DE1572868A1 - Einrichtung zur Erzeugung mehrerer Abbildungen - Google Patents
Einrichtung zur Erzeugung mehrerer AbbildungenInfo
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/32—Holograms used as optical elements
-
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- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
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Description
DR.-INS. DIPL.-IN3. M. «C. Dl PL.-PH YS. D R. ι uu. ■ iiivm ju.ii.vi ■ t*».^,,
I D /ZoDo
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b - 93
18. 12. 1967
Texaa Instruments Incorporated Dallas, Texaa, U.S.A.
Einrichtung zur Erzeugung mehrerer Abbildungen.
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur Erzeugung mehrerer
Abbildungen eines teilweise lichtdurchlässigen Muaterbildträgera auf einem Schirm? wobei der Musterbildträger zwischen einer Lichtquelle
und dem Schirm angeordnet ist,
Besondere bei der Herstellung mikrominiaturisierter, integrierter Schaltungen stöllt sich das Problem, mehrere Abbildungen eines
bestimmten Schnltungeaufbaus auf einem Halbleiterplättchen zu
produzieren, und zwar möglichst mit einem einzigen Musterbild, Jede einzelne Abbildung auf dem Halbleiterplättchen muss eine
genaue Wiedergabe des Musterbildes darstellen, und die verschiedenen Abbildungen wüssen ganz prllzls eingehaltene Abstände von
den benachbarten n.bbilclun?,en aufweisen. Die beiden Grundforderungen
«Ίτκΐ pj.so die Erreich uns: einer hohen Abbildungsqualität
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und eine präzise Anordnung der Abbildungen in einem bestimmten
Muster auf dem Halbleiterplättohen»
Bis jetzt werden die hinsichtlich ihrer Qualität besten Abbildungeomuster mit Hilfe kompliziert Kameras aufgenommen,
und zwar sog. "etep- and repeat-Kameras", die eine Optik
hoher öffnung aufweisen, um für das erforderliche Auflösungsvermögen zu sorgen. Mit Hilfe einer solchen Kamera wird eine
Mehrfachbildnaake hergestellt, die dann die Übertragung dieses
mehrere Abbildungen enthaltenden Musters auf das Halbleiterplättchen durch einfaches Kopieren gestattete XJm ,jedcch eine
Maske mit beispielsweise 30 χ 30 Abbildungen herzustellen, müssen durch das Musterbild . hindurch 900 Aufnahmen gemacht
werden, wobei für jede Belichtung das Musterbild mit einer Gsnauigkeit von 2,5*10 J am in eine bestimmte Lage gebracht
werden muss. Trots der guten Abbildungsqualität wird deshalb
die Verwendung dieser Kameras als auseerordentlich nachtailig
empfunden, da unter anderem hohe Herstellungskosten entstehen.
Ein weiteres, beUf-.nntea System sur Herstellung eines Musters mit
mehreren Abb j Ί. düngen arbeitet mit einer Lochreiiien-Kamerao Diese
weist eins Maske auf, die mit einen Muster mit grosser
Präzision in bestimmten Lagen angeordneter Öffnungen einheitlichen
Burchcseosera veroehen ist» DiG Auflösung bei den Abbildungen,
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die nit dieeer bekannten Vorrichtung hergestellt werden
können, wird von der Grosse der öffnungen sowie von deren
Abstand zur Hanke bestimmt. Die optischen ZigenBchaften einer
Lochkamera sind jedoch äusserst schlecht,- so dass die Abbildungequalität
unter derjenigen bei Verwendung einer "step- and repeat-Karaera" liegt. Andererseits hat diese Lösung jedoch
den Vorteil der Einfachheit und der Billigkeit.
Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, die Herstellung
mehrerer Abbildungen bsi Aufreunterhaltung einar hohen Abbildungsgüte
BU vereinfachen. Diese Aufgabe wird unter Vervendung einer
Einrichtung der eingangs erwähnten Art dadurch gelöst, dass
*)
zwischen den Schirm und den Musterbildträger ein optiocb.es
zwischen den Schirm und den Musterbildträger ein optiocb.es
flder Raster, Gitter angeordnet wird, da3 ein Huster^punktförai^er Quellen
bildet, welches der gewünschten Anordnung der Abbildungen auf dem Schirm entspricht, und daß ferner zur Erzeugung der
Pourier~Transformierten des Musterbildes auf den Gitter zwischen
den beiden letzteren eine erste Linse und zwischen dom Sitter und dem Schiru eine cweite Linse angeordnet wird=, Die monochromatische
Lichtquelle beleuchtet das Kusterbild, so dass
dessen Fourier-Txsnsformierte auf dun Gitter entsteht, bei dem
es sich vorzugsweise um ein HclogrsEUJ eines ifusters punktföreiger
Quellen handelt, das der gewünschten Anordnung der herausteilenden AbDiIdüngen entspricht. 3ie Fouriοr-^ransformierte
*) als Vorlage dienenden
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der Lichtwellen-Beugung am Hologramm wird dann auf dem Schirm
erzeugt, bei dem es sich um ein Halbleiterplättchen handeln kann,
in dem mikrominiat risierte, integrierte Schaltungen hergestellt
werden sollen,, Die erfindungsgemässe Einrichtung gestattet
es also, sämtliche Abbildungen direkt und auf einmal zu erzeugen,
und zwar unter Verwendung nur eines einzigen Musterbildes als Vorlage.
oder Raster
Es ist ferner häufig erwünscht, ein Muster~tfersehiedener Abbildungen
unterschiedlicher Musterbilder zu erzeugen, und es sollten auch komplexe Muster von Abbildungen eJ.nes Musterbildes
erzeugt werden. Mit einer Lochreihen-Kamera lassen sich solche gemischten Abbildungemuster nicht erzeugen. Mit der erfindungsgemäseen
Einrichtung ist es jeoch auf verschiedene Weise möglich. Beispielsweise tenn das Ealbleiterplättcher· durch ein erstes
Hologramm sowie ein Musterbild hindurch belichtet werden, so dass Abbildungen einer ersten Art auf dem Halbleiterplättohen
ein ganz bestimntes Muster ergeben«, Barauf werden ein zweites
Hologramm und ein zweitos Musterbild anstelle der erstgenannten gebracht, worauf eine zweite Belichtung erfolgt« Dieses Verfahren
lässt eioh beliebig oft wiederholen, so dass beliebig komplexe Abbildungsmustsr entstehen, Es ist aber auch möglich, von mehreren
oder Raster
Musterbildern gleichzeitig ein gemischtes KusteSviTus verschiedenen
Abbildungen herzustellen. Zv. diesem Zweck werden
mehrere Hologramme, von denen jedes oin Punktmuster repräsentiert,
dem zu erzeugenden Abbildungcmuster eines "bestimmte» Muster—
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bildea entspricht, nebeneinander, insbesondere auf einer einzigen Platte angeordnet, Jede3 Musterbild v/ird dann
von einer besonderen Lichtquelle beleuchtet, und die Fourier-Trans formier te des Beugungsbildes eines jeden Musterbilds
wird auf dem zugehörigen Hologramm erzeugte Die Pourieriranaforinierten
der Beugungsbilder der verschiedenen Hologramme werden ihrerseits wieder auf Ära Schirm bzw« auf dem Halbleiterplättchen
erzeugt, so dass auf diesem gleichzeitig ein gemischtes Abbildungsmuster mehrerer Musterbilder entsteht.
Die erfindungagemässe Einrichtung gestattet die Erzeugung von
Abbildungen mit einem hohen Auflösungsvermögen in einem einzigen Schritt.
Weitere, vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung darstellende Merkmale ergeben sich aus den Patentansprüchen und/oder aus der
nachfolgenden Beschreibung, die der Erläuterung sehrerer AusfÜhrungsbeipiele der Erfindung dient χ Eb aeigen:
Pig. 1 eine achematische Barstellung einer Einrichtung zur Erzeugung
eines Musters aus mehreren Abbildungen eines einzigen
Musterbilder! in einem Schritt,, Fig. 2 eine 3chematische Darstellung einer Einrichtung zur
Erzeugung eines Fourier-Transfcrraierten-Hologramms;
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?ig. 3 eine schematische Darstellung einer erfindung geaässen
Einrichtung zur Herstellung eines gemischten Musters aus Abbildungen verschiedener Musterbilder;
Pig. 4 ein Diagramm, das die Verteilung der Lichtintensität auf einem Schirm bei Verwendung eineβ zweidimensionalen
Beugungsgitters darstellt, und
Pig. 5 ein Diagramm der Lichtintensität auf einem Schirm
bei Verwendung eines Hologramms.
