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Verfahren zur Herstellung von Zeugdruckwalzen.
Das für die Herstellung von Zeugdruckwalzen angewandte Molettierverfahren wird bei Mustern mit grossem Rapporte wegen der grossen Abmessungen der Molette kostspielig Deshalb schlug man für derartige Muster die Anfertigung der Druckwalzen mittels Ätzverfahrens vor, wobei die verschiedensten Übertragungsverfahren für das Aufbringen der zu ätzenden gemusterten Schicht angewendet worden sind, wie z B. die unmittelbare Multiplikation photographischer Kopien des einzelnen Musters oder einer durch photographische Multiplikation erzeugten Mustergruppe auf die mit der lichtempfindlichen Schicht bekleidete Walze oder das unmittelbare Aufbringen mittels eines Umdruckverfahrens (Offsetverfahren).
Mit dem Ätzverfahren lassen sich jedoch nicht so scharfe und gleichmässige Druckwalzen erzeugen wie mit dem Molettierverfahren, so dass das erstere Verfahren bei Mustern mit feinen Elementen (Linien, Punkte) keine zufriedenstellenden Ergebnisse liefert.
Die Erfindung betrifft nun ein kombiniertes Verfahren zur Erzeugung von Zeugdruckwalzen, deren Muster aus Elementen mit kleinerem Rapporte, die meistens eine feinere Ausführung erheischen, wie sie für die Herstellung des Grundmusters benutzt werden, und aus Elementen mit grösserem Rapporte bestehen, bei denen es auf die feinere Ausführung und hohe Gleichmässigkeit weniger ankommt.
Gemäss der Erfindung wird nun zuerst das Muster mit kleinerem Rapport mittels des Molettierverfahrens und darauf das Muster mit grösserem Rapporte mittels eines chemigraphischen, insbesondere photomechanischen Reproduktionsverfahrens auf der gleichen Walze erzeugt. Dadurch werden die Vorteile beider Verfahren vereinigt. Für die Musterelemente kleineren, mit kleinen Moletten ausgeführten Rapportes ist das Molettierverfahren einfacher, billiger und liefert die für diese Muster erforderliche Schärfe, während das für die Musterelemente grösseren Rapportes verwendete ehemigraphische, insbesondere photomechanische Verfahren die kostspieligen grossen Moletten vermeiden lässt.
Es können demnach auch feine Grundmuster enthaltende und ausserdem ein Muster mit grossem Rapporte aufweisende Zeugdruckwalzen mit der Vollkommenheit des Molettierverfahrens und mit der Einfachheit des ehemi- graphischen. insbesondere photomechanischen Reproduktionsverfahrens erzeugt werden, was bisher unmöglich war.
Die Ausführungsweise des neuen Verfahrens wird an Hand der schematischen Zeichnungen erläutert.
Fig. 1 zeigt das herzustellende Muster, welches einen Grund aus feinen Punkten a mit kleinem Rapport aufweist, in dem vom Grundmuster freie Stellen b, und mit einer fremden Farbe gedruckte Musterelemente d liegen, wobei innerhalb der Stellen b noch mit der Farbe des Grundes gedruckte Musterelemente c vorhanden sein können. Die Musterelemente b, c, d sind mit einem wesentlich grösseren Rapport angeordnet als das Grundmuster a. Fig. 2 zeigt einen dem Muster grösseren Rapportes b, d entsprechend gemusterten Ätzgrund. Fig. 3 ist ein schematischer Längsschnitt der Walze nach dem Molettieren gemäss der Linie 3-3 der Fig. 1.
Fig. 4-6 zeigen den gleichen Längsschnitt der molettierten Walze in den weiteren Arbeitsstadien, u. zw. in Fig. 4 mit bereits aufgetragenem, gemustertem Ätzgrund, in Fig. 5 nach der Herstellung des galvanostegischen Niederschlages, in Fig. 6 nach Abschleifen desselben, in Fig. 7 nach Auftragen eines Ätzgrundes zum Tiefätzen der galvanisch niedergeschlagenen Stellen und in Fig. 8 nach dem Tiefätzen der galvanisch niedergeschlagenen Stellen.
Gemäss der Erfindung wird eine Molette für das Muster a kleineren Rapportes hergestellt und mittels dieser das Muster mit dem Molettierverfahren in die kupferne Druckwalze e eingedrückt. Die Druckwalze weist nun, wie aus Fig. 3 ersichtlich, die durch die Molette erzeugten Vertiefungen a auf, die das Grundmuster ergeben. Es wird dann ein dem Muster grösseren Rapportes b, d entsprechend
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gemusterter Ätzgrund (Fig. 2) auf die Walze e aufgetragen. Der Ätzgrund t bedeckt die Walze an allen Stellen mit einer bloss elektrisch nichtleitenden oder auch einem anzuwendenden Ätzmittel widerstandsfähigen Schicht, mit Ausnahme der Stellen b und d, an denen das Muster grösseren Rapportes entstehen soll. Der gemusterte Ätzgrund t kann mittels irgendeines der bekannten Übertragungsverfahren auf die Walze aufgebracht werden. So z.
B. kann man die Musterelemente b, d mittels irgendeines der in der Druckereikunst bekannten Multiplikationsverfahren, dem Rapport des Musters b, d entsprechend, auf die ganze Länge der zu erzeugenden Zeugdruckwalze und gegebenenfalls auch in der Umfangsrichtung der Zeugdruckwalze multiplizieren und mittels des Offsetverfahrens auf die Mantelfläche der Walze aufdrucken. Man kann aber auch in der Weise verfahren, dass man die Walze mit einer lichtempfindlichen Schicht, beispielsweise Chromgelatine, bekleidet und das Muster grösseren Rapportes photographisch aufkopiert.
Das Aufkopieren kann entweder derart erfolgen, dass man ein einzelnes Muster im Rapport sooft auf die Walzekopiert, bis die Walzebedeckt ist, oder aber man multipliziert das Muster mittels irgendeines bekannten photographischen Verfahrens auf einen, Film, etwa in der ganzen Länge der Walze oder auch auf einen Bruchteil des Walzenumfanges erstreckend, so dass man mit diesem Film eine Mustergruppe gleichzeitig auf die Walze kopieren kann, oder aber man multipliziert das Muster auf einen Film, der die ganze Walze bedeckt und mit dem das Aufkopieren des Musters in einem Arbeitsgange auf die ganze
Oberfläche der Walze erfolgen kann. Nach Belichtung werden die unbelichteten Stellen durch Entwickeln, beispielsweise durch Waschen mit warmem Wasser, entfernt.
Der gemusterte Ätzgrund muss je nach den für die weitere Herstellung der Walze zu verwendenden Verfahren entweder bloss elektrisch isolierend sein oder aber muss er auch dem Einfluss eines Ätzmittels widerstehen können. Der Ätzgrund wird hiezu in irgendeiner beim photomechanischen Druck bekannten Weise vorbereitet.
Wird zum Auftragen des Ätzgrundes zweckmässigerweise ein photomechanisehes Verfahren angewendet, so kann man die lichtempfindliche Schicht, insbesondere wenn die durch die Molette erzeugten
Vertiefungen gröberer Art und von grösserer Tiefe sind, nicht in der erforderlichen Gleichmässigkeit ohne weiteres auf die molettierte Walze auftragen. Vielmehr muss man hiezu die Vertiefungen der Walze mit irgendeiner Masse, z. B. Wachs, ausfüllen, die man nach Entwicklung des Musters auf dem Ätzgrund von den durch den Ätzgrund unbedeckten Stellen mittels eines Lösungsmittels entfernen kann, ohne dass der Ätzgrund beschädigt würde.
Ist das molettierte Muster sehr fein und von sehr geringer Tiefe, so kann man nach Aufbringen des gemusterten Ätzgrundes unter Umständen die Walze wohl auch unmittelbar in ein galvanostegisches Bad bringen und Metall, insbesondere Kupfer, auf die durch den Ätzgrund unbe- deckten Stellen der Walze niederschlagen. Der an den Musterstellen b derzeugte Kupferniederschlag 9 (Mg. 5) muss so stark sein, dass die tiefsten Stellen desselben aus der Mantelfläche der Walze herausragen.
Meistens aber-insbesondere wenn das molettierte Muster von gröberer Art und grösserer Tiefe ist-muss man das an den mit dem Niederschlag auszufüllenden Stellen vorhandene Relief durch Atzen oder durch mechanische Mittel entweder in seiner vollen Höhe oder bis zu einem Teil seiner Höhe beseitigen, so dass die inFig. 4 punktiert angedeuteten Vertiefungen y mit ebenem Boden entstehen. Würde man dies unterlassen, so lässt sich meistens keine genügende Homogenität an der Oberfläche der mit dem galvanischen Niederschlag ausgefüllten Stellen und eine zuverlässige Verbindung zwischen dem Grundmetall und dem Kupferniederschlag erreichen, so dass Nachätzungen oder Gravierungen an den galvanisch niedergeschlagenen Stellen unzufriedenstellende Ergebnisse liefern und auch der von diesen Stellen erzielte Abdruck ungleichmässig werden kann.
Es wird nun der Ätzgrund f beseitigt, und es werden die aus der Oberfläche der Walze herausragenden Stellen des galvanischen Niederschlages g durch Abdrehen oder Schleifen entfernt, so dass die Druckwalze nunmehr den aus Fig. 6 ersichtlichen Zustand aufweist. Diesem Zustande entsprechend ist an denjenigen
Stellen der Oberfläche, die von den Musterelementen b und d des Musters grösseren Rapportes bedeckt werden sollen, das Grundmuster a entfernt worden. Sind einzelne Elemente des Musters grösseren Rapportes mit der Farbe des Grundmusters a zu bedrucken, wie beispielsweise das Musterelement c, so muss die Walze wieder mit einem Ätzgrund bedeckt werden, der bloss die dem Element c entsprechenden Stellen freilässt (Fig. 7). Das Aufbringen dieses gemusterten Ätzgrundes erfolgt in irgendeiner der bereits oben beschriebenen Weise.
Hierauf wird das Muster c durch Gravieren oder mittels eines elektrochemischen oder rein chemischenÄtzverfahrens tief geätzt, so dass die Walze nach Entfernen des Ätzgrundes den aus Fig. 8 ersichtlichen Zustand aufweist.
Zum Drucken der Musterelemente d mit einer von der Grundfarbe abweichenden Farbe muss man in an und für sich bekannter Weise eine zweite Walze verwenden.
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