DE3217752C2 - Abtastverfahren und Abtastblende zur Vermeidung von Moiré in der Reproduktionstechnik - Google Patents
Abtastverfahren und Abtastblende zur Vermeidung von Moiré in der ReproduktionstechnikInfo
- Publication number
- DE3217752C2 DE3217752C2 DE19823217752 DE3217752A DE3217752C2 DE 3217752 C2 DE3217752 C2 DE 3217752C2 DE 19823217752 DE19823217752 DE 19823217752 DE 3217752 A DE3217752 A DE 3217752A DE 3217752 C2 DE3217752 C2 DE 3217752C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- grid
- template
- unit cell
- area
- scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/40—Picture signal circuits
- H04N1/40075—Descreening, i.e. converting a halftone signal into a corresponding continuous-tone signal; Rescreening, i.e. combined descreening and halftoning
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/024—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original
- H04N1/028—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original for picture information pick-up
- H04N1/029—Heads optically focused on only one picture element at a time
Abstract
Abtastverfahren für bereits gerasterte Vorlagen in der Reproduktionstechnik unter Verwendung einer speziellen Blende zur Vermeidung von Moire effekten bei der Wiederaufzeichnung.
Description
Technisches Gebiet
Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Reproduktionstechnik,
wobei bei der Abtastung von bereits gerasterten Vorlagen für die spätere Reproduktion ausgegangen
wird, insbesondere auf das Gebiet der Drucktechnik.
Stand der Technik
Bei der elektronenoptischen Abtastung von gerasterten Vorlagen auf Scannern und Graviergeräten entsteht
das Probiem, daß durch Überlagerung des Vorlagenrasters
einerseits und des bei der Aufzeichnung in der Maschine zugesetzten Rasters andererseits ein störendes
Moire entsteht Bei der Abtastung wird jeweils aus einer gleichmäßig beleuchteten Vorlagenstelle mittels
einer Blende ein kleiner Bildpunkt auf der sensitiven Fläche eines elektronischen Lichtempfängers abgebildet,
der das elektronische Signal für die Weiterverarbeitung und schließlich die Aufzeichnung erzeugt.
Ist die Größe des abgebildeten Flecks nicht groß gegen die Rasterweite einer gerasterten Vorlage, so erscheint im Ausgangssignal des Lichtempfängers in der Regel die Folgefrequenz der an der Abtastoptik bei der Abtastung vorbeilaufenden Rasterpunkte. Diese unerwünschte Frequenz interferiert mit der Frequenz, die dem Helligkeitssignal zur Aufrasterung der Aufzeichnung zugesetzt wird.
Ist die Größe des abgebildeten Flecks nicht groß gegen die Rasterweite einer gerasterten Vorlage, so erscheint im Ausgangssignal des Lichtempfängers in der Regel die Folgefrequenz der an der Abtastoptik bei der Abtastung vorbeilaufenden Rasterpunkte. Diese unerwünschte Frequenz interferiert mit der Frequenz, die dem Helligkeitssignal zur Aufrasterung der Aufzeichnung zugesetzt wird.
Aus der deutschen Patentanmeldung P 30 10 880 ist ein Verfahren zur Vermeidung von Moire in dem genannten
Falle bekannt, das die Rasterstruktur der Vorlage und damit die unerwünschte Frequenz im Bildsignal
dadurch verhindert, daß die abtastende Optik um einen gewissen Betrag unscharf gestellt wird. Um den
dabei auftretenden Schärfeverlust zu vermeiden, wird bei dieser Patentanmeldung mit Hilfe einer elektronisehen
Unscharfmaskierung der Schärfeverlust mindestens zum Teil wieder kompensiert.
Es ist aus dem Handbuch, Agfa-Gevaeri, Grafisches Material, Halbtonfotografie, 12, 1969, Seiten 132—137
ein Verfahren bekannt, bei dem durch Beugung an Blenden die Vorlage entrastert wird. Dieses Verfahren
weicht aber von der vorliegenden Erfindung ab, da dort die verwendeten Blenden zur gleichzeitigen Abbildung
der gesamten Vorlage ausgelegt und benutzt werden. Die dort beschriebenen Blenden sind nicht geeignet für
die punkt- und zeilenweise Abtastung einer Vorlage, wie dies in elektronischen Reproduktionsgeräten geschieht.
