DE2002605C3 - - Google Patents

Description

F i g. 2 eine vergrößerte Detaildarstellung einer Gruppe der Löcher der Maske nach Fig. 1,

F i g. 3 eine fragmentarische Schnittdarstellung der Maske nach F i g. 1 mit Veranschauiichung eines der Maskenlöcher,

F i g. 4 ein Diagramm, das eine typische Abstufungskurve für die Löcher einer Maske mit Lochabstufung wiedergibt,

F i g. 5, 6 und 7 schematische Schnittdarstellungen, welche die Herstellung einer Schablone mit Abstufung gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ver~ anschaulicht,

F i g. 8 den Grundriß eines im Verfahrensschritt nach F i g. 7 verwendeten Umlaufblendengerätes,

F i g. 9 ein Diagramm, das die für die Erzielung verschiedener Pimktgrößenzunahmen erforderlichen Belichtungszeiten wiedergibt,

Fig. 10 ein Diagramm, das einen Quadranten der für die Erzielung einer gegebenen radialen Änderung der Punktgröße erforderlicher. Blendenöffnung wiedergibt,

Fig. 11 eine schematische Schnittdarstellung, die den Verfahrensschritt der Überführung der nach F i g. 7 erhaltenen Schablone in ein Negativ veranschaulicht,

Fig. 12 eine Schnittdarstellung, die zum Teil veranschaulicht, wie eine erste Schablone mit abgestuften öffnungen und eine zweite Schablone mit Öffnungen einheitlicher Größe für die Herstellung einer Lochmaske mit Lochabstufung angewendet werden, und

Fig. 13 eine der F i g. 6 ähnliche Schnittdarstellung, die eine Abwandlung des Verfahrensschrittes nach F i g. 6 veranschaulicht.

Die F i g. 1 bis 3 zeigen ein typisches Blech, wie es als Lochmaske für Farbbildröhren verwendet wird. Die Maske 1 kann aus 0,1524 mm dickem, korrosionsbeständigem Stahlblech mit mehreren hunderttausend Rundlöchern 3 in einer bestimmten, z. B. einer hexagonalen Gruppierung oder Anordnung bestehen, wie in F i g. 2 gezeigt. Beispielsweise kann bei einer 63,5-cm-Farbbildröhre der vertikale Abstand b der Löcher 3 ungefähr 0,5842 mm betragen und die durch die strichpunktierte Linie 6 in F i g. 1 umgrenzte perforierte Fläche 5 der Maske eine maximale (diagonale) Abmessung von 56,9976 cm haben. Wie in F i g. 3 gezeigt, ist jedes Loch 3 (durch Ätzen) so geformt, daß es einen Teil 7 mit einem kleineren Durchmesser B und einen Teil 9 mit einem größeren Durchmesser C, der vorzugsweise für sämtliche Löcher einheitlich ist, aufweist. Die minimale Größe, d. h. der Durchmesser B der Löcher 3 nimmt in Radialrichtung von der Mitte zum Außenrand der Maske ab. F i g. 4 zeigt eine typische Abstufungskurve für die Lochgröße B in Abhängigkeit vom radialen Abstand R von der Mitte der Maske 1 entsprechend der Formel B-B₀- DR*, wobei B₀ = 0,24384 mm und D = 0,013504 ist. In diesem Fall haben die Maskenlöcher 3 einen Durchmesser von 0,24384 mm in der Mitte und 0,20066 mm beim maximalen Radius von 28,4988 cm. Es beträgt somit die maximale Differenz der Lochgröße 0,24384 - 0,20066 = 0,04318 mm. Der unperforierte Randteil 11 der Maske 1 in F i g. 1 kann mit drei Kerben oder anderen geeigneten Mitteln zum deckungsgleichen Verrasten mit komplementären Einrichtungen an den für das Drucken des Lochmusters auf der Maske 1 verwendeten Schablonen versehen sein.

