DE4342123A1

DE4342123A1 - Farbfilter, insbesondere für eine Flüssigkristallanzeigeeinrichtung, und Verfahren zu seiner Herstellung

Info

Publication number: DE4342123A1
Application number: DE4342123A
Authority: DE
Inventors: Won-Ho Kim; Dong-Uk Choi
Original assignee: Samsung Electronics Co Ltd
Current assignee: Samsung Display Co Ltd
Priority date: 1992-12-14
Filing date: 1993-12-10
Publication date: 1994-06-16
Anticipated expiration: 2013-12-11
Also published as: US5935741A; CN1038709C; NL194311B; NL9302118A; DE4342123B4; KR960003482B1; KR940015536A; CN1089360A; US6080515A; JPH06294908A; NL194311C

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Farbfilter, insbesondere für eine Flüssigkristallanzeigeeinrichtung, und ein Verfahren zu seiner Herstellung.

Farbige Flüssigkristallanzeigeeinrichtungen werden zur Bild wiedergabe verwendet, wobei diese Art von Einrichtungen zwei Trägerschichten beinhaltet, von denen auf der einen eine Anzahl transparenter Rasterelektroden ausgebildet ist und die andere eine Anzahl von den obigen Rasterelektroden gegenüberliegenden Signalelektroden aufweist. Des weiteren umfaßt diese Art von Einrichtungen ein Flüssigkristallmaterial zwischen den beiden Trägerschichten, eine polarisierende Platte außerhalb der bei den Trägerschichten sowie ein Farbfilter, das den Rasterelek troden zugeordnet in Primärfarben, wie z. B. rot, grün und blau, eingefärbt ist. Des weiteren wird das obige Farbfilter für Flüssigkristallanzeigen mit aktiver Matrix verwendet, in denen ein Dünnschichttransistor als aktives Element benutzt wird. Der Kreuzungspunkt von Rasterelektrode und Signalelektrode stellt jeweils einen Bildpunkt dar, wobei drei benachbarte Bildpunkte einen Bestandteil eines Farbbildes ausmachen.

Das für eine solche Anzeigeeinrichtung verwendete Farbfilter ist auf der transparenten Signalelektrode gebildet, die ihrer seits auf der Trägerschicht angeordnet ist. Diese Art von Farb filter wird dadurch erhalten, daß eine farbige Schicht aus einem Basismaterial, bestehend aus Proteinen wie z. B. Kasein oder Gelatine, aufgetragen und anschließend strukturiert wird. Das Rasismaterial des Farbfilters ist dielektrisch, und das Flüssigkristallmaterial ist zwischen dem Farbfilter und den Rasterelektroden angeordnet.

Bei dieser Art von Farbfilter sollte für jede Farbe das zuge hörige Farbmuster genügend genau ausgebildet sein, um eine ausreichende Anzeige des jeweiligen Bildpunktes der Flüssig kristalleinzeige sicherzustellen. Dementsprechend sollte für die Herstellung des Farbfilters nach der Bildung einer jewei ligen Basismaterial-Farbschicht, die zu einer jeweiligen Farbe des Basismaterials gehört, ein photolithographischer Prozeß durchgeführt werden.

Demgemäß wird bei einem Herstellungsverfahren für ein übliches Farbfilter zwecks Bildung eines roten, eines grünen und eines blauen Farbmusters unter Verwendung von Chrom (Cr) ein Justier codemuster auf einem Substrat, d. h. einer Trägerschicht gebil det, wonach eine farbige Fotolackschicht durch Aufbringen eines farbigen Fotolacks erzeugt wird. Dann wird unter Verwendung des obigen Justiercodemusters als Zielobjekt eine Maske mittels eines Laserstrahls durch Bewegen des Substrats automatisch justiert und die farbige Fotolackschicht durch einen üblichen fotolithographischen Prozeß strukturiert.

