DE2002605B2 - Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske für eine Farbfernsehröhre - Google Patents

Description

F i g, 2 eine vergrößerte Detaildarstellung einer ten abgestuften Lochmusters einer Lochmaske wird

Gruppe der Löcher der Maske nach Fig, 1, nachstehend an Hand der Fig. 5 bis 12 beschrieben,

F i g, 3 eine fragmentarische Schnittdarstellung Dabei gelten die folgenden Definitionen: Eine »Scba-

der Maske nach Fig. 1 mit Veranschaulichung eines blone« ist ein Film oder Blatt aus einem Material mit

der Maskenlöcher, 5 einem Muster oder einer Anordnung von beabstandeten

F i g, 4 ein Diagramm, das eine typische Abstu- liebtundurchlässigen (opaken) oder lichtdurchlässigen

fungskurve für die Löcher einer Maske mit Loch- (transparenten) Bereichen auf einem Untergrund der

abstufung wiedergibt, jeweils entgegengesetzten Art, Eine »Positivschablone«

F i g, 5, 6 und 7 schematische Schnittdarstellungen, ist eine Schablone mit opaken Gebieten oder Punkten welche die 'Herstellung einer Schablone mit Abstufung io und einem transparenten Untergrund. Eine »Negativgemäß einer Ausführungsform der Erfindung ver- schablone« ist eine Schablone mit transparenten anschaulicht, Gebieten und opakem Untergrund. Eine Positiv-

F i g. 8 den Grundriß eines im Verfahrensschritt schablone wird auch als »Punktmatrize«, eine Negativ-

nach F i g. 7 verwendeten Umlaufblendengerätes, schablone auch als »Negativpunktmatrize« oder »Loch-

F i g. 9 ein Diagramm, das die für die Erzielung 15 matrize« bezeichnet. Ein »Positiv« eines gegebenen

verschiedener Punktgrößenzunahmen erforderlichen Musters ist ein spiegelbildliches Duplikat desselben

Belichtungszeiten wiedergibt, ohne Tonumkehr sowie mit oder ohne Änderung der

F i g. 10 ein Diagramm, das einen Quadranten der Punkt- oder Lochgröße. Ein »Negativ« eines gegebenen

für die Erzielung einer gegebenen radialen Änderung Musters ist ein spiegelbildliches Duplikat desselben mit

der Punktgröße erforderlichen Blendenöffnung wieder- ac Tonumkehr, z. B. opak-klar, oder umgekehrt, «owie

gibt, ebenfalls mit oder ohne Änderung der Punkt- oder

Fig. 11 eine schematische Schnittdarstellung, die Lochgröße. Eine »Positivphotoemulsion« ist eine

den Verfahrensschritt der Überführung der nach photoempfindliche Emulsion, bei welcher nach Ent-

F i g. 7 erhaltenen Schablone in ein Negativ veran- wicklung die belichteten Teile klar oder transparent

schaulicht, 25 und die unbelichteten Teile opak sind. Eine »Negativ-

F i g. 12 eine Schnittdarstellung, die zum Teil ver- photoemulsion« ist eine photoempfindliche Emulsion,

anschaulicht, wie eine erste Schablone mit abgestuften bei welcher nach dem Entwi^v.L^o- die unbelichteten

öffnungen und eine zweite Schablone mit öffnungen Teile klar und die belichteten Teile opak sind. Ein

einheitlicher Größe für die Herstellung einer Loch- »Kontaktabdruck« ist irgendein _ T ; holographischem

maske mit Lochabstufung angewendet werden, und 30 Wege durch Belichten einer photoempfindlichen

Fig. 13 eine der F i g. 6 ähnliche Schnit'dar- Emulsion durch eine Schablone oder ein Diapositiv

stellung, die eine Abwandlung des Verfahrensschrittes im wesentlichen in Kontakt mit der Emulsion und

nach F i g. 6 veranschaulicht. anschließendes Entwickeln der belichteten Emulsion

Die F i g. 1 bis 3 zeigen ein typisches Blech, wie es hergestellter Druck oder Abdruck,

als Lochmaske für Farbbildröhren verwendet wird. 35 Die bei dem nachstehend beschriebenen Verfahren

Die Maske 1 kann aus 0,1524 mm dickem, korrosions- verwendeten photoempfindlichen oder lichtempfind-

beständigem Stahlblech mit mehreren hunderttausend liehen Emulsionen sind bekannte photographische

