckrasters im Aussehen unterschiedliche Textureffekte aufweist.

Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Siebdruckrasters umfaßt folgende Schritte:

(a) Herstellung eines Originalbilds mit Bereichen verschiedener Schattierung bzw. Tonabstufung zur Darstellung des oben erläuterten, auf dem Siebdruckraster vorzusehenden Öffnungsmusters,

(b) Festlegung der Unterscheidungsmerkmale des erwünschten Musters von Öffnungen, die für die jeweiligen vers chiedenen

Schattierungen des Originals repräsentativ sind,

(c) Eingabe der Festlegungen in eine elektronische Datenverarbeitungs/richtung mit einer Speichereinheit in einer geeigneten ersten elektronischen

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Datenform, die für die in den Speicher durch die elektronische Datenverarbeitungseinrxchtung einzugebenden Bezeichnungen repräsentativ ist,

(d) Abtasten des Originals mit einer mit der elektronischen Datenverarbeitungseinrichtung verbundenen Abtasteinrichtung zur Unterscheidung der Schattierungen und ihrer Anordnung auf dem Original und zur Eingabe der Schattierungen und ihrer Anordnung in die elektronische Datenverarbeitungseinrichtung in einer geeigneten zweiten elektrischen Datenform, die für die durch die Datenverarbeitungseinrichtung in den Speicher einzugebenden Schattierungen und ihrer Anordnung repräsentativ ist,

(e) Betrieb der elektronischen Datenverarbeitungseinrichtung unter geeignetem Herauslesen der ersten und der zweiten elektronischen Daten aus dem Speicher zur Erzeugung dritter elektronischer Daten, die für das erwünschte Muster der öffnungen und ihre erwünschte Anordnung im Siebdruckraster repräsentativ sind,

und

(f) Verwendung der dritten elektronischen Daten zur Steuerung einer Laserstrahleinrichtung, die dazu geeignet ist, das erwünschte Muster der öffnungen und ihre Anordnung als Lichtenergiebild auf einem geeigneten Substrat zu reproduzieren, wobei das Substrat in geeigneter Synchronisation mit den der Laserstrahleinrichtung zugeführten dritten elektronischen Daten an der Laserstrahleinrichtung vorbeigeführt wird, unter Erzeugung eines originalgetreuen und den Festlegungen der

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Unterscheidungsmerkmale des Öffnungsmusters entsprechenden Siebdruckrasters mit dem erwünschten Öffnungsmuster, das den verschiedenen Schattierungen des Originals jeweils entspricht.

Ein bevorzugtes Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Siebdruckrasters umfaßt folgende zusätzliche Schritte:

- Belichtung eines photographischen Films zur Erzeugung eines latenten Bilds des erwünschten Bildmusters der Öffnungen und ihrer Anordnung auf dem Film durch Steuerung einer mit der elektronischen Datenverarbeitungseinrichtung verbundenen und zur Belichtung des Films unter Erzeugung eines latenten Bilds geeigneten Laserstrahleinrichtung mit den dritten elektronischen Daten, wobei der Film in geeigneter Synchronisation mit den der Laserstrahleinrichtung zugeführten dritten elektronischen Daten an ihr vorbeigeführt wird,

- Entwicklung des latenten Bilds auf dem Film,

- Verwendung des entwickelten Films zur Reproduktion des erwünschten Bildmusters der Öffnungen und ihrer Anordnung im latenten Bild in einem Photoresistmaterial auf einer geeigneten Galvanikelektrode,

- Entwicklung des latenten Bilds auf dem Photoresistmaterial der Elektrode,

- Weglösen der nichtentwickelten Bereiche des Photoresistmaterials

und

- galvanische Erzeugung des Siebdruckrasters auf der

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Elektrode unter Erzeugungen von Öffnungen im Siebdruckraster, die dem entwickelten Bild auf der Elektrode und dem erwünschten Öffnungsmuster des Siebdruckrasters entsprechen.

Ein weiteres bevorzugtes Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Siebdruckrasters umfaßt den Schritt der Übertragung des Öffnungsmusters unter Perforation auf eine Siebdruckraster-Leerplatte unter Verwendung der für das erwünschte Bildmuster der Öffnungen und ihrer Anordnung repräsentativen dritten elektronischen Daten zur Steuerung einer mit der elektronischen Datenverarbeitungseinrichtung verbundenen und zur Perforation der Siebdruckraster-Leerplatte geeigneten Laserstrahleinrichtung zur Erzeugung des Öffnungsmusters, wobei zum Abschluß der Siebdruckraster-Herstellung die Siebdruckraster-Leerplatte in geeigneter Synchronisation mit den der Laserstrahleinrichtung zugeführten dritten elektronischen Daten an ihr vorbeigeführt und das erwünschte Öffnungsmuster in originalgetreuer Reproduktion des Originals und der Festlegungen der Unterscheidungsmerkmale des den verschiedenen Schattierungen des Originals entsprechenden Öffnungsmusters in der Siebdruckraster-Leerplatte erzeugt wird.

Die Erfindung wird im folgenden anhand der Zeichnung näher erläutert; es zeigen:

Fig. 1: eine perspektivische Ansicht eines Rotations-Siebdruckrasters gemäß der Erfindung, wie er beim Drucken auf dem Substrat abläuft;

Fig. 2 bis 8: Draufsichten auf kleine Siebdruckraster-Ausschnitte mit verschiedenen Öffnungsmustern;

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Fig. 9: eine schematische Darstellung der computergesteuerten Vorrichtung zur Durchführung der erfindungsgemäßen Verfahren zur Siebdruckraster-Herstellung;

Fig.10: eine vergrößerte schematische Darstellung eines zur Erzeugung des Öffnungsmusters in erfindungsgemäßen Siebdruckrastern verwendeten Netzrasters;

Fig.11: eine Draufsicht auf einen kleinen Ausschnitt eines Films mit Bildern zur Erzeugung abgestufter Öffnungsmuster

und

Fig.12: eine vergrößerte Darstellung eines einzigen Öffnungsbilds von Fig. 11.

Zur Erzielung der neuartigen Kombinationen von Öffnungsmustern, wie sie in den erfindungsgemäßen Siebdruckrastern vorliegen, müssen zusätzlich zu bzw. anstelle einiger herkömmlicher Verfahrensweisen neue Verfahren angewandt werden.

Es war bereits bekannt, unterschiedliche Textureffekte auf siebbedruckten Substraten durch Verwendung grobmaschiger Siebdruckraster herzustellen, die mehr als eine Rasterfeinheit bzw. mehr als einen Lochabstand der Drucköffnungen in entsprechenden, getrennten Bereichen aufweisen; ferner war bekannt, Halbtoneffekte oder Effekte mit kontinuierlicher Tonabstufung zu verwenden, bei denen die öffnungen eines Siebdruckrasters mit einer einzigen Rasterfeinheit von in

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Bezug auf die Mitte-Mitte-Abstände der Öffnungen vergleichsweise sehr weit (etwa 95 % offene Fläche) bis zu vergleichsweise sehr klein (bis zu Größe O, dh 0 % offene Fläche, keine Öffnungen) abgestuft sind, um Farbschattierungen auf dem bedruckten Substrat zu erzeugen. Derartige Siebdruckraster mit kontinuierlicher Tonabstufung waren im allgemeinen, wenngleich nicht in allen Fällen, feinmaschige Raster, so daß das durch sie gedruckte Rasterbild bzw. die Öffnungspunkte im allgemeinen absichtlich für das unbedeckte Auge nicht leicht sichtbar waren, so daß das auf dem Substrat reproduzierte Bild mit Schattierungen für das unbedeckte Auge den Eindruck einer tatsächlich kontinuierlichen Tonabstufung wie in nicht vergrößerten Photographien erweckte.

Die Verwendung von Siebdruckrastern mit mehr als einer Rasterfeinheit, wobei mindestens eine der Rasterfeinheiten auch abgestufte Öffnungsgrößen zur Erzeugung kontinuierlicher Tonabstufungen aufweist, war allerdings bisher ebensowenig bekannt wie die Tatsache, daß derartige Raster zur Erzielung von Textureffekten sichtbar grob sein sollen.

Es war ferner auch nicht bekannt, Siebdruckraster zu verwenden, bei denen die Unterscheidungsmerkmale des Öffnungsbildmusters wie die geometrische Form der Öffnungen, die Mitte-Mitte-Abstände der Öffnungen und die geometrische Ausbildung der Anordnung der Öffnungen in benachbarten Bereichen entweder separat oder in Kombination frei variiert sind, wobei zugleich die Größe der Öffnungen noch variiert sein kann, um mit solchen Siebdruckrastern Substrate bedrucken zu können, die eine gänzlich neue Dimension der 'Textureffekt-Tonabstufung¹ oder der 'kontinuierlichen Textureffekt-Ton-

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abstufung¹ eröffnen, die von der herkömmlichen Halbton-Tonabstufung bzw. der kontinuierlichen Tonabstufung gänzlich verschieden und demgegenüber außerordentlich vorteilhaft sind.