Die Fig. 1 bis 3 stellen Querschnitte im Bereich des Ju stiercodemusters dar, um den Prozeß zur Bildung eines roten, eines grünen und eines blauen Fotolackmusters für das Farb filter gemäß des üblichen Verfahrens zu veranschaulichen.

Bezugnehmend auf die Fig. 1 bis 3 bezeichnen das Bezugs zeichen (11) ein Substrat, das Bezugszeichen (12) ein Justier codemuster, das Bezugszeichen (13) eine rote Fotolackschicht, das Bezugszeichen (14) eine grüne Fotolackschicht, das Bezugs zeichen (15) eine blaue Fotolackschicht, das Bezugszeichen (16) eine Oxidationsschutzschicht und das Bezugszeichen (17) einen Laserstrahl. Die den Fig. 1 bis 3 entsprechenden Abschnitte weisen dieselbe Struktur und lediglich unterschiedliche Farb schichten auf. Das übliche Justiercodemuster und das dieses benutzende herkömmliche Verfahren zur Bildung eines Farbmusters werden nachfolgend unter Bezugnahme auf Fig. 1 beschrieben.

Zunächst wird eine Chromschicht auf dem Substrat (11) durch Ab scheiden von Chrom in einer Dicke von ungefähr 150 nm erzeugt, welche dann mittels eines üblichen fotolithographischen Pro zesses zur Bildung des Justiercodemusters (12) strukturiert wird. Anschließend wird durch Auftragen eines roten Fotolacks die rote Fotolackschicht (13) gebildet, wonach auf dieser die Oxidationsschutzschicht (16) aufgebracht wird. Daraufhin wird eine Maske zur Belichtung der roten Fotolackschicht (13) auto matisch mittels eines Laserstrahls (17) justiert, dessen Wellenlänge ca. 633 nm beträgt, wobei das Justiercodemuster (12) als Zielobjekt benutzt wird. Danach wird die rote Fotolack schicht (13) durch einen üblichen photolithographischen Prozeß strukturiert, wodurch ein rotes Farbmuster erzeugt wird.

Nachfolgend wird eine weitere Maske unter Verwendung des wie oben angegeben aus Chrom bestehenden Justiercodemusters (12) als Zielobjekt justiert, wonach ein grünes und dann ein blaues Farbmuster gemäß Fig. 2 und 3 durch dieselbe Herstellungs methode wie oben beschrieben gebildet werden können. Die grüne und die blaue Fotolackschicht (14, 15) haben jedoch einen sehr geringen (fast verschwindenden) Transmissionsgrad für den Laserstrahl. In Fig. 11 ist der Transmissionsgrad eines blauen, eines grünen und eines roten Fotolacks in Abhängigkeit von der Laserstrahlwellenlänge graphisch dargestellt. Bezugnehmend auf Fig. 11 bezeichnet das Bezugszeichen (31) den Transmissionsgrad einer blauen Fotolackschicht, das Bezugszeichen (32) denjenigen einer grünen Fotolackschicht und das Bezugszeichen (33) denje nigen einer roten Fotolackschicht. Wenn folglich durch Auf bringen eines grünen oder eines blauen Fotolacks eine farbige Fotolackschicht erzeugt wird, hat das automatische Justiergerät Schwierigkeiten, das Justiercodemuster zu detektieren, da das reflektierte Licht des Laserstrahls nicht erfaßt werden kann. Das bedeutet, daß eine automatische Justierung zwar im Fall der rot gefärbten Fotolackschicht (13), deren Transmissionsgrad für einen Laserstrahl mit einer Wellenlänge von ca. 633 nm über 90% beträgt, möglich ist, da der Laserstrahl am Justiercodemuster reflektiert wird und das Signal des reflektierten Lichtes pro blemlos vom automatischen Justiergerät detektiert werden kann. Jedoch ist der Transmissionsgrad des Laserstrahls für die grüne und die blaue Fotolackschicht (14, 15) bei der obigen Wellen länge fast gleich null (viel geringer als derjenige des roten Fotolacks), wie aus Fig. 11 zu ersehen ist. Zusätzlich ist zu beachten, daß die Dicke des aus Chrom bestehenden Justiercode musters gering ist und deshalb der größte Lichtanteil absor biert wird, wenn dieses Justiercodemuster, in welchem kaum je ein Stufenunterschied im Muster vorgesehen ist, verwendet wird. Als Ergebnis hiervon wird das Licht nur schwach von dem Justier codemuster reflektiert.

