DE2906686A1

DE2906686A1 - Verfahren zur herstellung von tiefdruckplatten

Info

Publication number: DE2906686A1
Application number: DE19792906686
Authority: DE
Inventors: Nicholas Robert Jung
Original assignee: Letraset International Ltd
Current assignee: Letraset International Ltd
Priority date: 1978-02-24
Filing date: 1979-02-21
Publication date: 1979-09-06
Also published as: FR2418482A1; GB2015763A; AU4450779A

Description

20. Februar 1979 L 974/79

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Intaglio- oder Tiefdruckplatten.

Beim Intaglio- oder Tiefdruck hat die Druckplatte eine im wesentlichen flache und ebene obere Oberfläche und Vertiefungen unterschiedlicher Tiefe in der Oberfläche. Diese Vertiefungen wirken als Näpfchen zur Aufnahme von Druckfarbmasse; je tiefer ein Näpfchen ist, desto mehr Druckfarbmasse wird aufgenommen und desto dunkler ist die gedruckte Bildstelle.

Bisher war die Herstellung von Tiefdruckplatten verhältnismäßig kostspielig und umständlich. Die Erfindung schafft nunmehr eine einfache und elegante Methode zur Herstellung derartiger Platten auf photographischem Wege unter Verwendung an sich bekannter Materialien.

Gegenstand der Erfindung ist danach ein Verfahren zur Herstellung von Intaglio- oder Tiefdruckplatten, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man ein photoempfindliches Material, das eine durchsichtige Träger- oder Grundfolie und eine darauf befindliche photopolymerisierbare Schicht umfaßt, hernimmt, das photoempfindliche Material bildweise durch ein Negativ eines Gitternetzes exponiert oder belichtet, das photoempfindliche Material ferner durch die Trägeroder Grundfolie hindurch bildweise durch ein Positiv des Bildes, das mittels der Tiefdruckplatte gedruckt werden soll, exponiert oder belichtet, und dann das photoempfindliche Material entwickelt, so daß eine Mehrzahl von unterschied-

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lich tiefen Zellen, die den Bildbereichen des mittels der Tiefdruckplatte zu druckenden Bildes entsprechen, zurückbleibt.

In dieser Weise kann eine Tiefdruckplatte rasch, bequem und wirtschaftlich unter Anwendung eines einfachen Arbeitsganges mit zwei Belichtungs- und einem Entwicklungsschritt hergestellt werden.

Die beiden Belichtungen oder Exponierungen können gleichzeitig durchgeführt werden, im allgemeinen ist es jedoch bequemer, zunächst die Belichtung durch das Negativ des gewünschten Rasternetzes vorzunehmen und danach die durch die Grundfolie hindurch erfolgende bildweise Belichtung durch ein Positiv des Bildes, das mit der Tiefdruckplatte gedruckt werden soll, durchzuführen. Gewünschtenfalls kann auch die bildweise Exponierung durch das Bild, das mit der Tiefdruckplatte gedruckt werden soll, vor der Exponierung durch das Rastergitternegativ vorgenommen werden.

Die Zeitdauer und Intensität der Belichtung oder Exponierung sollte im Falle der Belichtung durch das Positiv des zu druckenden Bildes ausreichen, um die Gesamtheit der Schicht in den durchsichtigen Bereichen des Positivs zu exponieren und in Bereichen mittlerer Lichtundurchlässigkeit die Schicht nur teilweise zu exponieren, damit sich bei der Entwicklung eine geeignete Abstufung der Zellentiefen ergibt. Die Exponierung durch das Negativ des Rastergitters sollte natürlich hinreichend lange erfolgen, um ein Rasternetz zu bilden, das nach der Entwicklung ein Rastergitter voller Filmdicke darstellt, über das während der Benutzung der Platte in dem Tiefdruckverfahren ein Abstreichmesser gezogen werden kann.

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Das im Einzelfall gewählte Gittermuster hängt von der im Einzelfall durchzuführenden Druckarbeit ab; im allgemeinen handelt es sich jedoch um ein quadratisch un-

terteiltes Gitter mit einer Zellengröße von 0,02 bis 0,06 mm und einer Zellenwanddicke von 0,05 bis 0,127 mm.