Ein bevorzugtes Verfahren zui Herstellung einer abeestuften Schablone für das Drucken des gewünschten abgestuften Lochmusters einer Lochmaske wird nachstehend an Hand der Fig. 5 bis 12 beschrieben. Dabei gelten die folgenden Definitionen: Eine »Schablone« ist ein Film oder Blatt aus einem Material mit einem Muster oder einer Anordnung von beabstandeten lichtundurchlässigen (opaken) oder lichtdurchlässigen (transparenten) Bereichen auf einem Untergrund der jeweils entgegengesetzten Art. Eine »Positivschablone« ist eine Schablone mit opaken Gebieten oder Punkten und einem transparenten Untergrund. Eine »Negativschablone« ist eine Schablone mit transparenten Gebieten und opakem Untergrund. Eine Positivschablone wird auch als »Punktmatrize«, eine Negativschablone auch als »Negativpunktmatrize« oder »Lochmatrize« bezeichnet. Ein »Positiv« eines gegebenen Musters ist ein spiegelbildliches Duplikat desselben ohne Tonumkehr sowie mit oder ohne Änderung der Punkt- oder Lochgröße. Ein »Negativ« eines gegebenen Musters ist ein spiegelbildliches Duplikat desselben mit Tonumkehr, z. B. opak-klar, oder umgekehrt, sowie ebenfalls mit oder ohne Änderung der Punkt- oder Lochgrößc. Eine »Positivphotoemulsion« ist eine photoempfindliche Emulsion, bei welcher nach Entwicklung die belichteten Teile klar oder transparent und die unbelichteten Teile opak sind. Eine »Negativphotoemulsion« ist eine photoempfindliche Emulsion, bei welcher nach dem Entwickeln die unbelichteten Teile klar und die belichteten Teile opak sind. Ein »Kontaktabdruck« ist irgendein auf photographischem Wege durch Belichten einer photoempfindlichen Emulsion durch eine Schablone oder ein Diapositiv im wesentlichen in Kontakt mit der Emulsion und anschließendes Entwickeln der belichteten Emulsion hergestellter Druck oder Abdruck.

Die bei dem nachstehend beschriebenen Verfahren verwendeten photoempfindlichen oder lichtempfindlichen Emulsionen sind bekannte photographische Silberhalogenidpositiv- oder -negativemulsionen. Zwei Positivschablonen mit gleichartigen Mustern von opaken Punkten werden für die Belichtung der Photolackschichten auf beiden Seiten des Bleches, aus dem die Maske hergestellt wird, verwendet.

Zum Herstellen einer Lochmaske mit einem abgestuften Muster von Löchern, deren Größe radial von der Maskenmitte aus abnimmt, muß mindestens eine der Positivschablonen ein entsprechendes abgestuftes Muster von opaken Punkten haben, deren Größe mit zunehmendem radialem Abstand von der Mitte des Musters abnimmt.

Für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird zunächst eine fragmentarische Positivschablone hergerichtet, indem mechanisch ein Muster einer kleinen Anzahl, z. B. von fünf opaken Punkten auf eine Glasplatte in der gewünschten hexagonalen Anordnung im gegenüber der endgültigen Punktgröße um 30: 1 vergrößerten Maßstab aufgetragen wird. Das Muster dieser fragmentarischen Schablone wird sodann in einer Kamera photographisch um 10: verkleinert, so daß man einen Negativfilm mit den opaken Punkten entsprechenden transparenten Gebieten erhält. Sodann wird der Negativfilm in einem Präzisionsabbildungsgerät od. dgl. angeordnet, das eine weitere Größenverringerung um 3: 1 vornimmt und den Film schrittweise über den gewünschten Flächenbereich eines transparenten, mit einer Negativphotoemulsion beschichteten Blattes führt, so daß die gewünschte Positivschablone 15 mit Gebieten oder opaken Punkten 19 einheitlicher Größe auf einem

Film 20 hergestellt wird (F i g. 5). Die Größe der Punkte auf der fragmentarischen Schablone ist so gewählt, daß nach der Verkleinerung um 30: 1 der Durchmesser der Punkte 19 gleich dem der kleinsten Löcher in der gewünschten abgestuften Maske ist, d. h. im vorliegenden Beispiel 0,20066 mm.