Fig. 4 ist eine Draufsicht, die das auf dem Substrat gebildete Justiercodemuster sowie das auf einer Maske gebildete Justier codemuster gemäß einer üblichen Vorgehensweise zeigt. Fig. 5 stellt die Kurvenverläufe für das von dem in Fig. 4 gezeigten Justiercodemuster reflektierte Licht in Diagrammform dar.

Bezugnehmend auf Fig. 4 bezeichnen (a₁), (c₁), (a₂) und (c₂) das auf dem Substrat gebildete Justiercodemuster und (b₁) sowie (b₂) das auf der Maske gebildete Justiercodemuster. Gemäß Fig. 4 wird der vom Justiercodemuster (b₁) und (b₂) auf der Maske re flektierte Laserstrahl detektiert und mittig zum auf dem Sub strat gebildeten Justiercodemuster justiert. Fig. 5 zeigt die Kurvendiagramme, wie sie durch Verwendung eines Oszilloskops von einer der Gruppen von Justiercodemustern (a₁), (b₁), (c₁) sowie (a₂), (b₂), (c₂) der Fig. 4 erhalten werden, wenn die Maske justiert ist. Bezugnehmend auf Fig. 5 zeigt das Kurvenver laufsdiagramm (A) den Fall, in dem eine rote Fotolackschicht gebildet ist, während das Kurvenverlaufsdiagramm (B) den Fall darstellt, in welchem ein blauer oder ein grüner Fotolack gebil det ist. Wie aus Fig. 5 zu erkennen, ist es schwierig, den Justiervorgang durchzuführen, wenn eine blaue oder eine grüne Fotolackschicht gebildet ist, da nur ein schwaches Detektions signal der reflektierten Lichtwelle erzeugt wird. Die farbige Fotolackschicht über dem Justiercodemuster sollte deswegen zur automatischen Justierung einer Maske entfernt werden. Zu diesem Zweck wäre der Justiercode durch manuelles Abscheuern des über dem Codemuster liegenden Materials unter Verwendung eines Lö sungsmittels, wie z. B. Aceton, oder eines Entwicklers, freizu legen, um auf diese Weise den über dem Justiercodemuster ge legenen Teil der farbigen Fotolackschicht zu beseitigen. Dieser manuelle Vorgang ruft jedoch die Schwierigkeit einer Verschlech terung der Produktivität bzw. der Ausbeute hervor.

Der Erfindung liegt als technisches Problem die Bereitstellung eines Farbfilters, insbesondere für eine Flüssigkristallanzeige einrichtung, und eines Verfahrens zu dessen Herstellung derge stalt zugrunde, daß eine zuverlässige, einfach und schnell aus zuführende automatische Justierung auch von Masken zur Struktu rierung von grün oder blau gefärbten Fotolackschichten ermög licht ist.

Dieses Problem wird durch ein Farbfilter mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie durch ein Verfahren mit den Merkmalen des An spruchs 6 gelöst. Diese Lösung gewährleistet, daß für die Ju stierung jeder Maske ein ausreichendes Maß an vom Justiercode muster reflektiertem Licht zur Verfügung steht. Dies läßt sich dadurch erreichen, daß das Justiercodemuster mit einem aus reichend großen, vorbestimmten Stufenunterschied ausgebildet wird, so daß an der Stufe genügend Licht rückgestreut wird.

Bevorzugt wird ein derartiges Justiercodemuster von einem entsprechenden Teil einer zuvor aufgebrachten farbigen Fotolack schicht gebildet, günstigerweise gleichzeitig mit der Struktu rierung dieser Fotolackschicht, durch die ein Farbfilterschicht muster erzeugt wird.