Das Verfahren der Erfindung wird nachstehend anhand eines Ausführungsbeispiels weiter veranschaulicht. In dem Beispiel wird auf die anliegenden Zeichnungen Bezug genommen :

Fig. 1 zeiqt einen schematischen Schnitt durch ein photographisches Negativ und ein Blatt oder eine Platte aus einem photosensibilisierten Material während des ersten Exponierungsschrittes .

Fig. 2 veranschaulicht im Schnitt den zweiten Expon ierungs schritt.

Fig. 3 zeigt einen schematischen Schnitt durch die nach dem Verfahren der Erfindung hergestellte Tiefdruckplatte.

Gemäß den Zeichnungen besteht das photoempfindliche Material aus einer durchsichtigen Grundschicht 1 und einer lichtempfindlichen Schicht 2. Ein Negativbild eines Gittermusters befindet sich in einer photographischen Emulsionsschicht 3, die von einem Trägerfilm 4 als Unterlage getragen wird. Ein Positivbild mit kontinuierlicher Tonwertänderung (continuously varying tone positive) ist schematisch dargestellt und mit 5 bezeichnet. Bereiche des belichteten und entwickelten Materials, die dem Rasternetz entsprechen, sind mit 6 bezeichnet, während andere Bereiche aus gehärtetem Polymer, die die Zellenböden in der fertigen Platte darstellen, mit 7 bezeichnet sind»

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Beispiel

Eine Photopolymer-Druckerpressenplatte/ die eine klare Trägergrundschicht aufwies (BASF Nyloprint F96), wurde in der in Fig* 1 dargestellten Weise belichtet. Die Belichtung erfolgte durch die Photopolymer-Oberfläche unter Verwendung eines Negativs hohen Kontrastes (Lith type) mit einem Netzlinien-Rastergitter der erforderlichen Teilung. Dies bewirkt die Härtung eines Netzlinienmusters auf der gesamten Plattenfläche. Dieses Netzlinienmuster bildet die Zellenwände zur Auflage des Abstreichmessers während des Druckvorgangs. Die Belichtung erfolgte unter Verwendung eines Belichtungsgeräts (BASF Nyloprint) mit einer Ultraviolett-Lichtquelle während eines' Zeitraums von 3. Minuten.

Gemäß der Darstellung in Fig. 2 wurde dann eine zweite Belichtung durch ein Positiv mit stufenlosem Tonwert durchgeführt, und zwar durch die klare Trägergrundschicht 1 hindurch, um das Photopolymer von der klaren Trägergrundschicht aufwärts zu härten, wobei das Ausmaß bzw. der Bereich der Härtung von der Belichtungszeit, der Dichte des vorgelegten Positivs und der Art des photopolymerisierbaren Materials abhängt. Die Belichtungszeit betrug 3 Minuten, unter Verwendung des vorstehend angegebenen Belichtungsgerätes (BASF Nyloprint).

ünbelichtete Bereiche der Platte wurden dann durch Sprüh- oder Reibeaufbringung eines Gemischs aus methyliertem Sprit (methylated spirit) und Wasser entfernt. Die sich ergebende Platte ist in Fig. 3 im Schnitt dargestellt.

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Claims

Patentansprüche

1. Verfahren zur Herstellung von Tiefdruckplatten, dadurch gekennzeichnet, daß man ein photoempfindliches Material, das eine durchsichtige Grundfolie und eine darauf befindliche photopolymerisierbare Schicht umfaßt, bildweise durch ein Negativ eines Rastergitters exponiert, das photoempfindliche Material ferner durch die Grundfolie hindurch bildweise durch ein Positiv des zu'druckenden Bildes exponiert, und dann das photoempfindliche Material unter Zurücklassen einer Vielzahl von Zellen unterschiedlicher Tiefe, die den zu druckenden Bildbereichen entsprechen, entwickelt.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man die Exponierung durch das Negativ des

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Rastergitters vor der Exponierung durch das Positiv des zu druckenden Bildes durchführt.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß man mit einem Rastergitter mit quadrati-

2 sehen Rasterfeldern einer Zellengröße von 0,02 bis 0,06 mm und einer Zellenwanddxcke von 0,05 bis 0,127 mm arbeitet.

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