Aufgabenstellung
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Abtastverfahren und eine Blende anzugeben,
die es gestatten,ein im beliebigen Rasterwinkel und in beliebiger Rasterkonfiguration aufgerastertes Bild als
Vorlage in der Reproduktionstechnik zu benutzen, ohne
daß bei der Wiederaufzeichnung selbst wenn diese ungerastert, in einer anderen Rasterweite, einem anderen
Rasterwinkel oder einer anderen Rasterkonfiguration erfolgt weder störendes Moire noch unzulässiger Schärfeverlust
auftritt.
Die Erfindung erreicht dies durch die in den Ansprüchen 1 —3 genannten Merkmale.
Die Erfindung wird im folgenden anhand der Fig. 1 — 12 näher beschrieben. Es zeigt
Fig. 1 Rastermasche und Elementarzelle im Vorlagenraster,
Fig. 1 Rastermasche und Elementarzelle im Vorlagenraster,
F i g. 2:3; 4 Beispiele für Elementarzellen und
Fig. 5 bis 12 verschiedene Phasen des Abtiistvorgangs.
Im Prinzip wird die Aufgabe, wie im folgenden beschrieben, durch Wahl einer in Form und Größe geeigneten
Abtastblende, die zum Raster der Vorlage in geeigneter V/cisc orientiert ist. gelöst.
Zugrundegelegt sei ein periodisches Voriagenraster, bei dem beliebige Maschenweiten und beliebige Winkelungen
zugelassen sind. Der optische Dichteverlauf der einzelnen Rasterpunkte läßt sich dann durch eine Funktion
Φ (χ. y) beschreiben. Betrachtet man diese Funktion
über eine Fläche mit gleichbleibendem Tonwert, so ist sie periodisch. Sie habe die Periode A in X-Richtung und
die Periode Bin Y-Richtung(s. Fig. I), wobei die Koordinaten
X und Keuch schiefwinklig sein können. Hin die
Rasterperiode aus dem Abtastsignal zu eliminieren, kann der durch eine Blende definierte Abtastfleck ein
Rechteck (bei schiefwinkligen Koordinaten ein Parallelogramm) mit den Kanten η χ Aünam χ Β sein, wobei
η und m natürliche Zahlen sind und kann parallel zu den Achsen des Koordinatensystems ausgerichtet sein.
Eine weitere Möglichkeit besteht z. B. darin, daß Rechteck bzw. Parallelogramm so zu wählen, daß die
Diagonalen die Länge η χ 2A und m χ 2B haben und
ebenfalls parallel zu den Achsen (X, Y) ausgerichtet sind. Wählt man im ersten Beispiel /7=1 und m=l, so
erhält man einen Abtastfleck, der eine rnoirefreie Abtastung
in einem beliebigen Raster mit optima/:? Bildschärfe
erlaubt Es können, wie unten gezeigt, auch Blenden zugelassen werden, deren Begrenzung nicht
geradlinig ist und deren öffnung keine zusammenhängende Fläche zu sein braucht.
Bei der Ausrichtung der Blende zu den Achsen können sogar Winkelfehler zugelassen werden, wobei noch
in den meisten Anwendungsfällen zufriedenstellende Resultate erzielt werden.
F i g. 1 zeigt ein Voriagenraster, das mit dem oben beschriebenen Verfahren abgetastet wird. Es läßt sich
allgemein duch ein zweidimensionales Gitter aus einzelnen Rastermaschen beschreiben, in deren Mittelpunkten
die Mittelpunkte der Rasterpunkte liegen. Ein solches Rastergitter läßt sich aus Elementarzellen aufbauen,
wobei sich der Begriff Elementarzelle folgendermaßen definieren läßt: Die Fläche einer Elementarzelle
entspricht der Fläche einer oder mehrerer Rastermaschen des Vorldgenrasters. Die Elementarzellen können
beliebige zusammenhängende oder nicht zusammenhängende gleiche Flächen sein, deren Gesamtheit das
Rasternetz der Vorlage lückenlos und ohne Überlappung überdeckt, wobei jede einzelne Elementarzelle so
orientiert ist, daß die relative Lage der Elementarzelle zur Rastermasche über das gesamte Voriagenrasternetz
gleich ist.
In Fig. I ist, wie bereits erwähnt, ein solches Voriagenrasternetz
N mit den Rasterabständen A. B und den Rasterpunkten RPdargestellt. In dieses Rasternetz sind
durch stärkere Linien hervorgehoben eine Rastermasche RM unif eine Elementarzelle EZ eingezeichnet.
Wie aus diesem speziellen Beispiel ersichtlich, ist hier die Elementarzclle E? so gewählt, daß sie sich mit der
Raslermasche /?Mdeckt.
