JP2752528B2 - カラー液晶パネルの製造装置 - Google Patents
カラー液晶パネルの製造装置Info
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- JP2752528B2 JP2752528B2 JP10521991A JP10521991A JP2752528B2 JP 2752528 B2 JP2752528 B2 JP 2752528B2 JP 10521991 A JP10521991 A JP 10521991A JP 10521991 A JP10521991 A JP 10521991A JP 2752528 B2 JP2752528 B2 JP 2752528B2
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カラー液晶パネルの製
造装置に関し、特に、液晶パネル上部に形成されるカラ
ーフィルターの観察系を備えたカラー液晶パネルの製造
装置に関する。
造装置に関し、特に、液晶パネル上部に形成されるカラ
ーフィルターの観察系を備えたカラー液晶パネルの製造
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラー液晶パネルに用いられるカラーフ
ィルターは、感光性樹脂であるレジスト中に、それぞれ
Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３色の染料を混ぜた３
つレジスト層が重ね合わされて作製されるものである。
具体的には、いずれかの染料が混入され、パターニング
されたレジスト層の上に、次層となる染料入りレジスト
を一面に塗布し、マスクを通して露光し、さらに現像し
てパターニングすることを順次繰り返して３層を形成さ
せる。
ィルターは、感光性樹脂であるレジスト中に、それぞれ
Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３色の染料を混ぜた３
つレジスト層が重ね合わされて作製されるものである。
具体的には、いずれかの染料が混入され、パターニング
されたレジスト層の上に、次層となる染料入りレジスト
を一面に塗布し、マスクを通して露光し、さらに現像し
てパターニングすることを順次繰り返して３層を形成さ
せる。
【０００３】カラー液晶パネルの製造装置における各レ
ジスト層の位置合わせは、下部に形成される各レジスト
層（もしくは液晶パネル）にそれぞれ形成されたアライ
メントマークに観察用の光（以下、観察光と称する）を
照射し、この反射光を観察することにより行われる。
ジスト層の位置合わせは、下部に形成される各レジスト
層（もしくは液晶パネル）にそれぞれ形成されたアライ
メントマークに観察用の光（以下、観察光と称する）を
照射し、この反射光を観察することにより行われる。
【０００４】ここで、レジスト中に混入されるＲ，Ｇ，
Ｂの各染料は、特定波長域の光のみ透過させ、この他の
光は吸収する特性をそれぞれ持っている。
Ｂの各染料は、特定波長域の光のみ透過させ、この他の
光は吸収する特性をそれぞれ持っている。
【０００５】図３（ａ），（ｂ），（ｃ）は、Ｒ，Ｇ，
Ｂ各染料のそれぞれの分光透過率を示す図である。Ｒの
染料は６００ｎｍ以上の波長域の光を透過し、Ｇの染料
は５００ｎｍ〜６００ｎｍおよび７００ｎｍ以上の光を
透過する。また、Ｂの染料は４００ｎｍ〜５００ｎｍお
よび７００ｎｍ以上の光を透過する。
Ｂ各染料のそれぞれの分光透過率を示す図である。Ｒの
染料は６００ｎｍ以上の波長域の光を透過し、Ｇの染料
は５００ｎｍ〜６００ｎｍおよび７００ｎｍ以上の光を
透過する。また、Ｂの染料は４００ｎｍ〜５００ｎｍお
よび７００ｎｍ以上の光を透過する。
【０００６】レジストの分光露光感度は、図４に示され
るように４００ｎｍ近傍にピークを有し、５００ｎｍ以
上については感度を有しないものであるため、カラー液
晶パネルの製造装置での観察光としては、図５に示され
るようなレジストを感光させることがない５００ｎｍ以
上の光が用いられていた。
るように４００ｎｍ近傍にピークを有し、５００ｎｍ以
上については感度を有しないものであるため、カラー液
晶パネルの製造装置での観察光としては、図５に示され
るようなレジストを感光させることがない５００ｎｍ以
上の光が用いられていた。
【０００７】また、観察を行う光学系の長波長側は、可
視光域である７００ｎｍとされ、収差補正や光学コーテ
ィングは７００ｎｍ以下の波長に関して最適化されるも
