DE3018511A1 - Verfahren fuer die chemische vernickelung von metallkoerpern - Google Patents
Verfahren fuer die chemische vernickelung von metallkoerpernInfo
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Description
_ 3 Beschreibung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren für die "chemische Vernickelung
von Metallstücken, die im Maschinenbau, Gerätebau, in der elektrotechnischen Industrie, bei der Produktion ven
Elektronen-Rechentechnik und auf anderen Gebieten /nwendung
finden.■
Es sind Verfahren für die chemische Vernickelung von Metallkörpern
bzw. -bauteilen bekannt, bei denen die gebrauchsfertige Lösung direkt im Arbeitsb?d. korrigiert wird, wobei die
Korrektur des Ärbeitsbades in Abhängigkeit vom pH-Wert vorgenommen
wird (Fertigungstechnik und Betrieb, 2S (197S), 1Q,
624-625).
Ss ist ein weiteres Verfahren zum Zusammensetzen und Korrigieren
von Lösungen für die chemische Vernickelung bekannt, bei weichern zur Herstellung der gebrauchsfertigen Losung für
die chemische Vernickelung zwei konzentrierte Lösungen und entminerälisiertes ¥asser verwendet werden und die Korrektur
mittels Zugeben von zwei konzentrierten Lösungen in Abhängigkeit von der Konzentration der Nickel- und Hypophosphitionen
vorgenommen wird, was mit komplizierten analytischen Arbeitsprozessen verbunden ist (BG-Urheberschein Nr. 23 495).
Es ist noch ein komplizierteres Verfahren zur chemischen Vernickelung
bekannt, bei welchem die Korrektur der Betriebslösung in Abhängigkeit von fünf von den Komponenten der Betriebslösung
für die chemische Vernickelung vorgenommen wird (US-PS 3 934 054).
Ein gemeinsamer Nachteil dieser Verfahren besteht in den
komplizierten analytischen Arbeitsprozessen zur Korrektur, indem unabhängig von der ununterbrochenen Korrektur die Geschwindigkeit
der Ablagerung des Überzugs für eine längere
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BAD
Zeitspanne (z.B. 100 Stunden) eine sich vermindernde Größe ist.
Die AuTgf.be der Erfindung besteht im Erarbeiten eines Verfahrens
zur chemischen Vernickelung von Hetallbauteilen, bei welchem die Korrektur der Betriebslösung" vereinfacht
ist, sowie eine ständige Ablagerungsgeschwindigkeit, konstante Zusammensetzung und sehr gute Eigenschaften des erhaltenen
Überzugs erreicht werden.
Diese Aufgabe wird . erfindungsgemäß gelöst, indem man das bekannte Verfahren zur chemischen Vernickelung benutzt, bei
welchem drei konzentrierte Lösungen gebraucht werden, deren erste Nickelsalz und Beschleuniger enthält, die zweite Lösung
ein Reduktionsmittel, einen Komplexbildner, ein Stabilisierungsmittel und ein Benetzungsmittel und die dritte ein Reduktionsmittel
von der zxveiten Lösung, einen Komplexbildner
und ein Stabilisierungsmittel» Die Betriebslösung wird mittels
Vermischen der ersten und der zweiten konzentrierten Lösung mit entmineralisiertem Wasser in Volumenverhältnissen
von 10 bis 20 % : 10 bis 20.% : 6o bis 80 JsJ hergestellt.
Die Korrektur der Betriebslösung wird mittels Zugabe bei der Betriebstemperatur von entsprechend gleichen Mengen der ersten
und dritten konzentrierten Lösung, in Abhängigkeit von
der Flächenbeanspruchung (dm /1 der Betriebslösung), in gleichen Zeitabständen vorgenommen, wobei die Zeitabstände eine
volle Zahl Minuten darstellen, welche dem Metallgehalt in Grammen zahlenmäßig gleich sind. Gleichzeitig wird die Temperatur
der Betriebslösung linear-ansteigend erhöht, von der optimalen Temperatur bis zur Temperatur mit 2°C niedriger als
die Siedetemperatur der Betriebslösung.
Die Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens gegenüber den
bisher bekannten Verfahren zur chemischen Vernickelung von Metallteilen sind folgende:
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■„ So vlrd.eine wesentliche Vereinfachung der Korrektur
erreicht, indera man-"-gleiche Mengen der korrigierenden
L-:-sungen zuführt;
" die Juialyse der Konzentrationen der Komponenten fällt
es wird die Notwendigkeit der· Kessung des ρΗ-ΐ/erts vermieden
j _" "-V = "--:"■ - - .
,: es "iWird .die, Zuverlässigkeit erhöht, v/ob ei die Qualität
■-". des Nickelüberzuges erhalten bleibt;
die Ablagerung des Überzuges weist eine ständige Geschwindigkeit
auf.
Anhand des nachstehend angeführten Beispiels wird das Verfahren
zur chemischen Vernickelung von Metallteilen näher erläutert, ohne/daß es hierauf eingeschränkt wird.