Rundlöchern 3 in einer bestimmten, z. B. einer hexa- Silberhalogenidpositiv- oder -negativemnlsionen. Zwei

gonalen Gruppierung oder Anordnung bestehen, wie Positivschablonen mit gleichartigen Mustern von

in Fig. 2 gezeigt. Beispielsweise kann bei einer ^o opaken Punkten werden für die Belichtung der

63,5-cm-Farbbildröhre der vertikale Abstand b der Photolackschichten auf beiden Seiten des Bleches, aus

Löcher 3 ungefähr 0,5842 mm betragen und die durch dem die Maske hergestellt wird, verwendet,

die strichpunktierte Linie 6 in F i g. 1 umgrenzte Zum Herstellen einer Lochmaske mit einem abge-

perforierte Fläche 5 der Maske eine maximale (diago- stuften Muster von Löchern, aeren Größe radial von

uale) Abmessung von 56,9976 csn haben. Wie in F i g. 3 45 der Maskenmitte aus abnimmt, muß mindestens eine

gezeigt, ist jedes Loch 3 (durch Ätzen) so geformt, der Positivschablonen ein entsprechendes abgestuftes

daß es einen Teil 7 mit einem kleineren Durchmesser B Muster von opaken Punkten haben, deren Größe mit

und einen Teil 9 mit einem größeren Durchmesser C, zunehmendem radialem Abstand von der Mitte des

der vorzugsweise für sämtliche Löcher einheitlich ist, Musters abnimmt.

aufweist. Die minimale Größe, d. h. der Durchmesser B 50 Für die Durchführung des erfindungsgemäßen der Löcher 3 nimmt in Radialrichtung von der Mitte Verfahrens wird zunächst eine fragmentarische Positivzum Außenrand der Maske ab. F i g. 4 zeigt eine schablone hergerichtet, indem mechanisch ein Muster typische AbsMfungskurve für die Lochgröße B in einer kleinen Anzahl, z. B. von fünf opaken Punkten Abhängigkeit vom radialen Abstand R von der Mitte auf eine Glasplatte in der gewünschten hexagonalen der Maske 1 entsprechend der Formel B-B₀- DR², 55 Anordnung im gegenüber der endgültigen Punktgröße wobei B₀ = 0,24384 mm und D = 0,013504 ist. In um 30: 1 vergrößerten Maßstab aufgetragen wird, diesem Fall haben die Maskenlöcher 3 einen Durch- Das Mustor dieser fragmentarischen Schablone wird messer von 0,24384 mm in der Mitte und 0,20066 mm sodann in einer Kamera photographisch um 10:1 beim maximalen Radius von 28,4988 cm. Es beträgt verkleinert, so daß man einen Negativfilm mit den somit die maximale Differenz der Lochgröße 0,24384 6° opaken Punkten entsprechenden transparenten Gebie-— 0,20066 = 0,04318 mm. Der unperforierte Rand- ten erhält. Sodann wird der Negativfilm in einem teil 11 der Maske 1 in F i g. 1 kann mit drei Kerben 13 Präzisionsahbildungsgerät od. dgl. angeordnet, das oder anderen geeigneten Mitteln zum deckungs- eine weitere Größenverringerung um 3:1 vornimmt gleichen Verrasten mit komplementären Einrichtungen und den Film schrittweise über den gewünschten an den für das Drucken des Lochmusters auf der 65 Flächenbereich eines transparenten, mit einer Negativ-Maske 1 verwendeten Schablonen versehen sein. photoemulsion beschichteten Blattes führt, so daß die

Ein bevorzugtes Verfahren zur Herstellung einer gewünschte Positivschablone 15 mit Gebieten oder

abeestuften Schablone für das Drucken des gewünsch- opaken Punkten 19 einheitlicher Größe auf einem

Film 20 hergestellt wird (F i g. 5). Die Größe der Punkte auf der fragmentarischen Schablone ist so gewählt, daß nach der Verkleinerung um 30: 1 der Durchmesser der Punkte 19 gleich dem der kleinsten Löcher in der gewünschten abgestuften Maske ist, d. h. im vorliegenden Beispiel 0,20066 mm.