のであった。
視光域である７００ｎｍとされ、収差補正や光学コーテ
ィングは７００ｎｍ以下の波長に関して最適化されるも
のであった。
【０００８】図６はレジスト層を位置合わせする状態を
示す断面図である。
示す断面図である。
【０００９】カラーフィルターの基板６０１（液晶パネ
ルの上面）上には、パターン６０２と該パターン６０２
を覆うレジスト層６０３とが形成されている。レジスト
層６０３に混入される染料がＲもしくはＧである場合に
は、上方から照射される観察光はレジスト層６０３を透
過し、パターン６０２と同一平面に形成されたアライメ
ントマーク（不図示）は観察光によって照明されるた
め、レジスト層６０３をパターン６０２に対して位置合
わせすることができる。しかしながら、レジスト層６０
３に混入される染料がＢである場合には、上方から照射
される観察光はレジスト層６０３を透過することができ
ず、レジスト層６０３をパターン６０２に対して位置合
わせすることができない。このため、Ｂの染料が混入さ
れたレジスト層の位置合わせについては観察光として露
光光が用いられていた。
ルの上面）上には、パターン６０２と該パターン６０２
を覆うレジスト層６０３とが形成されている。レジスト
層６０３に混入される染料がＲもしくはＧである場合に
は、上方から照射される観察光はレジスト層６０３を透
過し、パターン６０２と同一平面に形成されたアライメ
ントマーク（不図示）は観察光によって照明されるた
め、レジスト層６０３をパターン６０２に対して位置合
わせすることができる。しかしながら、レジスト層６０
３に混入される染料がＢである場合には、上方から照射
される観察光はレジスト層６０３を透過することができ
ず、レジスト層６０３をパターン６０２に対して位置合
わせすることができない。このため、Ｂの染料が混入さ
れたレジスト層の位置合わせについては観察光として露
光光が用いられていた。
【００１０】
【発明が解決しようとしている課題】上述した従来のカ
ラー液晶パネルの製造装置は、Ｂの染料が混入されたレ
ジスト層については、露光光によって位置合わせが行わ
れるので、このときに該レジスト層が感光してしまい、
パターニングを正確に行うことができないという問題点
がある。また、レジスト層に混入される染料に応じて観
察光を切り替える必要があり、煩わしいという問題点が
ある。
ラー液晶パネルの製造装置は、Ｂの染料が混入されたレ
ジスト層については、露光光によって位置合わせが行わ
れるので、このときに該レジスト層が感光してしまい、
パターニングを正確に行うことができないという問題点
がある。また、レジスト層に混入される染料に応じて観
察光を切り替える必要があり、煩わしいという問題点が
ある。
【００１１】さらに、観察光として各染料にて反射され
る波長成分を含むものが使用されるため、フレア光が生
じてしまい、正確な位置合わせができないという問題点
がある。
る波長成分を含むものが使用されるため、フレア光が生
じてしまい、正確な位置合わせができないという問題点
がある。
【００１２】本発明は上記従来技術が有する問題点に鑑
みてなされたものであって、Ｒ，Ｇ，Ｂいずれの染料が
混入されたレジスト層についても正確なパターニングを
行うことのできるカラー液晶パネルの製造装置を実現す
ることを目的とする。
みてなされたものであって、Ｒ，Ｇ，Ｂいずれの染料が
混入されたレジスト層についても正確なパターニングを
行うことのできるカラー液晶パネルの製造装置を実現す
ることを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明のカラー液晶パネ
ルの製造装置は、液晶パネル上部に、染料が混入された
レジスト層であるカラーフィルターが積層されるカラー
液晶パネルの製造装置であって、前記カラーフィルター
形成時における位置決めが、その下部に形成されたレジ
スト層もしくは液晶パネルに設けられたアライメントマ
ークに観察用の光を照射し、その反射光を観察すること
により行われるものであり、前記観察用の光として、各
レジスト層に混入される染料に吸収されない赤外光が用
いられている。
ルの製造装置は、液晶パネル上部に、染料が混入された
レジスト層であるカラーフィルターが積層されるカラー
液晶パネルの製造装置であって、前記カラーフィルター
形成時における位置決めが、その下部に形成されたレジ
スト層もしくは液晶パネルに設けられたアライメントマ
ークに観察用の光を照射し、その反射光を観察すること