InFig. 1 ist das Schema einer Apparatur zur Durchführung
des erfindungsgemäßen Verfahrens dargestellt, die aus einem Arbeltsbad 1 besteht, das mit der Betriebslösung 2 gefüllt
ist, in der die zu bearbeitenden Metallteile 3 eingetaucht sind. 4 ist eine Filterpumpe, 5 ein Thermoregulator, 6 ein
Thermometer, 7 eine Vorrichtung zum Zuführen des Energieträgers,
8, 9 und 10 sind drei Behälter, die entsprechend die erste, die zweite und die dritte konzentrierte Lösung
enthalten. 11 ist ein Behälter für entmineralisiertes /Wasser,
12, 13 und 14 sind drei Doslergeräte, entsprechend f'ir die
erste, die-, zweite und die dritte konzentrierte Lösung. 15
ist ein Dosierer für/das entmineralisierte Wasser, 16 ist
eine Zeitmeßeinheit und 17 eine Steuereinheit für die Dosiergeräte . Der Behälter 8 wird mit der ersten konzentrierten/Lösung
gefüllt, die durch Auflösen in entraineralisiertera Wasser folgender Substanzen hergestellt wird:
: Nickelchlorid (Heptahydrat) - 200 g/l
Ammoniumfluorid (wasserfrei) - 10 g/l
030048/0757 BAD ORlQINAL,
-D-
Der Behälter 9 wird nit eier zweiten konzentrierten Lösung
gefüllt, die mittels Aufschließen in entmineralisiertem Wasner
folgender Sxibstanzen hergestellt wird;
Natriumhypophosphat (Konohydrat) - 245 g/l
Natriumacetat (Trihydrat) - 120 g/l
Milchsäure 90 % 195 ml/l
Hydroxykarbonatblei (wasserfrei) - 10 mg/1
Natriuralaurylsulfat - 80 mg/l
Der Behälter 10 wird mit der dritten konzentrierten Lösung
gefüllt, die mittels Aufschließen in entmineralisiertem Wasser folgender Substanzen hergestellt wird:
Natriumhypophosph.it (Monohydrat) - 200 g/l
Milchsäure 90 % - 50 ml/1 .
Natriumacetat (Trihydrate) "-■-■- 40 g/l Anraoniumhydroxid (25 %) - 150 ml/l
Natriumthiosulfat (Pentahydrat) - 100 mg/1
Das Arbeitsbad 1 wird mit Betriebslösung 2 folgenderweise gefüllt: Das Dosiergerät 15 läßt entmineralisiertes Wasser
in einer Menge von 80 % (in Volumen) vom Arbeitsvolumen des Bades ein. Von den Dosiergeräten 12 und 13 wird je 10 % (in
Volumen) vom Arbeitsvolumen des Bades entsprechend von der ersten und zweiten konzentrierten Lösung zugeführt. Der ITi kkelgehalt
der auf diese Weise hergestellten Betriebslösung weist 5 g/l auf. Die Filterpumpe 4 wird in Betrieb gesetzt,
v/elche die Betriebslösung gleichzeitig filtriert und umrührt. Danach wird auf Befehl der Zeitmeßeinheit 16 vom Thermoregulator
5 und der Ausiührungsvorrichtung 7 Energie zum Arbeitsbad 1 zur Erhitzung der Betriebslösung 2 zugeführt. Mittels
des im Arbeitsbad angebrachten Thermometers 6 wird die Temperatur gemessen. Wenn die optimale Temperatur von 920C erreicht
wird, geht von der Zeitmeβeinheit 16 zur Fördervorrichtung
(in Fig. 1 nicht angegeben) ein Befehl zum Einlassen der zu bearbeitenden Teile 3 in die Betriebslösung 2 aus,
0 30048/0757
'"''v./ . jx ■ -
BAD ORIGINAL
-.womit die chemische Vernickelung beginnt. Die Flächenbelastung
der Betriebslosung beträgt 0,75 dm^/l. Die Zeitneß-.einheit
16 erteilt ein Signal zur Betätigung der Steuereinheit. 17, welche in einera Intervall von 5 Minuten (das dein
Mickeigehalt der Betriebslösung gleich ist) die Dosiergeräte
12 und 14 betätigt, direkt in das Arbeitsbad 2 je 2 ml/l
pro Betriebslösung von dem Korrekturzusatzmittel der ersten
und dritten konzentrierten Lösung zuzugeben (zuzuführen).
Während der aktiven Zeitdauer der Betriebslosung 2 erhöht
die Zeitmeßeinheit 16 über den Thermoregulator 5 die Temperatur der Betriebslösung 2 von der optimalen (92°C) bis zu
einer Temperatur, die um 20C niedriger als die Siedetemperatur
der Betriebslösung ist. Auf diese Weise wird ein Koeffizient
für die ablagerung des Metalls auf die zu bearbeitenden Details über 10, bei einer Ablagerungsgeschwindigkeit
von 22 Mikron/Stunde erreicht. Der hergestellte Überzug weist eine konstante Zusammensetzung und hohe physikalisch-chemische
Eigenschaften wie Härte, Verschleißbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit u.a. auf.