Bei der kontinuierlichen Textureffekt-Tonabstufung zeigen die Substrate gedruckte Textureffekte, wobei allgemein sichtbare Punkte auf den Substraten mit der Größe und der Form der Siebdruckrasteröffnungen den frei gewählten Eigenschaften des Öffnungsbildmusters entsprechen, wie oben erläutert ist, und zu einem 'plastischen' Aussehen bzw. einer plastischen, perspektivischen Bildwirkung und einem tiefen Textureffekt führen, was bei üblichen, mit flach / Siebdruckrastern (gleichmäßige Raster- . feinheit und Öffnungsgrößen/getrennten Bereichen) oder Pflas tern/ kontinuierlicher Tonabstufung (gleichmäßige Rasterfeinheit über den gesamten Siebdruckraster und abgestufte Öffnungsgrößen) siebbedruckten Substraten nicht der Fall ist, bei denen verschiedene Texturen gleichmäßig in jedem der verschiedenen Bereiche des flachgerasterten Bildmusters sichtbar sind, jedoch die Farbabstufung das dominante Charakteristikum der Bereiche des Bildmusters mit kontinuierlicher Tonabstufung darstellt.

Siebdruckraster mit kontinuierlicher Textureffekt-Tonabstufung und Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung werden im folgenden im einzelnen näher erläutert.

Siebdruckraster:

In Fig. 1 ist ein Rotations-Siebdruckraster ^O mit herkömmlicher hohlzylindrischer Form dargestellt, der auf seiner Oberfläche verschiedene Bildmusterbereiche

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aufweisen kann, wie sie mit den Bezugszahlen 22, 24, 26 und ^8 in Fig. 1 bezeichnet sind, in denen kleine öffnungen in einem Öffnungsmuster vorgesehen sind, dessen Bereiche Unterscheidungsmerkmale wie die Mitte-Mitte-Abstände der öffnungen, die geometrische Ausbildung (oder ihr Fehlen, dh zufällige bzw. statistische Anordnung), in der die öffnungen angeordnet sind, die Größe der öffnungen, die geometrische Form der einzelnen Öffnungen, die Abstufungen der geometrischen Ausbildungen, Größen, Formen und/oder Abstände der öffnungen innerhalb eines Bildmusterbereichs und selbstverständlich auch die Form der Bildmusterbereiche 2_2, 2A.' 2£. ^un^ .?JL selbst aufweisen. Eine freie Walze 23_ innerhalb des Siebdruckrasters 2!O drückt die Druckchemikalien (nicht dargestellt) vom Inneren des Siebdruckrasters ^O durch die darin vorgesehenen Öffnungen während der Rotation des Siebdruckrasters 20 zum Aufdruck der Chemikalie auf das Substrat (beispielsweise ein Teppichgewebe) 29', das sich in synchronisiertem Kontakt mit dem Siebdruckraster 2Ό an ihm vorbeibewegt. Hierdurch werden Farbresist-Bildmuster oder Farbstoff-Bildmuster 22', 24', 26' und 28' in originalgetreuer Reproduktion der entsprechenden Öffnungsmusterbereiche 22, 24, 26 bzw. 2j3 auf das Substrat 29* aufgebracht bzw. aufgedruckt .

Wie aus Fig. 2 hervorgeht, können die öffnungen ^O des Siebdruckrasters 2!0 typischerweise kreisförmig und verschachelt bzw. honigwabenartig angeordnet sein, um eine maximale offene Fläche bei gleichzeitig ausreichender Wandstärke der Wände 3-2. zwischen den öffnungen 3X) zu erzielen. Zur Erzielung einer maximalen Öffnungsfläche bei gleichzeitig minimaler Wandfläche zwischen den öffnungen können die öffnungen J30 hexagonale Form besitzen, wobei

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sich dann ein wirklich honigwabenartiges Bildrauster mit entsprechender Lochform ergibt. Durch das verschachelte Bildmuster werden ferner auch geradlinige Bildmuster in einem gewissen Maße unterbrochen, was zur Vermeidung des Auftretens von Moire-Bildern günstig ist, wenn ein Substrat durch derartige Siebdruckraster hindurch bedruckt wird; die regelmäßigen geometrischen Bildmuster der öffnungen ^O können ferner auch zur Vermeidung von Moir£-Strukturen unter geeigneten Winkeln zur Zylinderachse des Siebdruckrasters 2Ό gedreht sein.

Wie in Fig. 3 dargestellt ist, führt ein Bildmuster mit kleineren Öffnungen J34_ (etwa halbe Größe, etwa 25 % der Fläche), die mit den gleichen Mittelpunktsabständen wie in Fig. 2 angeordnet sind, erkennbar zu einem kleineren Prozentsatz an offener Fläche und nicht nur zu einer unterschiedlichen apparenten Farbabstufung auf einem dadurch bedruckten Substrat, sondern auch einem unterschiedlichen Textureffekt im sichtbaren Bildmuster des damit bedruckten Substrats, wenn die Öffnungen leicht sichtbare Große besitzen, beispielsweise, wenn die öffnungen 3A_ zB einen Abstand von 3,9/cm (10/inch) besitzen; erheblich kleinere Öffnungen führen ebenfalls zu einem derartigen Textureffekt im Aussehen, der mit unbedecktem Auge leicht sichtbar ist. Die Lochabstände, Rasterfeinheit, die Siebfeinheit, die Anzahl Linien pro Längeneinheit oder die Anzahl der öffnungen pro Längeneinheit des Öffnungsbilds können ferner auch feiner oder gröber sein als bei den Fig. 2 und 3, wobei jeweils anders aussehende Textureffekte erzielt werden.

In Fig. 4 sind öffnungen J30 mit gleicher Größe wie in Fig. 2 dargestellt, die jedoch etwa den doppelten Mitte-

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Mitte-Abstand gegenüber Fig. 2 aufweisen (halbe Rasterfeinheit) .

Während die Öffnungsmuster üblicherweise zur Erzeugung unterschiedlicher Schattierungen auf einem bedruckten Substrat mit unterschiedlichen Prozentsätzen an Öffnungsfläche ausgelegt werden, besitzen die in den Fig. 3 und 4 dargestellten Öffnungsmuster den gleichen Prozentanteil an Öffnungsfläche, führen jedoch im Druck auf einem Substrat zu unterschiedlichen Textureffekten im gemusterten Aussehen, obgleich die mit jedem/Biebdruckraster gedruckten mittleren apparenten Schattierungen identisch sind (wie beispielsweise unscharf durch eine nicht fokussierte Linse gesehen).

Fig. 5 erläutert einen kleinen Ausschnitt eines Siebdruckrasters mit öffnungen _36_, die in einem Öffnungsmuster mit konstantem Lochabstand bzw. konstanter Rasterfeinheit angeordnet sind, wobei jedoch die Öffnungen 3£ abgestufte Größe aufweisen. Eine derartige Größenabstufung führt zu der oben erläuterten Halbtonabstufung oder kontinuierlichen Tonabstufung auf einem durch einen derartigen Siebdruckraster hindurch bedruckten Substrat, wobei die Farbabstufung je nach den Größen der Öffnungen 36_ und der Menge an auf das Substrat durch den Siebdruckraster hindurch aufgedrucktem Druckmaterial von hell zu dunkel variiert. Während die Größe der Öffnungen 3^ in Fig. 5 von Öffnung zu öffnung in einer Hauptrichtung variiert ist, ist eine derartige gleichmäßige Variation oder Abstufung zur Erzielung einer kontinuierlichen Tonabstufung nicht erforderlich, da einige Öffnungen gleicher Größe in der Richtung, in der der Farbton geändert wird, nebeneinander liegen können»

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wodurch die Änderung über einen weiteren Bereich gespreizt wird, und trotzdem noch ein allgemein kontinuierlicher Änderungseffekt erzielt wird. Die Abstufung der Größe der Öffnungen kann ferner auch in einigen oder sämtlichen Richtungen vorliegen.

