DE2703160B2

DE2703160B2 - Verfahren zum Herstellen eines Masters für ein Phasengitter in einem mit Beugung arbeitenden subtraktiven Farbfiltersystem

Info

Publication number: DE2703160B2
Application number: DE2703160A
Authority: DE
Inventors: Karl Zuerich Knop (Schweiz)
Original assignee: RCA Corp
Current assignee: RCA Corp
Priority date: 1976-01-27
Filing date: 1977-01-26
Publication date: 1979-10-04
Also published as: DE2703160C3; DE2703160A1; JPS5530608B2; US4082453A; BE850780A; GB1537703A; FR2339883A1; CA1080009A; FR2339883B1; JPS5293357A

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.

Aus der US-PS 39 57 354 ist ein auf dem Prinzip der Beugung arbeitendes subtraktives Farbfiltersystem bekannt, bei dem eine beugende Phasengitterstruktur in Form eines in die Oberfläche eines transparenten Trägers, beispielsweise aus Kunststoff, eingeprägten Rechteckreliefprofils als subtraktives Farbfilter verwendet wird, das bei Beleuchtung mit polychromatischem, z. B. weißem Licht ein Bündel nullter Beugungsordnung einer vorgegebenen subtraktiven Primärfarbe liefert. Bei vorgegebenem Brechungsindex des das Phasengitter bildenden Materials ist die Farbe des Lichtes im Bündel nullter Ordnung durch die Amplitude (Tiefe) des Rechteckreliefprofils bestimmt. Der Farbe Cyan entspricht also eine vorgegebene erste Amplitude des Rechteckreliefprofils, der Farbe Gelb eine vorgegebene zweite Amplitude und der Farbe Magentarot eine vorgegebene dritte Amplitude. Gewünschte andere

ίο Farbtöne lassen sich dadurch erzeugen, daß man jeweils zwei der drei Phasengitter aus den Rechteckreliefprofilen der vorgegebenen Amplituden einander überlagert Beim Fehlen jeglicher beugender Strukturen erhält man Weiß und bei Überlagerung aller drei Phasengitter der vorgegebenen Amplituden ergibt sich Schwarz.

Ein einfaches Verfahren zum Herstellen von Farbbilder darstellenden Phasengittern der obengenannten Art, das in der US-PS 39 57 354 beschrieben ist, besteht darin, daß man mit Hilfe eines einer bestimmten Primärfarbe entsprechenden Farbauszugnegativs einer Farbbildvorlage und eines Rechteckwellengitters ein der betreffenden Primärfarbe entsprechendes Reliefmuster in einer Positiv-Fotolackschicht erzeugt. Zum Beispiel kann man ein dünnes Glasplättchen, ähnlich einem Mikroskop-Objektträger mit einer Schicht vorgegebener Dicke aus Positiv-Fotolack beschichten. Die Dicke der Fotolackschicht wird so gewählt, daß nach dem Belichten und dem Entfernen des gesamten Fotolacks von den belichteten Bereichen des Trägers durch Entwickeln die Höhe des nach dem Entwickeln zurückbleibenden unbelichteten Fotolacks gerade der vorgegebenen Amplitude für die betreffende Primärfarbe entspricht. Vorzugsweise erfolgt die Belichtung durch Kontaktkopieren des Farbauszugnegativs durch ein Chrom-Auf-Glas-Beugungsgitter. Man stellt auf diese Weise für jede der drei Primärfarben eine eigene Fotolackkopie her, wobei die Beugungsgitter für die drei Kopien jeweils unterschiedliche Linienabstände und/oder unterschiedliche Winkellagen (z. B. 60° in bezug aufeinander) bezüglich der Farbbildvorlage haben, um das auftreten von Moire-Effekten zu vermeiden. Legt man die drei Kopien dann in Deckung aufeinander, so erhält man ein subtraktives Farbfiltersystem, das ein Farbbild der Vorlage darstellt.

Ein subtraktives Farbfiltersystem der obengenannten Art ist auch in der deutschen Patentanmeldung entsprechend DE-OS 26 02 790 vorgeschlagen.