Fi g. 2 zeigt zwei weitere Beispiele für Elementarzel-Inn.
Die Elementarzelle EZi hat die Form eines Rechtecks und erstreckt sich über zwei benachbarte Maschen.
Die Elementarzelle EZ3 ist ein Quadrat, das um 45°
gegen die Rasterrichtung geneigt ist und besteht ebenso wie EZi aus vier halben Rastermaschen.
F i g. 3 zeigt eine andere Form von Elementarzellen. Die Elcmcntarzelle EZa, gibt ein Beispiel für eine nicht
geradlinig begrenzte, aber zusammenhängende Form. Wie ersichtlich, überdeckt sie in ihrer Gesamtheit ebenfalls
das ganze Rasternetz definitionsgemäß.
F i g. 4 zeigt ein Beispiel ;ür eine Elementarzelle EZ^
mit nicht zusammenhängender Fläche. Es sind auch andere Elementarzellen mit nicht zusammenhängender
Fläche möglich, soweit sie die vorgenannten Definitionskriterien erfüllen.
Aus solchen Eiementarzellen wird die Form und Größe
der eigentlichen Abtastblende hergeleitet.
Weil bei elektronenoptischer Bildabtastung die Rastermasche über ein optisches System auf den Lichtempfänger
abgebildet wird, dessen Abbildungsmaßstab in der Regel nicht 1 :1 ist, hat die Blende in ihren Abmessungen
nicht unbedingt die tatsächliche Größe der Elementarzelle. Die tatsächliche Blendenöffnung ist ein
ähnliches Abbild der Elementarzelle, das dem Abbildungsmaßstab entspricht
Die Fig.5—12 zeigen verschiedene aufeinanderfolgende
Phasen einer Vorlagenabtastung, wobei zum besseren Verständnis die einfache quadratische Blenden-
und Elementarzellenanordnung aus F i g. 1 zugrunde gelegt wurde. In diesem Beispiel wird, ausgehend von
F i g. 5, eine Blende BL entlang der Richtung eines Pfeils PFrelativ zur Vorlage bewegt Man e1 Vsnnt leicht, daß
in den einzelnen dargestellten Phasen ä;sssr Bewegung
das Verhältnis schwarzer und weißer Flächenanteile, gleiche Rasterpunktgröße vorausgesetzt innerhalb des
ausgeblendeten Bereichs unabhängig von der Position der Blende ist. Die Ortsfrequenz des Vorlagenrasters ist
damit aus dem Abtastsignal eliminiert. Das gilt, wie die Abbildungen zeigen, selbst dann, wenn die Relativbewegung
von Blende und Vorlage in einem beliebigen Winkel « zum Vorlagenraster erfolgt, wie die gestrichelte
Linie in den F i g. 6—12 andeutet.
In modernen elektronischen Reproduktionsgeräten entsteht die Relativbewegung zwischen Vorlage und
Abtastorgan normalerweise dadurch, daß die Vorlage auf eine rotierende Trommel aufgespannt ist und sich
das Abtastorgan kontinuierlich oder schrittweise in axialer Richtung an der Trommel vorbeibewegt. Die
Abtastung erfolgt dadurch entweder in Form einer Helix mit kleiner Steigung oder mit parallelen Umfangslinien.
(Letzteres ist auch bei Flachbettabtastern der Fall).
Ist z. B. die Vorlage ein rechteckiges unter 30° gerastertes B::d, das mit seinen Kanten in Umfangsrichtung auf
der Trommel aufgespannt ist, so ergibt sich bei der Abtastung eine Relativbewegung, wie in F i g. 5- 12 dargestellt.
Beim Abtastvorgang ist es von Bedeutung, daß die Blende entsprechend der Elementarzelle, von der sie
abgeleitet ist, zum Voriagenraster ausgerichtet ist, wobei es, wie die Praxis zeigt, nicht auf große Genauigkeit
ankommt
Die Blende darf bei der Abtastung im Gegensatz zu der oben definierten Eiementarzelle die Vorlage überlappend
oder auch mit Zwischenräumen erfassen. Im erstere:- Falle wird feinere Auflösung erreicht, was z. B.
von Bedeutung ist, wenn die Aufzeichnung in einem etwa gleich feinen ccicr feinerem Raster, aber unter anderem
Rasterwinkel als die Vorlage erfoigen soll. Der umgekehrte Fall is: vorteilhaft (Zeitersparnis), wenn in
gröberem Raster aufgezeichnet werden soll.