Auf dem Gebiet des Siebdrucks war es bereits bekannt/ mehr als einen Lochabstand bzw. mehr als eine Rasterfeinheit der Öffnungen in einem Siebdruckraster zu verwenden, dh beispielsweise in jedem der Bildmusterbereiche 2_2_, 24, 26 und ^8 auf dem in Fig. 1 dargestellten Siebdruckraster 20 oder auch in vergleichsweise noch kleineren Bereichen eine unterschiedliche Rasterfeinheit vorzusehen, um kompliziertere Dessins zu erzeugen. Eine derartige Komplizierung ist allerdings durch die anspruchsvolle und aufwendige Handwerksarbeit etwas begrenzt, die zur Herstellung derartiger Siebdruckraster erforderlich ist. Es war allerdings nicht bekannt, Siebdruckraster mit mehr als einer Rasterfeinheit oder mehr als einem Lochabstand zu verwenden, bei denen bei mindestens einem der Lochabstände auch abgestufte Öffnungsgrößen zur Erzielung von Halbtoneffekten oder kontinuierlicher Tonabstufung vorliegen.

Kontinuierliche Tonabstufungsbilder von Öffnungen in einem oder mehreren von zwei oder mehr verschiedenen Rasterfeinheiten von Öffnungen in einem einzigen Siebdruckraster entsprechen daher einem erfindungsgemäßen Aspekt; ein entsprechendes, einfaches Beispiel hierfür ist in Fig. 6 dargestellt, in der die Öffnungen 26_ mit abgestufter Größe und konstantem Mitte-Mitte-Abstand S in Bereichen G liegen, zwischen denen andere Bereiche C angeordnet sind, in denen die Öffnungen ^ konstante Größe und einen anderen konstanten Mitte-Mitte-Abstand S¹ auf-

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weisen. Derartige Kombinationen verschiedener Abstände der Öffnungen mit abgestufter Öffnungsgröße führen zu sehr attraktiv aussehenden, kontrastreichen Textureffekten auf einem hiermit siebbedruckten Substrat.

Andere erfindungsgemäße, bisher nicht bekannte Öffnungsmuster sind in Pig. 7 dargestellt, in der die Öffnungen ^O konstante Größe, jedoch allgemein abgestufte Lochabstände bzw. Rasterfeinheit aufweisen; in Fig. 8 ist ein weiterer erfindungsgemäßer Siebdruckraster dargestellt, bei dem sowohl die Größe der Öffnungen als auch die Lochabstände allgemein innerhalb des gleichen BiIdmusters abgestuft sind. Öffnungsmuster wie das in Fig. 8 dargestellte können einen allgemein konstanten Prozentsatz an Öffnungsfläche über den Siebdruckraster zum Druck der gleichen mittleren apparenten Schattierung aufweisen, jedoch variieren auch hierbei die sich ergebenden Textureffekte über das Bildmuster hinweg, wenn die der Größe der Öffnungen entsprechenden gedruckten Bildmusterpunkte mit unbedecktem Auge sichtbar sind und klar erkannt werden können. Obgleich die in den Fig. 7 und 8 dargestellten Tonabstufungen von Öffnungsreihe zu Öffnungsreihe gänzlich regelmäßig sind, ist eine derartige Regelmäßigkeit erfindungsgemäß nicht unbedingt erforderlich, da sich die Tonabstufungen auch über mehrere Reihen von Öffnungen für jede Abstufung verteilen können, um allgemein ein im Lochabstand oder im Lochabstand sowie der Öffnungsgröße abgestuftes Bildmuster zu ergeben.

Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen Siebdruckraster;

Da zylindrische Siebdruckraster sehr groß sein können

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und beispielsweise bis zu etwa 90 cm (etwa 36 inch) Durchmesser, etwa 2,9 m (etwa 113 inch) Umfang und eine Länge von einigen Metern (einige Yards) aufweisen können, die zum Rotations-Siebdruck und zum Aufbringen einer Farbe oder eines Parbresists in einem Bildmuster auf ein Substrat herangezogen werden können, das einem der oben erläuterten Öffnungsmuster entspricht, ist daraus leicht ersichtlich, daß die Herstellung derartiger Siebdruckraster nach herkömmlichen Verfahrensweisen zur Erzeugung derartiger Öffnungsmuster wie oben erläutert in Dessins, die einen großen Siebdruckraster mit komplizierten und unbegrenzt abgestuften Bildmustern von Öffnungen bedecken, die die von Variationen in der Größe und im Öffnungsabstand abgeleitet und nach Belieben abgestuft und nach völlig freier Designervorstellung miteinander kombiniert sind, mit einem außerordentlich großen Arbeitsaufwand verbunden wäre. Die Öffnungsmuster der erfindungsgemäßen Siebdruckraster müssen daher nach hochautomatisierten Verfahren unter Verwendung elektronischer Datenverarbeitungsanlagen bzw. unter Anwendung der Computertechnologie zum Abtasten der Designervorlagen oder anderer Musteroriginale, Mischen derartiger Dessins mit abgespeicherten Öffnungsmustern und Aufbringen derartiger Öffnungsmuster auf Film oder direkt auf Siebdruckraster-Leerplatten zur Herstellung von Siebdruckrastern mit originalgetreuem Öffnungsmuster hergestellt werden, die das Originalmuster in ausgewählten Öffnungsmustern wiedergeben, die dann in einem entsprechenden Farbmuster auf einem Substrat reproduziert werden, um beliebige Unterschiede in der Texturierungswirkung zu erzielen, die ein Designer auf dem mit entsprechenden Siebdruckrastern bedruckten Substraten anstrebt, die das vorgegebene Öffnungsmuster aufweisen. Derartige Verfahren werden im folgenden näher erläutert.

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Zur oben angegebenen automatischen Verfahrensdurchführung ist die Verwendung einer elektronischen Datenverarbeitungseinheit bzw. eines Computers j[4 (vgl. Fig. 9) günstig; hierzu eignen sich beispielsweise die Computer SCI-TEX System R-2OO, System R-220 oder System 21 MXE der Sci-Tex-Corporation Ltd., Israel. Das System R-220 ist in der Zeitschrift Package Printing and Diecutting, Febr. 1978, beschrieben; das System 21 MXE ist ein verfeinertes Computer-System, das nach dem gleichen allgemeinen Prinzip arbeitet, während das System R-2OO ein weniger kompliziert aufgebauter Computer ist. Der Computer £4 umfaßt einen geeigneten Speicher £§, einen elektronischen Abtastkopf 4J3 und eine Laserstrahl-Schreibeinrichtung 5(), die in Fig. 9 schematisch dargestellt sind und im folgenden näher erläutert werden.

Es ist günstig, wenn das Dessinoriginal j^2_ in Blattform vorliegt, damit es um eine zylindrische Walze 5J^ herumgewickelt werden kann, die mit einer Antriebsvorrichtung 56 verbunden ist, wie in Fig. 9 durch die gestrichelten Linien angedeutet ist; die Antriebsvorrichtung treibt die Walze _5_4 an und verschiebt den Abtastkopf 4_8 längs der Walze 5_4 in Synchronisation mit ihrer Rotation. Das Rasteroriginal j[2 kann daher eine Dessinzeichnung, ein Stück Textilgewebe, ein Blatt aus Holzfurnier, ein photographischer Abzug oder ein anderes Blattmaterial sein, auf dem sich heller oder dunkler schattierte Bereiche befinden, die für das zur Reproduktion im Öffnungsmuster des Siebdruckrasters erwünschte Bildmuster repräsentativ sind.

Eine zweite rotierende Einrichtung wie etwa eine zylindrische Walze 5j5 ist mit einer Antriebsvorrichtung 60 verbunden, wie in Fig. 9 schematisch durch die gestrichel-

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ten Linien angedeutet ist; die Antriebsvorrichtung 6>O treibt die Walze _5ίϊ an und verschiebt die Laserstrahl-Schreibeinrichtung _5O längs der Walze _58^ in Synchronisation mit ihrer Rotation. Hierbei wird ein um die Walze J[8 herumgelegter Film j52 in einem vom Computer 44 vorgegebenen Bildmuster von der Laserstrahl-Schreibeinrichtung £>Ο belichtet, wobei entsprechende latente Bilder mit dem erwünschten Öffnungsmuster und der erwünschten Öffnungsanordnung auf dem Film 6_2 erzeugt werden. Diese latenten Bilder können auf dem Film §2^ entwickelt und zur Reproduktion des erwünschten Musters der Öffnungen und ihrer Anordnung in Form von latenten Bildern in Photoresistmaterialien auf einer geeigneten Galvanikelektrode verwendet werden. Die latenten Bilder im Photoresistmaterial können entwickelt und die nicht entwickelten Bereiche des Photoresistmaterials, die nicht Teil der latenten Bilder sind/ weggelöst werden, worauf die entwickelten Bilder des Photoresistmaterials, die aus den latenten Bildern entstanden sind, im erwünschten Öffnungsmuster auf der Elektrode verbleiben. Auf der Elektrode kann ein Siebdruckraster 2jO galvanisch erzeugt werden, wobei die entwickelten Bilder der Öffnungen die Elektrode an den betreffenden Stellen vor der galvanischen Abscheidung abschirmen, so daß die Bilder im Siebdruckraster J2O als Öffnungen reproduziert werden, die dem erwünschten Öffnungsmuster des Siebdruckrasters in originalgetreuer Reproduktion des Originals 52^ und den Festlegungen der Unterscheidungsmerkmale des Öffnungsmusters bzw. den verschiedenen Schattierungen auf dem Original _52^ entsprechen.