Eine bevorzugte, nachfolgend beschriebene Ausführungsform der Erfindung sowie zu deren besserem Verständnis die oben beschrie bene, herkömmliche Ausführungsform sind in den Zeichnungen dar gestellt und werden nachfolgend beschrieben. Es zeigen:

Fig. 1 bis 3 Querschnitte im Bereich eines Justiercodemusters zur Veranschaulichung des Prozesses für die Bil dung eines roten, grünen bzw. blauen Farbmusters eines nach einem herkömmlichen Verfahren herge stellten Farbfilters,

Fig. 4 eine Draufsicht, welche die nach dem herkömmlichen Verfahren auf dem Substrat bzw. auf einer Maske gebildeten Justiercodemuster zeigt,

Fig. 5 graphische Kurvenverläufe, wie sie für das von dem Justiercodemuster in Fig. 4 reflektierte Licht detektiert werden,

Fig. 6 bis 8 Querschnitte im Bereich jeweiliger Justiercode muster für ein erfindungsgemäßes Farbfilter zur Veranschaulichung eines erfindungsgemäßen Verfah rens zur Bildung derselben zwecks Justierung von Masken zur Belichtung einer roten, grünen bzw. blauen Fotolackschicht des Farbfilters,

Fig. 9 eine Draufsicht, die ein erfindungsgemäßes Justier codemuster auf dem Substrat und das zugehörige Ju stiercodemuster auf der Maske zeigt,

Fig. 10 graphische Kurvenverläufe, wie sie für das von einer der Justiercodemustergruppen der Fig. 9 gestreute Licht detektiert werden, und

Fig. 11 eine graphische Darstellung des Transmissionsgrades eines blauen, grünen und roten Fotolacks in Abhängig keit von der Lichtwellenlänge eines Laserstrahls.

Nachfolgend wird die Erfindung zunächst unter Bezugnahme auf die Fig. 6 bis 8 erläutert.

Fig. 6 veranschaulicht den Schritt zur Bildung eines ersten Justiercodemusters (22′) und zur Justierung einer Maske für die Belichtung einer ersten Fotolackschicht.

Hierbei wird zunächst ein lichtabschirmendes Material, wie z. B. Chrom, in einer Dicke von 150 nm zur Bildung einer Chromschicht, d. h. einer Lichtabschirmschicht, auf einem Substrat (21) abge schieden. Diese Chromschicht wird dann mittels eines üblichen photolithographischen Prozesses zur Bildung des ersten Justier codemusters (22′) strukturiert. Gleichzeitig mit der Bildung des ersten Justiercodemusters (22′) wird eine Abschirmmatrix (Be zugszeichen 22 in Fig. 7), d. h. eine lichtabschirmende Struktur des Farbfilters, erzeugt. Daraufhin wird ein roter Fotolack in einer Dicke von 1 µm bis 2 µm aufgetragen, vorzugsweise in einer Dicke von ungefähr 1,6 µm, um dadurch eine rote Fotolackschicht (23) als erste Fotolackschicht zu erzeugen, auf welcher eine Oxidationsschutzschicht (26A) in einer Dicke von 0,8 µm bis 1,0 µm gebildet wird. Anschließend wird durch Bewegen des Sub strats (21) die Maske zur Belichtung der roten Fotolackschicht (23) mittels eines Laserstrahls (27), dessen Wellenlänge bei ungefähr 633 nm liegt, unter Verwendung des ersten Justiercode musters (22′) als Zielobjekt automatisch justiert. Genauer ge sagt wird der Laserstrahl (27) auf das erste Justiercodemuster (22′) eingestrahlt und das vom ersten Justiercodemuster (22′) reflektierte Licht detektiert, woraus ein entsprechendes Signal generiert wird. Die Maske wird hierbei entsprechend diesem Signal justiert. Danach wird die rote Fotolackschicht (23) zur Bildung eines (nicht gezeigten) roten Fotolackmusters mittels eines üblichen photolithographischen Prozesses strukturiert. Die Oxidationsschutzschicht (26A) wird nach dem Belichtungsschritt und vor dem Entwicklungsschritt während des photolithographi schen Prozesses entfernt.