Es ist ferner aus der FR-PS 15 54 267 (entsprechend DE-AS 16 23 803) bekannt, Reflexions- und Transmissionsgitter durch Belichten einer Fotolackschicht mit einer Interferenzfigur und durch anschließendes Entwickeln herzustellen. Fin Kreuzgitter kann durch Belichtung einer Fotolackschicht mit zwei um 90° versetzten, durch Interferenz erzeugten Strichgitterstrukturen gebildet werden. Verwendet man einen Träger, der eine ätzbare Metallschicht enthält, als Unterlage für die Fotolackschicht, so kann man nach dem Belichten der Fotolackschicht mit einer Interferenzfigur, Entwickeln der Fotolackschicht und anschließendes Wegätzen der freigelegten Teile der ätzbaren Metallschicht ein Beugungsgitter mit einer rechteckwellenförmigen Struktur herstellen, dessen Gitterstriche durch die beim Ätzen zurückgebliebenen Teile der Metallschicht gebildet werden.

Bei dem aus der US-PS 39 57 354 bekannten und in der Patentanmeldung entsprechend DE-OS 26 02 709 vorgeschlagenen subtraktiven Farbfiltersystem werden die in der oben beschriebenen Weise hergestellten

Fotolackkopien in der Praxis nicht direkt, sondern als Master oder Vorlage für die Anfertigung einer Metallmatrize verwendet, mit der dann eine größere Anzahl von Kopien des Reliefmusters in der Oberfläche eines transparenten Trägers, beispielsweise einer Kunststoffolie, eingepreßt werden können. Das gewünschte subtraktive Farbfiltersystem wird dann durch registergerechtes Aufeinanderlegen von drei Kunststoffkopien gebildet, die den drei Farbauszügen der Bildvorlage entsprechen.

Die Herstellung von auf dem Prinzip der Beugung arbeitenden subtraktiven Farbfiltersys'emen durch Prägen von Kunststoff ließe sich erheblich vereinfachen, wenn zwei der drei Primärfarben-Phasengitter auf ein und dieselbe Sehe der Kunststoffolie und das dritte Phasengitter auf die andere Seite derselben Kunststofffolie oder auf eine Seite einer zweiten Kunststoffolie eingepreßt werden könnte. Dies setzt jedoch voraus, daß die eine Seite der ersten Kunststoffolie in den Bereichen, in denen nur das der einen Primärfarbe entsprechende Phasengilter vorhanden ist, eine beugende Struktur mit der vorgegebenen ersten Amplitude enthalten muß, in den Bereich, wo nur das der zweiten Primärfarbe entsprechende Phasengitter vorhanden ist, eine beugende Struktur mit der vorgegebenen Seitenamplitude enthalten muß und in denjenigen Bereichen, wo die beiden Phasengitter einander überlagert sind, eine Amplitude haben muß, die gleich der Sunme der vorgegebenen ersten und zweiten Amplitude sind. Es ist dabei wesentlich, daß etwaige Fehler im Wert der drei 3» Amplituden bzw. Tiefen nicht mehr als einige wenige Prozent ausmachen, da die durch das subtraktive Farbfiltersystem erzeugten Farben durch den Absolutwert der Tiefe des betreffenden Phasengitters bestimmt sind. Andererseits besteht aber eine nichtlineare Beziehung zwischen der Entwicklungstiefe von Fotolack und der Belichtung. Ohne besondere Maßnahmen ist daher die Entwicklungstiefe eines Bereiches, in dem zwei beugende Strukturen einander überlagert sind, wesentlich größer als die Summe der Amplituden der beiden Beugungsstrukturen.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren anzugeben, mit dem gewährleistet ist, daß der Absolutwert der Tiefe der in Frage stehenden Beugungsgitter trotz der nichtlinearen Beziehung zwischen der Entwicklungstiefe eines Fotolacks und der Gesamtmenge seiner Belichtung auf wenige Prozent des geforderten Wertes eingehalten wird und daß insbesondere trotz der erwähnten Nichtlinearitäten bei der Überlagerung zweier Beugungsstrukturen eine Tiefe erhalten wird, die gleich der Summe der Tiefen der ersten und zweiten Beugungsstrukturen ist.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß du'ch das im Patentanspruch 1 gekennzeichnete Verfahren gelöst.

Weiterbildungen und vorteilhafte Ausgestaltungen des Verfahrens gemäß der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.

Das Verfahren gemäß der Erfindung gewährleistet ein genaues Einhalten der gewünschten Tiefe der e>o erzeugten beugenden Strukturen bzw. Phasengitter auch in Bereichen, in denen zwei Phasengitter einander überlagert sind. Dadurch ist eine unverfälschte Farbwiedergabe gewährleistet.

Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der b5 Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert.

