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Verfahren zur Herstellung von Zeugdruckwalzen Das für die Herstellung
von Zeugdruckwalzen angewandte Molettierverfahren wird bei Mustern mit großem Rapporte
wegen der großen Abmessungen der Molette kostspielig. Deshalb schlug man für derartige
Muster die Anfertigung der Druckwalzen mittels Ätzverfahren vor, wobei die verschiedensten
Übertragungsverfahren für das Aufbringen der zu ätzenden gemusterten Schicht angewendet
worden sind, wie z. B. die unmittelbare Multiplikation photographischer Kopien des
einzelnen Musters oder einer durch photographische- Multiplikation erzeugten Mustergruppe
auf die mit der lichtempfindlichen Schicht bekleidete Walze oder das unmittelbare
Aufbringen mittels eines Umdruckverfahrens (Offsetverfahren). Mit dem Ätzverfahren
lassen sich jedoch nicht so scharfe ündgleichmäßige Druckwalzen erzeugen wie mit
dem Molettierverfahren, so daß das erstere Verfahren bei Mustern mit feinen Elementen
(Linien, Punkte) keine zufriedenstellenden Ergebnisse liefert.
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Die Erfindung betrifft nun ein kombiniertes Verfahren zur Erzeugung
von Zbugdruckwalzen, deren Muster aus Elementen mit kleinerem Rappbrte, die meistens
eine feinere Ausführung erheischen, wie sie für die Herstellung des Grundmusters
benutzt werden und aus Elementen mit größerem Rapporte bestehen, bei denen es auf
die feinere Ausführung und hohe Gleichmäßigkeit weniger ankommt.
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Gemäß der Erfindung wird zuerst das Muster mit kleinerem Rapporte
mittels des Mo-' lettierverfahrens und darauf das Muster mit größerem Rapporte mittels
eines chemigraphischen, insbesondere photomechanischen Reproduktionsverfahrens auf
der gleichen Walze erzeugt. Dadurch werden die Vorteile beider Verfahren vereinigt.
Für die Musterelemente kleineren, mit kleinen Moletten ausgeführten Rapportes ist
das Molettierver- . fahren einfacher, billigzr und liefert die für diese Muster
erforderliche Schärfe, während das für die Musterelemente größeren Rapportes verwendete
chemigraphische, insbesondere photomechanische Verfahren die kostspieligen großen
Moletten vermeiden läßt. Es können demnach auch feine Grundmuster enthaltende und
außerdem ein Muster mit großem Rapporte aufweisende Zeugdruckwalzen mit der Vollkommenheit
des Molettierverfahrens und mit der Einfachheit des chemigraphischen, insbesondere
photomechanischen Reproduktionsverfahrens erzeugt werden, was bisher unmöglich war.
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Die Ausführungsweise des neuen Verfahrens wird an. Hand der schematischen
Zeichnungen erläutert.
Fig. r zeigt das herzustellende Muster, welches
einen Grund aus feinen Punkten a mit kleinem Rapport aufweist, in dem vom Grundmuster
freie Stellen b, und mit einer fremden Farbe gedruckte Musterelemente d liegen,
wobei innerhalb der Stellen b noch mit der Farbe des Grundes gedruckte Musterelemente
c vorhanden sein können. Die Musterelemente b, c, d sind mit einem wesentlich
größeren Rapport angeordnet als das Grundmuster a.
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Fig.2 zeigt einen dem Muster größeren Kapportes b, d entsprechend
gemusterten Ätzgrund.
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Fig.3 ist ein schematischer Längsschnitt der Walze nach dem Molettieren,
gemäß der Linie 3-3 der Fig. z.
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Fig. q. bis 6 zeigen den gleichen Längsschnitt der molettierten Walze
in den weiteren Arbeitsstadien, und zwar in Fig. q. mit bereits aufgetragenem, gemustertem
Ätzgrund, in Fig. 5 nach der Herstellung des galvanostegischen Niederschlages, in
Fig. 6 nach Abschleifen desselben, in Fig. 7 nach Auftragen eines Ätzgrundes zum
Tiefätzen der galvanisch niedergeschlagenen Stellen und in Fig.8 nach dem Tiefätzen
der galvanisch niedergeschlagenen Stellen.
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Gemäß der Erfindung wird eine Molette für das Muster a kleineren Kapportes
hergestellt und mittels dieser das Muster mit dem Molettierverfahren in die kupferne
Druckwalze e eingedrückt. Die Druckwalze weist nun, wie aus Fig. 3 ersichtlich,
die durch die Molette erzeugten Vertiefungen a auf, die das Grundmuster ergeben.
Es wird dann ein dem Muster größeren Kapportes b, d entsprechend gemusterter Ätzgrund
(Fig.2) auf die Walze e aufgetragen. Der Ätzgrund f bedeckt die Walze
an allen Stellen mit einer bloß elektrisch nichtleitenden oder auch einem anzuwendenden
Ätzmittel widerstandsfähigen Schicht, mit Ausnahme der Stellen b und
d,
an denen das Muster größeren Kapportes entstehen soll. Der gemusterte Ätzgrund
f kann mittels irgendeinem der bekannten Übertragungsverfahren auf die Walze aufgebracht
werden. So z. B. kann man die Musterelemente b, d mittels irgendeines der
in der Druckereikunst bekannten Multiplikationsverfahren dem Rapport des Musters
b, d entsprechend auf die ganze Länge der zu erzeugenden Zeugdruckwalze und gegebenenfalls
auch in der Umfangsrichtung der Zeugdruckwalze multiplizieren und mittels des Offsetverfahrens
auf die Mantelfläche der Walze aufdrucken. Man kann aber auch in der Weise verfahren,
daß man diel Walze mit einer lichtempfindlichen Schicht, beispielsweise Chromgelatine,
bekleidet und das Muster größeren Kapportes photographisch aufkopiert. Das Aufkopieren
kann entweder derart erfolgen, daß man ein einzelnes Muster im Rapport so oft auf
die Walze kopiert, bis die Walze bedeckt ist, oder aber man multipliziert das Muster
mittels irgendeines bekannten photographischen Verfahrens auf einen Film, etwa in
der ganzen Länge der Walze oder auch auf einen Bruchteil des Walzenumfanges erstreckend,
so daß man mit diesem Film eine Mustergruppe gleichzeitig auf die Walze kopieren
kann, oder aber man multipliziert das Muster auf einen Film, der die ganze Walze
bedeckt und mit dem das Aufkopieren des Musters in einem Arbeitsgange auf die ganze
Oberfläche der Walze erfolgen kann. Nach Belichtung werden die unbelichteten Stellen
durch Entwickeln, beispielsweise durch Waschen mit warmem Wasser, entfernt. Der
gemusterte Ätzgrund muß je nach den für die weitere Herstellung der Walze zu verwendenden
Verfahren entweder bloß elektrisch isolierend sein, oder aber @er muß auch dem Einfluß
eines Ätzmittels widerstehen können. Der Ätzgrund wird hierzu in irgendeiner beim
photomechanischen Druck bekannten Weise vorbereitet.
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Wird zum Auftragen des Ätzgrundes zweckmäßigerweise ein photomechanisches
Verfahren angewendet, so kann man die lichtempfindliche Schicht, insbesondere wenn
die durch die Molette erzeugten Vertiefungen gröberer Art und von größerer Tiefe
sind, nicht in der erforderlichen Gleichmäßigkeit ohne weiteres auf die molettierte
Walze auftragen. Vielmehr muß man hierzu die Vertiefungen der Walze mit irgendeiner
Masse, z. B. Wachs, ausfüllen, die man nach Entwicklung des Musters auf dem Ätzgrund
von den durch den Ätzgrund unbedeckten Stellen mittels eines Lösungsmittels entfernen
kann, ohne daß der Ätzgrund beschädigt würde. Ist das molettierte Muster sehr fein
und von sehr geringer Tiefe, so kann man nach Aufbringen des gemusterten Ätzgrundes
unter Umständen die Walze wohl auch unmittelbar in ein galvanostegisches Bad bringen
und Metall, insbesondere Kupfer, auf die durch den Ätzgrund unbedeckten Stellen
der Walze niederschlagen. Der an den Musterstellen b und d
erzeugte
Kupferniederschlag g (Fig. 5) muß so stark sein, daß die tiefsten Stellen desselben
aus der Mantelfläche der Walze herausragen. Meistens aber - insbesondere wenn das
molettierte Muster von gröberer Art und größerer Tiefe ist - muß man das an den
mit dem Niederschlag auszufüllenden Stellen vorhandene Relief durch Ätzen oder durch
mechanische Mittel entweder in seiner vollen Höhe, oder bis zu einem Teil seiner
Höhe beseitigen,
so daß die in Fig. q. punktiert angedeuteten Vertiefungen
y mit ebenem Boden entstehen. Würde man dies unterlassen, so läßt sich meistens
keine genügende Homogenität an der Oberfläche der mit dem galvanischen Niederschlag
ausgefüllten Stellen und eine zuverlässige Verbindung, zwischen dem Grundmetall
und dem Kupferniederschlag erreichen, so daß Nachätzungen oder Gravierungen an den
galvanisch niedergeschlagenen Stellen unzufriedenstellende Ergebnisse liefern und
auch der von diesen Stellen erzielte Abdruck ungleichmäßig werden kann.
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Es wird nun der Ätzgrund f beseitigt, und es werden die aus der Oberfläche
der Walze herausragenden Stellen des galvanischen Niederschlages g durch Abdrehen
oder Schleifen entfernt, so daß die Druckwalze nunmehr den aus Fig. 6 ersichtlichen
Zustand aufweist. Diesem Zustande entsprechend ist an denjenigen Stellen der Oberfläche,
die von den Musterelementen b und d des Musters größeren Rapportes
bedeckt werden sollen, das Grundmuster a entfernt worden. Sind einzelne Elemente
des Musters größeren Rapportes mit der Farbe des Grundmusters a zu bedrucken, wie
beispielsweise das Musterelement c, so muß die Walze wieder mit einem Ätzgrund bedeckt
werden, der bloß die dem Element c entsprechenden Stellen frei läßt (Fig. 7). Das
Aufbringen dieses gemusterten Ätzgrundes erfolgt in irgendeiner der bereits oben
beschriebenen Weisen. Hierauf wird das Muster c durch Gravieren oder mittels eines
elektrochemischen oder rein chemischen Ätzverfahrens tiefgeätzt, so. daß die Walze
nach Entfernen des Ätzgrundes den aus Fig. 8 ersichtlichen Zustand aufweist.
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Zum Drucken der Musterelemente d mit einer von der Grundfarbe abweichenden
Farbe muß man in an und für sich bekannter Weise eine zweite Walze verwenden.