Alternativ dazu kann auch eine Siebdruckraster-Leerplatte ^O anstelle des Films 6J2 auf der rotierenden Einrichtung bzw. Walze f5l3 zur direkten Perforation und Er-

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zeugung von öffnungen in der Leerρlatte durch das von einer hinreichend starken Laserstrahl-Schreibeinrichtung emittierte Licht anstelle der zur Filmbelichtung verwendeten Laserstrahlexnrichtung _5O von Fig. 9 herangezogen werden, um eine ebenso originalgetreue Reproduktion des Originals 5_2^ und der Unterscheidungsmerkmale zu erzielen.

Zur Aufnahme der Drehbewegung der Walzen 5_4_ und 58 und der Querbewegung des Abtastkopfs 4^ und der Laserstrahl-Schreibeinrichtung _5O sind ferner geeignete herkömmliche Einrichtungen vorgesehen, um eine geeigne-Koordination der vom Abtastkopf 48_ aufgenommenen Bildmusterdaten durch den Computer 4_4_ über den Speicher 4_£ mit der Laserstrahl-Schreibeinrichtung 5_O zu gewährleisten, wobei die Daten in den Speicher 4^ eingelesen und zum Schreiben mit der Laserstrahl-Schreibeinrichtung wieder aus dem Speicher herausgelesen werden.

Eine elektronische Datenverarbeitungseinrichtung bzw. ein Computer 4_4, beispielsweise ein Computer des Typs System 21 MXE der Firma Sci-Tex, wird zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung von Siebdruckrastern 2Ό herangezogen; er ist verbunden mit der Speichereinheit 4j[, dem elektronischen Abtastkopf 48^, der Laserstrahl-Schreibeinrichtung iiO, der zylindrischen Walze 5>4_ und ihrer Antriebsvorrichtung 56 _f der zweiten zylindrischen Walze 5j8 und ihrer Antriebsvorrichtung jJO, einem Fernsehschirm T, einer Designkonsole oder einer elektronischen Rasternetzplatte C. und einem elektronischen Griffel _E.

Das zuvor hergestellte und über die Oberfläche der

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Walze 5j4 gespannte Musteroriginal ^2 kann über die Antriebsvorrichtung 56_ mit der Walze 5_4 mit genau geregelter Geschwindigkeit in Rotation versetzt werden, beispielsweise mit 180 U/min, wobei das Original vom Ab-

längs

tastkopf 4j8_ abgetastet wird, der/der Walze 5_4 in Synchronisation mit ihrer Rotation mit einem Vorschub von 1/32 mm (0,00125 inch) pro Umdrehung der Walze von der Antriebsvorrichtung S6_ verschoben wird. Der Abtastkopf 48 wird vom Computer 44_ sq kontrolliert, daß er bei jedem Inkrement von T/32 mm der Rotation der Oberfläche der Walze 5_4 eine Ablesung vornimmt, die Farbschattierung auf der Oberfläche der Walze 5_4 bzw. auf dem darübergespannten Original _5_2_ bei jedem dieser Inkremente unterscheidet und dieser Schattierung entsprechende Signale zum Computer überträgt. Der Computer bestimmt, welcher von zwölf selektiv ausgewählten Schattierungsbereichen die Schattierung jedes Inkrements oder abgetasteten Flecks auf dem Original 5_2 umfaßt und liefert sequentiell Signale, die dem jeweiligen Schattierungsbereich jedes abgetasteten Flecks entsprechen, in den Speicher 46.

Die den Schattierungsbereichen entsprechenden Signale können vom Computer aus dem Speicher 4_6_ sequentiell abgerufen bzw. herausgelesen und zur Aufzeichnung auf Magnetband zur Speicherung und späteren Wiederverwendung vom Magnetband zur Wiedereingabe in den Speicher 4_6 zur weiteren Verwendung aufgezeichnet oder direkt aus dem Speicher 4j± verwendet werden. In beiden Fällen sind die den Schattierungsbereichen entsprechenden Signale der Schattierungen von etwas über 800 Millionen winziger Flecke oder Punkte und ihrer Anordnung eines Gittermusters, das die Oberfläche eines Musteroriginals 52 einer maximalen

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Größe von etwa 91 x 91 cm (36 χ 36 inch) bedeckt, in Form elektronischer Daten aufgezeichnet. Diese aufgezeichneten elektronischen Daten werden dem Computer 4_4 in zur Eingabe in die Speichereinheit ^6_ geeigneter Form zugeführt; durch wiederholte Abtastung des Musteroriginals 52 kann eine beliebige Anzahl von Schattierungsbereichen dargestellt bzw. aufgezeichnet werden. Die Walze 5_4 besitzt einen Umfang von etwa 99 cm (etwa 39 inch) und eine Länge in etwa derselben Größenordnung; sie kann entsprechend Musteroriginale bis zu etwa 91 χ 91 cm (36 χ 36 inch) aufnehmen, so daß, während die elektronische Darstellung eines Originals aus elektronischen Signaldaten für lediglich einige 800 Millionen diskrete, auf dem Musteroriginal 52 abgetastete Punkte besteht, die Daten elektronisch wiederholt werden können, um so Daten für etwa 2 Milliarden Punkte aufzunehmen, die von der Laserstrahl-Schreibeinrichtung J50, wie im folgenden näher erläutert ist, auf
dem Film 5_2 aufgezeichnet werden können.

Diese Schattierungsbereichssignale können allgemein zur Erzielung einer Trennung von Schattierungen durch
Programmierung des Computers j4_4 in der Weise herangezogen werden, daß Schattierungsbereichssignale, die einem
bestimmten, ausgewählten Schattierungsbereich entsprechen, durchgelassen werden, während die übrigen Schattierungsbereichssignale während ihres sequentiellen Wiederabrufens aus dem Speicher j[6_ bzw. von einem Magnetband
blockiert werden.

Die durchgelassenen Signale können dann weiterverarbeitet und zur Steuerung der Laserstrahl-Schreibeinrichtung 5_0 herangezogen werden, die einen auf die oberfläche der zweiten zylindrischen Walze 5_8 aufgebrachten

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Film j5_2, der sich mit der Walze dreht, sequentiell entsprechend belichtet.

Die Walze 5_8 wird von der Antriebsvorrichtung jJO mit einer genau geregelten Drehzahl von 1000 U/min in Rotation versetzt, die auch die Laserstrahl-Schreibeinrichtung längs der Länge der Walze _5_8 in Synchronisation mit ihrer Rotation mit einen Vorschub von 0,0032 cm (0,00125 inch) pro Umdrehung der Walze _58^ verschiebt. Der Lichtstrahl kann für jedes Inkrement von 0,0032 cm (0,00125 inch) der Rotation der Oberfläche der Walze _5_8 diskret auf den Film 6j2 eingestrahlt werden, wobei es von den entsprechenden durchgelassenen oder blockierten wieder abgerufenen Schattierungsbereichssignalen abhängt, ob bei jedem Inkrement der Rotation von 0,0032 cm (0,00125 inch) _der Laserstrahl zur Einwirkung gebracht wird oder nicht, wie oben erläutert ist.

Auf diese Weise kann der Film ^2 so belichtet werden, daß er jeden auf einem Musteroriginal _5J2 abgetasteten Rasternetzpunkt genau reproduziert, wobei vom Computer ji£ bestimmt wird, daß die Schattierung innerhalb des ausgewählten, bestimmten Schattierungsbereichs liegt, und der Film nach der Entwicklung eine Schattierungstrennung für diesen bestimmten, ausgewählten Schattierungsbereich aufweist, dh eine originalgetreue Reproduktion derjenigen Bereiche des Musteroriginals 5^2 darstellt, die innerhalb des ausgewählten Schattierungsbereichs liegen. Diese Verfahrensweise ist dort besonders geeignet, wo verschiedene Farben von verschiedenen Siebdruckrastern auf ein einziges Substrat durch Siebdruck aufgebracht werden sollen, wobei in derartigen Fällen ein in der obigen Weise hergestellter Farbauszugfilm

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(Programmierung, daß eine gegebene Farbe innerhalb des zulässigen Schattierungsbereichs liegt, Auslassen anderer Farben sowie monochromatischer Schattierungen) dann in herkömmlicher Weise zur Herstellung von Farbauszug-Siebdruckrastern verwendet werden kann. Diese Verfahrensweise erläutert die Verfügbarkeit der Schattierungsbereichssignale von jedem auf dem Original jjj[ abgetasteten Punkt zur Reproduktion entsprechender Punkte auf dem Film 62.

