DE2214728C3 - Verfahren zur direkten photomechanischen Herstellung von Siebdruckformen - Google Patents

Description

druckformen (DZ-OS 2 151 n4^lJ) werden die Sieböffnungen mit einem Füllmaterial verschlossen und die Siebschablone und das Füllmaterial mindestens an der Oberfläche elektrisch leitend gemacht. Auf die so gebildete Schicht wird eine mustergebende Schicht auf- '· gebracht und die Siebdruckform einer Galvanisierung unterworfen, worauf die mustergebende Schicht und das Füllmaterial der Sieböffnungen entfernt werden. Bei diesem Verfahren wird demnach die Schablonenmaterial-Schicht durch einen Galvanisierungsprozeß i" aufgebaut. Wenn jedoch die mustergebende Schicht nicht in derselben oder größeren Stärke als die abgeschiedene Metallschicht behalten werden kann, kann es zu einer Reduzierung der angelegten Konturenbreite kommen. Schließlich können auch beim Ent i*> fernen des Füllmaterials Schwierigkeiten auftreten, da mehr als Füllmaterial entfernt werden muß. Durch den galvanischen Aufbau der Schablonenmaterialschicht ist die Wiederverwendbarkeit des Siebmaterials nicht oder nur unter erheblichem Aufwand mög- -'» lieh.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs beschriebenen Art su zu gestalten, daß bei hohem Auflösevermögen der Sägezahneffekt an den Druckrändern nicht auftritt. 2~>

Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß

a) die Sieböffnungen der Siebdruckschablone mit einem unsensibilisierbaren Füllmaterial geschlossen werden, unter Bildung einer glatten, i<> absatzfreien Siebseite mit unbedeckten Siebstegen,

b) eine lichtempfindliche Schicht mit konstanter Schichtstärke auf diese Siebseite unter Bildung einer glatten Fläche aufgetragen, r>

c) die lichtempfindliche Schicht in an sich bekannter Weise bildmäßig belichtet, entwickelt und getrocknet und

d) das Füllmaterial aus den Sieböffnungen herausgewaschen wird. «ι

Die Erfindung wird beispielsweise in der Zeichnung dargestellt und nachfolgend beschrieben. Es zeigen

Fig. 1-5 und Fig. 7 das Lackverfahren gtmäß der Erfindung in verschiedenen Stufen,

Fig. 6 das Ergebnis des Lackverfahrens nach dem 4> bekannten und nach dem erfindungsgemäßen Verfahren,

Fig. 8 die Anwendung des erfindungsgemäßen Lackverfahrens zur Mustergebung einer sehr feinen Linie, >o

Fig. 9einenSchnitt nacn der Linie IX-IX in Fig. 8,

Fig. 10 eine perspektivische Darstellung einer Siebdruckform mit einer, einen feinen Linienraster enthaltenden, Schablonenmaterialschicht und einer weiteren musterp.ebenden Schablonenmaterialschicht,

Fig. 11 einen Schnitt durch eine Siebdruckform mit feinem Raster (schematisch),

Fig. 12 eine Draufsicht auf eine schematisch dargestellte Siebdruckform mit teilweise weggebrochener bo mustergebenden Schicht und zwischen Siebschablone und mustergebender Schicht angeordneten weiteren Schablonenmaterialschichten in Form zweier Linienraster ungleicher Feinheit und

Fig. 13 eine perspektivische Darstellung einer Siebdruckform, die mit zwei lichtempfindlichen Schichten beschichtet ist, Von denen die zweite Schicht die mustergebende Schient ist,

Die Entstehung der bereits erwähnten Sagezahn bildung ist dem Zusammenwirken von 2wei Gründen zuzuschreiben:

Völlig unabhängig vom jeweils verwendeten Fo toemulsionstyp ist nach der Trockung bzw. Polymerisation der Emulsionsschicht eine ausgeprägte Wellig keit der Schichtoberfläche festzustellen. Diese WeI ligkeit hat ihre Voraussetzung in der überall angewandten Applikationstechnik der Fotoemulsion mittels Gummirakeln. Durch diese Technik wird stets in der Rasteröffnung mehr Emulsion aufgetragen als auf dem Rastersteg. Die eigentliche Wellenstruktur in der Schichtoberfläche entsteht jedoch erst durch derf, der Applikation nachfolgenden physikalischen Trocknungsvorgang, der zwangsläufig an den Stellen mit dem größeren Emulsionsvolumen deren größte Schrumpfung verursacht. Wird nun diese derartig aus Zonen hoher und niedriger Stärke bestehende Emulsionsschicht über ein Diapositiv belichtet, spielen sich folgende Vorgänge ab:

Das Licht durchdringt unter allen oglichan Win kein die Emulsionsschicht und wird zud~rn in ihr in die verschiedensten Richtungen gestreut. Aus diesem Grund ist es grundsätzlich nicht möglich, den Figurenrand dreidimensional kongruent in der Emulsionsschicht abzubilden. Fur die Praxis wirksam wird dieser eher theoretische Tatbestand jedoch erst dadurch, daß gerade in der Rasteröffnung, in der ja aus drucktechnischen Gründen die größte Abbildungsgenauigkeit verlangt wird, das größere Schichtvolumen und damit die größere Abbildungsungenauigkeit vorliegt. Wird also eine Rasteröffnung vom lichtundurchlässigen Teil des Diapositivs abgedeckt (Maschenüberquerung), so kommt es praktisch immer zu einem totalen Verschluß eben dieser Öffnung, so daß der Figurenrand nicht der Ideallinie des Diapositivs sondern den einzelnen Rasteroffnungen der Rotationsschablone und damit der Rasterformation im Figurenrandbereich folgt.

Selbst wenn es möglich wäre, parallelisiertes I seht zur Belichtung zu verwenden, würde man zwar die erwünschte ideale Abbildung und damit Uberquerung der F asteröffnung durch die Emulsion erreichen, der Sägezahneffekt bliebe im Druck jedoch immer noch sichtbar (wie z. B. bei Rotationsschahlone niedriger mesh-Zahl festzustellen ist). Durch die Welligkeit der Emulsionsschicht ist an der Uberquerungsstelle der Rasteröffnung kein optimaler Kontakt zwischen Emulsionsschicht und Substrat gegeben, was zur Überflutung des Figurenrandes im Bereich eben dieser Rasteröffnung wiederum druckt, als ob sie völlig offen wäre.

Zwei Gründe machen also den Sägezahneffekt aus:

Die Welligkeit der Emulsionsschicht läßt, auch wenn rp't herkömmlichen Mitteln eine gewisse, wenn auch im drucktechnischen Sinne unbrauchbare Maschenüberquerung przielt wird, eine zum Diapositiv adäquate Abbildung nicht zu, da wegen der Wellenstruktur keine Abdichtung zwischen Emulsionsoberfläche und Substrat erreicht werden kann. Darüber hinaus verhindert ('as Zusammenwirken von ungleichen Schichtstärken der Emulsion und schrägem bzw. nicht paraüelisiertem Lichteinfall während der Belichtung die kongruente Abbildung des Diapositivs.

Zur Darstellung des erfindungsgemäßen Verfahrens bedarf es im übrigen der Erwähnung folgender Zusammenhänge:

Im Bereich des Siebdruckes mit Flachschablonen umgeht man den genannten Sägezahneffekt mit der

Ausbildung einer sogenannten Druckschulter. Es handelt sich hierbei darum, den nicht druckenden Teil des Figurenrandes reliefartig auszubilden, wobei auf annähernde Rechtwinkligkeit des Figurenrandes großer Wert gelegt wird. Abrundungen jedoch möglichst vermieden werden, So daß sich die erhabenen, nicht druckenden Partien der Schablone gut art den Bedruckstoff anschmiegen können. Auf diese Weise entsteht eine optimale Abdichtung zwischen druckender und nicht druckender Partie gegenüber der Druckfarbe, die wie bereits dargestellt wurde, im herkömmlichen Herstellungsverfahren für Rotntions-Siebdruckformen nicht gegeben ist. Als praxiserprobte Verfahren im Bereich des Flach Siebdruckes sind die reinen Indirektverfahren (z. B. Schneidefilm-. Pigmentpapierverfahren), die Mischformen aus reinen Direktverfahren und reinen Indirektverfahren (z. B. Kombinationsverfahren) und schließlich die reinen Direktverfahren, z. B. Direktverfahren mit Zusatzbeschichiungen zu nennen. Aiie Verfahren eignen sidr zur Ausbildung einer Druckschulter und ermöglichen damit einen zägezahnfreien Druck. Ihr Nachteil besteht darin, daß sie Schichten erzeugen, die aufgrund ihrer geringen Adhäsion zum Sieb in Verbindung mit ihrer geringen chemischen und mechanischen Stabilität im Vergleich mit den im Rotationssiebdruck üblichen Metragen nur geringe Auflagen zulassen. Auch ist die spezifische Belastung der Siebdruckform im Rotationssiebdruck weitaus höher, so daß eine Anwendung der genannten Verfahren selbst bei kleinen Metragen ausgeschlossen ist. Für den Zweck der Herstellung von Rotations-Siebdruckformen wurden Emulsionen entwickelt, die allen auftretenden Belastungen zwar gerecht werden, jedoch - da im Direktverfahren verarbeitet, das wirksame Zusatzbeschichtungen nicht zuläßt - die nachteilige Sägezahnbildung verursachen. Aufgabe der Erfindung ist es, die charakteristischen Vorteile der indirekten Verfahren aus dem Bereich des Flach-Siebdruckes, d. h. die Erstellung einer präzisen Druckschulter, mit Hilfe eines direkt arbeitenden Verfahrens zu ermöglichen.