により行われるものであり、前記観察用の光として、各
レジスト層に混入される染料に吸収されない赤外光が用
いられている。
【００１４】
【作用】観察光として、各レジスト層に混入される染料
に吸収されない赤外光が用いられているので、観察光は
いずれの染料が混入されたレジスト層についても透過す
る。このため、いずれのレジスト層についても、その下
部に形成されたアライメントマークに対して位置決めす
ることができる。
に吸収されない赤外光が用いられているので、観察光は
いずれの染料が混入されたレジスト層についても透過す
る。このため、いずれのレジスト層についても、その下
部に形成されたアライメントマークに対して位置決めす
ることができる。
【００１５】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００１６】図１は本発明の一実施例の構成を示す図で
ある。
ある。
【００１７】照明系１０１にて発生した円弧状照明光
が、パターンの描かれたマスク１０２を照明し、そのパ
ターンが反射ミラー、凹面鏡および凸面鏡等のミラー系
のみで構成されたミラー投影光学系１０３の作用により
カラーフィルター１０４上に焼付けられる。投影光学系
１０３は円弧状に良像域があり、照明系１０１はそれに
合わせて円弧状照明光を照射する。その円弧状光束に対
し、マスク１０２とカラーフィルター１０４が不図示の
キャリッジによって、一体となって矢印の方向に走査さ
れることにより、カラーフィルター１０４の全面の露光
が行われる。この時の露光光は、図４に示したレジスト
感度に合わせた４００ｎｍ近傍の波長域の光である。
が、パターンの描かれたマスク１０２を照明し、そのパ
ターンが反射ミラー、凹面鏡および凸面鏡等のミラー系
のみで構成されたミラー投影光学系１０３の作用により
カラーフィルター１０４上に焼付けられる。投影光学系
１０３は円弧状に良像域があり、照明系１０１はそれに
合わせて円弧状照明光を照射する。その円弧状光束に対
し、マスク１０２とカラーフィルター１０４が不図示の
キャリッジによって、一体となって矢印の方向に走査さ
れることにより、カラーフィルター１０４の全面の露光
が行われる。この時の露光光は、図４に示したレジスト
感度に合わせた４００ｎｍ近傍の波長域の光である。
【００１８】次にカラーフィルターを観察するための観
察光学系について述べる。
察光学系について述べる。
【００１９】８００ｎｍ近傍の波長の光を出す発光ダイ
オード１０５が発生する観察光は、ハーフミラー１０
６、リレーレンズ１０７、ミラー１０８、対物レンズ１
０９を順次通ってマスク１０２上のアライメントマーク
１１０を照射する。さらに、投影光学系１０３を通って
カラーフィルター１０４上のアライメントマーク１１１
をも照射する。これらのレンズ、ミラーの光学系は、そ
の収差補正やコーティングが８００ｎｍ近傍の波長に対
し最適化されている。図３（ａ），（ｂ），（ｃ）から
わかるように、８００ｎｍ近傍の波長の光ならば、Ｒ，
Ｇ，Ｂいずれの染料が混入されたレジストでも吸収され
ることなく透過することが可能である。したがって、観
察光はフレア光を生じさせることなくカラーフィルター
１０４の基板で反射して戻ってくる。反射した観察光
は、入射したときの逆の経路を通過した後、ハーフミラ
ー１０６を通過して、撮像素子１１２上に、マスク１０
２上のアライメントマーク１１０およびカラーフィルタ
ー１０４上のアライメントマーク１１１の像を結像す
る。撮像素子１１２は、通常のものでも長波長側が１１
００ｎｍ付近まで感度をもっているので充分に撮像可能
である。該結像は撮像素子１１２からコンピュータ１１
３に送られて画像処理され、２つのアライメントマーク
１１０と１１１との位置ずれ量が検知される。この位置
ずれ量をもとにしてマスク１０２とカラーフィルター１
０４との位置合わせが行われる。ミラー投影光学系１０
３は上述のようにミラー系のみによって構成されて色収
差がないので、８００ｎｍ波長の光に対してもマスク１
０２の面とフィルター１０４の面とが共役になるので、
両者を同時に観察することができる。
オード１０５が発生する観察光は、ハーフミラー１０
６、リレーレンズ１０７、ミラー１０８、対物レンズ１
０９を順次通ってマスク１０２上のアライメントマーク
１１０を照射する。さらに、投影光学系１０３を通って
カラーフィルター１０４上のアライメントマーク１１１
をも照射する。これらのレンズ、ミラーの光学系は、そ
の収差補正やコーティングが８００ｎｍ近傍の波長に対
