DE2703160C3 - Verfahren zum Herstellen eines Masters für ein Phasengitter in einem mit Beugung arbeitenden subtraktiven Farbfiltersystem - Google Patents
Verfahren zum Herstellen eines Masters für ein Phasengitter in einem mit Beugung arbeitenden subtraktiven FarbfiltersystemInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Aus der US-PS 39 57 35^ ist ein auf dem Prinzip der
Beugung arbeitendes subtraktives Farbfiltersystem bekannt, bei dem eine beugende Phasengitterstruktur in
Form eines in die Oberfläche eines transparenten Trägers, beispielsweise aus Kunststoff, eingeprägten
Rechteckreliefprofils als subtraktives Farbfilter verwendet wird, das bei Beleuchtung mit polychromatischem,
z. B. weißem Licht ein Bündel nullter Beugungsordnung einer vorgegebenen subtraktiven Primärfarbe liefert.
Bei vorgegebenem Brechungsindex des das Phasengitter bildenden Materials ist die Farbe des Lichtes im
Bündel nullter Ordnung durch die Amplitude (Tiefe) des Rechteckreliefprofils bestimmt Der Farbe Cyan entspricht
also eine vorgegebene erste Amplitude des Rechteckreliefprofils, der Farbe Gelb eine vorgegebene
zweite Amplitude und der Farbe Magentarot eine vorgegebene dritte Amplitude. Gewünschte andere
Farbtöne lassen sich dadurch erzeugen, daß man jeweils zwei der drei Phasengitter aus den Rechteckreliefprofilen
der vorgegebenen Amplituden einander überlagert. Beim Fehlen jeglicher beugender Strukturen erhält man
Weiß und bei Oberlagerung aller drei Phasengitter der vorgegebenen Amplituden ergibt sich Schwarz.
Ein einfaches Verfahren zum Herstellen von Farbbilder darstellenden Phasengittern der obengenannten
Art, das in der US-PS 39 57 354 beschrieben ist, besteht darin, daß man mit Hilfe eines einer bestimmten
Primärfarbe entsprechenden Farbauszugnegativs einer Farbbildvorlage und eines Rechteckwellengitters ein
der betreffenden Primärfarbe entsprechendes Reliefmuster in einer Positiv-Fotolackschicht erzeugt. Zum
Beispiel kann man ein dünnes Glasplättchen, ähnlich einem Mikroskop-Objektträger mit einer Schicht
vorgegebener Dicke aus Positiv-Fotolack beschichten. Die Dicke der Fotolackschicht wird so gewählt, daß
nach dem Belichten und dem Entfernen des gesamten Fotolacks von den belichteten Bereichen des Trägers
durch Entwickeln die Höhe des nach dem Entwickeln zurückbleibenden unbelichteten Fotolacks gerade der
vorgegebenen Amplitude für die betreffende Primärfarbe entspricht. Vorzugsweise erfolgt die Belichtung
durch Kontaktkopieren des Farbauszugnegativs durch ein Chrom-Auf-Glas-Beugungsgitter. Man stellt auf
diese Weise für jede der drei Primärfarben eine eigene Fotolackkopie her, wobei die Beugungsgitter für die
drei Kopien jeweils unterschiedliche Linienabstände und/oder unterschiedliche Winkellagen (z. B. 60° in
AO bezug aufeinander) bezüglich der Farbbildvorlage
haben, um das auftreten von Moire-Effekten zu vermeiden. Legt man die drei Kopien dann in Deckung
aufeinander, so erhält man ein subtraktives Farbfiltersystem, das ein Farbbild der Vorlage darstellt.
Ein subtraktives Farbfiltersystem der obengenannten Art ist auch in der deutschen Patentanmeldung
entsprechend DE-OS 26 02 790 vorgeschlagen.
Es ist ferner aus der FR-PS 15 54 267 (entsprechend
DE-AS 16 23 803) bekannt, Reflexions- und Transmis sionsgitter durch Belichten einer Fotolackschicht mit
einer Interferenzfigur und durch anschließendes Entwickeln herzustellen. Ein Kreuzgitter kann durch
Belich'ung einer Fotolackschicht mit zwei um 90° versetzten, durch Interferenz erzeugten Strichgitterstrukturen
gebildet werden. Verwendet man einen Träger, der eine ätzbare Metallschicht enthält, als
Unterlage für die Fotolackschicht, so kann man nach dem Belichten der Fotolackschicht mit einer Interferenzfigur,
Entwickeln der Fotolackschicht und anschließendes Wegätzen der freigelegten Teile der ätzbaren
Metallschicht ein Beugungsgitter mit einer rechteckwellenförmigen Struktur herstellen, dessen Gitterstriche
durch die beim Ätzen zurückgebliebenen Teile der Metallschicht gebildet werden.
Bei dem aus der US-PS 39 57 354 bekannten und in der Patentanmeldung entsprechend DE-OS 26 02 709
vorgeschlagenen subtraktiven Farbfiltersystem werden die in der oben beschriebenen Weise hergestellten
Fotolackkopien in der Praxis nicht direkt, sondern als
Master oder Vorlage für die Anfertigung einer Metallmatrize verwendet, mit der dann eine größere
Anzahl von Kopien des Reliefmusters in der Oberfläche eines transparenten Trägers, beispielsweise einer
Kunststoffolie, eingepreßt werden köna"-n. Das gewünschte
subtraktive Farbfiltersystem wird dann durch registergerechtes Aufeinanderlegen von drei Kunststoffkopien
gebildet, die den drei Farbauszügen der Bildvorlage entsprechen.
Die Herstellung von auf dem Prinzip der Beugung arbeitenden subtraktiven Farbfiltersystemen durch
Prägen von Kunststoff ließe sich erheblich vereinfachen, wenn zwei der drei Primärfarben-Phasengitter auf ein
und dieselbe Seite der Kunststoffolie und das dritte Phasengitter auf die andere Seite derselben Kunststofffolie
oder auf eine Seite einer zweiten Kunststoffolie eingepreßt werden könnte. Dies setzt jedoch voraus,
daß die eine Seite der ersten Kunststoffolie in den Bereichen, in denen nur das der einen Primärfarbe ;>o
entsprechende Phasengitter vorhanden ist, e;ne beugende
Struktur mit der vorgegebenen ersten Amplitude enthalten muß, in den Bereich, wo nur das der zweiten
Primärfarbe entsprechende Phasengiuer vorhanden ist,
eine beugende Struktur mit der vorgegebenen Seitenamplitude enthalten muß und in denjenigen Bereichen,
wo die beiden Phasengitter einander überlagert sind, eine Amplitude haben muß, die gleich der Summe der
vorgegebenen ersten und zweiten Amplitude sind. Es ist dabei wesentlich, daß etwaige Fehler im Wert der drei ;io
Amplituden bzw. Tiefen nicht mehr als einige wenige Prozent ausmachen, da die durch das subtraktive
Farbfiltersystem erzeugten Farben durch den Absolutwert der Tiefe des betreffenden Phasengitters bestimmt
sind. Andererseits besteht aber eine nichtlineare Beziehung zwischen der Entwicklungstiefe von Fotolack
und der Belichtung. Ohne besondere Maßnahmen ist daher die Entwicklungstiefe eines Bereiches, in dem
zwei beugende Strukturen einander überlagert sind, wesentlich größer als die Summe der Amplituden der ao
beiden Beugungsstrukturen.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren anzugeben, mit dem gewährleistet
ist, daß der Absolutwert der Tiefe der in Frage stehenden Beugungsgitter trotz der nichtlinearen
Beziehung zwischen der Entwicklungstiefe eines Fotolacks und der Gesamtmenge seiner Belichtung auf
wenige Prozent des geforderten Wertes eingehalten wird und daß insbesondere trotz der erwähnten
Nichtlinearitäten bei der Überlagerung zweier Beugungsstrukturen eine Tiefe erhalten wird, die gleich der
Summe der Tiefen der ersten und zweiten Beugungsstrukturen ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch das im Patentanspruch 1 gekennzeichnete Verfahren gelöst.
Weiterbildungen und vorteilhafte Ausgestaltungen des Verfahrens gemäß der Erfindung sind Gegenstand
der Unteransprüche.
Das Verfahren gemäß der Erfindung gewährleistet ein genaues Einhalten der gewünschten Tiefe der
erzeugten beugenden Strukturen bzw. Phasengitter auch in Bereichen, in denen zwei Phasengitter einander
überlagert sind. Dadurch iu. >.uic unverfälschte Farbwiedergabe
gewährleistet.
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher
erläutert.
Es zeigt
F i g. 1 ein typisches Rechteckreliefprofil eines Phasengitters,
F i g. 2 eine schematische Darstellung der Belichtung einer dicken Fotolackschicht durch eine Gittermaske
mit einem senkrecht auf die Fotolackoberfläche fallenden Lichtbündel (F i g. 2a) und das entsprechende
Profi! des entwickelten Fotolacks (F i g. 2b),
F i g. 3 eine schematische Darstellung der Belichtung einer dicken Fotolackschicht durch eine Gittermaske
mit einem Lichtbündel, das schräg auf die Oberfläche der Fotolackschicht fällt (F i g. 3a), und das entsprechende
entwickelte Wellenprofil im Fotolack (F i g. 3b),
F i g. 4 das entwickelte Wellenprofil in einer dünnen
Fotolackschicht,
F i g. 5 eine graphische Darstellung der vier möglichen Tiefen in der Oberfläche einer Fotolackschicht bei
Vorhandensein keiner, einer oder beider von zwei im Winkel angeordneten Beugungsstrukturen mit vorgegebener
unteschiedlicher Tiefe und
F i g. 6 ein Diagramm, das die nichtlineare Beziehung zwischen dem beim Entwickeln abgetragenen Fotolack
und der Belichtungsmenge für einen typischen Fotolack wiedergibt.
Fig. 1 zeigt ein Rechteckprofil-Phasenbeugungsgitter 100, wie es für den Aufbau eines subtraktiven
Beugungsfarbfilters verwendet wird. Das Beugungsgitter 100 kann zwar im Prinzip auch aus einem
reflektierenden Medium bestehen, besteht aber in der Praxis normalerweise aus einem durchlässigen Medium
oder Material wie z. B. Plastik, das gegenüber dem umgebenden Medium, z. B. der Luft, eine vorbestimmte
Abweichung Δη im Brechungsindex aufweist. Beispielsweise beträgt der Wert Δη für ein typisches Kunststoffmaterial
102, wie Polyvinylchlorid, ungefähr 0,5. Der Farbton des Bündels der nullten Beugungsordnung ist
durch das Verhältnis des Absolutwertes der Tiefe A zu Δη bestimmt. Bei z. B. einem Wert Δη = 0,5 ändert sich
die Farbe des Lichtes der nullten Beugungsordnung mit dem Absolutwert der Tiefe A, wie in der nachstehenden
Tabelle angegeben ist:
Tabelle | Farbe |
Tiefe A | (in μίτι) |
dunkelbraun | |
0,50 | dunkelmagentarot |
0,53 | blau |
0,60 | grünblau |
1,0 | gelb |
1,4 | magentarot |
1,6 | cyan |
1,8 | gelbgrün |
2,1 | |
. Wie man aus Tabelle 1 sieht, ist der Absolutwert der
Tiefe A ziemlich klein: er liegt im Bereich von 0,5 bis 2,1 μίτι. Der Linienabstand c/des Beugungsgitters 100 ist
ebenfalls ziemlich klein. Um sicherzustellen, daß sämtliche höheren Beugungsordnungen über die Öffnung
der Projektionslinse fast aller herkömmlichen Projektoren hinaus abgelenkt werden, ist ein Wert von
2,8 μηι oder kleiner für den Linienabstand (/wünschenswert,
obwohl man normalerweise Werte bis zu 5 μπι
ohne übermäßige Beeinträchtigung der Farbeigenschaften des Lichtes nullter Beugungsordnung in Kauf
nehmen kann. Dagegen muß der Absolutwert der Tiefe A für eine gegebene Farbe innerhalb einiger weniger
Prozent eingehalten werden, um wahrnehmbare Änderungen im Farbton zu vermeiden. Außerdem kann nur
ein kleiner Fehler in der gewünschten Rechteckprofilform des Beugungsgitters 100 in Kauf genommen
werden.
Bei der Herstellung von in die Oberfläche von Kunststoff eingeprägten Beugungsgittern, wie dem
Beugungsgitter 100 ist es üblich, ein Master oder eine Vorlage des Gitters in einer Fotolackschicht auf einem
Schichtträger anzufertigen. Mit Hilfe einer von dieser Vorlage angefertigen Metallmatrize kann man dann
Beugungsgitter in die Oberfläche des Kunststoffes einprägen oder -pressen. Die Erfindung betrifft
Herstellungsverfahren für Rechteckprofil-Beugungsgittern in einer Fotolackschicht, die besonders geeignet
sind für die Anfertigung von zwei Beugungsgittern verschiedener Teife, die mindestens teilweise überlagert
sein können, in ein und derselben Fotolackschicht. Die beiden Gitter können unterschiedliche Linienabstände
haben und/oder winkelmäßig gegeneinander versetzt sein, um die Erzeugung von unerwünschten Zwischenmodulationskomponenten
zu verhindern.
In der nachfolgenden Erläuterung werden die Ausdrücke »dicker« und »dünner« fotolack verwendet.
Mit »dicker« Fotolack ist dabei eine Fotolackschicht gemeint, deren Dicke wesentlich größer ist als der Wert
A einer Beugungsstruktur, während »dünner« Fotolack eine Fotolackschicht bedeutet, deren Gesamtdicke nach
dem Entwickeln für unbelichtete Schichtbereiche gerade gleich der Tiefe A einer Beugungsstruktur ist.
Die eingangs genannte US-PS 39 57 354 beschreibt die Herstellung einer Beugungsstruktur mit einem einzigen
Beugungsgitter von der in F i g. 1 gezeigten Art in einer »dünnen« Fotolackschicht. Die vorliegende Erfindung
löst das Problem, in einer Fotolackschicht eine Beugungsstruktur aufzuzeichnen oder aufzunehmen, die
aus zwei Rechteckprofil-Beugungsgittern verschiedener Tiefe, die mindestens teilweise überlagert sind, bestehen
kann. Dies setzt natürlich voraus, daß jedes der beiden Beugungsgitter in einer dicken statt in einer dünnen
Fotolackschicht aufgezeichnet wird.
Fig.2a veranschaulicht eine einfache Methode der Aufzeichnung eines Beugungsgitters gegebener Tiefe in
einer Schicht aus dickem Fotolack. Und zwar wird, wie in F i g. 2a gezeigt, die auf einem Schichtträger 202, z. B.
aus Glas, angebrachte dicke Fotolackschciht 200 für eine gegebene Zeitdauer mit einem Lichtbündel 204
belichtet, das senkrecht zur Oberfläche der Fotolackschicht 200 durch eine in Kontakt mit dieser
angeordnete Chrom-auf-Glas-Gitter-Kopiermaske 206 einfällt Die Gesamtbeüchtungszeit des Lichtbündels
204 ist so bemessen, daß sie der gewünschten Tiefe A des im entwickelten Fotolack aufzuzeichnenden Gitters
proportional ist Wie in Fig.2a gezeigt, bleibt die Querschnittsabmessung des belichteten Fotolacks für
die einzelnen Öffnungen der Gittermaske 206 über die gesamte Dicke der Fotolackschicht 200 im wesentlichen
konstant, da das Lichtbündel 204 senkrecht zur Oberfläche der Fotolackschicht 200 einfällt Man sollte
daher erwarten, daß sich im entwickelten Fotolack ein scharfkantiges Rechteckprofil-Beugungsgitter ergibt.
Wie man in Fig.2b sieht ist das jedoch nicht der Fall.
Vielmehr ist infolge von Beugungseinflüssen auf die Wellenenergie des Lichtbündels 204 die Belichtung über
den gesamten von jeder einzelnen öffnung der Gittermaske 206 bedeckten Bereich der Fotolackschicht
200 nicht gleichmäßig. Beim Entwickeln der dicken Fotolackschicht 200 ergibt sich daher das in Fig. 2
gezeigte verzerrte »W-artige« Profil statt des gewünschten weitgehend rechteckförmigen Profils. Diese
unerwünschten Beugungseffekte ergeben sich dadurch, daß der Linienabstand d des Beugungsgitters mit der
Wellenlänge des Lichtes des Lichtbündels 204, das beispielsweise UV-Licht von einer Quecksilberdampflampe
sein kann, vergleichbar ist.
Jedoch kann man ein im wesentlichen rechteckförmiges Profil durch entsprechendes Verändern der
ίο Einfallsrichtung des Lichtbündels erhalten. Und zwar
wird, wie in Fig.3a gezeigt, das belichtende Lichtbündel
von einer schrägen anfänglichen Einfallsrichtung 304a entsprechend einem bestimmten Winkel auf der
einen Seite der Normalen zur Oberfläche der dicken Fotolackschicht 200 während der Belichtung um eine zu
einer Gilterlinie parallele Achse um einen genau definierten Winkel γ in eine abschließende Einfallsrichtung
3046 geschwenkt, die die der anfänglichen Einfallsrichtung entsprechende Winkellage auf der
anderen Seite der Normalen zur Oberfläche der Fotolackschicht 200 hat, anstatt das Lichtbündel zu
schwenken, kann man auch mit einem feststehenden Lichtbündel, das entsprechend dekollimiert worden ist,
arbeiten. Auf jeden Fall resultiert eine mittlere Belichtung 208, die das im wesentlichen rechteckförmige
Profil nach Fig.3b ergibt Der Wert des Winkels γ
muß entsprechend den Werten von d und A für das aufzuzeichnende Gitter gewölbt werden. Beispielsweise
wurde gefunden, daß für d=5 μτη und A im Bereich von
1,1 bis 1,7 μΐη der optimale Winkelwert ungefähr 50°
beträgt.
Fig.4 zeigt, daß man im Falle einer dünnen statt
einer dicken Fotolackschicht mit einem senkrecht einfallenden Lichtbündel, ähnlich dem Lichtbündel 204
in Fi g. 2a, arbeiten kann, da die Gesamtdicke des entwickelten Fotolacks gerade gleich dem gewünschten
Wert der Tiefe A ist. Und zwar reichen, wie in F i g. 4 gezeigt, die Böden des Recht eck prof ils in der dünnen
Fotolackschicht 400 durchwegs bis zur Oberfläche des Schichtträgers 402, so daß das »W-artige« Profil (in
Fig.4 gestrichelt angedeutet), das in einer dicken Fotolackschicht entstehen würde, bei einer dünnen
Fotolackschicht zwangsläufig entfällt. Natürlich könnte man das kompliziertere Belichtungsschema nach
Ί5 Fig.3a gewünschtenfalls auch bei einer dünnen
Fotolackschicht anwenden.
F i g. 5 zeigt schematisch das Reliefmuster, das durch Überlagerung zweier Beugungsgitter unterschiedlicher
Tiefen entsteht Der Einfachheit halber ist eine gegenseitige Verdrehung um 90° dargestellt An sich
kann jedoch die Verdrehung 6Cr, 9ö= oder einen beliebigen anderen Wert betragen, oder es können statt
dessen die beiden Beugungsgitter unterschiedliche Linienabstände haben. Auf jeden Fall weist infolge der
Oberlagerung eines ersten Beugungsgitters mit der Tiefe a und eines zweiten Beugungsgitters mit der
davon abweichenden Tiefe b das Reliefmuster insgesamt vier verschiedene Tiefenniveaus auf, nämlich: 0, a.
b und (a + b), wie es in F i g. 5 dargestellt ist
Bei Anwendung des Belichtungsschemas nach F i g. 3a kann man durch eine Gittermaske 206 hindurch
eine der Tiefe a proportionale Erstbelichtung vornehmen. Anschließend kann man nach Verdrehen der
Gittermaske 206 um einen entsprechenden Winkelbetrag, z. B. 90°, eine der Tiefe b proportionale
Zweitbelichtung nach dem Belichtungsschema gemäß F i g. 3a vornehmen. Nach Durchführung beider Belichtungen
kann man die Fotolackschicht entwickeln, so daß
zwei überlagerte und gegeneinander verdrehte Beugungsgitter entstehen. Da es sich bei der Fotolackschicht
um Positiv-Fotolack handelt, haben diejenigen Schichtbereiche, die sowohl bei der ersten als auch bei
der zweiten Belichtung unbelichtet geblieben sind, nach dem Entwickeln die Tiefe 0, während diejenigen
Bereiche, die zwar bei der ersten, nicht aber bei der zweiten Belichtung belichtet worden sind, die Tiefe a
haben und diejenigen Bereiche, die bei der zweiten, nicht aber bei der ersten Belichtung belichtet worden
sind, die Tiefe b haben. Dagegen haben im allgemeinen diejenigen Bereiche der Fotolackschicht, die sowohl bei
der ersten als auch bei der zweiten Belichtung belichtet worden sind, nicht die gewünschte Tiefe (a + b), sondern
eine wesentlich größere Tiefe. Der Grund hierfür, wie aus dem Diagramm nach Fi g. 6 zu ersehen, ist, daß die
Fotolackschicht eine nichtlineare Charakteristik in bezug auf die Gesamtbelichtung aufweist, so daß die
einer Belichtung von (a + b) entsprechende Entwicklungstiefe in einer »dicken« Fotolackschicht wesentlich
größer als (a + b) ist.
Man kann jedoch jede der vier richtigen Tiefen 0, a, b und (a + b) dadurch erhalten, daß man die Dicke der
Fotolackschicht auf die gewünschte Tiefe (a + b) einstellt, so daß sich eine »dünne« Fotolackschicht für
die Tiefe (a + b) ergibt, wie im Zusammenhang mit F i g. 4 erläutert, während für die Tiefe a allein oder die
Tiefe b allein nach wie vor eine »dicke« Fotolackschicht vorgesehen wird. Und zwar kann man die Dicke der
ursprünglichen Fotolackschicht während der Aufbringung derselben nach einem Schleuderbeschichtungsverfahren
innerhalb einiger weniger Prozent wählen und voreinstellen, indem man die Schleudergeschwindigkeit
in der Zusammensetzung des ursprünglichen Fotolackgemischs entsprechend einstellt. Beispielsweise kann
man für das ursprüngliche Fotolackgemisch eine Zusammensetzung aus fünf Teilen Shipley AZ1350-H
Fotolack, verdünnt mit 1 Teil No. 2-Butyloxy-Äthanol,
verwenden und diese mit einer Drehzahl von 1000 bis 2500 U/min schleudern.