Grundsätzlich kann eine solche Abtastblende in der üblichen Art, etwa durch Stanzen, Ätzen, Funkenerodieren, Perforieren mittels Hochenergiestrahlen van metallischen Scheiben oder durch entsprechende Teilbedampfung von durchsichtigem Material mit lichtundurchlässigem Niederschlag hergestellt werden. Ebenfalls ist es möglich, Lichtleitern einen entsprechenden Querschnitt zu geben.
Grundsätzlich kann eine solche Abtastblende in der üblichen Art, etwa durch Stanzen, Ätzen, Funkenerodieren, Perforieren mittels Hochenergiestrahlen van metallischen Scheiben oder durch entsprechende Teilbedampfung von durchsichtigem Material mit lichtundurchlässigem Niederschlag hergestellt werden. Ebenfalls ist es möglich, Lichtleitern einen entsprechenden Querschnitt zu geben.
Die Erfindung findet zwar in der Reproduktionstechnik vorwiegend Anwendung bei der optoelektronischen
Abtastung, jedoch kann sie ebenso in solchen Fällen eingesetzt werden, bei denen eine gerasterte Vorlage
etwa zeilenweise abgetastet wird, wobei die Aufzeichnung auf ein lichtempfindliches Medium direkt durch
das von der Vorlage reflektierte Licht über eine entsprechende optische Einrichtung zur Abbildung (z. B.
Linsensysteme und/oder Lichtleitfasern) über die erfindungsgemäße
Blende erfolgt.
Ein bevorzugtes Anwendungsgebiet ist beispielsweise in der Drucktechnik gegeben, wenn zur Erstellung
der Druckform von gerasterten Vorlagen ausgegangen wird. Es tritt häufig der Fall sein, daß die Originalvorlage
nicht mehr im Zugriff ist. sondern nur noch tin bereits gerasterter Druck oder gerasterte Farbauszüge
verfügbar sind.
Ein bedeutender Anwendungsfall liegt in der heute vielfach praktizierten sogenannten Offset-Tiefdruck-Conversion.
wie sie in der DE-AS 28 05 874 beschrieben ist.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen
25
35
40
45
50
60
Claims (3)
- Patentansprüche:' 1. Abtastverfahren zur Vermeidung von Moire in der Reproduktionstechnik, insbesondere bei optoelektronischer Bildabtastung, wobei von einer bereits gerasterten Vorlage ausgegangen wird, dadurch gekennzeichnet, daßa) zur Abtastung eine Blende verwendet wird, deren öffnung einer Elementarzelle entspricht, wobei die Fläche der Elementarzelle der Fläche einer oder mehrerer Rastermaschen des Vorlagenrasters entspricht und eine beliebig begrenzte zusammenhängende oder nicht zusammenhängende Fläche ist und das Rasternetz der Vorlage durch die Elementarzeüen lückenlos und ohne Überlappung überdeckt wird wobei die einzelne Elementarzelle so orientiert ist, daß die relarite Lage zwischen Elementarzelle und Rastermasche über das ganze Vorlagenraster gleich ist,b) die Symmetrieachsen der Blende bei der Abtastung etwa parallel zu den Symmetrieachsen der Elementarzellen im Vorlagenraster, wie sie bei der Aufspannung der Vorlage für die Abtastung gegeben sind, ausgerichtet sind undc) die Vorlage duch eine beliebige Relativbewegung zwischen Blende und Vorlage abgetastet wird.
- 2. Blende zur Duchfüiirung -*is Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Öffnung der Blende einer ElemerV xzelle entspricht, wobei die Fläche der Elementarzelie der Fläche einer oder mehrerer Rastermaschen des Vorlagenrasters entspricht und eine beliebig begrenzte zusammenhängende Fläche isit und das Rasternetz der Vorlage durch die Elementarzellen lückenlos und ohne Überlappung überdeckt wird und wobei die einzelne Elementarzelle so orientiert ist. daß die relative Lage zwischen Elementarzelle und Rastermasche über das ganze Vorlagenraster gleich ist.