Gleichzeitig wird in einem Bereich, der von demjenigen verschie den ist, in welchem das erste Justiercodemuster (22′) gebildet ist, ein zweites Justiercodemuster (Bezugszeichen 23′ in Fig. 7) erzeugt, um eine Maske zur Belichtung einer nachfolgend zu bil denden, zweiten Fotoresistschicht zu justieren. Genauer gesagt wird das zweite Justiercodemuster (23′), das aus dem roten Foto lack besteht, gleichzeitig mit der Bildung des roten Fotolack musters an der Stelle erzeugt, die zur Bildung des Justiercode musters für die Justierung einer Maske zur Belichtung einer grünen Fotolackschicht vorgesehen ist.

Fig. 7 veranschaulicht einen Schritt zur Bildung eines zweiten Justiercodemusters (23′) und zur Justierung einer Maske für die Belichtung einer zweiten Fotolackschicht. Die Querschnittsan sicht von Fig. 7 zeigt, daß das zweite Justiercodemuster in einem Bereich gebildet wird, der von demjenigen verschieden ist, in welchem das erste, in Fig. 6 gezeigte Justiercodemuster ange ordnet ist.

Bezugnehmend auf Fig. 7 ist zunächst die auf dem Substrat (21) im Schritt von Fig. 6 aufgebrachte Abschirmmatrix (22) und das auf der Abschirmmatrix (22) im Schritt von Fig. 6 erzeugte zweite Justiercodemuster (23′) zu erkennen. Hierzu wird auf die durch den Schritt von Fig. 6 erhaltene, resultierende Struktur ein grüner Fotolack aufgebracht, um die zweite Fotolackschicht, d. h. eine grüne Fotolackschicht (24), zu bilden. Auf der grünen Fotolackschicht (24) wird erneut eine Oxidationsschutzschicht (26B) in einer Dicke von 0,6 µm bis 1,0 µm aufgebracht, wonach mit dem Laserstrahl (27), dessen Wellenlänge ungefähr 600 nm bis 700 nm beträgt, auf das zweite Justiercodemuster (23′) einge strahlt wird. Das von einem geneigt verlaufenden Oberflächen abschnitt der grünen Fotolackschicht (24), wo aufgrund des zweiten Justiercodemusters (23′) ein Stufenunterschied besteht, gestreute Licht wird detektiert und zur Erzeugung eines ent sprechenden Signals benutzt, wobei die Maske zur Belichtung der grünen Fotolackschicht (24) entsprechend diesem Signal automa tisch justiert wird. Daraufhin wird durch Strukturierung der grünen Fotolackschicht (24) mittels eines nachfolgenden photolithographischen Prozesses ein (nicht gezeigtes) grünes Fotolackmuster erzeugt. Gleichzeitig wird ein drittes Justier codemuster (Bezugszeichen 24′ in Fig. 8), das aus dem grünen Fotolack besteht, an einer für die Bildung eines Justiercodes für eine blaue Fotolackschicht vorgesehenen Stelle erzeugt. Die Oxidationsschutzschicht (26B) wird wiederum nach dem Belich tungsschritt und vor dem Entwicklungsschritt während des photo lithographischen Prozesses entfernt.

Fig. 8 veranschaulicht einen Schritt zur Justierung einer Maske für die Belichtung einer dritten Fotolackschicht unter Verwen dung des dritten Justiercodemusters (24′). Der Querschnitt von Fig. 8 zeigt das dritte Justiercodemuster (24′), das in einem Be reich gebildet ist, der von den Bereichen verschieden ist, in denen die in Fig. 6 und 7 gezeigten Justiercodemuster (22′, 23′) angeordnet sind.

