DE2542430A1 - Rasterfilm und siebdruckschablone sowie verfahren zum herstellen einer siebdruckschablone unter anwendung des rasterfilms - Google Patents

Description

PATENTANWÄLTE A. GRÜNECKER

DIPL-ING.

H. KINKELDEY

DHlNa

W. STOCKMAIR

DRING. AeE(CALTECH

K. SCHUMANN

• DiIBERNATDlPU-PHYSL

P. H. JAKOB

DlFL-INS

G. BEZOLD

DR HERNAT.· DIFL-CHBM.

MÜNCHEN

E. K. WEIL

DR HER OEC ING

MÜNCHEN 22

MAXIMILIANSTRASSe 43

LINDAU

ρ ₈₉₀₆ 23. September 1975

STOEK BEABANT B. V.

43a, Wim de Körverstraat, Boxmeer, Niederlande

Rasterfilm und Siebdruckschablone sowie Verfahren
zum Herstellen einer Siebdruckschablone unter
Anwendung des Rasterfilms.

Die Erfindung bezieht sich auf einen Easterfilm, auf eine unter Verwendung des Rasterfilms hergestellte Siebdruckschablone sowie auf ein Verfahren zum Herstellen derselben.

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TELEFON (OS9) 3228B2 TELEX OS-29 38O TELEGRAMME MONAPAT \

Beim Siebdruck werden Schablonen verwendet, welche je nach dem Druckverfahren nach verschiedenen Verfahren aus verschiedenen Werkstoffen gefertigt sein und verschiedene Formen haben können.

Zum Bedrucken von Papier oder Textilien im sogenannten Flachsiebdruckverfahren verwendet man gewöhnlich auf Rahmen gespannte feine Gewebe aus Kunstfaser oder Metall, welche dann häufig auf fotografischem Wege mit einem Muster versehen werden. Anderenfalls werden auch Hickelfolien verwendet, welche etwa durch Elektrolyse hergestellt und bei der Herstellung mit dem fertigen Druckmuster in Form von Rasterpunkten versehen werden.

Für den sogenannten Rotationssiebdruck werden ebenfalls verschiedene Arten von Schablonen verwendet, nämlich:

a) durch Elektrolyse aus Wickel hergestellte Zylinder mit einem durchgehenden Lochraster. Ein solcher un-'gemusterter Siebzylinder kann anschließend auf fotografischem Wege mit dem gewünschten Muster versehen werden (DT-St 24 462 VIb/15b). Die dafür verwendeten Filme haben dann selbst kein Raster. Die Rasteröffnungen des Zylinders sind entweder rund oder regelmäßig sechseckig. Das Raster verläuft ohne Unterbrechung um den Zylinder herum, so daß nahtlose Muster angebracht werden können.

b) durch Elektrolyse fertig mit dem gewünschten Muster in Form von Rasteröffnungen hergestellte Zylinder DT-OS 1 771 883, 1 771 876, 1 771 882). Das gewünschte Muster wird dabei zunächst auf fotografischem Wege auf einer zylindrischen Metallmatrize in Form von nicht leitenden Rasterpunkten erzeugt. Der dazu verwendete fotografische Film trägt das Muster in Form eines Rasters und wird zur Belichtung um die Matrize herum gelegt. Dabei läßt sich ein vollkommen nahtloses Muster nur durch Retuschieren erzielen, was bei sehr feinen Rastern wirtschaftlich kaum tragbar ist.

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c) Zylinder aus Metallgewebe oder aus einem metallisierten Kunst fasergex-iebe.

E¹Ur alle Arten von Schablonen, sowohl die für den Flachdruck als auch die für den Rotationsdruck verwendeten, gilt die Forderung, daß ein gleichmäßiger Durchtritt der Druckfarbe und beim Drucken von Linien eine möglichst gleichmäßige Dichte des Drucks gewährleistet ist. Zuweilen haftet den genannten Schablonen der Mangel an, daß beim Bedrucken eines Materials, welches selbst eine rasteeähnliche Struktur hat, beispielsweise eines Textilgewebes, aufgrund des geometrisch gleichförmigen Schabolnenrasters ein sogenannter Moireeffekt auftreten kann, welcher bei dem fertigen Produkt möglicherweise garnicht erwünscht ist. Um einen solchen Effekt zu vermeiden, ist man daher häufig zu einer unerwünschten Beschränkung bei der Wahl des Schablonenrasters genötigt.