Die Lösung der Aufgabe erfolgt gemäß dem vorstehenden Anspruch 1.

Hierbei wird die Sieboberfläche, beispielsweise die zylindrische Rundschablone, mit einer in bestimmten Lösungsmitteln löslichen Substanz 32 z. B. mit einem Lack beschichtet (Fig. 1). Hierauf wird die so behandelte Sieboberfläche z. B. geschliffen, wodurch die Rasterstege 1 an ihrer Oberfläche wieder von der als Füllack zu bezeichnenden Substanz 32 befreit werden, während aber die Rasteröffnungen 2 geschlossen bleiben, siehe Fig. 2. Hierauf wird (Fig. 3) die geschliffene Sieboberfläche mit einer lichtempfindlichen Schicht 33 beschichtet und dann-, selbstverständlich unter Einschaltung entsprechender Trocknungsoperationen auf die Schicht 33 das photographische Diapositiv 5 mit den geschwärzten Partien 6 und den durchlässigen Partien 7 gespannt und durch mit 8 bezeichnetes Licht belichtet (Fig. 4). Nach dem Auswaschen der Schicht 33 bleiben die belichteten wasserunlöslichen Partien 9' auf der Sidboberfläche zurück, siehe Fig. 5. Aus Fig. 4 und S ist ersichtlich, daß die auch bei diesem Verfahren unter allen möglichen Winkeln auf die Emulsionsschicht auftreffenden Lichtstrahlen 8 sich nicht mehr deformierend am Figurenrand bzw. an der Übergangsstelle der Rasteröffnung auswirken können, weil eine einerseits überall gleiche Stärke der Schicht 33 vorliegt und andererseits die Stärke der Schicht 33 im Verhältnis zur Größe der Rasleröffnung 2 beliebig stark gehatten werden kann und damit der erwähnte dreidimensionale Abbildungsprozeß kontrollierbar wird. Ebenso ist die ■ Ausbildung der genannten Druckschulter ersichtlich, die eine optimale Abdichtung zwischen druckender und nicht druckender Partie zuläßt.

Die auf der Sieboberflächc zurückgebliebene Schicht 9' wird getrocknet und polymerisiert. Die

in hierbei auftretende Schrumpfung wird in Fig. 6 auf der linken Seite für das bisher bekannte Verfahren und auf der rechten Seite für das erfiiuhmgsgemnße Verfahren dargestellt, wobei die Schrumpfung mit 35 bezeichnet ist. Wie aus diesem Vergleich ersichtlich ist, schrumpft beim bekannten Verfahren die Emulsionsschicht allseitig, d. h. dreidimensional, und durch dieses Schrumpfen wird der Deformationsprozeß der Emulsionsschicht verstärkt. Dagegen kann beim erfindungsgemäßen Verfahren die Emulsionsschicht 9'

is nur noch szwcidsrncnsinnaU schrumpfen, wamst eine weitgehende Deformationsfreiheit an der Uberbrükkungsstelle 4' der Rasteröffnung gegeben ist.

Nach dem Polymerisationsprozeß wird die Füllung mit einem geeigneten Lösungmittel ausgewaschen,

>j siehe Fig. 7. Da die Schicht 9' im polymerisierten Zustand chemisch äußerst stabil ist, braucht ihre Beschädigung durch Lösungsmittel nicht befürchtet werden. Die Druckschulter, die mit der Oberfläche der Schicht 9 flue! fet, ist mit 9" bezeichnet.

jo Wie dargestellt wurde, eignet sich das erfindungsgemäße Verfahren, sägezahnfreie Figurenränder zu erzielen. Ein weiterer Anwendungsbereich ist die Herstellung feiner Details, vor allem feiner Linien. Im übrigen eignet sich das erfindungsgemäße Verfahren zur Wiedergabe von Halbtönen. Hierbei wird das zu reproduzierende Motiv photographisch in einen Linienraster zerlegt (Autotypie), der dann in Form eines Diapositivs bei der Belichtung verwendet wird. Bei Anwendung des herkömmlichen Herstellungsverfahrens für Rotations-Siebdruckformen liegt die Breite der schmälsten und einwandfrei druckbaren Linie erfahrungsgemäß bei der Breite, die von zwei Rasteröffnungen und einem Rastersteg gebildet wird. Es ist ohne weiteres einzusehen, daß die Linienbreite von der Feinheit des Rasters der verwendeten Rotations-Siebdruckform abhängig ist, d. h. grobe Raster bedeuten breite, feinere Raster schmalere Linien. Beim erfindungsgemäßen Verfahren kann eine Linienbreite von der Breite eines Rastersteges, gemessen auf der äußeren Seite der Rotations-Siebdruckform, dessiniert werden.