- 3. Blende zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Öffnung der Blende einer Elementarzelle entspricht, wobei die Fläche der Elementarzelie der Fläche einer oder mehrerer Rastermaschen des Vorlagenrasters entspricht und eine beliebige begrenzte nicht zusammenhängende Fläche ist und das Rasternetz der Vorlage durch die Elementarzellen lückenlos und ohne Überlappung überdeckt wird und wobei die einzelne Elementarzelle so orientiert ist, daß die relative Lage zwischen Elementarzelle und Rastermasche über das ganze Vorlagenraster gleich ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823217752 DE3217752C2 (de) | 1981-05-20 | 1982-05-12 | Abtastverfahren und Abtastblende zur Vermeidung von Moiré in der Reproduktionstechnik |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3120030 | 1981-05-20 | ||
DE19823217752 DE3217752C2 (de) | 1981-05-20 | 1982-05-12 | Abtastverfahren und Abtastblende zur Vermeidung von Moiré in der Reproduktionstechnik |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3217752A1 DE3217752A1 (de) | 1982-12-23 |
DE3217752C2 true DE3217752C2 (de) | 1985-05-02 |
Family
ID=25793389
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823217752 Expired DE3217752C2 (de) | 1981-05-20 | 1982-05-12 | Abtastverfahren und Abtastblende zur Vermeidung von Moiré in der Reproduktionstechnik |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3217752C2 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4400117A1 (de) * | 1994-01-04 | 1995-07-13 | Siemens Ag | Rasterung für digitale Bilderfassung |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3315585A1 (de) * | 1983-04-29 | 1984-10-31 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Video-aufnahme- bzw. -wiedergabevorrichtung |
IL115166A (en) * | 1991-04-30 | 1997-02-18 | Scitex Corp Ltd | Apparatus and method for descreening |
-
1982
- 1982-05-12 DE DE19823217752 patent/DE3217752C2/de not_active Expired
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
NICHTS-ERMITTELT |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4400117A1 (de) * | 1994-01-04 | 1995-07-13 | Siemens Ag | Rasterung für digitale Bilderfassung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3217752A1 (de) | 1982-12-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0065281B1 (de) | Abtastverfahren und Abtastblende zum Unterdrücken von Moiré bei der Abtastung gerasterter Vorlagen | |
DE3390498C2 (de) | Verfahren zum Abtasten von Rastervorlagen zur Gewinnung von Signalen f}r die Tiefdruckgravur | |
EP0097724B1 (de) | Abtastverfahren und Abtasteinrichtung | |
DE3416565A1 (de) | Umrasterung eines gespeicherten, digitalen halbtonbildes | |
DE2948341A1 (de) | Verfahren zum verarbeiten von bildelementen und vorrichtung zum verarbeiten einer bilddatenreihe | |
DE2621057A1 (de) | Vorrichtung zum herstellen einer raster-reproduktion | |
EP0074422A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Druckformen mittels unregelmässig verteilter Druckpunkte | |
DE3501691C2 (de) | ||
DE2106678A1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Magnetfeldspule | |
DE938351C (de) | Verfahren zur Herstellung gerasterter Druckformen durch lichtelektrische UEbertragung von Bildvorlagen | |
DE2627247C2 (de) | Scanner zur Aufzeichnung von Halbtonrasterpunkten, die aus linienförmig belichteten Bereichen aufgebaut sind | |
DE10022225B4 (de) | Mehrstufen-Rasterung mit Rastern beliebiger Rasterweiten und Rasterwinkel | |
EP0108160A1 (de) | Verfahren zur Einstellung und Überwachung eines Belichtungsflecks | |
DE3521682A1 (de) | Verfahren zum abtasten und aufzeichnen von bildern | |
DE2156333A1 (de) | Faksimile-Abtaster | |
DE3217752C2 (de) | Abtastverfahren und Abtastblende zur Vermeidung von Moiré in der Reproduktionstechnik | |
CH632702A5 (de) | Verfahren zur herstellung gerasterter druckformen. | |
DE1572868A1 (de) | Einrichtung zur Erzeugung mehrerer Abbildungen | |
DE3337582A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur wiedergabe eines halbtonbilds durch abtasten | |
DE69733133T2 (de) | Auflösungsverbesserung bei einem Bildsetzer | |
DE19880703C1 (de) | Verfahren zur digitalen Rasterung von Halbtonbildern mit Rastern beliebiger Rasterweiten und Rasterwinkel | |
DE4303081C2 (de) | Verfahren und Einrichtung zur Belichtungs-Kalibrierung von Aufzeichnungsgeräten | |
DE10353869A1 (de) | Verfahren und Einrichtung zur Bebilderung einer Druckform | |
DE102004008074A1 (de) | Verfahren und Testform zum Abgleichen der Belichtungsköpfe in einem Belichter für Druckvorlagen | |
EP0036548B1 (de) | Verfahren zum Gravieren von Druckformen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: LINOTYPE-HELL AG, 6236 ESCHBORN, DE |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |