DE1771882B2 - Verfahren zum Herstellen einer aus Metall bestehenden dessinierten zylindrischen Siebdruckschablone - Google Patents

Description

35 den.

Ein solches Verfahren ist besonders einfach durchzuführen, weil nur eine einzige Schicht auf die vorbeieitete Matrize gebracht zu werden braucht ΑνώοΓ-

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur dem ist das Aufbringen des Muster» auf fotografi-Herstellung einer aus Metall bestehenden dessinier- 40 schem Wege verhältnismäßig einfach. Darüber hinten zylindrischen Siebdruckschablone auf galvani- aus wird aber auch das Muster außerordentlich schem Wege mit Hilfe einer undessinierten Matrize genau auf die Matrize übertragen,
aus elektrisch leitendem Werkstoff mit einem Raster Die Erfindung wird nachstehend im Zusammenaus elektrisch isolierten Rasterpunkten, auf welche hang mit einer ein Ausführungsbeispiel darstellenden Matrize eine das gewünschte Muster aussparende 45 Zeichnung näher erläutert. Dabei zeigt
elektrisch leitende Schicht aufgebracht und anschlie- F i g. 1 einen schematischen Schnitt durch eine un-

ßend entsprechend den leitenden Teilflächen der Ma- dessinierte Matrize und durch eine auf ihr in bekanntrize auf galvanischem Wege eine Metallschicht in ter Weise gebildete Schablone,
der notwendigen Dicke aufgetragen und endlich die Fig.2a bis 2d jeweils einen Schnitt durch eine

Metallschicht von der Matrize als Schablone abge- 50 undessinierte Matrize mit je einer fortgeschrittenen nommen wird. Herstellungsstufe einer gemäß der Erfindung herge-

Gemäß einem solchen bekannten Verfahren stellten Siebdruckschablone.

(USA.-Patentschrift 2 287 122) wird zunächst einmal Es wird darauf hingewiesen, daß in den Figuren

eine undessinierte Matrize aus elektrisch leitendem die Dicken der unterschiedlichen Schichten zur Her-Werkstoff mit einem Raster aus elektrisch isolierten 55 stellung der Siebdruckschablone der Deutlichkeit Rasterpunkten hergestellt, indem eine Kupferfolie halber nicht im richtigen Maßstab, sondern wesentmit einer lichtempfindlichen Emulsionsschicht über- lieh größer dargestellt sind.

zogen und diese über eine als Gitter ausgebildete Die bekannte undessinierte Matrize 1 aus elektrisch

Maske belichtet wird. Nach dem Wegwaschen der leitendem Werkstoff gemäß Fig. 1 ist auf ihrer unbelichteten Teilflächen erfolgt eine Ätzung des 60 Oberseite mit einem Raster aus elektrisch isolierten Metalls, wodurch Vertiefungen auf der Oberfläche Rasterpunkten 2 versehen, wobei die Matrize zu dieder Kupferfolie erzielt werden, die sodann mit elek- sem Zweck mit entsprechend dem Raster angeordnetrisch isolierendem Material gefüllt werden. Eine ten kalottenartigen Aussparungen versehen ist. Wenn solche Matrize wird auf ihrer Oberfläche an den Mu- auf diese Matrize 1 auf galvanischem Wege ein Mesterstellen mit Schellack überzogen. Sodann wird 65 tall niedergeschlagen wird, entsteht eine übliche eine sehr dünne Wachsschicht und darauf eine Gra- Schablone 3, die entsprechend dem Raster mit Löphitschicht aufgebracht, die elektrisch leitend ist. An- ehern 4 versehen ist, die sich an denjenigen Stellen schließend werden die mit Schellack bedeckten Teil- befinden, wo auf der Matrize 1 die kalottenartieen

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Aussparungen 2 vorgesehen sind. Für die Herstellung Grund der Eigenschaft dieser Emulsion besser an der einer gebrauchsfertigen Siebdruckschablone aus Me- Matrize 5 als die nichtbelichteten Teile. Nach Austal] ist nach den F i g. 2 α bis 2 d eine Matrize 5 in spülen dieser nicht belichteten Teile, d. h. nach deren Form eines MetaJlzylinders, z. B. eines Kupferzylin- Entfernung von der Matrize 5, ergibt sich ein Schnittders, vorgesehen, dessen Außenmantel im Muster 5 bild, wie in Fig.2b dargestellt. Auf der Matrize5 des entsprechenden Rasters Aussparungen aufweist, befinden sich auf einer Anzahl von Stellen die bedie mit einem isolierenden Material 6 gefüllt sind. lichteten Teile 9 a, 9 b und 9 c der nun mit diesen Eine derartige Matrize ist bisher zur HersteL'ung von Teilen gut an der Matrize 5 haftenden Emulsionsgleichmäßig mit Löchern versehenen Schablonen schicht,
ohne Dessin verwendet worden. io Die belichteten und festhaftenden Teile der Emul-

Auf dieser Matrize S wird eine sehr dünne sionsschicht können durch eine ^geeignete Behand-

Schicht7 einer lichtempfindlichen Emulsion aufge- lung elektrisch leitend gemacht' werden. Alsdann

bracht, welche die Eigenschaft hat, daß diejenigen wird die Matrize mit den darauf haftenden Teilen der

Teile, die einer Belichtung ausgesetzt werden, nacu Emulsionsschicht in ein galvanisches Bad, z. B. ein

einer geeigneten Behandlung besser auf der Matrize 5 15 Nickelbad, eingebracht Während dieser Behandlung

haften als die übrigen nicht belichteten Teile dieser * wird das Metall sich auf die Matrize 5 mit Ausnahme