Aus Fig. 8 ist zunächst die im Schritt von Fig. 6 auf dem Sub strat (21) gebildete Abschirmmatrix (22), das im Schritt von Fig. 6 auf der Abschirmmatrix (22) gebildete erste Fotolack muster (23) sowie das im Schritt von Fig. 7 auf dem ersten Fotolackmuster (23) erzeugte dritte Justiercodemuster (24′) zu erkennen. Eine dritte Fotolackschicht, d. h. eine blaue Fotolack schicht (25), wird auf die durch den Schritt von Fig. 7 erhal tene, resultierende Struktur durch Aufbringen eines blauen Fotolacks gebildet. Auf die blaue Fotolackschicht (25) wird er neut eine Oxidationsschutzschicht (26C) in einer Dicke von 0,6 µm bis 1,0 µm aufgebracht, wonach mit dem Laserstrahl (27), dessen Wellenlänge ungefähr 600 nm bis 700 nm beträgt, auf das dritte Justiercodemuster (24′) eingestrahlt wird. Daraufhin wird das von einem geneigt verlaufenden Oberflächenabschnitt der blauen Fotolackschicht (25), wo ein Stufenunterschied aufgrund des dritten Justiercodemusters (24′) vorliegt, gestreute Licht detektiert und zur Erzeugung eines entsprechenden Signals be nutzt, wobei die Maske zur Belichtung der blauen Fotolack schicht (25) entsprechend diesem Signal automatisch justiert wird. Anschließend wird durch Strukturierung der blauen Foto lackschicht (25) mittels eines nachfolgenden photolithographi schen Prozesses ein (nicht gezeigtes) blaues Fotolackmuster er zeugt.

Fig. 9 zeigt das erfindungsgemäße zweite Justiercodemuster gemäß Fig. 7 sowie ein auf der zugehörigen Maske befindliches Justier codemuster in einer Draufsicht. In Fig. 10 sind die Kurvenver läufe gezeigt, wie sie sich aus der Detektion des von den in Fig. 9 gezeigten Justiercodemustern reflektierten Lichtes er geben. Bezugnehmend auf Fig. 9 bezeichnen dort sämtliche Bezugs zeichen, soweit sie bereits in Fig. 7 erscheinen, dieselben Ele mente wie dort, wobei zusätzlich das Bezugszeichen (30) das auf der Maske gebildete Justiercodemuster bezeichnet.

Fig. 10 zeigt in Diagrammform die unter Verwendung eines Oszil loskops von einer Gruppe von Justiercodemustern (23′, 30) erhal tenen Kurvenverläufe, wenn die Maske justiert wird. Dabei wird in Fig. 10 das Kurvendiagramm (A) von dem zweiten Justiercode muster und das Kurvendiagramm (B) von dem Justiercodemuster auf der Maske erhalten. Aus Fig. 10 ergibt sich, daß, wenn das Justiercodemuster erfindungsgemäß erzeugt wurde, problemlos eine automatische Justierung der Maske durchführbar ist, da, wie das Kurvendiagramm zeigt, die Justiermarken exakt detektierbar sind.

Erfindungsgemäß werden also bei der Herstellung des Farbfilters zusammen mit der Erzeugung des roten bzw. des grünen Fotolack musters jeweils ein Justiercodemuster unter Verwendung des roten bzw. des grünen Fotolacks gebildet, die zur Justierung von Mas ken für die Belichtung der grünen bzw. der blauen Fotoresist schicht benutzt werden. Das in Fig. 10 gezeigte Signal läßt sich durch Detektieren des Lichtes des Laserstrahls erhalten, welches von dem geneigt verlaufenden Oberflächenabschnitt des Stufen bereichs der grünen bzw. der blauen Fotolackschicht, der auf grund des jeweiligen Justiercodemusters entsteht, reflektiert wird, so daß eine automatische Justierung der Maske zur Be lichtung des grünen bzw. des blauen Fotolacks ermöglicht ist.