Um allerdings die den Schattierungsbereichen auf dem abgetasteten Original ji_2 entsprechenden elektronischen Daten zur Herstellung eines einzigen Siebdruckrasters mit unterschiedlichen Öffnungsmustern, die diese Schattierungsbereiche darstellen, zu verwenden, ist es erforderlich, zwischen die das abgetastete Original f^2 darstellenden elektronischen Daten und die Laserstrahl-Schreibeinrichtung _5C) gewissermaßen ein oder mehrere elektronische 'Siebe' einzuschalten. Dies geschieht am einfachsten durch Eingabe elektronischer Rasterdaten in den Computer, die einer Darstellung eines einzigen Öffnungs-Wiederholungsbereichs entsprechen, der unter Erzeugung eines vollständigen Öffnungsmusters elektronisch wiederholt werden kann, das die etwa 2 Milliarden diskrete Punkte überdeckt, die von der Laserstrahl-Schreibeinrichtung j5O auf dem mit der Walze f5J3 rotierenden Film 62 aufgezeichnet werden können.

Die Erzeugung der elektronischen Siebdruckrasterdaten wird im folgenden erläutert.

Die elektronische Datenverarbeitungseinrichtung bzw. der Computer _44 ist dazu geeignet, auf dem Bildschirm D

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auf einem Netzmuster entweder selektiv automatisch für eine Vielzahl programmierbarer Bildmuster oder manuell unter Verwendung des elektronischen Griffels E auf der elektronischen Rasternetzplatte bzw. der Designkonsole C elektronisch zu erzeugen, wo jedes erwünschte Bildmuster durch individuelle, selektive Aktivierung Tausender von elektrisch ansteuerbaren Rasternetzpunkten mit dem Griffel E erzeugt werden kann, die auf der Rasternetzplatte C angezeigt werden. Durch entsprechende Betätigung der Steuerung des Computers _4£ können so erzeugte Bildmuster gedehnt, komprimiert, multipliziert, wiederholt, verschoben oder in anderer Weise manipuliert werden, um derartigen Bildmustern entsprechende elektronische Daten zu erzeugen, um jeden der etwa 2 Milliarden diskreten Punkte zu erfassen, die von der Laserstrahl-Schreibeinrichtung _5O auf der Walze 5_8^ gedruckt werden können, die typischerweise einen Umfang von 19Ό cm (75 inch) und eine Länge von 107 cm(42 inch) besitzt und mit einer Drehzahl von 1000 U/min betrieben wird.

Wie aus Fig. 10 hervorgeht, entspricht jedes Rasternetzfeld 6J^ einem der oben angegebenen zwei Milliarden diskreter Punkte, wobei die Rasternetzplatte für jedes Rasternetzfeld ^_4 elektronische Datensignale liefert, die einer binären 0 oder 1 entsprechen.

Hinsichtlich der Wiederholbarkeit mit dem Computer 4_£ ist es lediglich erforderlich, einen ausreichend großen Bereich des Siebdruckraster-Bildmusters zu erzeugen, so daß das vollständige Muster durch Wiederholungen dieses Bereichs zur Abdeckung der zwei Milliarden möglichen Bildpunkte für die Laserstrahl-Schreibeinrichtung _5£ und die Walze jjj^ erzeugt werden kann.

In Fig. 10 ist ein einfaches Beispiel dargestellt,

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bei dem ein Wiederholungsbereich 6^ eines derartigen elektronischen Siebdruckrasters, der gestrichelt dargestellt ist, 100 Rasternetzfeider 6>_4 umfaßt, die in einem Feld von 10 χ 10 Rasternetzfeldern angeordnet sind. Die größte mögliche öffnung in einem derartigen 10 χ 10-Wiederholungsbereich 3j^ wäre ein 9 χ 9-Feld 6j8 von Rasternetzfeldern 64, wie durch die Punkte 7Ό in den am Rand liegenden Rasternetzfeldern 6_4_ angedeutet ist. Bei unendlicher Wiederholung würde ein derartiger Siebdruckraster eine Öffnungsfläche von 81 % aufweisen, da 81 von 100 Rasternetzfeldern 64 Öffnungsflächen darstellen würden, wobei lediglich die offenen Rasternetzfeider 6^4 unmittelbar am rechten und unteren Rand des Felds j[6_ den festen Wänden zwischen den Öffnungen entsprechen würden.

In ähnlicher Weise könnten andere Siebdruckraster mit anderen prozentualen Anteilen an Öffnungen aus dem gleichen Wiederholungsbereich 66_ erzeugt werden, indem 7 χ 7-Felder 72 von Rasternetzfeldern j>_4 als Öffnungen vorgesehen werden, wie durch die Schrägstriche 7_4_ in den außen liegenden Rasternetzfeldern 64_ angegeben ist, so daß der Siebdruckraster einen prozentualen Anteil an Öffnungsfläche von 49 % aufwiese; 5 χ 5-Felder Tj-L aus den Rasternetzfeldern 6_4, die innerhalb der mit Schrägstrichen 7_4 markierten Bereiche liegen, würden entsprechend einen Öffnungsanteil von 25 % aufweisen.

Derartige elektronische Siebdruckraster-Datensignale, die in geeigneter Weise vom Computer T_4_ verarbeitet und zur Steuerung an die Laserstrahl-Schreibeinrichtung 5_0 zur Belichtung des Films 6^2_ an jeden der zwei Milliarden Bildpunkte, die den Rasternetzfeldern 64 innerhalb der

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Felder ^ entsprechen, würden beispielsweise zu einem Film führen, der von einem gleichmäßigen Muster quadratischer belichteter Bereiche bzw. von Öffnungsbereichen bedeckt ist, die den Feldern 6^ entsprechen. Ein derartiger Film kann beispielsweise zur galvanischen Erzeugung von Siebdruckrastern mit einer gleichmäßigen Rasterfeinheit von 31,5 Linien/cm (80 Linien/inch) herangezogen werden, der entsprechend einen Öffnungsanteil von 81 % aufweist und quadratische Öffnungen besitzt.

In der Praxis sind die Felder von Rasternetzfeldern 64, die Öffnungen darstellen, zB das Feld 1%.' typischerweise erheblich größer, so daß die Öffnungen einen Siebdruckraster mit einer Rasterfeinheit von 10 mesh (Linien/ inch) bilden, bei dem jeder Wiederholungsbereich 66_ entsprechend aus 80 χ 80 = 6400 Rasternetzfeldern 64_ besteht; ein 76 χ 76 großes Feld von entsprechend 5776 Rasternetzfeldern jv4, die eine Öffnung darstellen, würde demgemäß zu einem Anteil an Öffnungsfläche von etwa 90 % in einem Siebdruckraster führen, der quadratische Öffnungen von 0,24 cm (0,095 inch) zwischen etwa 0,013 _cm (0,005 inch) breiten Wänden aufweist.

Kreisförmige Öffnungen in Siebdruckrastern wie in den Fig. 2 bis 8 stellen dann keine mikroskopisch perfekten kreisrunden Löcher dar, kommen ihnen aber ziemlich nahe, da sie aus einer Gruppe von Rasternetzfeldern j[4_ bestehen können, deren Mittelpunkte von einem Kreis umschrieben sind. Beliebige andere erwünschte Öffnungsformen können durch eine ähnliche, geeignete Auswahl einer Gruppe von Rasternetzfeldern j6_4 angenähert werden.

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Wenn das Original 5_2^ abgetastet und der Schattierungsbereich jedes Abtastpunkts des Originals in die Speichereinheit j46_ eingegeben ist, kann ein Designer beispielsweise entscheiden, daß im angestrebten Endprodukt ein Siebdruckraster J!O die den verschiedenen Schattierungsbereichen des Originals entsprechenden Bereiche Öffnungsmuster mit offenen Bereichen aus öffnungen und folgenden Rasterfeinheiten aufweist, die in der nachstehenden Tabelle A angegeben sind.