Es zeigt

Fig. 1 ein typisches P.echteckreliefprofil eines Phasengitters,

F i g. 2 eine schematische Darstellung der Belichtung einer dicken Fotolackschicht durch eine Gittermaske mit einem senkrecht auf die Fotolackoberfläche fallenden Lichtbündel (Fig.2a) und das entsprechende Profil des entwickelten Fotolacks (F i g. 2b),

F i g. 3 eine schematische Darstellung der Belichtung einer dicken Fotolackschicht durch eipe Gittermaske mit einem Lichtbündel, das schräg auf die Oberfläche der Fotolackschicht fällt (F i g. 3a), und das entsprechende entwickelte WeHenprofil im Fotolack (F i g. 3b),

F i g. 4 das entwickelte Wellenprofil in einer dünnen Fotolackschicht,

Fig.5 eine graphische Darstellung der vier möglichen Tiefen in der Oberfläche einer Fotolackschicht bei Vorhandensein keiner, einer oder beider von zwei im Winkel angeordneten Beugungsstrukturen mit vorgegebener unteschiedlicher Tiefe und

F i g. 6 ein Diagramm, das die nichtlineare Beziehung zwischen dem beim Entwickeln abgetragenen Fotolack und der Belichtungsmenge für einen typischen Fotolack wiedergibt.

Fig. 1 zeigt ein Rechteckprofil-Phasenbeugungsgitter 100, wie es für den Aufbau eines subtraktiven Beugungsfarbfilters verwendet wird. Das Beugungsgitter 100 kann zwar im Prinzip auch aus einem reflektierenden Medium bestehen, besteht aber in der Praxis normalerweise aus einem durchlässigen Medium oder Material wie z. B. Plastik, das gegenüber dem umgebenden Medium, z. B. der Luft, eine vorbestimmte Abweichung Δη im Brechungsindex aufweist. Beispielsweise beträgt der Wert Δη für ein typisches Kunststoffmaterial 102, wie Polyvinylchlorid, ungefähr 0,5. Der Farbton des Bündels der nullten Beugungsordnung ist durch das Verhältnis des Absolutwertes der Tiefe A zu Δη bestimmt. Bei z. B. einem Wert zl/? = 0,5 ändert sich die Farbe des Lichtes der nullten Beugungsordnung mit dem Absolutwert der Tiefe A, wie in der nachstehenden Tabelle angegeben ist:

Tabelle	Farbe
Tiefe A	(in μίτι)
	dunkelbraun
0,50	dunkelmagentarot
0,53	blau
0,60	grünblau
1,0	gelb
1,4	magentarot
1,6	cyan
1,8	gelbgrün
2,1

Wie man aus Tabelle 1 sieht, ist der Absolutwert der Tiefe A ziemlich klein: er liegt im Bereich von 0,5 bis 2,1 μπι. Der Linienabstand ddes Beugungsgitters 100 ist ebenfalls ziemlich klein. Um sicherzustellen, daß sämtliche höheren Beugungsordnungen über die Öffnung der Projektionslinse fast aller herkömmlichen Projektoren hinaus abgelenkt werden, ist ein Wert von 2,8 μπι oder kleiner für den Linienabstand c/wünschenswei t, obwohl man normalerweise Werte bis zu 5 μιη ohne übermäßige Beeinträchtigung der Farbeigenschaften des Lichtes nullter Beugungsordnung in Kauf nehmen kann. Dagegen muß der Absolutwert der Tiefe A für eine gegebene Farbe innerhalb einiger weniger

Prozent eingehalten werden, um wahrnehmbare Änderungen im Farbton zu vermeiden. Außerdem kann nur ein kleiner Fehler in der gewünschten Rechteckprofilform des Beugungsgitters 100 in Kauf genommen werden.

Bei der Herstellung von in die Oberfläche von Kunststoff eingeprägten Beugungsgittern, wie dem Beugungsgitter 100 ist es üblich, ein Master oder eine Vorlage des Gitters in einer Fotolackschicht auf einem Schichtträger anzufertigen. Mit Hilfe einer von dieser Vorlage angefertigen Metallmatrize kann man dann Beugungsgitter in die Oberfläche des Kunststoffes einprägen 'oder -pressen. Die Erfindung betrifft Herstellungsverfahren für Rechteckprofil-Beugungsgittern in einer Fotoiackschicht, die besonders geeignet sind für die Anfertigung von zwei Beugungsgittern verschiedener Teife, die mindestens teilweise überlagert sein können, in ein und derselben Fotolackschicht. Die beiden Gitter können unterschiedliche Linienabstände haben und/oder winkelmäßig gegeneinander versetzt sein, um die Erzeugung von unerwünschten Zwischenmodulationskomponenten zu verhindern.