Demgemäß wird der Justiervorgang vereinfacht, die Prozeßdauer läßt sich verringern und der Durchsatz wird erhöht, da der Ju stiervorgang automatisch durchgeführt werden kann, im Gegensatz zum herkömmlichen Verfahren, bei dem der Fotolack über dem Code muster manuell entfernt wird. Es versteht sich, daß für den Fachmann zahlreiche Modifikationen und Varianten des oben be schriebenen Ausführungsbeispiels realisierbar sind, ohne vom Umfang der Erfindung abzuweichen.

Claims

1. Farbfilter, insbesondere für eine Flüssigkristall anzeigeeinrichtung, mit

- einem Substrat (21) und
- einem auf einem vorbestimmten Bereich des Substrats gebil deten Justiercodemuster zur Justierung einer Maske über dem Substrat, dadurch gekennzeichnet, daß
- das Justiercodemuster (23′, 24′) einen Stufenunterschied vor bestimmter Größe zur Erzeugung von gestreutem Licht bei Ein strahlung eines Lichtstrahls aufweist.

2. Farbfilter nach Anspruch 1, weiter gekennzeichnet durch eine auf dem Substrat (21) gebildete, unter Verwendung der mit dem Justiercodemuster (23′, 24′) justierten Maske belich tete Fotolackschicht (24, 25), die das Justiercodemuster (23′, 24′) bedeckt.

3. Farbfilter nach Anspruch 2, weiter dadurch gekenn zeichnet, daß die Fotolackschicht (24, 25) aus einem blauen oder einem grünen Fotolack besteht.

4. Farbfilter nach einem der Ansprüche 1 bis 3, weiter gekennzeichnet durch

- ein Schichtmuster aus einem ersten, farbigen Fotolack (23) auf einem ersten Bereich des Substrats (21),
- ein Justiercodemuster (23′) auf einem zweiten Bereich des Substrats (21), das einen bei Einstrahlung eines Laserstrahls (27) gestreutes Licht hervorrufenden Stufenunterschied auf weist und aus dem ersten farbigen Fotolack besteht, und
- eine Schicht (24) aus einem zweiten farbigen Fotolack auf dem mit dem Muster aus dem ersten farbigen Fotolack und dem Justiercodemuster (23′) versehenen Substrat (21), welche das Justiercodemuster (23′) bedeckt.

5. Farbfilter nach Anspruch 4, weiter dadurch gekenn zeichnet, daß der erste farbige Fotolack ein roter Fotolack und der zweite farbige Fotolack ein blauer Fotolack ist.

6. Verfahren zur Herstellung eines Farbfilters, insbe sondere für eine Flüssigkristallanzeigeeinrichtung, dadurch ge kennzeichnet, daß ein Justiercodemuster (23′), das einen Stufen unterschied zur Erzeugung von gestreutem Licht bei Einstrah lung eines Lichtstrahls (27) besitzt, auf einem Substrat (21) erzeugt wird.

7. Verfahren nach Anspruch 6, weiter gekennzeichnet durch folgende Schritte zur Erzeugung des Justiercodemusters (23′):

- Aufbringen einer Fotolackschicht (23) auf das Substrat (21) und
- Strukturierung der Fotolackschicht (23) zur gleichzeitigen Erzeugung eines Fotolackmusters und des Justiercodemusters (23′).

8. Verfahren nach Anspruch 7, weiter dadurch gekennzeich net, daß die Fotolackschicht (23) aus einem roten Fotolack be steht.

9. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, weiter gekennzeich net durch folgende Schritte:

- Aufbringen einer weiteren, das Justiercodemuster (23′) bedec kenden Fotolackschicht (24) nach der Erzeugung des Justier codemusters (23′) und
- Justieren einer Maske zur Belichtung der weiteren Fotolack schicht (24) unter Verwendung von Laserstrahllicht, das an einem geneigt verlaufenden Oberflächenabschnitt der weiteren Fotolackschicht (24), der im Bereich des aufgrund des Justiercodemusters (23′) vorliegenden Stufenunterschieds ausgebildet ist, gestreut wird.