Die Positivschablone 15 wird auf ein mit einer Negativphotoemulsionsschicht 23 beschichtetes transparentes Blatt 21 so aufgelegt, daß der Film 20 sich in Kontakt mit der Emulsionsschicht 23 befindet, wie in F i g. 5 gezeigt. Die Schicht 23 wird durch die Schablone 15 belichtet (L) und zur Negativschablone 25 entwickelt (F i g. 6), in welcher die sich mit den Punkten 19 deckenden punktförmigen Gebiete 27 der Schicht 23 klar oder transparent und die übrigen Teile 29 der Schicht 23 opak sind. Die Belichtungszeit für den Verfahrensschritt nach F i g. 5 ist so bemessen, daß bei der Überführung der opaken Punkte 19 in die Klarbereiche 27 keine wesentliche Größenänderung auftritt.

Die Fig. 7 bis 12 veranschaulichen eine bevorzugte Methode der Verwendung der Negativschablone 25 für die Herstellung einer Positivschablone mit größenabgestuften opaken Punkten in der gleichen Lageanordnung wie die Klarbereiche 27 der Schablone 25. Die Schablone 25 wird mit der Schicht 23 in Kontakt mit einer Positivemulsionsschicht 33 auf einem transparenten Blatt 31 angebracht. Die Schicht 33 wird von einer gebündelten Lichtquelle 35 durch eine dicht bei der Schablone 25 in der durch die unterbrochene Linie 37 angedeuteten Lage angeordnete Umlaufblende 39 (F i g. 8) und durch die Negativschablone 25 belichtet.

Wie in F i g. 8 gezeigt, kann die Umlaufblende 39 aus einer transparenten Blendenplatte 41 bestehen, die auf der einen Seite mit Ausnahme einer Klarfläche oder Öffnung 43 spezieller Formgebung zum Verändern der Belichtungszeit der Schablone 25 in vorbestimmter Weise von einem Maximum in der Mitte bis zu einem Minimum am Außenrand geschwärzt ist.

Bei der hier gezeigten Vorrichtung ist die Blendenplatte 41 an einer opaken Rundplatte oder -scheibe 45 aus z. B. Aluminium befestigt, die durch vier Sätze von je drei Rollen auf einer Plattform 47 drehbar gelagert ist. Vier Rollen 49 erfassen den Außenrand der

ίο Scheibe 45, und die anderen acht Rollen 51 erfassen die Ober- und die Unterseite der Platte 41. Die einzelnen Rollensätze können auf der Plattform 47 durch einen einzigen Halter (nicht gezeigt) befestigt sein. Die Platte 41 überdeckt eine etwas kleinere Rechtecköffnung 46 in der Scheibe 45 so, daß der geometrische Mittelpunkt der Öffnung 43 sich in der Achse der Scheibe 45 befindet. Die Scheibe 45 mil der Blendenplatte 41 wird durch einen Elektromotor 53 um ihre Achse gedreht, der auf der Plattform 47 gelagert ist und mit einer Rolle 55 den Außenrand der Platte 45 erfaßt. Die Plattform 47 hat eine Rundöffnung 57, die etwas kleiner und gleichachsig mit der Scheibe 45 ist. Die Schablone 25 nach F i g. 7 ist ortsfest in bezug auf die rotierende Scheibe 45 angeordnet, wie in F i g. 8 durch gestrichelte Linien zur Veranschaulichung der Beziehung zwischen der Blende 39 und der Öffnung 43 einerseits und der Schablone 25 andererseits angedeutet.

Die genaue Form der für die Herstellung von Maskenlöchern der gewünschten Abstufung erforderlichen Blendenöffnung 43 wird wie folgt bestimmt: Die gewünschte Lochgröße B in jedem radialen Abstand vom Mittelpunkt, in Intervallen von 2,54 cm, wird aus der Formel B = 9,6 — 0,013504 R² ermittelt und in die folgende Tabelle eingetragen:

R	0	B	C	T	P	e
Radialer Abstand	2,54	T I 1 LJ'I 1 *ΐ ^t. 1_	Punktgrößenzunahme	Erforderliche	Prozent der	Winkel in
vom Mittelpunkt	5,08	Locngroue	vom Rand	Belichtungszeit	Maximalzeit	jedem Quadranten
cm	7,62	mm	mm	Minuten	°/.	Grad
10,16	0,24384	0,04318	15,50	100	90
12,70	0,243586	0,042926	15,25	98,4	88,6
15,24	0,242570	0,041910	14,75	95,2	85,7
17,78	0,240792	0,040132	13,90	89,7	80,7
20,32	0,238252	0,037592	12,90	83,2	74,9
22,86	0,235204	0,034544	11,60	74,8	67,3
25,40	0,231394	0,030734	10,20	65,7	59,1
27,94	0,227584	0,026924	8,80	56,8	51,1
28,4988	0,221996	0,021336	7,01	45,2	40,7
0,216154	0,015494	5,40	34,8	31,3
0,209550	0,008890	4,00	25,8	23,2
0,202438	0,001778	2.57	16,6	14,9
0,20066	0	2,50	16,1	14,5

Als nächstes wird durch Substrahieren des Durchmessers, 0,20066 mm, der Klarbereiche 27 von der gewünschten Lochgröße B die in jedem radialen Abstand erforderliche Punktgrößenzunahme G ermittelt und in die Tabelle eingetragen. Die für die Erzeugung verschiedener Beträge der Punktgrößenzunähme erforderlichen Belichtungszeiten für die photographische Apparatur werden experimentell ermittelt und in das Diagramm nach F i g. 9 eingetragen, wobei die Kurve 59 das Mittel der experimen teilen Werte wiedergibt. Sodann wird die für jede radialen Abstand R erforderliche Belichtungszeit von der Kurve 59 in F i g. 9 abgelesen und zusamme mit dem Prozentsatz P der Maximalzeit von 15,50 M nuten in die Tabelle eingetragen. Als nächstes wird di Form eines Quadranten der Blendenöffnung 43 ei miltelt, wie in F i g. 10 dargestellt. Diese Form ist se daß die Belichtung vom Totalwert im Mittelpunkt d<

Schablone, bei 90° von der Vertikalachse, auf den Nullwert bei 0° (Vertikalachse) abnimmt. Die Blende 39 wird mit ungefähr 30 UpM gedreht. Es beträgt daher die Gesamtzahl der Umdrehungen ungefähr 465, so daß ein etwaiger Bruchteil einer Umdrehung am Ende unberücksichtigt bleiben kann. Der Belichtungswinkel Θ für jeden radialen Abstand wird als P · 90° errechnet in die Tabelle eingetragen und in Fig. 10 bis zum Wert R = 28,4988 cm am Rand der Schablone eingetragen. Die die eingetragenen Punkte verbindende Kurve 61 gibt diejenige Öffnungsform wieder, die für die Erzeugung der für die Herstellung der gewünschten ' * ^J"~ »«~"i'-«iÄoVi<.r erforderliche radiale zur Herstellung der Schablone 15 mit einheitlicher Punktgröße angefertigt werden.

Bei dein oben beschriebenen bevorzugten Verfahren, bei welchem eine Positivphotoemulsion für die abgestufte Schablone 63 nach F i g. 11 verwendet wird, kann die maximale erforderliche Punktgrößenzunahme in der Mitte der Schablone in einer einzigen Belichtung erreicht werden. Tatsächlich kann mit der speziell

mmmm

SSSS

liehe vier Quadranten der Öffnung 43 in F i g. 8 dupliziert.

Die Schablone 25 und die Emulsionsschicht 33 (Fig. 7) werden 15,50 Minuten lang von der Lichtquelle 35 durch die Umlaufblende 39 belichtet. Sodann wird die Emulsionsschicht 33 entwickelt, so daß sich eine Negativschablone 63 (Fig. 11) mit in der Größe von einem Maximum im Mittelpunkt bis zu einem Minimum am Außenrand abgestuften Klarbereichen 65 auf opakem Untergrund 67 ergibt. Die maximale Belichtung in der Mitte bewirkt, daß die den Mittelbereichen 27 der Schablone 25 entsprechenden belichteten Bereiche der Emulsionsschicht 33 um 0,04318 auf 0,24384 mm zunehmen, während die minimale Belichtung (2,50 Minuten) am Außenrand keine wesentliche Größenzunahme gegenüber dem Wert von 0,20066 mm der Randbereiche 27 bewirkt. In F i g. 11 wird die abgestufte Negativschablone 63 auf eine transparente Platte 68 mit einer Negativphotoemulsionsschichl 69 kontaktabgedruckt, so daß sie in eine Positivschablone 71 mit abgestuften opaken Punkten 73 der gleichen Größe wie die entsprechenden Klarbereiche 65 der Schablone 63 übergeführt wird.

^^^^S,^ _benötigt wird, kann

Ein Vorteil de.^ ™ⁿ^^ng^_{ß der} Verfahrensschritt in F ι g. 7 besteht dann, daB oer der UmwandJ«ng von «n*Neg J^^ schablone nach Fi g^" ^'^,^„^, _unf mindestens d«' ^J^JSSSi von ungefähr

^"^ ^^iTSfc Schablone W nach 0,05 mm zu ^erziele": ^ua _qrh._{hlone 7I ist S0}Ihe F i g. 13 em Spiegelbild der Schablone71 «U some

man im ^^^^^F^^A bild der Schablone 77 zusammen

verwenden. Ausführunesrorm des Verfahrens

Be. einer anderen Ao* "hnmgs orn.

w.rd statt daß die Zeit der^BeMc B ^

Pig SJJÄ Pos,t,vschablone71 mit Punkt^ggrößenab?tufung zusammen mit einer Poshivschablone 77 aus einem transparenten Blatt 79 mit einer Anordnung von großen opaken Punkten einheitlicher Größe, z.B. 0,4318 mm, auf klarem Untergrund 82 in der gleichen Musteranordnung wie die abgestuften Punkte der Schablone 71 dazu verwendet wird, größenabgestufte Löcher in einer Loch_niaSke zu erzeugen. Ein dünnes Blech 83 aus Stahl wird beiderseits mit löslichen photocmpfindlichcn Schichten 85 und 87, die durch Belichtung gehärtet und unlöslich gemacht werden können, beschichtet. Die beiden Schablonen 71 und 77 werden in Kontakt mit den Schichten 85 bzw. 87 so angeordnet, daß die Punktmuster sich genau miteinander decken, und von beiden Seiten her belichte. (L). Beim Entwickeln der Schichten 85 und 87 werden die unbelichteten löslichen Punkteile weggewaschen, so daß entsprechende OfT-mingcn in den gehärteten belichteten und nunmehr unlöslichen Teilen der Schichten 85 und 87 entstehen. Sodann werden die punktförmigcn Bereiche des Maskcnbicihcs 83 an diesen Öffnungen von beiden Seiten her mittels eines Säurebades hcrausgcät/l, so daß Löcher der in F" i p. 3 Gezeigten Form entstehen. Die Schichten 85 und 87 werden entfernt, so daß die fertige, flache Vicllochmaskc mit den gewünschten größenabgestuften Öffnungen entsteht. Die Schablone 77 kann nach irgendeinem bekannten Verfahren einschließlich des oben beschriebenen bevorzugten

ig. 7

gleichmäßige

auf einen Negativcmulsionsfilm kontaktgedruckt, so däß en unentwickelter Abdruck, bestehend aus beichteten Punktbereichen einheitlicher Große ,η ^belichtetem Untergrund auf einem transparenten Unterlaeblatt, erhalten wird. Sodann wird bei entfernt^Schablone 25 dieser unentwickelte Abdruck mit Licht aus einer Quelle 35 durch eine Umlauf blende 39 wie in F i C 7 und 8 mit radial veränderlichem Urne - α Lithtpt so daß die cewünschte differentielle ÖcÄmaLe der »vor belichteten Bereiche erh ilten wird. Die veränderliche Belichtung reicht aus, um nur die zuvor belichteten Punktbereiche beim Entwickeln opak zu machen. Die zuvor unbelichteten Be "ehe werden beim Entwickeln transparent. D.es Ξ. die gewünschte Positivscha bone mit groß,n-%stuften opaken Punkten auf klarem Untergrund, wie bei der Schablone 89 in Fig. 13. Experimente v.ben cezeiut daß nach diesem Verfahren eine Punkt-"rößenzunähme um bis ungefähr 0,05 mm (2MiI) erreicht werden kann.