Um noch schmalere Linien drucken zu k'.nnen, d. h. um weitgehend unabhängig von der verwendeten Rasterfeinheit der Rotationsschablone zu werden, kann das erfindungsgemäße Verfahren erweitert werden, siehe Fig. 8 und 9.

Es ist mit 40 die auf das Sieb, das mit der Füllsubstanz 32 gefüllt und sodann geschliffen wurde, durch Belichten, Auswaschen und Trocknen abgebildete Linie angegeben. Wie aus Fig. 8 ersichtlich, ist die Linienbreite wesentlich geringer als die Breite eines Siebsteges 1. Für den Fall, daß die Linie auf dem Rastersteg abgebildet wird, ist eine unmittelbare Verbindung mit einer Rasteröffnung nicht gegeben, was zu schlechtem Druckausfall an dieser Stelle führen kann. Um diese Verbindung zu schaffen, wird die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Siebdruckform, nachdem die Photoemulsionsschicht poly-

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merisiert, jedoch bevor die als Füllack bezeichnete Substanz ausgewaschen ist, einer Ätzbehandlung unterzogen. Es wird hierbei das Ätzgut nur mit der Siebseite, auf der sich die polymerisierte Emulsionsschicht befindet, in Berührung gebracht und eine Ätztechnik gewählt, deren Breitenwirkung hoch, deren Tiefenwirkung dagegen gering ist. Dadurch, daß die nicht ätzbs/e Füllsubstanz sich während des Ätzvorganges in den Sieböffnungen befindet, trägt das Ätzgut Stegmatefial lediglich an den Stellen ab, wo dies auch erforderlich ist, was zur Stabilitätserhaltühg der Rotations-Siebdruckform wesentlich beiträgt.

Der Ätzprozeß ist abgeschlossen, wenn Öffnungen 41 durch Abtragung des Rastersteges 1 zwischen der abgebildeten Linie 40 und den jeweils benachbarten Rasteröffnungen 2 geschaffen sind.

Im Anschluß an die Ätzung wird die Füllsubstanz ausgewaschen und das Sieb ist druckbereit.

Da als Sieuniciiciicii bc

men praktisch ausschließlich Nickel in Frage kommt, eignet sich als Ätzgut z. B. Eisenchlorid in wäßriger Lösung.

Bei der Anwendung des Verfahrens in Verbindung mit sehr groben Rastern (z. B. 40 und 60 mesh) oder beim Druck sehr hoher Metragen werden an die Haltbarkeit der Emulsionsschicht wegen der entsprechend großen Emulsionsschichtbrücken über den Rasteröffnungen vor allem mechanisch große Anforderungen gestellt. Um auch für diesen Fall fehlerfreie Drucke garantieren zu können, kann auf der Innenseite der an .,ich druckbereiten Siebdruckform z. B. ein Lack aufgebracht werden, der unmittelbar anschließend in noch fließfähigem Zustand von der Emulsionsseite der Siebdruckform her abgesaugt wird. Nach einer entsprechenden Trockenoperation bzw. nach chemischer Aushärtung ist die Emulsionsschicht an den nicht druckenden Partien verstärkt, ohne die Qualität der Siebdruckform zu beeinträchtigen.

Das beschriebene Verfahren kann zur Wiedergabe feinster Bilddetails unabhängig von der Feinheit des verwendeten Siebmaterials erweitert werden, siehe Fig. 10-12.

GemäßFig. 10 wird von einem beliebig feinen oder groben Siebmaterial 51 ausgegangen, das, wie vorstehend beschrieben, mit einem Füllmaterial derart gefüllt wird, daß einerseits die Sieb- oder Rasterstege unbedeckt sind und andererseits das Füllmaterial und die Rasterstegoberfläche eine glatte Fläche bilden. Sodann wird in einem zweiten Arbeitsvorgang unter Verwendung eines geeigneten Schablonenmaterials, z. B. einer der bekannten härtbaren Photoemulsionen, ein Linienraster aufkopiert, entwickelt und gehärtet. Die eigentliche Mustergebung der Siebdruckform erfolgt in einem dritten Arbeitsgang analog zum zweiten, indem die nunmehr reliefartige Schablonenmaterialoberfläche in gleicher Weise wie bei der Aufbringung der ersten Schicht mit einem geeigneten Lack aufgefüllt wird. Sodann wird dieser Lack soweit abgetragen, beispielsweise abgeschliffen, daß die Linienrasterstege 58 an ihrer Oberfläche 59 von jeglichem Füllack frei, jedoch die Zwischenräume 60 zwischen den Rasterstegen 58 aufgefüllt sind und zusammen mit der Füllung eine glatte Fläche bilden.