10. Verfahren nach Anspruch 6, weiter gekennzeichnet durch folgende Schritte:

- Aufbringen einer Fotolackschicht (24), welche das Justier codemuster (23′) bedeckt,
- Detektieren des durch Einstrahlung eines Laserstrahls (27) auf das Justiercodemuster gestreuten Lichtes zur Erzeugung eines zugehörigen Signals und
- Justieren einer Maske zur Belichtung der Fotolackschicht (24) entsprechend diesem Signal.

11. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 10, weiter gekennzeichnet durch die Schritte:

- Aufbringen einer Lichtabschirmschicht (22) auf das Substrat (21) und Strukturieren der Lichtabschirmschicht zur Erzeugung eines ersten Justiercodemusters (22′) sowie eines lichtab schirmenden Musters vor dem erstmaligen Aufbringen einer Fotolackschicht,
- Aufbringen einer roten Fotolackschicht (23) auf das mit dem ersten Justiercodemuster (22′) und dem lichtabschirmenden Muster versehene Substrat (21),
- Strukturieren der roten Fotolackschicht (23) unter Verwendung des ersten Justiercodemusters (22′) zur gleichzeitigen Erzeu gung eines roten Fotolackmusters und eines zweiten Justier codemusters (23′) mit einem vorbestimmten Stufenunterschied auf dem lichtabschirmenden Muster,
- Aufbringen einer grünen Fotolackschicht (24) auf die das zweite Justiercodemuster (23′) beinhaltende, resultierende Struktur,
- Strukturieren der grünen Fotolackschicht (24) unter Verwen dung einer mit dem zweiten Justiercodemuster (23′) justierten Maske zur gleichzeitigen Erzeugung eines grünen Fotolack musters und eines dritten Justiercodemusters (24′) mit einem vorbestimmten Stufenunterschied auf dem roten Fotolackmuster,
- Aufbringen einer blauen Fotolackschicht (25) auf die das dritte Justiercodemuster (24′) beinhaltende, resultierende Struktur und
- Strukturieren der blauen Fotolackschicht (25) unter Verwen dung einer mit dem dritten Justiercodemuster justierten Maske zur Erzeugung eines blauen Fotolackmusters.

12. Verfahren nach Anspruch 11, weiter dadurch gekenn zeichnet, daß die Strukturierung der roten Fotolackschicht (23) folgende Schritte beinhaltet:

- Einstrahlung eines Laserstrahls (27) kurzer Wellenlänge auf das erste Justiercodemuster (22′),
- Detektieren des von dem ersten Justiercodemuster (22′) re flektierten Lichtes des Laserstrahls (27) zur Erzeugung eines entsprechenden Signals und
- Justierung einer Maske zur Belichtung der roten Fotolack schicht (23) entsprechend diesem Signal.

13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, weiter dadurch ge kennzeichnet, daß die Strukturierung der grünen Fotolackschicht (24) folgende Schritte beinhaltet:

- Einstrahlen eines Laserstrahls (27) kurzer Wellenlänge auf das zweite Justiercodemuster (23′),
- Detektieren des von dem zweiten Justiercodemuster (23′) ge streuten Lichtes des Laserstrahls (27) zur Erzeugung eines entsprechenden Signals und
- Justierung einer Maske zur Belichtung der grünen Fotolack schicht (24) entsprechend diesem Signal.

14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, weiter dadurch gekennzeichnet, daß die Strukturierung der blauen Foto lackschicht (25) folgende Schritte beinhaltet:

- Einstrahlen eines Laserstrahls (27) kurzer Wellenlänge auf das dritte Justiercodemuster (24′),
- Detektieren des von dem dritten Justiercodemuster (24′) ge streuten Lichtes des Laserstrahls (27) zur Erzeugung eines entsprechenden Signals und
- Justieren einer Maske zur Belichtung der blauen Fotoresist schicht (25) entsprechend diesem Signal.

15. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 14, weiter dadurch gekennzeichnet, daß das erste Justiercodemuster (22′) aus Chrom oder einem Chromoxid besteht.