Die Positivschablone 15 wird auf ein mit einer Negativphotoemulsionsschicht 23 beschichtetes transparentes Blatt 21 so aufgelegt, daß der Film 20 sich in Kontakt mit der Emulsionsschicht 23 befindet, wie in F i g. 5 gezeigt. Die Schicht 23 wird durch die Schablone 15 belichtet (L) und zur Negativschablone 25 entwickelt (F i g. 6), in welcher die sich mit den Punkten 19 deckenden punktförmigen Gebiete 27 der Schicht 23 klar oder transparent und die übrigen Teile 29 der Schicht 23 opak sind. Die Belichtungszeit für den Verfahrensschritt nach F i g. 5 ist so bemessen, daß bei der Überführung der opaken Punkte 19 in die Klarbereiche 27 keine wesentliche Größenänderung auftritt.

Die F i g. 7 bis 12 veranschaulichen eine bevorzugte Methode der Verwendung der Negativschablone 25 für die Herstellung einer Positivschablone mit größenabgestuften opaken Punkten in der gleichen Lageanordnung wie die Klarbereiche 27 der Schablone 25. Die Schablone 25 wird mit der Schicht 23 in Kontakt mit einer Positivemulsionsschicht 33 auf einem transparenten Blatt 31 angebracht. Die Schicht 33 wird von einer gebündelten Lichtquelle 35 durch eine dicht bei der Schablone 25 in der durch die unterbrochene Linie 37 angedeuteten Lage angeordnete Umlaufblende 39 (F i g. 8) und durch die Negativschablone 25 belichtet.

Wie in F i g. 8 gezeigt, kann die Umlaufblende 39 aus einer transparenten Blendenplatte 41 bestehen, die auf der einen Seite mit Ausnahme einer Klarfläche oder Öffnung 43 spezieller Formgebung zum Verändern der Belichtungszeit der Schablone 25 in vorbestimmter Weise ven einem Maximum in der Mitte bis zu einem Minimum am Außenrand geschwärzt ist. Bei der hier gezeigten Vorrichtung ist die Blendenplatte 41 an einer opaken Rundplatte oder -scheibe 45 aus z. B. Aluminium befestigt, die durch vier Sätze von je drei Rollen auf einer Plattform 47 drehbar gelagert ist. Vier Rollen 49 erfassen den Außenrand der

ίο Scheibe 45, und die anderen acht Rollen 51 erfassen die Ober- und die Unterseite der Platte 41. Die einzelnen Rollensätze können auf der Plattform 47 durch einen einzigen Halter (nicht gezeigt.) befestigt sein. Die Platte 41 überdeckt eine etwas kleinere Rechtecköffnung 46 in der Scheibe 45 ;;o, daß der geometrische Mittelpunkt der Öffnung 43 sich in der Achse der Scheibe 45 befindet. Die Scheibe 45 mit der Blendenplatte 41 wird durch einen Elektromotor 53 um ihre Achse gedreht, der auf der Plattform 47 gelagert ist und mit einer Rolle 55 den Außenrand der Platte 45 erfaßt. Die Plattform 47 hat eine Rundöffnung 57, die etwas kleiner und gleichachsig mit der Scheibe 45 ist. Die Schablone 25 nach F i g. 7 ist ortsfest in bezug auf die rotierende Scheibe 45 angeordret, wie in F i g. 8 durch gestrichelte Linien zur Veranschaulichung der Beziehung zwischen der Blende 39 und der Öffnung 43 einerseits und der Schablone 25 andererseits angedeutet.

Die genaue Form der für die Herstellung von Maskenlöchern der gewünschten Abstufung erforderlichen Blendenöffnung 43 wird wie folgt bestimmt: Die gewünschte Lochgröße B in jedem radialen Abstand vom Mittelpunkt, in Intervallen von 2,54 cm, wird aus der Formel B = 9,6 — 0,013504 R² ermittelt und in die folgende Tabelle eingetragen:

R	0	B	G	T	P	Θ
Radialer Abstand	2,54		Punktgrößenzunahme	Erforderliche	Prozent der	Winkel in
vom Mittelpunkt	5,08	LocngroiJe	vom Rand	Belichtungszeit	Maximalzeit	jedem Quadranten
cm	7,62	mm	mm	Minuten	%	Grad
10,16	0,24384	0,04318	15.50	100	90
12,70	0,243586	0,042926	15,25	98,4	88,6
15,24	0,242570	0,041910	14,75	95,2	85.7
17,78	0,240792	0,040132	13,90	89,7	80,7
20,32	0,238252	0,037592	12,90	83,2	74,9
22,86	0,235204	0,034544	11,60	74,8	67,3
25,40	0,231394	0,030734	10,20	65,7	59,1
27,94	0,227584	0,026924	8,80	56,8	51,1
28,4988	0,221996	0,021336	7,01	45,2	40,7
0,216154	0,015494	5,40	34,8	31,3
0,209550	0,008890	4,00	25,8	23,2
0,202438	0,001778	2,57	16,6	14,9
0,20066	0	2,50	16,1	14,5