030048/0757
JA!--r^:
Leerseite
Claims (1)
- PA" i_iSGHIFF ν. FÜNER STREHL SCHÜ BEL-HOPF EBBINGH AUS FlNCKMARIAHILFPLATZ 2 & 3, MÖNCHEN 9O POSTADRESSE: POSTFACH 95 O1 6O, D-800O MDNCHEN 95' ALSO PROFESSIONAL REPRESENTATIVESBEFORE THE EUROPEAN PATENT OFFICEVHEI " IiSIiIN"KARL LUDWIG SCHIFF (1964-1978)DIPL. CHEM. DR. ALEXANDER V. FÖNERDIPL. ING. PETE« STREHLDIPL. CHEM. DPt. URSULA SCHUaEL-HOPFDIPL. ING. DIETER ESSINGHAUSDR. ING. DIETER FINCKTELEFON (Οβθ)48 2ΟΟ*TELEX S-Q3 56B AURO DTELEGRAMME AUROMARCPAT MÖNCHENDE A-21104 14. Mai 1980VERFAiIREN FÜR DIE CHEMISCHE VERNICKELUNG VON METALLKÖRPERN. "-. Patentanspruch■"'.-■'■". ιVerfahren zur chemischen Vernickelung von Metallteilen unter Verwendung von drei konzentrierten Lösungen, von denen die erste Lösung Nickelsalz und einen Beschleuniger enthält, die zweite Lösung ein Reduktionsmittel, Komplexbildner, ein Stabilisierungsmittel und ein Benetzungsmittel und die dritte Lösung ein Reduktionsmittel der zweiten Lösung, Komplexbildner und Stabilisierungsmittel, wobei die Betriebslösung mittels Vermischen der ersten und zweiten konzentrierten Lösungen mit entmineralisiertem Wasser in Volumenverhältnissen 10 bis 20 : 10 bis 20 : oQ bis 80?i hergestellt wurde und die Korrektur durch unmittelbare Zugabe bei Arbeitstemperatur von entsprechenden Mengen der ersten Lind dritten konzentrierten Lösungen vorgenommen wurde, dadurch ge- e η η ζ ei c h η etdaß gleiche Kengen der ersten und 030048/0757BAD ORIGINALdritten konzentrierten Lösungen in Abhängigkeit von der Flächenbelastung der Betriebslösung, in gleichen Zeitintervallen, wobei die Zeitabstände eine volle Zahl Minuten darstellen, welche dem Metallgehalt in Grammen zahlenmäßig gleich sind, zugegeben werden, wobei die Temperatur der Betriebslösung linear-ansteigend von der optimalen Arbeitstemperatur bis zu einer Temperatur um 20C niedriger als die Siedetemperatur der Betriebslösung erhöht wird.Q30CH8/0757 BAD ORIGINAL
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US20150307995A1 (en) * | 2014-04-29 | 2015-10-29 | Lam Research Corporation | ELECTROLESS DEPOSITION OF CONTINUOUS PALLADIUM LAYER USING COMPLEXED Co2+ METAL IONS OR Ti3+ METAL IONS AS REDUCING AGENTS |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1621344A1 (de) * | 1967-08-04 | 1971-05-13 | Siemens Ag | Bad und Verfahren zum chemischen Vernickeln eines festen Koerpers aus Metall,Kunststoff oder Keramik |
DE2231939B2 (de) * | 1972-06-29 | 1976-08-12 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zum stromlosen vernickeln von oberflaechen aus metallen, kunststoff und keramik |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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FR1179734A (fr) * | 1957-07-23 | 1959-05-27 | Procédé et appareillage perfectionnés de nickelage chimique | |
US3709715A (en) * | 1966-05-31 | 1973-01-09 | Dow Chemical Co | Electroless nickel plating of hollow containers |
US3934054A (en) * | 1969-08-25 | 1976-01-20 | Electro Chemical Engineering Gmbh | Electroless metal plating |
-
1979
- 1979-05-18 BG BG7943647A patent/BG32650A1/xx unknown
-
1980
- 1980-05-07 CS CS803263A patent/CS241955B1/cs unknown
- 1980-05-14 DD DD80221246A patent/DD160945A3/de not_active IP Right Cessation
- 1980-05-14 FR FR8010945A patent/FR2456786A1/fr active Granted
- 1980-05-14 DE DE3018511A patent/DE3018511C2/de not_active Expired
- 1980-05-16 IT IT8048703A patent/IT8048703A0/it unknown
- 1980-05-16 HU HU801220A patent/HU182797B/hu unknown
- 1980-05-16 GB GB8016257A patent/GB2050435B/en not_active Expired
- 1980-05-17 RO RO80101164A patent/RO79638A/ro unknown
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1621344A1 (de) * | 1967-08-04 | 1971-05-13 | Siemens Ag | Bad und Verfahren zum chemischen Vernickeln eines festen Koerpers aus Metall,Kunststoff oder Keramik |
DE2231939B2 (de) * | 1972-06-29 | 1976-08-12 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zum stromlosen vernickeln von oberflaechen aus metallen, kunststoff und keramik |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
DE-Z.: Fertigungstechnik und Betrieb 28, 1978, S.624 u. 625 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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GB2050435B (en) | 1983-02-16 |
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