Die Pig. 1 zeigt eine Einrichtung zur Erzeugung mehrerer Abbildungen
einee öinaigen Musterbildes. Ein Musterbildträger 10 wird
EU dieser Zweok von einer mono/romatischen Lichtquelle 11 beleuchtet,
bei der es eich beispielsweise um einen Laser handeln kann. Dessen Lichtstrahlen passleren das Musterbild und
erzeugen ein Beugungsmuster, dessen Fourier-Transformierte
mit Hilfe einor Sammellinse 13 auf ein Hologramm 12 abgebildet
wird. Das komplexe Liohtmuster des Musterbildtrügera 10
bildet dann hinter den Hologramm ein weiteres, komplexes
BeugungsmuBter. Die Fourier-Transforaierte dieses aweiten Musters
wird mit Hilfe einer Sammellinse 16 auf eine fotoempfindliohe
Oberfläche eines Schirms abgebildet, wobei es sieb, beim vorliegenden
AusfUhrungsbeispiel bei dem Schira um ein Halbleiterplättchen
14 handeln soll, das von einem Halter 15 in der
richtigen Position gehalten wird«
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HIt dem verbaltnismäsaig einfachen System der Fig. 1 ist es
möglich, in einem einzigen Schritt gleichzeitig mehrere Abbildungen
deo Muoterbildcs 10 auf der liclitempfindlichen
Oberfläche dea Halbleiterplättchens 14 zu erzeugenc Die Brennweiten
der Sammellinsen 13 und 16 bestimmen die Abstände zwischen den verschiedenen Elementen der Gesamteinrichtung. So wird
beispielsweise der Abstand zwischen dem Musterbildträger 10 und dor Sammellinse 13 sowie dor Atstand zwischen den letzteren
und dem Hologramm 12 von dor Brennweite dieser Sammellinse
bestimmt. Entsprechend bestimmt die Brennweite der Sammellinse 16 die Abstände «wischen Hologramm 12 und Linse 16 sowie zvisohen
dieser und den Halbleiterplättchen. Die Toleranzen dieser Abstand·
sind nicht kritisoh.
So soll angenommen werden, dass die komplexe Wellen-Durchlassfunktlon
des ITueterblldträgers 10 als f(x',j') dargestellt
werden kann, und dass ferner der Musterbildträger in der Brennebene x*t' der Sammellinse 13 angeordnet sei. Befindet sich
auch das Hologramm 12 in einer Brennebene der Sammellinse 13,
näalioh der Ebene uv, dann erzeugt diese Sammellinse die
Fourier-Transformierte der Funktion f(x£y·) in der uv-Ebene.
Aus der Beugungstheorie, sowie der Theorie der Fourier-Tranefor-
1
ftationen'ist bekannt, dass die Amjjitude der Liohtwellen auf dem
ftationen'ist bekannt, dass die Amjjitude der Liohtwellen auf dem
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In dieser Gleichung bedeutet f^die Bronnweite dor Sammellinse
und λ die Wellenlänge des Lichts der Lichquelle 11. Hat das
in der Brennebene uv angeordnete Hologramm 12 eine Durchlasefunktion G(u,v), dann iat die Amplitude des das Hologramm durchdringenden Lichtes gleich dem Produkt P(u,v).G(u,v), da die
uv-Ebene auch eine Brennebene der Sammellinse 16 ist, so ersaugt diese auf dem Halbleiterplättohen 14 die Pourior-Transformierte
des Produkts I'(u,v).G(u,v). Die Ebene, in der das Halbleiterplättohen 14 liegt, ist mit xy bezeichnet und stellt eine
Brennebene der Sammellinse 16 dar. Die räumliche Verteilung der Lichtamplitude auf dieser Ebene wird also angegeben durch die
Funktion
h(*»y) "// F(u,v)G(u,v)e"i7—~^ux **'■ dudv
M
2λ (2)
wobei f2 die Brennweite der Sammellinse 16 iet. Entsprechend dem
PaltungstheoreB für Pourier-Transformationen löset sich die
Liontavplitudenrerteilung/der xy-Ebene darstellen durch t
duäv) -(j)
wobei mit "*" dae Talttmgeintegral beeeichnet wurde. Das erst·
Integral in Gleichung 3 ist die mathematische Darstellung dee
Masters auf dem Musterbildträger 10, modifiziert durch einen
Vergrösserusgsfaktor ί
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worin m = -fg/f-j der Vergrösaerungsfaktor ist. Stellt g(xry)
die Fourier-Transformation von G(u,v) dar, dann ist
gfoy) ip(u,-
und Gleichung (3) kann infolgedessen geschrieben werden als ι
h(x,y) » f(mx,my)*g(x,y)
Lässt sich die Fourier -Tranafbrnation der Funktion G(u,v)
sohreiboa als
so läset eich durch Einsetzen der Gleichung (7) in* Gleichung (6)
die Funktion in der sy-Ebene aohreiben als:
Ά r(mx-an, mg-b
>
pq
(Θ)
worin a der Abstand längs der x-Achse und b der Abstand
längs der y-Achae oein soll. Gleichung (8) beschreibt matheraatlsch
das ursprünglioheMuater auf den MusterbildtrMger 10, das durch das
Äologramm 12 verkleinert und aieinem Raster vervielfacht wurde.
Die Konfiguration des Rasters v/ird von der Funktion G(u,v) bestimmt, und durch Variation der Ausdrücke a und b kann
belieb ige Raator gebildet v/erden»
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Pig. 2 zeigt eine erfindungsgemäase Einrichtung zur Herstellung
QU er_£astßrs-r
dos Hologramm 12 eines MuatersVpunlrtröraiiger Quellen, das
der gewünschten Anordnung der Abbildungen des Musterbilds auf dem Sohirm entspricht. Hologramme werden häufig auoh als
modulierte Beugungsgitter beschrieben» Bei der üblichen Herateilung
eines Hologramme wird ein Beugungsgitter auf einer fotograflochen Platte dadurch hergestellt, dass man eine
Interferenz aua einem Bezugsstrahl mit einem Sekundärstrahl
erzeugt. Das Interferenzmuster auf der fotografischen Platte weist keinerlei Xhnlichkeit Bit dem Originalobjekt auf, jedoch
enthält es wesentlich mehr Informationen als eine Fotografie, KLt de» normalen Auge kann das in einem Hologramm enthaltene
Bild nicht erkannt werden, da die sichtbare Struktur ziemlich
unwesentlich und das Ergebnis eines bei weitem nicht perfekten Iiichtübertragungasystema it. Im Falle eines Hologramms
eines Mustere von Punkten kann das ursprüngliche Objekt eine Reihe von ITadellochern sein, die im gewünschten Muster angeordnet
sind. Jedoch lassen eich Qualitativ gute Abbildungen
nicht mit einem Hologramm erzeugen, das durch die Interferenz einer Liohtwelle, die durch eir. Muster von Ha-iellöehern hindurchgegangen
ist, mit einem Bezugsstrahl hergestellt wurde.
Bei der erfindungsgemässen Anordnung nach Fig, ?. wird das Hologramm
dadurch erzeugt, dasa man eine fotografische Platte
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mehrfaoh belichtet, und zwar für jede gewtlnachte Abbildung auf
den Sohlrn 14 einmal. Die In Fig. 2 dargestellte Einrichtung
enthält eine laser-Lichquelle 17, welche einen Laserstrahl
erzeugt, der teilweise von einer reflektierenden Oborflache,
beispielsweise einem Spiegel 18 so reflektiert wird, dass er auf einen weiteren Spiegel 19 trifft. Nach der Umlenkung
durch den letzteren wird der Strahl durch eine StTahlverbreiterungsoptik 21 verbreitert, und dann erfolgt eine Kollination durch
eine Kolliaatorlinse 22. Das Licht hinter der letzteren
stellt den Bezugsstrahl dar, Bit dessen Hilfe In einer fotografischen Platte 23 ein Interferenzmuster erzeugt wird. Dazu
wird noch ein durch eine öffnung Ib Spiegel 18 hindurchgehender
Teilstrahl des Lasers benötigt, der durch einen Spiegel 24
umgelenkt, und dann duroh eine Strahlverbreiterungsoptik 26 hindurch«··ohiokt. Dann erfolgt eine Ionisation des Teilliohtstrahls duroh eine Xollieatorlinee 27, worauf dieser Teillichtstrahl durch einen einstellbaren Spiegel 28 In Richtung
auf die fotografische Platte umgelenkt wird. Zur Herstellung des Hologramms wird die fotografische Platte 23, wie sohon erwähnt, für jede Abbildungslage einer Abbildung auf dem HaIbleiterplättchen 14 einmal belichtet. Bei jeder Belichtung wird
der Bezugsstrahl konstant gehalten, während der Objektstrahl
mit Hilfe des einstellbaren Spiegel 28 verstellt wird. Vor jeder Belichtung ist also der Spiegel 28 zu verstellen. Um
Abbildungen gleicher Stensität auf der lichtempfindlichen
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Oberfläche des Halbleiterplättohene 14 sicherzustellen, muss die
Belichtungszeit bei jeder jeweils einer Abbildungsposition entsprechenden Belichtung gleioh gewählt werden. Mit einem
mit Hilfe gemäas Pig. 2 hergestellten Hologramm lassen sich
bemerkenswert gute Auflösungswerte bei der Erzeugung mehrerer Abbildungen mit der Einrichtung gemäss Pig. 1 erreichen.
Diese Technik der Hologrammherateilung ist bekannt als sog„
von "optische Abbildungssynthese", und sie wird/D. Garbor et. al.
in Physics Letters 18, Hr. 2, Seite 116 vom 15. 8. 1965 beschrieben.
Eine derartige optieohe Abbildungssynthese läset
eich eetheefttisch verfolgent Stellt man die Bezugswelle dar als
Rw - Aoe
worin Aq die Amplitude der Beeugswelle und ou die Lage des
Beaugestrahls bezüglich der uv-Ebene bedeuten, und stellt man ferner die Objektwelle dar durch die Gleichungt
-i2T(apu + bqv)/f\
worin A1 die Amplitude der Objektwelle eein soll, so ist die
Amplitude des Interferenzraustere in der fotografischen
Platte 23 bei jeder Belichtung gleioh der Summe der rechten Saiten der Gleichungen (9) und (10) und stellt eich dar als:
A g <MD + DpV)
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Folgt man veiter den Erläuterungen von Gabor, so ergibt sioh
die Aaplitudentransaission su t
^h If (»pu + bqv) +
(12)
C1 und aC Konstanten sind und o.o. die komplex
Konjugierte von β t^x PU + 4 · alle übrigen Ausdrücke
wurden bereits früher erläutert. Für die Interferenz auf der fotografischen Batte 23 ist die Richtung der Objektwelle
für jede Abbildungslage gegeben durch die Ausdrücke a /f2 und b /f 2 in Gleichung (12), wobei a /f2 ein Winkel in
der uw-Ebene und b /f2 ein Wirikel in der vw-Bbene ist, wie
dies In Fig. 2 angedeutet wurde.
Sine weitere Möglichkeit zur Herstellung des Hologramme 12
besteht darin, dass man es mit einem computergesteuerten Schreiber erzeugt. Derartige Hologramme sind auch als
sogenannte "binary matched" Filter und als "low-information content" Hologramme bekannt. Die letzteren werden von B.H.Brown
und A.W.Lohmann In Applied Optics, Band 5, Seiten 967 bis
beschrieben. Sin mit Hilfe eines Computer -gesteuerten Sohreibers erzeugtes Hologiriiinm weist eine Reihe von Gitterschlitzen
unterschiedlicher Breite und lage auf. Obwohl die erwähnten Filter zur Erzeugung mehrerer Abbildungen desselben Masterbildes
geeignet sind, so weist dieses Verfahren doch einige
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Näherungen auf· Zur Erzeugung des gewünschten Musters mit Hilfe
eines Schreibers wird der Computer Qit der Punktion G(u,v)
programmiert β
Hehrere Abbildungen können auf der fotoempfindliohen Oberfläche
des Halbleiterplättehene 14 auch Qit Hilfe eines zweidimenaionalen
Gitters anstelle des Hologramms 12 erzeugt werden. Obwohl es
möglich ist, ein zwo!dimensionales Raster mit einem Muster von
30 χ 30 Abbildungen mit einer ausreichend gleichförmigen Abbildungsintensität herzustellen, so wird doch hierzu ein Gitter benötigt,
das nur ungefähr den 1000Osten Teil des auffallenden Lichte
durchläset und infolgedessen ausserordentlieh unzwecteäseig ist.
üblicherweise zeigen alt Hilfe solcher Gitter erzeugt» Anordnungen
mehrerer Abbildungen erhebliohe Intensit&tsunteraohiede. Die
Qualität der Abbildungen auf dem Halbleiterplättchen 14 hängt
von der Qualität des zweidimensionalen Gitteretab, wobei zu bemerken ist, dass solche Gitter hoher Qualität nioht allen väarw
zu erhalten sind. Die Wirkungsweise der Einrichtung gemäss
Pig. 1 istVabhängig davon, ob ein Hologramm oder ein zweidiBonaionalee Gitter verwendet wird, steta die gleiche,
ch
Musterbilder. Eine mono/romatisohe Lichtquelle 29 beleuchtet
ersten Kusterbildträger 31 und erzeugt hinter diesem ein
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einer Sammellinse 33 auf einem Hologramm 32 erzeugt wird. Eine
ch
zweite Bono/romatische Lichtquelle 34 beleuchtet einen zweiten
MusterbildtrSger 36, hinter dem ein komplexes Beugungswellenfeld entstehti von dem Bit Hilfe einer weiteren Sammellinse 38
auf einem Hologramm 37 ebenfalle die Fourier»-Tran3formierte
erzeugt wird. Eine Sammellinse 41. erzeugt schliesslich die
Fourier-Transformierte des Liohtwellenmustero hinter den HoIograeaen 32 und 37 auf der fotoempfindlichen Oberfläche eines
Schirme, beispielsweise eine HaüLeiterplättchena 39·
Die in Pig. 3 dargestellte Einrichtung arbeitet im wesentlichen
in der gleichen Weise wie die Einrichtung naoh Fig. 1. Die Gleichungen (1} bis (8) gelten für die Herstellung eines Kneterβ
von Abbildungen des ersten Mueterbildträgers 31, sie gelten aber
auoh für die Erzeugung der Abbildungen des zweiten Musterbildträgers 36. Ibt wesentlichen stellt daher die Einrichtung genäse
Fig. 3 lediglioh eine Verdopplung der in Fig. 1 dargestellten
Sinriohtung dar, um ein gemischtes Abbildungemuster zu erzeugen.
Der Unterschied ist lediglich der, dass die Hologramme 32 und auf derselben Fotoplatte erzeugt wurden, und dass die Sammellinse
41 die Pourier-Trsneformierte beider komplexer V/ellenfelder auf
der fotoempfindlichen Oberfläche dee HalbleiterplSttchens 39
erzeugt.
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Die Hologramme 32 und 37 werden aber jeweils gesondert auf der fotografischen Platte hergestellt, beispielsweise mit Hilfe
einer Einrichtung, wie sie die Pig. 2 darstellt. Selbstverständlich könnten auch nehr als zwei Hologramme auf derselben
Fotoplatte hergestellt werdenP sofern Abbildungen von mehr alB
zwei Musterbildern auf demselben Halbleiterplättchen 39
erzeugt werden sollen. Pur vier Musterbilder sind also vier
Hologramme auf einer Fotoplatte herzustellen.
Bei der Einrichtung gemäss Pig. 3 können die Hologramme 32 und
37 nicht durch zweidimansionale Gitter ersetzt werden, da das
licht-Be-^ungsrauster eines Gitters lediglich rechtwinklige
Muster erzeugt. Fig. 4 zeigt ein Beugungsmuster eines zweidlmensionalen Gitters. Bemerkenswert ist, dass die Öffnungen eines
Gitters in der uv-Ebene auf einem Element in der xy-Ebene
) eine Welle erzeugen, die in jeder Ordnung des Beugungsfeldes
eine Spitze aufweist. Dieee Spitzen erscheinen nicht nur an den
Öffnungen, sondern in einem'bestimmten Muster, dessen Art mit Hilfe der Beugungstheorie abgeleitet werden kann. Ein Gitter
mit einem unregelmässigen Muster von öffnungen erzeugt ein rechtwinkliges Beugungsnueter, das mit demjenigen übereinstimmt,
welches ein Gitter roit einem rechtwinkligen öffnungsmuater erzeugt. Werdan verschiedene Abbildungen gemischt, so würde
sich als Ergebnis ein unbrauchbares Gemisch der Kombination
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der verschiedenen Musterbilder ergeben,.
Fig. 5 zeigt den Verlauf der Lichfcamplitude in einem Element
der xy-Ebene, wenn zwischen den Linsen 13 und 16 ein
Hologramm angeordnet wird,, Das Lichtauster hinter einem Hologramm
bildet bestimmte und getrennte irreguläre Küster in jeder gewünschten Abbildungslageβ Das Wellenmuster für jede
Abbildung ist aohr schmal und tritt lediglich an der Stelle
der Abbildung auf« Infolgedessen kombinieren die verschiedenen Abbildungen eines einzigen Musterbildes nicht mit denjenigen
oder Rasteg
eines anderen Musterbilds, so dass ein Kuster/a~u3 mehreren
Abbildungen verschiedener Musterbilder mit Hologrammen herstellbar
lot.
Mit der in Fig- 3 dargestellten Einrichtung können die verschiedenen Abbildungen der unterschiedlichen Musterbilder
entwedar gleichzeitig oder nacheinander hergestellt werden.
Bei gleichzeitiger Herstellung werden die Musterbilder 31 und
36 gleichzeitig beleuchtet und bilden in einem 9in3igen Schritt auf dem Halbleiterplättchen 39 das gewünschte Abbildung flauet
er. Es ist aber auch möglich, die beiden Musterbildträger
wmA 36 nacheinander unfi getrennt zu beleuchten, 30 dass in
ainem Schritt nur die Abbildungen des jeweils beleuchteten Musfcerbildtragers
auf dem Halbleiterplättchsn 39 entstehen«, Fach
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der Herstellung des ersten Küsters wird dann der zweite
Musterbildträgsr beleuchtet, wodurch dann das gemischte
Abbildungsniuster entsteht»
Ein gemischtes Huster von Abbildungen kann auch noch mit einer
Einrichtung erzeugt werden, die gegenüber der in Fig. 1 dargestellten
geringfügig geändert ist. Zu diesem Zweck wird das Hologramm 12 durch eine fotografische Platte ersetzt,
die mehrere Hologramme enthält, und zwar für jedes der als Vorlage dienenden Musterbilder jeweils ein Hologramm. Die Sammellinse
13 muss dann so einstellbar sein, dass sie am jeweiligen
Hologramm die Fourier-Transformierte der Lichtwelle hinter den
Musterbild 10 erzeugt<> Um nun ein gemischtes Muster von
Abbildungen herzustellen, werden die verschiedenen Musterbilder jeweils einzeln in die xy-Ebene gebracht, worauf die Sammellinse
13 so eingestellt wird, dass dio Fourier- Transformierte auf dem gewünschten Hologramm entsteht,, Die untereinander gleichen
Abbildungen eines jeden, als Vorlage dienenden Musterbildes werden für sich und gleichzeitig auf der fo-toempfindlichen Oberfläche
des Halbleiterplättchens 14 erzeugt, so dass bei der
Erzeugung von Abbildungen dreier als Vorlage dienender Musterbilder drei getrennte Schritte erforderlich sind.
Ein« weitere Möglichkeit der Abwandlung der Einrichtung gemäss
Pig. 1 für die Erzeugung eines gemischten Musters von Abbildungen
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beeteht darin, das Hologramm 12 durch eine Fotoplatte zu ersetzen,
die mehrere Hologramme enthält, und zwar für jedes der als Vorlage dienenden Musterbilder ein Hologramm. Die Sammellinse 13
bleibt ortsfest eingebaut, und eine Maske wird über der fotogra-
bis
fischen Platte angebracht, um alle Hologramme/auf eines abzudecken. Auch dieses Verfahren benötigt mehrere Schritte, da jedes
Musterbild getrennt in die xy-Ebene gebracht und mit der Lichtquelle 1 beleuchtet werden muss. ·
Einer der Vorteile der erfindungsgemässen Einrichtung besteht
darin, dass ein Muster, d. h. eine bestimmte Anordnung mehrerer Abbildungen mit Hilfe eines einzigen Musterbildes hergestellt
werden kann, ohne dass ein Originalmuster, d.h. eine getreuer Vorlage des Abbildungsausters hergestellt werdm muss. Sollte
jedoch die Herstellung eines sochen Originalousters wünschenswert
sein, so kann das HalbleiterplSttchen in der xy-Ebene durch eine fotografische Platte ersetzt werden. In jedem Fall ist die
oh
von einer nono/romatisehen Lichtquelle beleuchtet, und die
Fourier-Transformierte der Liohtwellen hinter diesem als
Vorlage dienenden Musterbild wird auf der Oberfläche eines HoIograauBs erzeugt. Du^oh die Kombination des Hologramm-Musters oder
-Rasters mit der Pourier-Transformierten der Lichtvellen hinter
den Musterbild entsteht eine Anordnung aus mehreren Abbildungen auf einem Schirm oder dergleichen.,
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Claims (10)
1. Einrichtung zur Erzeugung mehrerer Abbildungen eines teilweise
lichtdurchlässigen, als Vorlage dienenden MufiberbildtrUgers
* auf einem Schirm, wobei der Kuaterbildträger'zwischen einer
Lichtquelle und dem Schirm angeordnet iat, dadurch gekennzeichnet,
daaa zwischen dein Schirm (14) und dem Nusterbildträger (10)
ein optisches Gitter (12) angeordnet ist, dau ein Muster oder Haater punktfö.rmiger Quellen bildet, welches der gewünschten
Anordnung der Abbildungen auf dem Schirm entspricht, und dass
fornor zur Erzeugung der Fourier-Tranaformierten des Musterbildes auf dein Gitter zwischen den beiden letzteren eine
erste Linse (13) und zwischen dem Gitter und dem Schirm eine
zweite Linse (I6) angeordnet ist.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gele ennz ei ohne t, dass das
Gitter (12) ein Interferenzmuster-Hologranm eines Musters
punktfönniger Quellen ist, welchletzteres der gewünschten Anordnung
der Abbildungen auf dem Schirm entspricht.
3c Einrichtung nnch xinspruch 2, dadurch gekennzeichnet, d"is3 das
Gitter ein Fourier-Transformierten-Holograrar: ist.
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4. Einrichtung nach einem oder mehreren der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtquelle (11) ein laser isi„
5. Einrichtung nach einem oder mehreren der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass der Schirm ein Halbloiterplättchen
oder eine Fotoplattölst. · '
6. Einrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass das
Hologramm ein durch optische Tiberlagerung erzeugtos Hologramm ist.
7. Einrichtung nach Anspruch 3# dadurch gekennzeichnet, dass das
Hologramm da von einem Computer-gesteuerten Schreiber erzeugtes
Hologramm ist.
8. Einrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 2 bis 7,
gekennzeichnet durch laehrere Musterbilder (31,36) und eine {
entsprechende Anzahl erster Linsen (33, 38) und Hologramme (32,37)·
9· Einrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Hologramme au-f einer gemeinsamen Platte angeordnet sind.
10. Einrichtung naoh Anspruch 8 oder 9, gekennzeichnet durch mehrere
Lichtquellen (29,34) zur gleichzeitigen Beleuchtung der Musterbilderο
BAD 009833/1800
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (3)
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DE1572868B2 DE1572868B2 (de) | 1973-10-18 |
DE1572868C3 DE1572868C3 (de) | 1974-05-16 |
Family
ID=24473301
Family Applications (1)
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-
1967
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- 1967-12-20 DE DE1572868A patent/DE1572868C3/de not_active Expired
- 1967-12-26 FR FR1551332D patent/FR1551332A/fr not_active Expired
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US3529887A (en) | 1970-09-22 |
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Legal Events
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C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
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