Als nächstes wird durch Substrahieren des Durchmessers, 0,20066 mm, der Klarbereiche 27 von der gewünschten Lochgröße B die in jedem radialen Abstand erforderliche Punktgrößenzunahme G er mittelt und in die Tabelle eingetragen. Die für die Erzeugung verschiedener Beträge der Punktgrößen- zunahme erforderlichen Belichtungszeiten für die photographische Apparatur werden experimentell ermittelt und in das Diagramm nach F i g. 9 eingetragen, wobei die Kurve 59 das Mittel der experimentellen Werte wiedergibt. Sodann wird die für jeden radialen Abstand R erforderliche Belichtungszeit T von der Kurve 59 in F i g. 9 abgelesen und zusammen mit dem Prozentsatz P der Maximalzeit von 15,50 Minuten in die Tabelle eingetragen. Als nächstes wird die Form eines Quadranten der Blenuenöffnung 43 ermittelt, wie in F i g. 10 dargestellt. Diese Form ist so, daß die Belichtung vom Totalwert im Mittelpunkt der

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Schablone, bei 90° von der Vertikalachse, auf den zur Herstellung der Schablone 15 mit einheitlicher

Nullwert bei 0° (Vertikalachse) abnimmt. Die BUmde Punktgröße angefertigt werden.

39 wird mit ungefähr 30 UpM gedreht. Es beträgt Bei dem oben beschriebenen bevorzugten Verfahren,

daher die Gesamtzahl der Umdrehungen ungefähr 465, bei welchem eine Positivphotoemulsion für die abge-

so daß ein etwaiger Bruchteil einer Umdrehung am 5 stufte Schablone 63 nach F i g. 11 verwendet wird,

Ende unberücksichtigt bleiben kann. Der Belichtungs- kann die maximale erforderliche Punktgrößenzunahme

winbl Θ für jeden radialen Abstand wird ab P ■■ 90° in der Mitte der Schablone in einer einzigen Belichtung

errechnet in die Tabelle eingetragen und in Fig. 10 erreicht werden. Tatsächlich kann mit der speziell

bis zum Wert R = 28,4988 cm am Rand der Schablone verwendeten Apparatur eine Punktgrößenzunahme

eingetragen. Die die eingetragenen Punkte verbindende io von mehr als 0,06096 mm erzeugt werden, so daß eine

Kurve 61 gibt diejenige Öffnungsform wieder, die für Punktgrößenänderung über den gesamten Bereich in

die Erzeugung der für die Herstellung der gewünschten einer einzigen Belichtung möglich ist. Bei Autopositiv-

Abstufung der Maskenlöcher erforderliche radiale emulsionen sind die Belichtungszeiten länger, so daß

Änderung der Belichtungszeit benötigt wird. Diese sich die Variabilität der Belichtungssteuerung erhöht

Kurve 61 wird in einem anderen Maßstab für samt- 15 und die Möglichkeit von Belichtungsfehlern verringert,

liehe vier Quadraten der Öffnung 43 in F i g. 8 Für andere Anwendungszwecke, bei denen eine

dupliziert. kleinere Punktgrößenzunahme benötigt wird, kann

Die Schablone 25 und die Emulsionsschicht 33 man eine Negativemulsion für die Schicht 33 in

(F i g. 7) werden 15,50 Minuten lang von der Licht- F i g. 7 verwenden, um eine Positivschablone 89 mit

quelle 35 durch die Umlaufblende 39 belichtet. Sodann 20 größenabgestuften opaken Punkten 91 auf trans-

wird die Emulsionsschicht 33 entwickelt, so daß sich parentem Untergrund 93 zu erzeugen, wie in F i g. 13

eine Negativschablone 63 (F i g. 11) mit in der gezeigt. Experimente mit Negativemulsionen haben