Eine weitere Schwierigkeit stellt sich im Hinblick auf das Drucken von Halbtönen ein. Zur Vermeidung des Moireeffekts müssen die für die fotografische Übertragung verwendeten Halbtonraster entweder erheblich gröber oder feiner als das Raster der zu verwendenden Schablone. Dies bedeutet in der Praxis, daß man sehr feine Halbtonraster verwenden muß.

Eine andere Möglichkeit zur Vermeidung von Moireeffekten bei der Herstellung von Schablonen zum Drucken von Halbtöntn besteht in der Verwendung von Kornrastern, wie sie aus Tiefdruckverfahren bekannt sind. Kornraster bestehen aus einer scheinbar unregelmäßigen Anordnung von unregelmäßig geformten Rasterpunkten und bieten dadurch den Vorteil, daß sich in keiner Veise ein Moireeffekt ausbilden kann. Sie erbringen im Tiefdruck besonders gute ergebnisse, da hier die durch Ätzen erhaltenen Rastervertiefungen gänzlich für die Übertragung der Druckfarbe verwendet werden. Bei der Anwendung von Kornrastern im Siebdruck gehen jedoch gewisse Teile der

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Rasterpunkte dadurch verloren, daß diese bei der fotografischen Übertragung auf das zwischen den Öffnungen der Schablone liegende Grundmaterial geraten, wodurch erhebliche Detailverluste eintreten und die Schablone dann nicht genügend durchlässig ist.

Daß diese Schwierigkeit, welche sich bei der Verwendung irgendwelcher Halbtonraster auf mit einem Grundraster versehenem Schablonenmaterial einstellt, in der Praxis als nachteilig angesehen wird, geht aus der US-PS 3 64-3 597 hervor, welche ein interessantes, jedoch äußerst kompliziertes Verfahren für die Beseitigung der angeführten Mangel beschreibt.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Schablonenmaterial zu schaffen, welches sich unter Verwendung von Rasterfilmen mit einem dem beim Tiefdruck verwendeten ähnlichen Kornraster durch Elektrolyse sowohl auf ebenen als auch auf zylindrischen Matrizen herstellen läßt.

Zur Losung dieser Aufgabe ist bei einem erfindungsgemäß verwendeten Rasterfilm vorgesehen, daß er eine Vielzahl von Rasterpunkten in Form von verschieden geformten Öffnungen aufweist, welche so zueinander angeordnet sind, daß die größte Abweichung von der durchschnittlichen Entfernung zwischen einander benachbarten Rasterpunkten kleiner ist als die Hälfte der durchschnittlichen Entfernung, so daß in verschiedenen Richtungen über das Raster gelegte, gleichförmige Linien durchschnittlich eine gleiche .Anzahl von Rasterpunkten berühren.

Eine unter Verwendung eines solchen Rasterfilms hergestellte Siebdruckschablone ist genügend durchlässig, um beim Druck den Durchtritt der notwendigen Farbmengen zu gewährleisten, und hat eine ausreichende Festigkeit für die Verwendung sowohl im Flach- als auch im Rotationssiebdruck. Ferner

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ermöglicht eine solche Schablone das Drucken von in den verschiedensten Richtungen verlaufenden feinen Linien gleicher Breite. Wird bei der Herstellung einer solchen Schablone mit einem negativ kopierenden Belichtungsmaterial gearbeitet, so ist ein Rasterfilm zu verwenden, bei welchem die zu druckenden Linien undurchsichtig sind und sich über eine ausreichende .Anzahl von Rasterpunkten erstrecken bzw. durchschnittlich gleiche Anzahlen von Rast er öffnungen berühren, so daß dann der optische Eindruck der gedruckten Linien im wesentlichen gleichförmig ist.

Die unregelmäßige Eorm und Anordnung der Rasterpunkte auf dem Rasterfilm kann empirisch auf dem Reißbrett entworfen oder rein mathematisch unter Anwendung der Komputertechnik festgelegt werden. Das letztere Verfahren ist in der einschlägigen Literatur beschrieben und braucht deshalb nicht im einzelnen erläutert zu werden.

Die Erfindung schafft ferner ein Verfahren zum Herstellen einer mit einem Kornraster versehenen Siebdruckschablone unter Verwendung eines Rasterfilms der beschriebenen Art. Bei diesem Verfahren ist vorgesehen, daß man auf einer elektrisch leitenden Matrizenoberfläche eine lichtempfindliche, negativ kopierende Isolierschicht anbringt, den Rasterfilm auflegt, belichtet, den Rasterfilm wieder abnimmt, die unbelichteten Teile der Isolierschicht auswäscht, auf galvanischem Wege eine Metallschicht auf der Matrize niederschlägt und schließlich die Metallschicht von der Matrize löst.