ίο Mit Hilfe der erfindungsgemäßen Methode ist es
möglich, zwei beliebige der drei Primärfarben in einem sublraktiven Beugungsfilter mit nur einer Filterfläche
genau zu mischen, ,da die Anzahl der einstellbaren Parameter bei der Anfertigung der Musteraufzeichnung
in der Positiv-Fotolackschicht genau drei beträgt (die Dicke (a + b), die Erstbelichtungszeit E1, und die
Zweitbelichtungszeit Et), was für die Überlagerung zweier Gitter gerade ausreicht. Die Methode läßt sich
auf drei überlagerte Gitterstrukturen, wie sie zum Mischen aller drei Primärfarben auf einer einzigen
Oberfläche eines subtraktiven Beugungsfilters erforderlich sind, nicht ausweiten, da in diesem Fall acht
verschiedene Höhenniveaus gebraucht werden, aber nur vier Parameter zur Verfugung stehen (eine
Fotolackschichtdicke (a+b+c) und drei Belichtungszeiten E3, Eb und E1.). Dagegen macht es die Erfindung
möglich, eine der beiden Seiten eines subtraktiven Beugungsfilters mit zwei Gittern für zwei der drei
Primärfarben und die andere Seite des Filters mit einem
jo einzigen Gilter für die restliche der drei Primärfarben
zu beprägen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Verfahren zum Herstellen eines Masters für ein Phasengitter in einem auf dem Prinzip der Beugung
arbeitenden subtralctiven Farbfiltersystem, bei welchem eine auf einem Substrat angeordnete Fotolackschicht
vorgegebener Dicke mit einem Lichtmuster, das einem Beugungsgitter mit rechteckwellenförmigem
Profil entspricht, so stark belichtet wird, daß bei einer nachfolgenden Entwicklung der
Fotolackschicht ein das Beugungsgitter darstellendes, einem Phasengitter entsprechendes Reliefmuster
vorgegebener Tiefe entsteht, die eiren ersten Farbton des Bündels nullter Ordnung eines vom
Reliefmuster gebeugten Lichtbündels entspricht, dadurch gekennzeichnet, daß die Fotolackschicht
vor der Entwicklung noch ein zweites Mal mit einem zweiten Lichtmuster, das den mit dem
ersten Liehtmuster belichteten Bereich der Fotolackschicht mindestens teilweise überlappt und
einem Beugungsgitter mit rechteckwellenförmigem Profil entspricht, so stark belichtet wird, daß bei der
nachfolgenden Entwicklung der Fololackschicht aufgrund dieser zweiten Belichtung ein das betreffende
Beugungsgitter darstellendes, einem Phasengitter entsprechendes zweites Reliefmuster vorgegebener
Tiefe, die von der Tiefe des ersten Reliefmusters verschieden ist und einem zweiten
Farbton des Bündels nullter Ordnung entspricht, entsteht, und daß die vorgegebene Dicke der
Fotolackschicht gleich der Summe der den jeweiligen Farbtönen entsprechenden Tiefen der beiden
Reliefmuster gewählt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Fotolackschicht vorgegebener
Dicke durch ein Schleuderbeschichtungsverfahren aufgebracht wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtung der Fotolackschicht
jeweils durch ein aufgelegtes Amplituden-Beugungsgitter mit dekollimiertem Licht erfolgt,
dessen Einfallsrichtung innerhalb eines Zylindersektors liegt, wobei die der Achse des Zylindersektors
entsprechende Kante des Zylindersektors parallel zu den Gitterlinien des Beugungsgitters verläuft und
der Zylindersektor im wesentlichen symmetrisch zur Schichtnormalen ist.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß bei der Belichtung ein belichtendes
Lichtbündel um eine zu einer Gitterlinie des Beugungsgitters parallele Achse über im wesentlichen
den ganzen V-förmigen Winkelbereich des Zylindersektors geschwenkt wird.
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