し最適化されている。図３（ａ），（ｂ），（ｃ）から
わかるように、８００ｎｍ近傍の波長の光ならば、Ｒ，
Ｇ，Ｂいずれの染料が混入されたレジストでも吸収され
ることなく透過することが可能である。したがって、観
察光はフレア光を生じさせることなくカラーフィルター
１０４の基板で反射して戻ってくる。反射した観察光
は、入射したときの逆の経路を通過した後、ハーフミラ
ー１０６を通過して、撮像素子１１２上に、マスク１０
２上のアライメントマーク１１０およびカラーフィルタ
ー１０４上のアライメントマーク１１１の像を結像す
る。撮像素子１１２は、通常のものでも長波長側が１１
００ｎｍ付近まで感度をもっているので充分に撮像可能
である。該結像は撮像素子１１２からコンピュータ１１
３に送られて画像処理され、２つのアライメントマーク
１１０と１１１との位置ずれ量が検知される。この位置
ずれ量をもとにしてマスク１０２とカラーフィルター１
０４との位置合わせが行われる。ミラー投影光学系１０
３は上述のようにミラー系のみによって構成されて色収
差がないので、８００ｎｍ波長の光に対してもマスク１
０２の面とフィルター１０４の面とが共役になるので、
両者を同時に観察することができる。
【００２０】図２は本発明の第２の実施例の構成を示す
図である。
図である。
【００２１】図１に示したものがミラー投影系を介して
露光を行っていたのに対し、本実施例のものにおいては
レンズ投影系を介する露光が行われている。
露光を行っていたのに対し、本実施例のものにおいては
レンズ投影系を介する露光が行われている。
【００２２】照明系２２１は、パターンの描かれている
レチクル２２２のパターン全面を照射し、レチクル２２
２上のパターンは投影レンズ２２３によって、カラーフ
ィルター２０４の面上に焼付けられる。カラーフィルタ
ー２０４は、チャック２２４の上に真空吸着によって固
定されており、ステージ２２５によって２次元的に移動
可能である。ステージ２２５は定盤２２６の上に固定さ
れている。投影レンズ２２３の露光可能域は限られてい
るので、ステージ２２３が、２次元的に逐次移動しなが
ら露光を繰り返すことによって、カラーフィルター２０
４の全面が焼付けられる。
レチクル２２２のパターン全面を照射し、レチクル２２
２上のパターンは投影レンズ２２３によって、カラーフ
ィルター２０４の面上に焼付けられる。カラーフィルタ
ー２０４は、チャック２２４の上に真空吸着によって固
定されており、ステージ２２５によって２次元的に移動
可能である。ステージ２２５は定盤２２６の上に固定さ
れている。投影レンズ２２３の露光可能域は限られてい
るので、ステージ２２３が、２次元的に逐次移動しなが
ら露光を繰り返すことによって、カラーフィルター２０
４の全面が焼付けられる。
【００２３】次に位置合わせ用光学系について述べる。
先の第１の実施例では、投影光学系を介して、マスク１
０２の上から、マスク１０２とカラーフィルター１０４
とを同時観察していたが（図１参照）、本実施例での投
影レンズ２２３には、４００ｎｍ近傍の露光光と位置合
わせを行うための赤外光との間に色収差があるので同時
観察はできない。そこで図示されるような、投影レンズ
２２３を介さずにカラーフィルター２０４を直接見る、
いわゆる「オフアクシス、ノンＴＴＬ」タイプの位置合
わせ装置が構成されている。本実施例における観察光学
系を構成する発光ダイオード２０５、ハーフミラー２０
６、リレーレンズ２０７、ミラー２０８、対物レンズ２
０９、撮像素子２１２およびコンピュータ２１３の構成
は、図１中の発光ダイオード１０５、ハーフミラー１０
６、リレーレンズ１０７、ミラー１０８、対物レンズ１
０９、撮像素子１１２およびコンピュータ１１３とそれ
ぞれ同様であるため詳細な説明は省略する。
先の第１の実施例では、投影光学系を介して、マスク１
０２の上から、マスク１０２とカラーフィルター１０４
とを同時観察していたが（図１参照）、本実施例での投
影レンズ２２３には、４００ｎｍ近傍の露光光と位置合
わせを行うための赤外光との間に色収差があるので同時
観察はできない。そこで図示されるような、投影レンズ
２２３を介さずにカラーフィルター２０４を直接見る、
いわゆる「オフアクシス、ノンＴＴＬ」タイプの位置合
わせ装置が構成されている。本実施例における観察光学
系を構成する発光ダイオード２０５、ハーフミラー２０
６、リレーレンズ２０７、ミラー２０８、対物レンズ２
０９、撮像素子２１２およびコンピュータ２１３の構成
は、図１中の発光ダイオード１０５、ハーフミラー１０
６、リレーレンズ１０７、ミラー１０８、対物レンズ１
０９、撮像素子１１２およびコンピュータ１１３とそれ
ぞれ同様であるため詳細な説明は省略する。
【００２４】本実施例では、レチクル２２２とカラーフ
ィルター２０４との位置合わせが直接に行われないの
で、レチクル２２２を製造装置本体に設けられた基準マ
ーク２２７に位置合わせする必要があり、そのためのレ
チクル位置合わせ用光学系２２８が設けられ、また上述
の観察光学系も製造装置本体に対して位置決めされてい
る。このため、基準マーク２２７に対して位置合わせさ
れたレチクル２２２と観察光学系によって位置決めされ
たカラーフィルター２０４とは同じ基準にて位置決めさ
れることとなり、正確な位置決めを行うことができた。
ィルター２０４との位置合わせが直接に行われないの
で、レチクル２２２を製造装置本体に設けられた基準マ
ーク２２７に位置合わせする必要があり、そのためのレ
チクル位置合わせ用光学系２２８が設けられ、また上述
の観察光学系も製造装置本体に対して位置決めされてい
る。このため、基準マーク２２７に対して位置合わせさ
れたレチクル２２２と観察光学系によって位置決めされ
たカラーフィルター２０４とは同じ基準にて位置決めさ
れることとなり、正確な位置決めを行うことができた。
【００２５】本発明の他の変形例としては、色収差補正
光学系を新たに設け、フィルター２０４を直接観察せず
に、レチクル２２２を介することなく投影レンズ２２３
および色収差補正光学系のみを介して光束をとり出すい
わゆる「オフアクシスＴＴＬ」タイプの位置合わせ装置
も考えられる。
光学系を新たに設け、フィルター２０４を直接観察せず
に、レチクル２２２を介することなく投影レンズ２２３
および色収差補正光学系のみを介して光束をとり出すい
わゆる「オフアクシスＴＴＬ」タイプの位置合わせ装置
も考えられる。
【００２６】また、赤外光の光源としては、図１や図２
に示したような赤外発光ダイオードが高輝度という点で
望ましいが、同じく高輝度なものとしてレーザーダイオ
ード（半導体レーザー）が考えられる。ただし、可干渉
性が良いことから、スペクタル除光の必要があり、ビー
ムの拡がり角に縦横差が大きいのでビーム整形もしてや
る必要はある。あるいは、光量さえ十分であれば、ハロ
ゲンランプや、キセノンランプなども使用可能である。
また、使用波長としては８００ｎｍのものを例にとって
説明したが、図３（ａ），（ｂ），（ｃ）に示した各染
料の分光透過率から明らかなように７００ｎｍ以上のも
のであれば各染料を透過することができ、本発明を構成
する観察光として用いることができる。
に示したような赤外発光ダイオードが高輝度という点で
望ましいが、同じく高輝度なものとしてレーザーダイオ
ード（半導体レーザー）が考えられる。ただし、可干渉
性が良いことから、スペクタル除光の必要があり、ビー
ムの拡がり角に縦横差が大きいのでビーム整形もしてや
る必要はある。あるいは、光量さえ十分であれば、ハロ
ゲンランプや、キセノンランプなども使用可能である。
また、使用波長としては８００ｎｍのものを例にとって
説明したが、図３（ａ），（ｂ），（ｃ）に示した各染
料の分光透過率から明らかなように７００ｎｍ以上のも
のであれば各染料を透過することができ、本発明を構成
する観察光として用いることができる。
【００２７】なお、図１および図２にそれぞれ示した各
実施例では、撮像素子１１２，２１２に結像した像をコ
ンピュータ１１３，２１３でそれぞれ画像処理して自動
位置合わせを行っているが、撮像素子１１２，２１２の
像をそのままモニター上に映し出し、ジョイスティック
などを用いてマニュアルで位置合わせしても良い。
実施例では、撮像素子１１２，２１２に結像した像をコ
ンピュータ１１３，２１３でそれぞれ画像処理して自動
位置合わせを行っているが、撮像素子１１２，２１２の
像をそのままモニター上に映し出し、ジョイスティック
などを用いてマニュアルで位置合わせしても良い。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、Ｒ，Ｇ，Ｂの各染
料が混入されるレジスト層の観察光に各染料に吸収され
ることのない赤外光を用いることによって、Ｂの染料が
混入されたレジスト層を感光させることなく観察でき、
フレア光も生じないものとなる。また、レジスト層に混
入される染料に応じて観察光を切り替える必要がなくな
るので、正確なパターニングを迅速に行うことができる
効果がある。
料が混入されるレジスト層の観察光に各染料に吸収され
ることのない赤外光を用いることによって、Ｂの染料が
混入されたレジスト層を感光させることなく観察でき、
フレア光も生じないものとなる。また、レジスト層に混
入される染料に応じて観察光を切り替える必要がなくな
るので、正確なパターニングを迅速に行うことができる
効果がある。
【図１】本発明の第１の実施例の構成を示す図である。
【図２】本発明の第２の実施例の構成を示す図である。
【図３】（ａ），（ｂ），（ｃ）はそれぞれ染料Ｒ，
Ｇ，Ｂの分光透過率を示す図である。
Ｇ，Ｂの分光透過率を示す図である。
【図４】レジストの分光露光感度を示す図である。
【図５】従来の観察光の分光強度分布を示す図である。
【図６】レジスト層を位置合わせする状態を示す断面図
である。
である。
１０１，２２１ 照明系 １０２ マスク １０３ ミラー投影光学系 １０４，２０４ カラーフィルター １０５，２０５ ＬＥＤ １０６，２０６ ハーフミラー １０７，２０７ リレーレンズ １０８，２０８ ミラー １０９，２０９ 対物レンズ １１０，１１１，２１１ アライメントマーク １１２，２１２ 撮像素子 １１３，２１３ コンピュータ ２２２ レチクル ２２３ 投影レンズ ２２４ チャック ２２５ ステージ ２２６ 定盤 ２２７ 基準マーク ２２８ 位置合わせ用光学系
Claims (1)
- 【請求項１】 液晶パネル上部に、染料が混入されたレ
ジスト層であるカラーフィルターが積層されるカラー液
晶パネルの製造装置であって、前記カラーフィルター形
成時における位置決めが、その下部に形成されたレジス
ト層もしくは液晶パネルに設けられたアライメントマー
クに観察用の光を照射し、その反射光を観察することに
より行われるものであり、前記観察用の光として、各レ
ジスト層に混入される染料に吸収されない赤外光が用い
られることを特徴とするカラー液晶パネルの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10521991A JP2752528B2 (ja) | 1991-04-11 | 1991-04-11 | カラー液晶パネルの製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10521991A JP2752528B2 (ja) | 1991-04-11 | 1991-04-11 | カラー液晶パネルの製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04313725A JPH04313725A (ja) | 1992-11-05 |
| JP2752528B2 true JP2752528B2 (ja) | 1998-05-18 |
Family
ID=14401560
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10521991A Expired - Fee Related JP2752528B2 (ja) | 1991-04-11 | 1991-04-11 | カラー液晶パネルの製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2752528B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR960003482B1 (ko) * | 1992-12-14 | 1996-03-14 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치의 칼라 필터 제조방법 |
| JP2009058608A (ja) * | 2007-08-30 | 2009-03-19 | Toppan Printing Co Ltd | 赤外ｌｅｄを用いたカラーフィルタのコード読取方法 |
| JP6345439B2 (ja) * | 2014-02-21 | 2018-06-20 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 |
-
1991
- 1991-04-11 JP JP10521991A patent/JP2752528B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH04313725A (ja) | 1992-11-05 |
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