Bei der Ausführung des Verfahrens kann von den vorstehend genannten Veröffentlichungen sowie von der WL-PS 4-3 388 und von den US-Patentschriften 2 166 366, 2 226 384., 2 291 829 und 2 287 122 ausgegangen werden. Ferner sei auf den Beitrag "Galvanoplastische Siebherstellung" in "Metalloberfläche", ITr. 12, Dezember 1965 hingewiesen. Anstelle

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des dort beschriebenen verwendet man hier jedoch den erfindungsgemäßen Rasterfilm, wobei dann bei der Verwendung von negativ kopierendem Belichtungsmaterial undurchsichtige Easterpunkte auf der Matrize entstehen.

Die Erfindung schafft ferner eine unter Anwendung des vorstehend beschriebenen Verfahrens hergestellte Siebdruckschablone mit einer unregelmäßigen Anordnung von verschieden geformten Rasterpunkten, deren gegenseitige Abstände kleiner sind als ihre jeweils kleinste Abmessung.

Im folgenden ist ein Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand der Zeichnung erläutert, deren einzige Figur einen

stark vergrößerten, viereckigen Ausschnitt von 4 mm Größe des erfindungsgemäßen Rasterfilms darstellt.

In der Zeichnung erkennt man die durch ausgezogene Linien 1 begrenzten ursprünglichen Rasteröffnungen 2 des erfindungsgemäßen Rasterfilms. Die innerhalb dieser Begrenzung verlaufenden Strichlinien 3 geben die Form der mittels des Rasterfilms auf einer Matrize mit leitender Oberfläche erzeugten Rasterpunkte aus isolierenden Material an. Wird dann unter Verwendung dieser Matrize eine Schablone auf galvanischem Wege hergestellt, so entspricht der innere Umfang der Öffnungen in der Schablone den gestrichelten Linien 3.

Ferner ist in der Zeichnung zu erkennen, daß in verschia— denen Richtungen über das Raster verlaufende zu druckende Linien 4 mit einer Breite von 80 pn durchschnittlich gleiche Anzahlen von Rasterpunkten 2 in Abständen schneiden, welche kleiner sind als die Länge eines Rasterpunkts.

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Claims (3)

1. Patentansprüche:

   (Λ4 Rasterfilm, dadurch gekennzeichnet, ""daß er eine Vielzahl von Rasterpunkten in Form von verschieden geformten Öffnungen (2) aufweist, welche so zueinander angeordnet sind, daß die größte Abweichung vom Mittelwert der Entfernung zwischen einander benachbarten Rasterpunkten kleiner ist als die Hälfte des Mittelwerts, so daß in verschiedenen Richtungen über das Raster gelegte, gleichförmige Linien (4-) durchschnittlich eine gleiche Anzahl von Rasterpunkten berühren.
2. 2. Rasterfilm nach Anspruch 1, dadurch g e k e η η ze.ichnet, daß der Unterschied zwischen den Oberflächen der Rasterpunkte kleiner ist als die Hälfte des Mittelwerts der Oberflächen der Rasterpunkte.
3. 3. Rasterfilm nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Krümmungshalbmesser des Umfangs jedes Rasterpunkts nicht kleiner ist als die Hälfte der kleinsten Abmessung des jeweiligen Rasterpunkts.

   4-. Unter Verwendung eines Rasterfilms nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 3 hergestellte Siebdruckschablone, gekennzeichnet durch ein unregelmäßiges Muster von verschieden geformten Rasterpunkten, deren gegenseitiger Abstand kleiner ist als ihre kleinste Abmessung.

   5- Verfahren zum Herstellen einer mit einem Kornraster versehenen Siebdruckschablone unter Verwendung eines Rasterfilms nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 3» dadurch gekennzeichnet, daß man auf einer elektrisch leitenden Matrizenoberfläche eine lichtempfindliche, negativ kopierende Isolierschicht anbringt, den Rasterfilm auflegt, belichtet, den Rasterfilm wieder abnimmt, die unbelichteten Teile der Isolierschicht auswäscht, auf galvanischem Wege

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   eine Metallschicht auf der Matrize niederschlägt und schließlich die Metallschicht von der Matrize löst.

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