In der nachfolgenden Erläuterung werden die Ausdrücke »dicker« und »dünner« Fotolack verwendet. Mit »dicker« Fotolack ist dabei eine Fotolackschicht gemeint, deren Dicke wesentlich größer ist als der Wert A einer Beugungsstruktur, während »dünner« Fotolack eine Fotolackschicht bedeutet, deren Gesamtdicke nach dem Entwickeln für unbelichtete Schichtbereiche gerade gleich der Tiefe A einer Beugungsstruktur ist. Die eingangs genannte US-PS 39 57 354 beschreibt die Herstellung einer Beugungsstruktur mit einem einzigen Beugungsgitter von der in Fig. 1 gezeigten Art in einer »dünnen« Fotolackschicht. Die vorliegende Erfindung löst das Problem, in einer Fotolackschicht eine Beugungsstruktur aufzuzeichnen oder aufzunehmen, die aus zwei Rechteckprofil-Beugungsgittern verschiedener Tiefe, die mindestens teilweise überlagert sind, bestehen kann. Dies setzt natürlich voraus, daß jedes der beiden Beugungsgitter in einer dicken statt in einer dünnen Fotolackschicht aufgezeichnet wird.

F i g. 2a veranschaulicht eine einfache Methode der Aufzeichnung eines Beugungsgitters gegebener Tiefe in einer Schicht aus dickem Fotolack. Und zwar wird, wie in F i g. 2a gezeigt, die auf einem Schichtträger 202, z. B. aus Glas, angebrachte dicke Fotolackschciht 200 für eine gegebene Zeitdauer mit einem Lichtbündel 204 belichtet, das senkrecht zur Oberfläche der Fotolackschicht 200 durch eine in Kontakt mit dieser angeordnete Chrom-auf-Glas-Gitter-Kopiermaske 206 einfällt. Die Gesamtbelichtungszeit des Lichtbündels 204 ist so bemessen, daß sie der gewünschten Tiefe A des im entwickelten Fotolack aufzuzeichnenden Gitters proportional ist. Wie in Fig.2a gezeigt, bleibt die Querschnittsabmessung des belichteten Fotolacks für die einzelnen öffnungen der Gittermaske 206 über die gesamte Dicke der Fotolackschicht 200 im wesentlichen konstant, da das Lichtbündel 204 senkrecht zur Oberfläche der Fotolackschicht 200 einfällt Man sollte daher erwarten, daß sich im entwickelten Fotolack ein scharfkantiges Rechteckprofil-Beugungsgitter ergibt. Wie man in Fig. 2b sieht, ist das jedoch nicht der Fall. Vielmehr ist infolge von Beugungseinflüssen auf die Wellenenergie des Lichtbündels 204 die Belichtung über den gesamten von jeder einzelnen Öffnung der Gittermaske 206 bedeckten Bereich der Fotolackschicht 200 nicht gleichmäßig. Beim Entwickeln der dicken Fotolackschicht 200 ergibt sich daher das in Fig.2 gezeigte verzerrte »W-artige« Profil statt des gewünschten weitgehend rechteckförmigen Profils. Diese unerwünschten Beugungseffekte ergeben sich dadurch, daß der Linienabstand d des Beugungsgitters mit der ί Wellenlänge des Lichtes des Lichtbündels 204, das beispielsweise UV-Licht von einer Quecksilberdampflampe sein kann, vergleichbar ist.

Jedoch kann man ein im wesentlichen rechteckförmiges Profil durch entsprechendes Verändern der

ίο Einfallsrichtung des Lichtbündels erhalten. Und zwar wird, wie in Fig.3a gezeigt, das belichtende Lichtbündel von einer schrägen anfänglichen Einfallsrichtung 304a entsprechend einem bestimmten Winkel auf der einen Seite der Normalen zur Oberfläche der dicken Fotoiackschichl 200 während der Belichtung urn eine zu einer Gitterlinie parallele Achse um einen genau definierten Winkel γ in eine abschließende Einfallsrichtung 3046 geschwenkt, die die der anfänglichen Einfallsrichtung entsprechende Winkellage auf der anderen Seite der Normalen zur Oberfläche der Fotolackschicht 200 hat, anstatt das Lichtbündel zu schwenken, kann man auch mit einem feststehenden Lichtbündel, das entsprechend dekollimiert worden ist, arbeiten. Auf jeden Fall resultiert eine mittlere Belichtung 208, die das im wesentlichen rechteckförmige Profil nach F i g. 3b ergibt. Der Wert des Winkels γ muß entsprechend den Werten von d und A für das aufzuzeichnende Gitter gewölbt werden. Beispielsweise wurde gefunden, daß für rf= 5 μπι und A im Bereich von 1,1 bis 1,7 μιη der optimale Winkelwert ungefähr 50° beträgt.