Bei der vorstehenden Beschreibung wurde vorausgesetzt daß Schablonen verwendet werden, die auf Shotocmplindlichcin Film auf einer Unterlage gebildet 6. sind und in denen transparente und opake Bereiche im Film durch Belichten und Entwickeln erzeugt werden Die Anwendung einer Belichtung mit in der beschriebenen Weise veränderlichen Dauer ist jedoch

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nicht auf solche photoempfindlichen Filme beschränkt, sondern auch auf selbsttragende Filme oder Unterlagen oder Träger, die mit Photolacken, deren Löslichkeit durch Belichtung geändert wird, beschichtet sind, anwendbar. Bei der Belichtung und anschließenden Entwicklung werden die löslichen Teile der Photolackschicht vom Träger entfernt, so daß eine Schablone

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zurückbleibt, die durch unlösliche Bereiche auf der Trägeroberfläche gebildet ist. Als Photolacke sollten Positivlacke, die aus unlöslichen opaken Materialen bestehen, jedoch bei Belichtung löslich gemacht werden, oder Negativlacke, die aus löslichen Klarstoffen, die bei Belichtung unlöslich gemacht und opak werden, bestehen, verwendet werden.

Hierzu 5 Blatt Zeichnungen

Claims (3)

1 2 Schichten in einem Lösungsmittel entwickelt, so daß Patentansprüche: die unbelichteten löslichen Teile entfernt werden und * ■ · in den lichtempfindlichen Schichten Löcher ent-

1. Verfahren zum Herstellen einer Lochmaske sprechend den Punkten der Schablonen zurückbleiben, für eine Farbfernsehröhre mit Hilfe einer Beiich- 5 Die durch die Löcher freigelegten Stellen des Bleches tungsschablone, die auf einem lichtdurchlässigen werden dann mit Säure weggeätzt, so daß eine Loch-Träger eine Vielzahl von in einem regelmäßigen maske entsteht. Die flache Maske wird dann in die Muster angeordneten lichtdurchlässigen Punkten gewünschte Form gepreßt.

aufweist, deren Größe mit zunehmendem Abstand Aus der USA.-Patentschrift 2 755 402 ist die Vervon der Mitte des Musters abnimmt, bei welchem io wendung einer Schablone bekannt, bei der die Punktdie abnehmende Punktgröße durch eine zum Rand größe mit zunehmendem Abstand von der Mitte des Musters hin abnehmende Belichtung einer abnimmt, so daß eine Lochmaske mit Löchern abgelichtempfindüchen Schicht durch eine Lichtmaske stufter Größe entsteht. Für die Herstellung einer derart mit Löchern einheitlicher Größe erzielt wird, abgestuften Schablone wird ein Graufilter mit sich dadurch gekennzeichnet, daß eine 15 radial ändernder Dichte verwendet. Beim Entwickeln erste Schablone (25) mit einer Vielzahl lichtdurch- der Schalbone entstehen dann undurchsichtige Punkte lässiger Bereiche (27) einheitlicher Größe in dem mit der Musterung der Löcher der bei der Belichtung regelmäßigen Muster in einer Schicht aus opakem verwendeten Lichtmaske, wobei die Größe der Material ausgebildet wird, daß zur Bildung einer Punkte den auf die einzelnen Punktflächen aufzweiten Schablone (63) die lichtempfindliche ao treffenden Lichtmengen proportional ist und von der Schicht (33) des lichtdurchlässigen Trägers (31) im Mitte nach außen abnimmt. Auf diese Weise erhält Kontaktverfahren durch die erste Schablone (25) man eine abgestufte Schablone für die Belichtung des belichtet wird, wobei die Belichtungszeit von der Maskenbleches, das dann ebenfalls Löcher abgestufter Mitte des Musters zum Rand hin abnimmt, derart, Größe erhält. Ein Nachteil dieses Verfahrens besteht daß bei der Entwicklung lichtdurchlässige Punkte »5 jedoch darin, daß derartige Graufilter in der Herstel-(65) in dem regelmäßigen Muster mit zum Muster- lung relativ kompliziert und daher teuer sind,
rand hin abnehmender Größe entstehen und daß Eine andere Methode der Herstellung einer abgezur Bildung der Belichtungsschablone (71) die stuften Schablone besteht darin, daß man eine Photolichtempfindliche Schicht (69) eines weiteren licht- kopie einer Maske mit Löchern einheitlicher Größe durchlässigen Trägers (68) im Kontaktverfahren 30 herstellt, indem man durch eine Lichtmaske mit einer durch die zweite Schablone (63) belichtet und verhältnismäßig dicht bei der Maske angeordneten entwickelt wird. Punktlichtquelle belichtet, wobei man unter Ausnut-