Tabelle A

Schattie rungsbe reich Nr.	%-Anteil an Öff nungsflä che (%)
S1	90
S2	80
S3	70
S4	60
S5	50
S6	50
S7	40
S8	30
S9	20
S1O	10
S11	7

Rasterfeinheit Linien/cm Linien/inch

Öffnungsform

3,9 3,9 3,9 3,9 3,9 5,9 5,9 5,9 5,9 5,9 5,9

10 10 10 10 10 15 15 15 15 15 15

Quadrat

Kreis

Der Designer erzeugt anschließend elektronische Daten, die jedem der auf dem Siebdruckraster 2Ό erwünschten Öffnungsmuster entsprechen, und manipuliert die elektronischen

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Siebdruckrasterdaten und gibt sie in die Speichereinheit 46 ein, um so eine Aufzeichnung eines elektronischen Siebdruckrasters, wie oben erläutert, für jedes Öffnungsbild zu erzeugen. Der Designer legt also fest bzw. programmiert den Computer AA_ dahingehend, welcher elektronische Raster von jedem auf dem Designoriginal 52_ abgetasteten Schattierungsbereich dargestellt werden soll. Diese Zuordnungen werden zur im folgenden beschriebenen Weiterverwendung in die Speichereinheit J6_ eingegeben.

Der Computer JJ ist in der Lage, die Schattierungsbereichsdaten der abgetasteten Punkte und die elektronischen Rasterdaten durch Abrufen bzw. Herauslesen der binären elektronischen Datensignale für den bezeichneten elektronischen Raster für jeden Rasterpunkt entsprechend den unmittelbar zuvor aus der Speichereinheit J6_ abgerufenen Schattierungsbereichsdaten der Rasterpunkte aus der Speichereinheit J_6 miteinander zu vereinigen und die Binärsignale zur Erzeugung eines entsprechenden elektronischen Belichtungssignals für den jeweiligen Rasterpunkt zu verwenden. Im einzelnen können die elektronischen Rasterpunkt-Datensignale, die darstellen, ob jeder bestimmte elektronische Rasterpunkt innerhalb oder außerhalb einer Öffnung für jeden von zwölf unterschiedlichen Öffnungsmusterrastern konstanter Rasterfeinheit liegt, zur selektiven sequentiellen Wiedergewinnung bzw. Herauslesen für jeden Rasterpunkt bei einem einzigen Durchlauf in die Speichereinheit Vo_ eingegeben werden.

Die Rasterpunkt-Schattierungsbereichsdaten für einen bestimmten Rasterpunkt können anschließend zur Selektion eines von zwölf elektronischen, dem Rasterpunkt-öffnungsmuster entsprechenden Datensignals verwendet werden, das

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für einen bestimmten Schattierungsbereich des Rasterpunkts ausgewählt wurde. Dieses bestimmte Rasterpunkt-Datensignal des Öffnungsmusters, das in binärer Form vorliegt, kann dann zur Erzeugung des dem jeweiligen Rasterpunkt entsprechenden elektronischen Belichtungssignals herangezogen werden.

Wenn elektronische Raster unterschiedlicher Rasterfeinheit zur Darstellung unterschiedlicher Rasterpunkt-Schattierungsbereiche herangezogen werden sollen, ist es erforderlich, die Rasterpunktdaten für die verschiedenen Rasterfeinheiten in getrennte Abschnitte der Speichereinheit einzugeben und getrennte Durchläufe der Rasterpunkte und des Speichers durchzuführen, um die Schattierungsbereichsdaten der Rasterpunkte mit den elektronischen Rasterdaten für jede unterschiedliche Rasterfeinheit miteinander zu vereinigen.

Wenn ferner mehr als zwölf verschiedene Öffnungsmuster einer gegebenen Rasterfeinheit verwendet werden sollen, kann es ebenfalls erforderlich sein, diese über zwölf hinausgehenden Werte in einen oder mehrere getrennte Bereiche der Speichereinheit 4_£ für mehrfache Durchläufe einzugeben. Die Daten von jedem Durchlauf werden normalerweise von der Speichereinheit _£6 auf ein Magnetband übertragen, so daß am Ende ein einziges Band die Belichtungssignale sequentiell für jeden der zwei Milliarden Bildpunkte enthält, wobei die Laserstrahl-Schreibeinrichtung j5O bei einem einzigen Durchlauf des Bands durch den Computer ein vollständiges Bild _suf dem Film liefert.

Diese Belichtungssignale bilden eine dritte Gruppe

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ft ^

elektronischer Datensignale, die jeden Punkt darstellen, der von der Laserstrahl-Schreibeinrichtung _5O auf dem Film 6>_2 geschrieben werden kann, und können ferner in geeigneter Weise angeben, ob die Laserstrahl-Schreibeinrichtung _5O den Film Q an jedem der entsprechenden zwei Milliarden Bildpunkte belichten soll oder nicht.

Diese dritte Gruppe von Signalen elektronischer Daten kann auf Magnetband gespeichert und dann in Synchronisation mit der Rotation bzw. Vorbeibewegung der Walze J5_8 an der Laserstrahl-Schreibeinrichtung _5_O gelesen werden, wenn sich die Laserstrahl-Schreibeinrichtung _5_O längs der Walze 58 zur Belichtung des darauf vorgesehenen Films j^2 vorbeibewegt, so daß jede Schattierungsbereichsfläche, die vom Designoriginal 32_ abgetastet wurde, auf dem Film §2l durch eine entsprechende Fläche dargestellt wird, die von dem bezeichneten Öffnungsmuster bedeckt ist, so daß der Film demgemäß zur Herstellung der erfindungsgemäßen Siebdruckraster mit Textureffekt-Abstufung herangezogen werden kann.

Wenn, wie aus Fig. 10 hervorgeht, ein bestimmter, dem Rasternetzfeld 6jl entsprechender Abtastpunkt P in einen Schattierungsbereich fällt, der durch einen Anteil an Öffnungsfläche im Bildmuster von 81 % dargestellt werden soll, wird er mit dem elektronischen Rasterbild verglichen bzw. vereinigt, das das Feld j[8_ aus Rasternetz feldern 6A_ umfaßt; die resultierenden elektronischen Datensignale, die zur dritten Gruppe elektronischer Datensignale gehören, stellen entsprechend Signale zur Belichtung des Films 6^ an den betreffenden Bildpunkten dar.

Wenn der betreffende Äbtastpunkt, der dem mit P bezeichneten Rasternetzfeld j5£ entspricht, andererseits in

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einen Schattierungsbereich fällt, der ein Öffnungsbild mit einem Öffnungsflächenanteil von 49 % darstellen soll, wird er mit dem Rasterbild innerhalb des Felds Ύλ_ aus Rasternetzfeldern 6_4 verglichen; das resultierende elektronische Datensignal führt wiederum zur Belichtung des Films 62 in diesem betreffenden Bildpunkt.

Wenn aber der dem mit P bezeichneten Rasternetzfeld entsprechende Abtastpunkt in einen Schattierungsbereich fällt, der durch ein Öffnungsmuster mit einer Öffnungsfläche von 25 % dargestellt werden soll, wird er mit dem Bildmuster innerhalb des Felds 7_5 aus Rasternetzfeldern 64 verglichen; das resultierende Signal der dritten Gruppe elektronischer Datensignale führt dann entsprechend zur Nichtbelichtung des Films §2_ an diesem speziellen Bildpunkt, da das mit P bezeichnete Feld außerhalb des Felds 75. liegt, das einen Öffnungsanteil von 25 % aufweist.

Zur weiteren Erläuterung ist in Fig.11 ein Ausschnitt aus einem Film ^2 dargestellt, bei dem die effektiven Grenzen der Schattierungsbereiche S3, S5, S7, S9 und S11, wie sie auf einem Dessinoriginal J52_ abgetastet wurden, vergrößert mit gestrichelten Linien dargestellt sind. Unter der Annahme, daß die Schattierungsbereiche den in der obigen Tabelle A bezeichneten Eigenschaften des Öffnungsmusters entsprechen und diese Eigenschaften dem Computer ^4_ eingegeben oder einprogrammiert wurden, führt die oben erwähnte Vereinigung der ersten elektronischen Daten, die den bezeichneten Eigenschaften des Öffnungsbilds entsprechen, und der zweiten elektronischen Daten, die den abgetasteten Schattierungen jedes Abtastpunkts entsprechen, zu dritten elektronischen Daten, die die elektroni-

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sehen Belichtungssignale umfassen, die jedem Abtastpunkt entsprechen. Die Einwirkung oder Nichteinwirkung des Laserstrahls an entsprechenden Punkten des Films §2_ aufgrund der oben erläuterten Beiichtungssignale führt dann auf dem Film 6_2 zu belichteten Punkten 76./ 23.' 80/ M ^und M/ ^{die den} bezeichneten Öffnungsmustern für die Schattierungsbereiche S3, S5, S7, S9 und S11 von Tabelle A entsprechen, wie in Fig.11 dargestellt ist.

Unter der Annahme, daß Abtastung und Schreiben mit dem Laserstrahl mit der feinsten Auflösung von 0,03 mm (0,00125 inch) pro Abtastpunkt bzw. Bildpunkt durchgeführt wurden (wobei auch andere Auflösungen zugänglich sind) , besitzen die Bildflecke J5£ einen Durchmesser von 16 Abtast- bzw. Schreibpunkten bzw. einen Durchmesser von 0,51 mm(0,020 inch), um einen Öffnungsflächenantexl von etwa 7 % bei einer Rasterfeinheit von 0,6 Linien/mm (15 Linien pro inch) zu erzielen. Die Bildpunkte sind in Fig. 12 mit ^6_ bezeichnet, die eine stark vergrößerte Ansicht eines Flecks j^4 von Fig. 11 darstellt, dessen jeweilige Peripherie allgemein durch den in Fig. 12 mit 84 bezeichneten gestrichelten Kreis dargestellt ist; in Fig. 12 ist lediglich eine kleine Zahl der belichteten Schreibpunkte 8_6 schraffiert, um die mikroskopisch irreguläre Form der jeweiligen Peripherie der Flecke J34_ zu erläutern. Die Bildpunkte ^6_ entsprechen den Rasternetzfeldern j>_4 von Fig. 10; im vorliegenden Falle entstehen auf dem Film jT2 allgemein kreisförmige Flecke, die einander in der Nachbarschaft aufgrund der unvermeidlichen Streuung des Lichts in der Laserstrahl-Schreibeinrichtung 50 überlappen.

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Wie aus Pig. 11 zu ersehen ist, in der die effektive Grenze eines Schattierungsbereichs zufällig durch ein Öffnungsmuster geht, kann jeder Bereich einer öffnung innerhalb eines Schattierungsbereichs liegen. Wenn die Grenze zwischen verschiedenen Öffnungsmustern liegt, können Bereiche zweier verschiedener Öffnungen unter Bildung zufällig geformter Öffnungen aufeinandertreffen, wodurch das texturierte Aussehen von mit entsprechenden Siebdruckrastern bedruckten Substraten noch gefördert wird.

Verwendung der Siebdruckraster:

Es ist in der Siebdrucktechnik beim Bedrucken von Textilsubstraten neu, die Farbchemikalien durch den erfindungsgemäßen Siebdruckraster hindurch in einem einzigen Durchlauf auf die Substrate aufzudrucken und an-

zu schließend den Farbstoff in üblicher Weise/fixieren oder auf dem Substrat zu binden, um darauf kontinuierliche Textureffekt-Schattierungen zu erzeugen. Dabei ist neuartig, daß sich derartige kontinuierliche Textureffekt-Schattierungen durch Siebdruck von Farbresists auf Substrate durch die erfindungsgemäßen Siebdruckraster in einem einzigen Durchlauf aufbringen lassen, worauf die bedruckten Substrate in einem Bad gefärbt werden, wobei eine Färbung in den Substratbereichen verhindert wird, in denen der Farbresist aufgebracht wurde, jedoch eine normale Einfärbung im restlichen Teil des Substrats, beispielsweise von Textilien, erfolgt und der Farbstoff anschließend in herkömmlicher Weise fixiert wird.

Ferner ist in der Siebdrucktechnologie das Bedrucken insbesondere von Textilien mit Farbstoffen oder Farb-

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resists durch die erfindungsgemäßen Siebdruckraster mit einem einzigen Textureffekt zur anschließenden Fixierung oder Färbung und Fixierung zur Erzielung von Tiefe, perspektivischen Effekten, Variationen und Feinheiten von Textureffekten auf dem bedruckten Substrat neuartig, die bisher lediglich durch wiederholten Siebdruck durch eine Vielzahl verschiedener Siebdruckraster hindurch erzielt werden konnten.

Die Erfindung ist nicht auf die erläuterten Ausführungsbeispiele beschränkt.

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eerse

it

Claims

Ansprüche

gekennzeichnet durch

Öffnungen, die in einem vorgegebenen Bildmuster mit aufeinanderfolgend einander benachbarten Bereichen angeordnet sind, in denen zumindest ein anderes Unterscheidungsmerkmal als die Größe der öffnungen und die Bereichsform zwischen den benachbarten Bereichen zur Erzielung einer kontinuierlichen Textureffekt-Abstufung auf damit siebbedruckten Substraten variiert ist.
2. Siebdruckraster nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Mitte-Mitte-Abstände der öffnungen Abstufungen aufweisen, die mindestens einem Unterscheidungsmerkmal des Bildmusters entsprechen/ und die Form des Bildmusters im Siebdruckraster ein weiteres Unterscheidungsmerkmal darstellt.
3. Siebdruckraster nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Unterscheidungsmerkmal die geometrische Form der öffnungen ist.
4. Siebdruckraster nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Unterscheidungsmerkmal die geometrische Anordnung ist, in der die öffnungen angeordnet sind.

0156-(4023O)-SF-Bk

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ORIGINAL INSPECTED
5. Siebdruckraster nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Bildmuster Öffnungen abgestuften Durchmessers aufweist.
6. Siebdruckraster nach einem der Ansprüche 1 bis 5, gekennzeichnet durch Öffnungen, die in einem vorgegebenen Bildmuster angeordnet sind, das mindestens zwei Bereiche mit unterschiedlichen Mitte-Mitte-Abständen der Öffnungen als Unterscheidungsmerkmal aufweist, wobei mindestens einer dieser Bereiche Öffnungen abgestuften Durchmessers als weiteres Unterscheidungsmerkmal besitzt.
7. Siebdruckraster nach einem der Ansprüche 1 bis 6, gekennzeichnet durch hohlzylindrische Form zur Verwendung beim Rotationssiebdruck im Angriff an einem zu bedruckenden Substrat zum Aufbringen eines Farbresists durch Siebdruck durch den Siebdruckraster hindurch, wobei der Farbresist in einem dem vorgegebenen Öffnungsmuster entsprechenden Farbresistmuster auf das Substrat aufgebracht wird und das bedruckte Substrat nach dem Einfärben ein Farbmuster mit unterschiedlichen Textureffekten aufweist, die dem vorgegebenen Öffnungsmuster entsprechen.
8. Siebdruckraster nach einem der Ansprüche 1 bis 6, gekennzeichnet durch eine hohlzylindrische Form zur Anwendung beim Rotationssiebdruck im Angriff an einem zu bedruckenden Substrat zum Aufbringen einer Färbechemikalie durch Siebdruck durch den Siebdruckraster hindurch, wobei die Färbechemikalie in einem dem vorgegebenen Öffnungsmuster entsprechenden Farbmuster auf das Substrat aufgebracht wird und das bedruckte Substrat nach Fixierung des Farbstoffs ein Farbmuster mit unterschiedlichen Textureffekten aufweist, die dem vorgegebenen Öffnungsmuster entsprechen.

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-· Δ —
9. Verfahren zur Herstellung der Siebdruckraster nach einem der Ansprüche 1 bis 8, gekennzeichnet durch

a) Herstellung eines Originalbilds mit Bereichen verschiedener Tonabstufung zur Darstellung des nach
dem Siebdruckraster vorzusehenden Öffnungsmusters,

b) Festlegung der Unterscheidungsmerkmale des erwünschten Öffnungsmusters, die den jeweiligen verschiedenen Tonabstufungen des Originals entsprechen,

c) Eingabe der Festlegungen in eine elektronische Datenverarbeitungseinrichtung mit einer Speichereinheit in einer geeigneten ersten elektronischen Datenform, die den durch die elektronische Datenverarbeitungseinrichtung in den Speicher einzugebenden Festlegungen entsprechen,

d) Abtasten des Originals mit einer mit der elektronischen Datenverarbeitungseinrichtung verbundenen
Abtasteinrichtung zur Unterscheidung der Tonabstufungen und ihrer Anordnung auf dem Original und
Eingabe der Tonabstufungen und ihrer Anordnung in
die elektronische Datenverarbeitungseinrichtung in einer geeigneten zweiten elektronischen Datenform, die den durch die Datenverarbeitungseinrichtung in den Speicher einzugebenden Schattierungen und ihrer Anordnung entspricht,

e) Betrieb der elektronischen Datenverarbeitungseinrichtung unter geeignetem Herauslesen der ersten
und der zweiten elektronischen Daten aus dem Speicher zur Erzeugung dritter elektronischer Daten,
die dem erwünschten Muster der Öffnungen und ihrer erwünschten Anordnung im Siebdruckraster entsprechen,