F i g. 4 zeigt, daß man im Falle einer dünnen statt einer dicken Fotolackschicht mit einem senkrecht einfallenden Lichtbündel, ähnlich dem Lichtbündel 204

3s in Fi g. 2a, arbeiten kann, da die Gesamtdicke des entwickelten Fotolacks gerade gleich dem gewünschten Wert der Tiefe A ist. Und zwar reichen, wie in F i g. 4 gezeigt, die Böden des Rechteckprofils in der dünnen Fotolackschicht 400 durchwegs bis zur Oberfläche des Schichtträgers *02, so daß das »W-artige« Profil (in F i g. 4 gestrichelt angedeutet), das in einer dicken Fotolackschicht entstehen würde, bei einer dünnen Fotolackschicht zwangsläufig entfällt. Natürlich könnte man das kompliziertere Belichtungsschema nach

•»5 Fig.3a gewünschtenfalls auch bei einer dünnen Fotolackschicht anwenden.

F i g. 5 zeigt schematisch das Reliefmuster, das durch Überlagerung zweier Beugungsgitter unterschiedlicher Tiefen entsteht. Der Einfachheit halber ist eine gegenseitige Verdrehung um 90° dargestellt. An sich kann jedoch die Verdrehung 60°, 90° oder einen beliebigen anderen Wert betragen, oder es können statt dessen die beiden Beugungsgitter unterschiedliche Linienabstände haben. Auf jeden Fall weist infolge der

Überlagerung eines ersten Beugungsgitters mit der Tiefe a und eines zweiten Beugungsgitters mit der davon abweichenden Tiefe b das Reliefmuster insgesamt vier verschiedene Tiefenniveaus auf, nämlich: 0, a, b und (a+b), wie es in F i g. 5 dargestellt ist

Bei Anwendung des Belichtungsschemas nach F i g. 3a kann man durch eine Gittermaske 206 hindurch eine der Tiefe a proportionale Erstbelichtung vornehmen. Anschließend kann man nach Verdrehen der Gittermaske 206 um einen entsprechenden Winkelbetrag, z. B. 90°, eine der Tiefe b proportionale Zweitbelichtung nach dem Belichtungsschema gemäß F i g. 3a vornehmen. Nach Durchführung beider Belichtungen kann man die Fotolackschicht entwickeln, so daß

zwei überlagerte und gegeneinander verdrehte Beugungsgitter entstehen. Da es sich bei der Fotolackschicht um Positiv-Fotolack handelt, haben diejenigen Schichtbereiche, die sowohl bei der ersten als auch bei der zweiten Belichtung unbelichtet geblieben sind, nach dem Entwickeln die Tiefe 0, während diejenigen Bereiche, die zwar bei der ersten, nicht aber bei der zweiten Belichtung belichtet worden sind, die Tiefe a haben und diejenigen Bereiche, die bei der zweiten, nicht aber bei der ersten Belichtung belichtet worden sind, die Tiefe b haben. Dagegen haben im allgemeinen diejenigen Bereiche der Fotolackschicht, die sowohl bei der ersten als auch bei der zweiten Belichtung belichtet worden sind, nicht die gewünschte Tiefe (a-t- b\ sondern eine wesentlich größere Tiefe. Der Grund hierfür, wie aus dem Diagramm nach F i g. 6 zu ersehen, ist, daß die Fotolackschicht eine nichtlineare Charakteristik in bezug auf die Gesamtbelichtung aufweist, so daß die einer Belichtung von (a + b) entsprechende Entwicklungstiefe in einer »dicken« Fotolackschicht wesentlich größer als (a + b) ist