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn- zung des photometrischen Entfernungsgesetzes und zeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht (33) der Geometrie der Belichtungsapparatur diejenige der zweiten Schablone (63) zunächst durch die 35 Lichtstärkenänderung von der Mitte nach außen zu erste Schablone (25) mit überall gleicher Be- erhalten bestrebt ist, die für die Hervorbringung der lichtungszeit belichtet und anschließend ohne die gewünschten Größenänderung der opaken Punkte der erste Schablone (25) mit von der Mitte des Musters Schablone erforderlich ist.

zum Rand hin abnehmender Belichtungszeit nach- Bei beiden genannten Methoden ist es, da sie von

belichtet wird. 40 einer Änderung der Lichtstärke Gebrauch machen,

3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, schwierig und manchmal unmöglich, diejenigen gedadurch gekennzeichnet, daß die Belichtung der nauen Punktgrößen und Punktgrößenabstufungen zu zweiten Schablone (63) durch eine umlaufende erzielen, die für die Schablone erwünscht sind. Ferner Blende (39) mit einer entsprechend den unter- ist die Änderung der Lichtstärke eine wenig geeignete schiedlichen Belichtungszeiten geformten Blenden- 45 Methode zum Erzielen einer difference Ilen Größenöffnung erfolgt. zunähme der belichteten Bereiche.

Die Aufgabe der Erfindung besteht in der Angabe eines Verfahrens zur Herstellung einer Belichtungs-

schablone, welche sich gegenüber den bekannten

50 Verfahren durch bessere Preiswürdigkeit bzw. höhere Genauigkeit der gewünschten Punktgrößen auszeich-

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung net. Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 einer Lochmaske für eine Farbfernsehröhre mit Hilfe angegebenen Merkmale gelöst. Weiterbildungen der einer Belichtungsschablone, die auf einem lichtdurch- Erfindung sind in den Unteransprüchen gekenn· lässigen Träger eine Vielzahl von in einem regelmäßigen 55 zeichnet.

Muster angeordneten lichtdurchlässigen Punkten auf- Die Erfindung beruht auf der Eigenschaft photoweist, deren Größe mit zunehmendem Abstand von graphischer Emulsionen, in den belichteten Gebieter der Mitte des Musters abnimmt, bei welchem die an Größe zu wachsen oder zuzunehmen. Von diesei abnehmende Punktgröße durch eine zum Rand des Eigenschaft wird zwecks Bildung einer abgestufter Musters hin abnehmende Belichtung einer licht- 60 Schablone zum Herstellen einer Lochmaske in dei empfindlichen Schicht durch eine Lichtmaske mit Weise Gebrauch gemacht, daß ein Film mit photo Löchern einheitlicher Größe erzielt wird. graphischer Emulsion durch eine Umlaufblende

Die Lochmaske einer Farbbildröhre wird gewöhn- belichtet wird, so daß die Belichtungszeit sich von dei lieh in der Weise hergestellt, daß man ein dünnes, Mitte des belichtenden Musters aus in Radialrichtunj flaches Stahlblech beiderseits mit lichtempfindlichen 65 ändert.
Schichten beschichtet und dann auf jeder Seite durch In den Zeichnungen zeigt

eine Schablone mit einem lichtdurchlässigen Punkt- F i g. 1 den Grundriß einer Viellochmaske für ein<

muster der gewünschten Löcher belichtet und die Farbbildröhre,