Schicht. Außerdem weist diese Emulsion die Eigen- der isolierten Punkte 6 und auf die festhaftenden

schaft auf, daß sie nach der Belichtung elektrisch lei- Emulsionsteile 9 a bis 9 c absetzen. Selbstverständ-

tend wird oder gemacht werden kann. Ein Beispiel lieh erfolgt der Niederschlag des Metalls auch dort,

einer derartigen Emulsion ist ein wäßriger Polyvinyl- 20 wo diese Emulsionsteile die isolierten Punkte an der

alkohol mit suspendierten Harzkomponenten, in Matrize überdecken. Auf diese Weise entsteht auf

welche in Wasser unlösliche Metallsalze beigemischt der Matrize 5 eine dessinierte Siebdruckschablone,

sind. An denjenigen Stellen, an denen keine Emulsion vor-

Die Emulsion wird über eine Maske 8 belichtet, in handen ist, wird das normale gleichmäßige Lochra-

welcher das gewünschte Dessin im Positiv einge- 25 ster der Matrize entsprechend gebildet, während die

bracht ist, so daß alle diejenigen Teile des herzustel- mit Emulsion bedeckten Stellen eine ununterbro-

lenden Musters, die in der gebrauchsfertigen Scha- chene Metallschicht aufweisen, wie dieses in F i g. 2 c

blone offenbleiben sollen, in der Maske lichtun- gezeigt ist. Die auf diese Weise hergestellte und von

durchlässig sind. Beim Drucken mit der gebrauchs- der Matrize S abgenommene Siebdruckschablone ist

fertigen Siebdruckschablone soll die Druckfarbe 30 in F i g. 2 d dargestellt.

durch die so entstehenden Öffnungen hindurchdrin- Um die Schablone leichter von der Matrize abnehgen, um das Druckbild entstehen zu lassen. Die Be- men zu können, kann diese auch in Form eines auflichtung der lichtempfindlichen Emulsion durch die blasbaren Schlauches vorgesehen werden, der nach Maske hat zur Folge, daß nur bestimmte Teile der dem Herstellungsvorgang der dessinierten Siebdruck-Emulsion schichtbelichtet werden. Diese haften auf 35 schablone in bekannter Weise entfernt wird.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (2)

flächen ausgewaschen. Mittels einer so vorbereiteten Patentansprüche: Matrize kann sodann in der üblichen Art and Weise auf galvanischem Wege eine dessinierte Siebdruck-

1. Verfahren zum Herstellen einer aus Metall schablone gewonnen werden, denn auf der Oberbestehenden dessinierten zylindrischen Sieb- 5 fläche der Matrize befindet sich nach der geschilderdruckschablone auf galvanischem Wege mit Hilfe ten Behandlung eine das gewünschte Muster ausspaeiner undessinierten Matrize aus elektrisch leiten- rende elektrisch leitende Schicht, wobei in den ausgedem Werkstoff mit einem Raster aus elektrisch sparten Teilflächen die elektrisch isolierten Rasterisolierten Rasterpunkten, auf welche Matrize eine punkte zur Wirkung gelangen. Die Herstellung einer das gewünschte Muster aussparende elektrisch io das gewünschte Muster aussparenden elektrisch leileitende Schicht aufgebracht und anschließend tenden Schicht gestaltet sich dabei allerdings schwieentsprechend den leitenden Teilflächen der Ma- rig, insbesondere dann, wenn es sich nicht nur um trize auf galvanischem Wege eine Metallschicht einfache Tupfenmuster handelt, sondern um die übliin der notwendigen Dicke aufgetragen und end- chen Stoffmuster. Außerdem bereitet es Schwieriglich die Metallschicht von der Matrize als Scha- 15 keiten, mit Sicherheit eine an den entsprechenden blone abgenommen wird, dadurch gek^nn- Teilflächen zusammenhängende elektrisch leitende zeichnet, daß zur Bildung der das Muster Schicht in Form eines Graphitüberzuges in gleichmäaussparenden elektrisch leitenden Schicht zu- ßiger Dicke aufzubringen.

nächst auf die Matrizenoberfläche eine dünne Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das

Schicht einer lichtempfindlichen, nach der Be- so eingangs geschilderte Verfahren so weiterzubilden, Jichtung elektrisch leitend und festhaftend wer- daß auf einfache Art und Weise dessinierte Siebdenden Emulsion aufgebracht wird und diese druckschablonen mit jedem beliebigen Muster in Schicht in bekannter Weise über eine Maske mit höchster Genauigkeit hergestellt werden können,
einem positiv hergestellten Muster belichtet wird, Zur Lösung dieser Aufgabe wird gemäß der Erfin-

wonach die unbelichteten Teilflächen der Emul- 25 dung das eingangs geschilderte Verfahren in der sionsschicht ausgewaschen werden. Weise weitergebildet, daß zur Bildung der das Mu-

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- ster aussparenden elektrisch leitenden Schicht zukennzeichnet, daß zur Bildung der elektrisch lei- nächst auf die Matrizenoberfläche eine dünne tenden Schicht ein wäßriger Polyvinylalkohol mit Schicht einer lichtempfindlichen, nach der Belichtung suspendierten Harzkomponenten mit einer Bei- 30 elektrisch leitend und festhaftend werdenden Emulmischung von in Wasser unlöslichen Metallsalzen sion aufgebracht wird und diese Schicht in bekannter verwandt wird. Weise über eine Maske mit einem positiv hergestellten Muster belichtet wird, wonach die unbelichteten Teilflächen der Emulsionsschicht ausgewaschen wer-