Auf die solchermaßen vorbereitete Drackf orm wird nunmehr das Druckbild, beispielsweise mittels einer härtbaren Photoemulsion aufkopiert und nach Aushärtung der nötigen Zwischenarbeitsgänge (Entwikkeln, Trocknen etc.) ausgehärtet. In Fig. 10 bezeich-

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50 net 62 die mustergebende, letzte Schablonenmateriaischicht und 61 eine offene, also druckende Partie der Siebdruckform.

In einem letzten Arbeitsgang wird der Füllack mit einem geeigneten Lösungsmittel ausgewaschen.

Die Dimensionierung der Linienrasterstege 58 sowie deren Abstand voneinander richten sich nach dem photographischen Auflösungsvermögen des jeweils verwendeten Schablonenmaterials. In diesen, von dem Schablonenmatefial vorgegebenen Grenzen bedeuten schmale und hohe Rasterstege eine große druckbare Farbmenge, flache und breite Rasterstege dagegen eine geringere Farbmenge. Zur Variation der Verhältnisse bzw. zur Anpassung der Siebdruckform an das zu bedruckende Substrat wird die Regulierbarkeit der Schichtstärke des Schablonenmaterials sowie eine geeignete Ausführung der photographischen Vorlage herangezogen.

ixcucu scinef ucucüiüi'ig, uäa i-ufuVuiufi'ici'r uci

Siebdruckform variieren zu können, kommt dem Linienraster eine zweite Funktion zu. Sollte es beispielsweise erwünscht sein, Details auf bzw. mit der Druckform abzubilden, welche kleiner sind als die lichte Weite des Siebmaterials, so würden diese, wenn sie nach den herkömmlichen Verfahren auf dem Siebmaterial erzeugt und hierbei auf eine Sieböffnung fallen würden, von vornherein keine Verbindung mit dem Siebinaterial eingehen, somit also auf diesem erst gar nicht befestigt werden können, siehe Fig. 11. Die Details 52'sind auf dem Siebmaterial 51 nicht befestigt und fallen deshalb heraus. Bei unregelmäßig angeordneten Details würde dies zu nicht originaltreuer Wiedergabe beim Druck, bei regelmäßigen Details, z. B. Kreuzrastern, unweigerlich zum Moire-Effekt führen.

Diese unerwünschten Erscheinungen werden auf vorstehend beschriebene Weise vermieden. Es ist lediglich notwendig, den Linienraster der ersten Schablonenmaterialschicht so fein anzulegen, daß auch die kleinsten Musterdetails in der folgenden Schablonenmaterialschicht die notwendige Abstützung erhalten

Als weiteres Anwendungsbeispiel (Fig. 12) soll gezeigt werden, wie ein in einen 60er Raster zerlegtes photographisches Motiv mit beispielsweise 80-mesh Siebmaterial (32er Raster) moirefrei kombiniert werden kann:

Auf das gefüllte Siebmaterial 51 wird zunächst ein erster Linienraster 58 mit beispielsweise 40 Linien pro cm aufgebracht. Sodann wird unter Einhaltung der entsprechenden bereits geschilderten Arbeitsgänge ein zweiter Linienraster 63 mit beispielsweise 60 Linien pro cm in einer Winkelung von ca. 90° gegenüber aem ersten Linienraster aufgelegt. In einer dritten Schicht 64 des Schablonenmaterials wird schließlich die Rasterung des Bildmotivs in eben der Rasterfreiheit der letzten Schablonenmaterialschicht, hier jedoch in einem 60er Kreuzraster vorgenommen, selbstverständlich auch erst, nachdem die Struktur des letzten Linienrasters 63 eingeebnet wurde, der jedoch auch erst nach Einebnung des ersten Linienrasters 58 aufgebracht wurde. Der Kreuzraster mit waagerechten Stegen 67 und senkrechten Stegen 68 wird so auf dem letzten Linienraster 63 angeordnet, daß die farbundurchlässigen wagrechten Rasterstege 67 des Kreuzrasters stets auf die unmittelbar darunterliegenden Stege des zweiten Linienrasters 63 fallen. Die senkrechten Stegpartien 68 des Kreuzrasters sind freitragend.

Die Tatsache, daß Rasteröffnungen 69 in den Be-

reieh eines Rastersteges 58' aus der ersten Sehabloncnmaterialschicht 58 fallen, ist unerheblich. Die beim Druckprozeß zugeführte Farbe füllt das gesamte, hier aus drei Materialschichten bestehende Liriienrastersystem auf und tritt wegen der vorhandenen, durch die Rasterstege 58, 63 gebildeten Zwischenräume auch durch alle scheinbar abgedeckten Rasteröffnungen 69 der kreuz^rasterten letzten Scliablonenmaterialschicht 64 aus.