Größe von einem Maximum im Mittelpunkt bis zu gezeigt, daß von einer Negativschablone abgedruckte

einem Minimum am Außenrand abgestuften Klar- Punkte von einem Minimum von 0,01778 mm auf ein

bereichen 65 auf opakem Untergrund 67 ergibt. Die 25 Maximum von 0,03048 mm aufgeweitet werden können,

maximale Belichtung in der Mitte bewirkt, daß die Ein Vorteil der Verwendung einer Negativemulsion 33

den Mittelbereichen 27 der Schablone 25 entsprechen- in F i g. 7 besteht darin, daß der Verfahrensschritt

de-i belichteten Bereiche der Emulsionsschicht 33 um der Umwandlung von einer Negativ- in eine Positiv-

0,04318 auf 0,24384 mm zunehmen, während die schablone nach F i g. 11 entfällt. Jedoch benötigt man

minimale Belichtung (2,50 Minuten) am Außenrand 30 mindestens drei Kontaktabdruckyorgänge, um einen

keine wesentliche Größenzunahme gegenüber dem gewünschten Größenzuwachsgradienten von ungefähr

Wert von 0,20066 mm der Randbereiche 27 bewirkt. 0,05 mm zu erzielen. Da die Schablone 89 nach

In F i g. 11 wird die abgestufte Negativschablone 63 F i g 13 ein Spiegelbild der Schablone 71 ist, sollte

auf eine transparente Platte 68 mit einer Negativ- man im Verfahrensschritt nach Fig. 12 ein Spiegel-

photoemulsionsschicht 69 kontaktabgedruckt, so daß 35 bild der Schablone 77 zusammen mit der Schablone 89

sie in eine Positivschablone 71 mit abgestuften opaken verwenden.

Punkten 73 der gleichen Größe wie die entsprechenden Bei einer anderen Ausführungsform des Verfahrens

Klarbereiche 65 der Schablone 63 übergeführt wird, wird, statt daß die Zeit der Belichtung de- Positiv-

wie in Fig. 12 gezeigt. emulsion 33 durch die Schablone 25 während des

Fig. 12 zeigt, wie die Positivschablone 71 mit 40 Kontaktabdruckes wie in F i g. 7 verändert wird, die Punktgrößenabstufung zusammen mit einer Positiv- Negativschablone 25 durch gleichmäßige Belichtung schablone 77 aus einem transparenten Blatt 79 mit auf einen Negativemuisionsfilm kontaktgedruckt, so einer Anordnung von großen opaken Punkten 81 daß ein unentwickelter Abdruck, bestehend aus einheitlicher Größe, z. B. 0,4318 mm, auf klarem belichteten Punktbereichen einheitlicher Größe in Untergrund 82 in der gleichen Musteranordnung wie 45 unbelichtetem Untergrund auf einem transparenten die abgestuften Punkte der Schablone 71 dazu ver- Unterlagblatt, erhalten wird. Sodann wird bei entwendet wird, größenabgestufte Löcher in einer Loch- fernter Schablone 25 dieser unentwickelte Abdruck mit maske zu erzeugen. Ein dünnes Blech 83 aus Stahl Licht aus einer Quelle 35 durch eine Umlaufblende 39 wird beiderseits mit löslichen photoempfindlichen wie in F i g. 7 und 8 mit radial veränderlichem Unter-Schichten 85 und 87, die durch Belichtung gehärtet 50 grund belichtet, so daß die gewünschte differentielle und unlöslich gemacht werden können, beschichtet. Punktgrößenzunahme der zuvor belichteten Bereiche Die beiden Schablonen 71 und 77 werden in Kontakt erhalten wird. Die veränderliche Belichtung reicht aus, mit den Schichten 85 bzw. 87 so angeordnet, daß die um nur die zuvor belichteten Punktbereiche beim Punktmuster sich genau miteinander decken, und von Entwickeln opak zu machen. Die zuvor unbelichteten beiden Seiten her belichtet (L). Beim Entwickeln der 55 Bereiche werden beim Entwickeln transparent. Dies Schichten 85 und 87 werden die unbelichteten löslichen ergibt die gewünschte Positivschalbone mit größen-Punkteile weggewaschen, so daß entsprechende öff- abgestuften opaken Punkten auf klarem Untergrund, nungen in den gehärteten belichteten und nunmehr wie bei der Schablone 89 in F i g. 13. Experimente unlöslichen Teilen der Schichten 85 und 87 entstehen. haben gezeigt, daß nach diesem Verfahren eine Punkt-Sodann werden die punktförmigen Bereiche des 60 größenzunahme um bis ungefähr 0,05 mm (2 Mil) Maskenbleches 83 an diesen Öffnungen von beiden erreicht werden kann.

Seiten her mittels eines Säurebades herausgeätzt, so Bei der vorstehenden Beschreibung wurde voraus-

daß Löcher der in F i g. 3 gezeigten Form entstehen. gesetzt, daß Schablonen verwendet werden, die auf

Die Schichten 85 und 87 werden entfernt, so daß die photoempfindlichem Film auf einer Unterlage gebildet

fertige, flache Viellochmaske mit den gewünschten 65 sind und in denen transparente und opake Bereiche

größenabgestuften öffnungen entsteht. Die Schablone im Film durch Belichten und Entwickeln erzeugt

77 kann nach irgendeinem bekannten Verfahren werden. Die Anwendung einer Belichtung mit in der

einschließlich des oben beschriebenen bevorzugten beschriebenen Weise veränderlichen Dauer ist jedoch

nicht auf solche photoempfindlichen Filme beschränkt, sondern auch auf selbsttragende Filme oder Unterlagen oder Träger, die mit Photolacken, deren Löslichkeit durch Belichtung geändert wird, beschichtet sind, anwendbar. Bei der Belichtung und anschließenden Entwicklung werden die löslichen Teile der Photolackschicht vom Träger entfernt, so daß eine Schablone

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zurückbleibt, die durch unlösliche Bereiche auf der Trägeroberfläche gebildet ist. Als Photolacke sollten Positivlacke, die aus unlöslichen opaken Materialen bestehen, jedoch bei Belichtung löslich gemacht werden, oder Negativlacke, die aus löslichen Klarstoffen, die bei Belichtung unlöslich gemacht und opak werden, bestehen, verwendet werden.

Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (3)

1 O 2 Schichten in einem Lösungsmittel entwickelt, so daß Patentansprüche: die unbelichteten löslichen Teile entfernt werden und in den lichtempfindlichen Schichten Löcher ent-

1. Verfahren zum Herstellen einer Lochmaske sprechend den Punkten der Schablonen zurückbleiben, für eine Farbfernsehröhre mit Hilfe einer Beiich- 5 Die durch die Löcher freigelegten Stellen des Bleches tungsschablone, die auf einem lichtdurchlässigen werden dann mit Säure weggeätzt, so daß eine Loch-Träger eine Vielzahl von in einem regelmäßigen maske entsteht. Die flache Maske wird dann in die Muster angeordneten lichtdurchlässigen Punkten gewünschte Form gepreßt.

aufweist, deren Größe mit zunehmendem Abstand Aus der USA.-Patentschrift 2 755 402 ist die Vervon der Mitte des Musters abnimmt, bei welchem io wendung einer Schablone bekannt, bei dev die Punktdie abnehmende Punktgröße durch eine zum Rand größe mit zunehmendem Abstand von der Mitte des Musters hin abnehmende Belichtung einer abnimmt, so daß eine Lochmaske mit Löchern abgelichtempfindlichen Schicht durch eine Lichtmaske stufter Größe entsteht. Für die Herstellung einer derart mit Löchern einheitlicher Größe erzielt wird, abgestuften Schablone wird ein Graufilter mit sich dadurch gekennzeichnet, daß eine i; radial ändernder Dichte verwendet. Beim Entwickeln erste Schablone (25) mit einer Vielzahl lichtdurch- der Schalbone entstehen dann undurchsichtige Punkte lässiger Bereiche (27) einheitlicher Größe in dem mit der Musterung der Löcher der bei der Belichtung regelmäßigen Muster in einer Schicht aus opakem verwendeten Lichtmaske, wobei die Größe der Material ausgebildet wird, daß zur Bildung einer Punkte den auf die einzelnen Punktflächen aufzweiten Schablone (63) die lichtempfindliche 20 treffenden Lichtmengen proportional ist und von der Schicht (33) des lichtdurchlässigen Trägers (31) im Mitte nach außen abnimmt. Auf diese Weise erhält Kontaktverfahren durch die erste Schablone (25) man eine abgestufte Schablone für die Belichtung des belichtet wird, wobei die Belichtungszeit von der Maskenbleches, das dann ebenfalls Löcher abgestufter Mitte des Musters zum Rand hin abnimmt, derart, Größe erhält. Ein Nachteil dieses Verfahrens besteht daß bei der Entwicklung lichtdurchlässige Punkte 25 jedoch darin, daß derartige Graufilter in der Herstel-(65) in dem regelmäßigen Muster mit zum Muster- lung relativ kompliziert und daher teuer sind,
rand hin abnehmender Größe entstehen und daß Eine andere Methode der Herstellung einer abgezur Bildung der Belichtungsschablone (71) die stuften Schablone besteht darin, daß man eine Photolichtempfindliche Schicht (69) eines weiteren licht- kopie einer Maske mit Löchern einheitlicher Größe durchlässige·¹ Trägers (68) im Kontaktverfahren 30 herstellt, indem man durch eine Lichtmaske mit einer durch die zweite Schablone (63) belichtet und verhältnismäßig dicht bei der Maske angeordneten entwickelt wird. Punktlichtquelle belichtet, wobei man unter Ausnut-

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn- zung des photometrischen Entfernungsgesetzes und zeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht (33) der Geometrie der Belichtungsapparatur diejenige der zweiten Schablone (63) zunächst durch die 35 Lichtstärkenänderung von der Mitte nach außen zu erste Schablone (25) mit überall gleicher Be- erhalten bestrebt ist, die für die Hervorbringung der lichtungszeit belichtet und anschließend ohne die gewünschten Größenänderung der opaken Punkte der erste Schablone (25) mit von der Mitte des Musters Schablone erforderlich ist.

zum Rand hin abnehmender Belichtungszeit nach- Bei beiden genannten Methoden ist es, da sie von

belichtet wird. 40 einer Änderung der Lichtstärke Gebrauch machen,

3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, schwierig und manchmal unmöglich, diejenigen gedadurch gekennzeichnet, daß die Belichtung der nauen Punktgrößen und Punktgrößenabstufungen zu zweiten Schablone (63) durch eine umlaufende erzielen, die für die Schablone erwünscht sind. Ferner Blende (39) mit einer entsprechend den unter- ist die Änderung der Lichtstärke eine wenig geeignete schiedlichen Belichtungszeiten geformten Blenden- 45 Methode zum Erzielen einer differentiellen Größenöffnung erfolgt. zunähme der belichteten Bereiche.

Die Aufgabe der Erfindung besteht in der Angabe eines Verfahrens zur Herstellung einer Belichtungs-

schablone, welche sich gegenüber den bekannter

50 Verfahren durch bessere Preiswürdigkeit bzw. höhere Genauigkeit der gewünschten Punktgrößen auszeich·

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung net. Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 einer Lochmaske für eine Farbfernsehröhre mit Hilfe angegebenen Merkmale gelöst. Weiterbildungen dei einet Belichtungsschablone, die auf einem lichtdurch- Erfindung sind in den Unteransprüchen gekenn· lässigen Träger eine Vielzahl von in einem regelmäßigen 55 zeichnet.

Muster angeordneten lichtdurchlässigen Punkten auf- Die Erfindung beruht auf der Eigenschaft photo

weist, deren Größe mit zunehmendem Abstand von graphischer Emulsionen, in den belichteten Gebieter der Mitte des Musters abnimmt, bei welchem die an Größe zu wachsen oder zuzunehmen. Von diesel abnehmende Punktgröße durch eine zum Rand des Eigenschaft wird zwecks Bildung einer abgestufter Musters hin abnehmende Belichtung einer licht- 60 Schablone zum Herstellen einer Lochmaske in de; empfindlichen Schicht durch eine Lichtmaske mit Weise Gebrauch gemacht, daß ein Film mit photo Löchern einheitlicher Größe erzielt wird. graphischer Emulsion durch eine Umlaufblendi

Die Lochmaske einer Farbbildröhre wird gewöhn- belichtet wird, so daß die Belichtungszeit sich von de lieh in der Weise hergestellt, daß man ein dünnes, Mitte des belichtenden Musters aus in Radialrichtuni flaches Stahlblech beiderseits mit lichtempfindlichen 65 ändert.
Schichten beschichtet und dann auf jeder Seite durch In den Zeichnungen zeigt

eine Schablone mit einem lichtdurchlässigen Punkt- F i g. 1 den Grundriß einer Viellochmaske für ein

muster der gewünschten Löcher belichtet und die Farbbildröhre,