und

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f) Steuerung einer Laserstrahl-Schreibeinrichtung mit den dritten elektronischen Daten, die dazu geeignet ist, das erwünschte Muster der Öffnungen und ihre Anordnung als Lichtenergiebild auf einem geeigneten Substrat zu reproduzieren, wobei das Substrat in geeigneter Synchronisation mit den der Laserstrahleinrichtung zugeführten dritten elektronischen Daten an der Laserstrahl-Schreibeinrichtung vorbeigeführt wird, unter Erzeugung eines originalgetreuen und den Festlegungen der Unterscheidungsmerkmale des Öffnungsmusters entsprechenden Siebdruckrasters mit dem erwünschten Öffnungsmuster, das den verschiedenen Tonabstufungen des Originals entspricht.
10. Verfahren zur Herstellung der Siebdruckraster nach einem der Ansprüche 1 bis 8, gekennzeichnet durch

a) Herstellung eines Originalbilds mit Bereichen verschiedener Tonabstufung zur Darstellung des nach dem Siebdruckraster vorzusehenden öffnungsmusters,

b) Festlegung der Unterscheidungsmerkmale des erwünschten Öffnungsmusters, die den jeweiligen verschiedenen Tonabstufungen des Originals entsprechen,

c) Eingabe der Festlegungen in eine elektronische Datenverarbeitungseinrichtung mit einer Speichereinheit in einer geeigneten ersten elektronischen Datenform, die den durch die elektronische Datenverarbeitungseinrichtung in den Speicher einzugebenden Festlegungen entsprechen,

d) Abtasten des Originals mit einer mit der elektronischen Datenverarbeitungseinrichtung verbundenen Abtasteinrichtung zur Unterscheidung der Tonabstufungen und ihrer Anordnung auf dem Original und Eingabe der Tonabstufungen und ihrer Anordnung in die elektronische Datenverarbeitungseinrichtung in einer geeigneten zweiten elektronischen Datenform,

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die den durch die DatenvorarbeiLungseinrichtung in den Speicher einzugebenden Schattierungen und ihrer Anordnung entspricht,

e) Betrieb der elektronischen Datenverarbeitungseinrichtung unter geeignetem Herauslesen der ersten und der zweiten elektronischen Daten aus dem Speicher zur Erzeugung dritter elektronischer Daten, die dem erwünschten Muster der öffnungen und ihrer erwünschten Anordnung im Siebdruckraster entsprechen,

f) Belichtung eines photographischen Films zur Erzeugung eines latenten Bilds des erwünschten Bildmusters von öffnungen und ihrer Anordnung auf dem Film durch Steuerung einer mit der elektronischen Datenverarbeitungseinrichtung verbundenen und zur Belichtung des Films unter Erzeugung eines latenten Bilds geeigneten Laserstrahl-Schreibeinrichtung mit den dritten elektronischen Daten, wobei der Film in geeigneter Synchronisation mit den der Laserstrahl-Schreibeinrichtung zugeführten dritten elektronischen Daten an ihr vorbeigeführt wird,

g) Entwicklung des latenten Bilds auf dem Film,

h) Verwendung des entwickelten Films zur Reproduktion des erwünschten Bildmusters der öffnungen und ihrer Anordnung im latenten Bild in einem Photoresistmaterial auf einer geeigneten Galvanikelektrode,

i) Entwicklung des latenten Bilds im Photoresistmaterial auf der Galvanikelektrode,

j) Weglösen der nichtentwickelten Bereiche des Photoresistmaterials

und

k) galvanische Erzeugung des Siebdruckrasters auf der Elektrode unter geeigneter Reproduktion der entwickel-

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ten Bilder auf der Galvanikelektrode als Öffnungen im Siebdruckraster, wobei die das erwünschte Öffnungsmuster im Siebdruckraster bildenden Öffnungen in originalgetreuer Reproduktion des Designoriginals angeordnet sind und die Festlegungen der Unterscheidungsmerkmale des Bildmusters der Öffnungen den unterschiedlichen Tonabstufungen auf dem Original entsprechen.
11. Verfahren zur Herstellung der Siebdruckraster nach einem der Ansprüche 1 bis 8, gekennzeichnet durch

a) Herstellung eines Originalbilds mit Bereichen verschiedener Tonabstufung zur Darstellung des nach dem Siebdruckraster vorzusehenden Öffnungsmusters,

b) Festlegung der Unterscheidungsmerkmale des erwünschten Öffnungsmusters, die den jeweiligen verschiedenen Tonabstufungen des Originals entsprechen,

c) Eingabe der Festlegungen in eine elektronische Datenverarbeitungseinrichtung mit einer Speichereinheit in einer geeigneten ersten elektronischen Datenform, die den durch die elektronische Datenverarbeitungseinrichtung in den Speicher einzugebenden Festlegungen entsprechen,

d) Abtasten des Originals mit einer mit der elektronischen Datenverarbeitungseinrichtung verbundenen Abtasteinrichtung zur Unterscheidung der Tonabstufungen und ihrer Anordnung auf dem Original und Eingabe der Tonabstufungen und ihrer Anordnung in die elektronische Datenverarbeitungseinrichtung in einer geeigneten zweiten elektronischen Datenform, die den durch die Datenverarbeitungseinrichtung in den Speicher einzugebenden Schattierungen und ihrer Anordnung entspricht,

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e) Betrieb der elektronischen Datenverarbeitungseinrichtung unter geeignetem Herauslesen der ersten und der zweiten elektronischen Daten aus dem Speicher zur Erzeugung dritter elektronischer Daten, die dem erwünschten Muster der Öffnungen und ihrer erwünschten Anordnung im Siebdruckraster entsprechen,

und

f) Übertragung des Öffnungsmusters unter Perforation auf eine Siebdruckraster-Leerplatte unter Verwendung der für das erwünschte Bildmuster der Öffnungen und ihrer Anordnung repräsentativen dritten elektronischen Daten zur Steuerung einer mit der elektronischen Datenverarbeitungseinrichtung verbundenen und zur Perforation der Siebdruckraster-Leerplatte geeigneten Laserstrahl-Schreibeinrichtung zur Erzeugung des Öffnungsmusters, wobei die Siebdruckraster-Leerplatte in geeigneter Synchronisation mit den der Laserstrahl-Schreibeinrichtung zugeführten dritten elektronischen Daten an ihr vorbeigeführt und das erwünschte Öffnungsmuster in originalgetreuer Reproduktion des Originals und der Festlegung der Unterscheidungsmerkmale des den verschiedenen Tonabstufungen des Originals entsprechenden Öffnungsmusters in der Siebdruckraster-Leerplatte erzeugt wird.
12. Verfahren zum Einfärben von Substraten in einem Farbmuster mit unterschiedlichem Textureffekt-Aussehen,

gekennzeichnet durch

a) Bedrucken des Substrats mit einem Farbresist in

Rotationseinem einzigen Durchlauf mit einem/Siebdruckraster nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei der Farbresist in einem entsprechenden Bildmuster auf das

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Substrat aufgebracht wird, das dem vorgegebenen Öffnungsmuster im Siebdruckraster entspricht,

und

b) Einfärben des mit dem Farbresist bedruckten Substrats, wobei das Substrat entsprechend dem darauf aufgebrachten Farbresist-Bildmuster gefärbt wird und ein Farbbildmuster entsteht, das entsprechend dem vorgegebenen Offnungsmuster des Siebdruckrasters im Aussehen unterschiedliche Textureffekte aufweist.
13. Verfahren zum Einfärben von Substraten in einem Farbmuster mit unterschiedlichem Textureffekt-Aussehen,

gekennzeichnet durch

a) Bedrucken des Substrats mit einer Färbechemikalie in einem einzigen Durchlauf mit einem Rotations-Siebdruckraster nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die Färbechemikalie in einem entsprechenden Farbbildmuster auf das Substrat aufgebracht wird, das dem vorgegebenen Öffnungsmuster im Siebdruckraster entspricht,

und

b) Fixieren des mit der Färbechemikalie bedruckten Substrats, wobei das Substrat entsprechend der darauf aufgebrachten Färbechemikalie gefärbt wird

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und ein Farbbildmuster entsteht, das entsprechend dem vorgegebenen Öffnungsmuster des Siebdruckrasters im Aussehen unterschiedliche Textureffekte aufweist.

12 oder 13,
14. Verfahren nach Anspruch / dadurch gekennzeichnet, daß das vorgegebene Öffnungsmuster Öffnungen abgestuften Durchmessers aufweist.

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