Man erhält auf diese Weise eine Siebdruckform, die sich - gemessen am heutigen Stand der Technik *- durch eine Motivzerlegung in einen äußerst feinen Kreuzraster auszeichnet.

Dadurch, daß die bildgebende Schicht nicht auf der Siebschablone, sondern auf einer oder mehreren auf der Siebschablone liegenden, vor Aufbringen der bildgebenden Schicht verarbeitenden Schablonenmaterialschicht liegt, kann eine Regulierung der druckbaren Farbmenge durch die freie Gestaltung des sogenannten Farbvolumens der Siebdruckform ermöglicht werden und weiter kann durch die Kombination entsprechend gerasterter Schablonenmaterialschichten eine Unabhängigkeit der Bilddetailgröße in den Grenzen des photographischen Auflösungsvermögens des verwendeten Schablonenmaterials - vom Siebmaterial erreicht werden, wodurch zudem ein moirefreier Siebdruck autotypisch zerlegter Farbtonskalen ermöglicht wird.

Nach dem in Fig. 10 12 beschriebenen Verfahren ist es demnach notwenig, vor Aufbringen der zweiten lichtempfindlichen Schicht die erste lichtempfindliche Schicht zu belichten und weiterzuverarbeiten (Entwickeln, Härten). Es hat sich nun gezeigt, daß eine Vereinfachung dieses Verfahrens möglich ist, indem auf die Fertigstellung, d. h. auf die Entwicklung und Härtung, sowie auf die Präparierung durch Füllen mit Füllmaterial und Schleifen der ersten lichtempfindlichen Schicht verzichtet und nach deren Belichtung gleich die zweite, beispielsweise mustergebende, Schablonenmaterialschicht aufgelegt wird, welches Vorgehen zu einer erheblichen Reduzierung der Fehlerquote sowie zu einer wesentlichen Einsparung an Arbeitszeit und Arbeitsmaterial führt und somit wesentlich kostengünstiger ist. Trotzdem wird in gleicher Weise wie beim Verfahren nach Fig. 10-12 die Ausbildung einer zweckmäßigen Druckschulter, jedoch in vereinfachter Weise, erreicht und zudem läßt sich der Farbdurchlaß des Siebmaterials begrenzen. Dies wird an Hand von Fig. 13 nachstehend beschrieben.

Es wird hierbei von einem beliebig groben oder feinen Siebmaterial mit Siebstegen 71 und Sieböffnungen 72 ausgegangen, das mit einem Füllmaterial derart gefüllt wird, daß einerseits die Sieb- oder Rasterstege unbedeckt sind und andererseits das Füllmaterial und die Rasterstegoberfläche eine glatte Fläche bilden, wie dies in Fig. 13 gezeigt ist.

Sodann wird in einem zweiten Arbeitsgang auf das nunmehr eingeebnete Siebmaterial eine lichtempfindliche Schablonenmaterialschicht aufgetragen und getrocknet. Dies wird sodann über ein Diapositiv belichtet, das beispielsweise lediglich Linien zeigt (Linienraster-Diapositiv).

Im dritten Arbeitsgang wird auf die belichtete Schablonenmaterialschicht eine zweite lichtempfindliche Schablonenmaterialschicht 75 aufgetragen, die wegen der glatten Oberfläche der erster. Schicht ebenfalls eine glatte Oberfläche bildet.

Unter Verwendung eines Diapositivs, welches die eigentliche Muster^'ebung aufweist, wird nunmehr im vierten Arbeitsgang diese zweite lichtempfindliche Schicht 75 belichtet, wobei zwangsläufig auch alle diejenigen Partien der ersten lichtempfindlichen Schicht belichtet werden, die durch das mustergebende Diapositiv hindurch Licht erhalten und in der ersten Belichtung unbelichtet geblieben sind; die schon belichteten Partien dagegen werden durch die zweite Belichtung noch einmal belichtet, was bei Verwendung der bekannten, polymerisierbaren Photoemulsionen keineswegs schadet.

Im letzten Arbeitsgang wird die gesamte Schablonematerialschicht entwickelt, gehärtet, sowie das Füllmaterial entfernt, worauf die Siebdruckform druckfertig ist.

Zusammenfassend ergeben sich:

1. Durch den Aufbau eines Linienrasters 73 kann der Farbdurchlaß des Siebmaterials beliebig reduziert werden. Dies deswegen, weil die Dimension der Linienstege 73' selbst über die Variation der Schichtstärke 76 der ersten lichtempfindlichen Schicht in Verbindung mit der Linienbreite bzw. -anzahl des zuerst verwendeten Diapositivs variiert werden kann.