Man kann jedoch jede der vier richtigen Tiefen 0, a, b und (a + b) dadurch erhalten, daß man die Dicke der Fotolackschicht auf die gewünschte Tiefe (a + b) einstellt, so daß sich eine »dünne« Fotolackschicht für die Tiefe (a + b) ergibt, wie im Zusammenhang mit F i g. 4 erläutert, während für die Tiefe a allein oder die Tiefe b allein nach wie vor eine »dicke« Fotolackschicht vorgesehen wird. Und zwar kann man die Dicke der ursprünglichen Fotolackschicht während der Aufbringung derselben nach einem Schleuderbeschichiungsverfahreri innerhalb einiger weniger Prozent wählen und voreinstellen, indem man die Schleudergeschwindigkeit in der Zusammensetzung des ursprünglichen Fotolackgemischs entsprechend einstellt. Beispielsweise kann man für das ursprüngliche Fotolackgemisch eine Zusammensetzung aus fünf Teilen Shipley AZ1350-H Fotolack, verdünnt mit 1 Teil No. 2-Butyloxy-Äthanol, verwenden und diese mit einer Drehzahl von 1000 bis 2500 U/min schleudern.

ίο Mit Hilfe der erfindungsgemäßen Methode ist es möglich, zwei beliebige der drei Primärfarben in einem subtraktiven Beugungsfilter mit nur einer Filterfläche genau zu mischen, da die Anzahl der einstellbaren Parameter bei der Anfertigung der Musleraufzeichnung in der Positiv-Fotolackschicht genau drei beträgt (die Dicke (a+b), die Erstbelichtungszeit E_a und die Zweitbelichtungszeit £*), was für die Überlagerung zweier Gitter gerade ausreicht Die Methode läßt sich auf drei überlagerte Gitterstrukturen, wie sie zum Mischen aller drei Primärfarben auf einer einzigen Oberfläche eines subtraktiven Beugungsfilters erforderlich sind, nicht ausweiten, da in diesem Fall acht verschiedene Höhenniveaus gebraucht werden, aber nur vier Parameter zur Verfügung stehen (eine Fotolackschichtdicke (a + b+(ή und drei Belichtungszeiten £_Λ Eb und E_cy Dagegen macht es die Erfindung möglich, eine der beiden Seiten eines subtraktiven Beugungsfilters mit zwei Gittern für zwei der drei Primärfarben und die andere Seite des Filters mit einem

jo einzigen Gitter für die restliche der drei Primärfarben zu beprägen.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zum Herstellen eines Masters für ein Phasengitter in einem auf dem Prinzip der Beugung arbeitenden subtraktiven Farbfiltersystem, bei welchem eine auf einem Substrat angeordnete Fotolackschicht vorgegebener Dicke mit einem Lichtmuster, das einem Beugungsgitter mit rechteckwellenförmigem Profil entspricht, so stark belichtet wird, daß bei einer nachfolgenden Entwicklung der Fotolackschicht ein das Beugungsgitter darstellendes, einem Phasengitter entsprechendes Reliefmuster vorgegebener Tiefe entsteht, die einen ersten Farbton des Bündels nullter Ordnung eines vom Reliefmuster gebeugten Lichtbündels entspricht, dadurch gekennzeichnet, daß die Fotolackschich; vor der Entwicklung noch ein zweites Mal mit einem zweiten Lichtmuster, das den mit dem ersten Lichtmuster belichteten Bereich der Fotolackschicht mindestens teilweise überlappt und einem Beugungsgitter mit rechteckwellenförmigem Profil entspricht, so stark belichtet wird, daß bei der nachfolgenden Entwicklung der Fotolackschicht aufgrund dieser zweiten Belichtung ein das betreffende Beugungsgitter darstellendes, einem Phasengitter entsprechendes zweites Reliefmuster vorgegebener Tiefe, die von der Tiefe des ersten Reliefmusters verschieden ist und einem zweiten Farbton des Bündels nullter Ordnung entspricht, entsteht, und daß die vorgegebene Dicke der Fotolackschicht gleich der Summe der den jeweiligen Farbtönen entsprechenden Tiefen der beiden Reliefmuster gewählt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Fotolackschicht vorgegebener Dicke durch ein Schleuderbeschichtungsverfahren aufgebracht wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtung der Fotolackschicht jeweils durch ein aufgelegtes Amplituden-Beugungsgitter mit dekollimiertem Licht erfolgt, dessen Einfallsrichtung innerhalb eines Zylindersektors liegt, wobei die der Achse des Zylindersektors entsprechende Kante des Zylindersektors parallel zu den Gitterlinien des Beugungsgitters verläuft und der Zylindersektor im wesentlichen symmetrisch zur Schichtnormalen ist.

4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß bei der Belichtung ein belichtendes Lichtbündel um eine zu einer Gitterlinie des Beugungsgitters parallele Achse über im wesentlichen den ganzen V-förmigen Winkelbereich des Zylindersektors geschwenkt wird.