2. Durch die Applikation einer zweiten lichtempfindlichen Schicht 75 beliebiger Stärke 77 auf der fertig belichteten ersten Schicht, wodurch eine gesamte Stärke 78 erreicht wird, wird eine Höhendifferenz 77 der zweiten lichtempfindlichen Schicht 75 gegenüber der ersten 73 mit der Schichtstärke 76 erreicht, was zu einer zweckmäßigen Druckschulterausbildung 80 an den Figurenrändern führt.

3. Durch die Belichtung der zweiten Schicht 75 über das mustergebende Diapositiv werden auch alle Partien 79 der ersten lichtempfindlichen Schicht belichtet, die für einen Farbdurchlaß von vornherein nicht vorgesehen sind. Durch diese

■to Belichtung wird neben der Mustergebung ein

sehr stabiler Verbund beider Schichten 74 untereinander sowie zum Siebmaterial erreicht, wodurch auch an den Überbrückungsstellen der Rasteröffnungen 72 eine gute Stabilität erreicht ist.

Die als Füllmittel bzw. Füllack bezeichnete und bei dem Verfahren verwendete Substanz muß folgende Eigenschaften aufweisen, nämlich Applikationsfähigkeit für die üblichen Applikationstechniken, Antischaumverhalten, Schleifbarkeit für die üblichen Schleiftechniken, Wasserunlöslichkeit, Schrumpfungsfreiheit über längere Zeiträume (12 Monate und langer), Schrumpfungsfreiheit über kürzere Zeiträume bei Erhitzung auf ca. 200° C (3—4 Stunden), gute Adhäsion zu den üblichen Siebmaterialien im Rotationsfilmdruck, vor allem auf Nickel unabhängig von Alter und Temperatur (bis 200 ° C max.), geringes thermoplastisches Verhalten bei Temperaturen bis 200° C, gute Auflösbarkeit vor und nach Wärmebehandlung in solchen Lösungsmitteln, die die polymerisierte Emulsion nicht angreifen, chemische Resistanz gegenüber üblichen Ätzmitteln wie z. B. Eisenchlorid und relative Ungiftigkeit.

Das beschriebene Verfahren wurde im Zusammenhang mit Rund-Siebdruckformen beschrieben, jedoch ist es ir. gleicher Weise auch auf Flach-Siebdruckformen anwendbar.

Hierzu 5 Blatt Zeichnungen

Claims (8)

Patentansprüche:

1. Verfahren zur direkten phatomechanischen Herstellung von Siebdruckformen, bei welchen die Sieböffnungen des Siebes mit einem Füllmaterial > geschlossen werden, und auf der so hergestellten Fläche eine lichtempfindliche Schicht aufgetragen wird, dadurch gekennzeichnet, daß

a) die Sieböffnungen der Siebdruckschablone mit einem unsensibilisierbaren Füllmaterial ^ln geschlossen werden, unter Bildung einer glatten, absatzfreien Siebseite mit unbedeckten Siebstegen,

b) eine lichtempfindliche Schicht mit konstanter Schichtstärke auf diese Siebseite unter BiI- i> dung einer glatten Fläche aufgetragen,

c) die lichtempfindliche Schicht in an sich bekannter Weise bildmäßig belichtet, entwikkelt und getrocknet und

d) das Füllmaterial aus den Sieböffnungen her- -<> ausgewabchen wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Wiedergabe feiner Details die Schichtseite der Siebdruckform mit einem Ätzmittel so lange behandelt wird, bis an denjeni- 2> gen Stellen, an denen die Linie auf einen oder mehrere Siebstege fällt, eine Verbindung zwischen dieser Stelle bzw. diesen Stellen und einer benachbarten Sieböffnung geschaffen wird (Fig. 9).

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- jo kennzeichnet, daß auf der der Schicht abgewandten Seite der Sitbdruckform ein Lack aufgebracht und anschließend in no.h fliei'Tähigem Zustand von der Schichtseite her abgesaugt wird.

4. Verfahren nach Anspruch I, dadurch ge- Ji kennzeichnet, daß auf die auf der Siebdruckform aufgebrachte lichtempfindliche erste Schicht nach deren Belichtung, Entwicklung und Auffüllung der Täler des entstandenen Reliefs mit einem unsensibilisierbaren Füllmaterial mindestens eine weitere lichtempfindliche Schicht als glatte Fläche mit konstanter und regulierbarer Schichtstärke direkt aufgebracht wird.

5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß auf die erste Schicht ein Raster 4i aufkopiert und fertiggestellt und nach Aushärtung derselben in die zweite Schicht als mustergebende Schicht verwendet wird.

6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß auf die erste Schicht ein anderer in Raster als derjenige der Siebdruckform und auf die zweite Schicht wiederum ein anderer Raster als derjenige der ersten Schicht aufkopiert und fertiggestellt wird, auf welch letztere nach Aushärtung derselben die bildgebende Schicht aufge- γ, bracht wird.

7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf die auf der Siebdruckform aufgebrachte lichtempfindliche erste Schicht nach deren Belichtung ohne weitere Verarbeitung min- (,o destens eine weitere lichtempfindliche Schicht als glatte Fläche mit konstanter und regulierbarer Schichtstärke aufgebracht wird,

8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht mittels eines Raster-Diapositivs belichtet und die zweite Schicht als mustergebende Schicht verwendet wird.

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur direkten photomechanischen Herstellung von Siebdruckformen, bei welchen die Sieböffnungen des Siebes mit einem Füllmaterial geschlossen werden, und auf der so hergestellten Fläche eine lichtempfindliche Schicht aufgetragen wird. Mit Hilfe solchermaßen hergestellter Siebdruckformen sind verschiedene Materialien, wie z. B. Textilgewebe oder Papier, bedruckbar.

Beim Rotationssiebdruck, einem Spezialverfahren des Siebdruckes, werden Siebe in Form einer hohlzylindrischen Siebdruckform verwendet. Zu ihrer Herstellung werden hauptsächlich das galvanoplastische Verfahren, bei dem die farbundurchlässigen Schablonenpartien und die siebförmigen Partien der Siebdruckform in einem Arbeitsgang galvanisch aufgebaut werden, und das Lackverfahren angewandt, bei dem ein galvanisch hergestelltes Sieb mit einem lichtempfindlichen Kunststoffilm versehen wird, der im Laufe des Verarbeitungsprozesses an den druckenden Partien entfernt, an den nichtdruckenden Partien aber auf dem Sieb belassen wird.

Die Erfindung bezieht sich auf das zweitgenannte Verfahren. Trotz des hohen Standes der Lackdessinierungstechnik bestehen nichtsdestoweniger einige dieser Technik anhaftende Nachteile, wovon einer derselben in der mangelnden Wiedergabeschärfe zu erblicken ist, die sich typischerweise als ticppenförmiger oder sägezahnähnhcher Zackenrand an den Figurenrändern äußert, weshalb sich der Begriff der Sägezahnbildung eingebürgert hat. Zwar kann man diesen unerwünschten Effekt bis zu einem gewissen Grade durch drucktechnische Manipulation mildern, doch hat man ihn, ob schwach oder stark ausgeprägt, in der Praxis als unvermeidbares Übel hinzunehmen.

Es ist ein Verfahren zur Herstellung von Siebdruckformen bekannt (DE-PS 896456), bei welchem ein Trägermaterial, z. B. ein Sieb, mit einer Filmmasse Übergossen und diese anschließend glattgestrichen wird. Nach dem Trocknen der Filmmasse wird erneut, gegebenenfalls mehrmals, Filmmasse aufgetragen, bis die gewünschte Filmstärke erreicht ist. Nach dem Trocknen wird die Siebdruckform in bekannter Weise bemustert.

Unabhängig von der Art der verwendeten Filmmasse und ihrer Auftragung umhüllt die Filmmasse einerseits die Siebstege, sinkt jedoch andererseits in den Sieböffnungen ein. Die hieraus resultierende Welligkeit kann zwar durch wiederholtes Auftragen der Filmmasse unter entsprechender Schichtstärkenerhöhung mehr oder weniger ausgeglichen werden, jedoch wächst dadurch die Schichtstärke erheblich, da das Auflösungsvermögen der lichtempfindlichen Schuht mindestens proportional zu ihrer Stärke sinkt, wird eine Abbildung feiner Details eingeschränkt.

Bei einem weiteren, nicht vorbekannten, jedoch älteren Verfahren zur Herstellung einer Siebdruckform (DE-OS 2151214) wird auf das Trägermaterial ein Filmbildner aufgebracht, wobei bezüglich der Welligkeit und der Schichtstärke die beim erstgenannten Verfahren genannten Argumente gelten. Demnach kann die Schichtstärke des Filmbildners nicht unter eine durch das Siebmaterial vorbestimmte Minimalstärke sinken, ohne gleichzeitig wieder die Siebstruktur, d. h. eine entsprechende Welligkeit, zu zeigen.

Die so vorbereiteten Siebdruckformen werden erst im Zeitpunkt unmittelbar vor der Weiterverarbeitung sensibilisiert. Bei einem weiteren nicht vorbekannten, jedoch älteren Verfahren zur Herstellung von Sieb-