DE631002C - Verfahren zur Herstellung von rasterartigen Elektroden auf einer isolierenden Unterlage fuer lichtempfindliche Zellen - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von rasterartigen Elektroden auf einer isolierenden Unterlage fuer lichtempfindliche Zellen

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DE631002C
DE631002C DES102005D DES0102005D DE631002C DE 631002 C DE631002 C DE 631002C DE S102005 D DES102005 D DE S102005D DE S0102005 D DES0102005 D DE S0102005D DE 631002 C DE631002 C DE 631002C
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DE
Germany
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grid
electrodes
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Expired
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DES102005D
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English (en)
Inventor
Dr-Ing Hermann Kessel
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Siemens and Halske AG
Siemens Corp
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Siemens and Halske AG
Siemens Corp
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D48/00Individual devices not covered by groups H10D1/00 - H10D44/00
    • H10D48/01Manufacture or treatment
    • H10D48/04Manufacture or treatment of devices having bodies comprising selenium or tellurium in uncombined form
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F71/00Manufacture or treatment of devices covered by this subclass

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  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung von rasterartigen Elektroden auf einer isolierenden Unterlage für lichtempfindliche Zellen Bei der Herstellung von Selenzellen ist die Ausbildung der Elektroden von ausschlaggebender Bedeutung für die Güte der Zellen. Man kann entweder auf einen elektrisch nicht leitenden Träger, wie Glas, die Elektroden in Form von doppelgängigen Drahtwindungen aufwickeln und die Zwischenräume zwischen den einzelnen Windungen dann mit Selen ausfüllen oder auch eine zusammenhängende Metallfläche auf dem Glas erzeugen und nachträglich die mit dem Selen auszufüllenden Stellen wieder entfernen. Es zeigt sich, daß man bei dem zweiten Verfahren bessere Seienzellen erhält. Es sind auch verschiedene Ausbildungen dieses Verfahrens bekanntgeworden.
  • Man hat zunächst versucht, aus der auf dem Glas durch Kathodenzerstäubung oder Aufdämpfung erzeugten Metalihaut die mit dem Selenbelag zu versehenden Stellen in Form von mäanderförmigen Linien herauszuritzen. Dies gelang jedoch nur unvollständig, da die Metallschicht auf dem Glas festhaftet, so daß die Ränder der Elektroden meist gezackt und die Glasoberfläche verletzt wurde. Außerdem weisen die fertigen Zellen häufig Kurzschlüsse auf. Man ist daher vielfach dazu übergegangen, Rillen in den Glaskörper unter Verwendung von Teilmaschinen einzuschneiden oder, chemisch einzuätzen. Dabei hat man im letzteren Falle zunächst auf dem Glas eine Schutzschicht aus weichem Material, z. B. Wachs, aufgebracht und in diese das auszuätzende Muster eingraviert.. Man hat somit eine Schablone aus einem leicht zu behandelnden Material gebildet und dieser Schablone entsprechend das Glas geätzt. Je nach den weiteren Arbeitsgängen hat man entweder die den Elektroden oder die dem Selenbelag entsprechenden Stellen in das Glas graviert. Beispielsweise hat man nach Entfernen der Schablone die Rillen mit Graphit ausgefüllt und die Elektroden galvanoplastisch niedergeschlagen. Durch Anwendung hoher Temperaturen wurde dann das Graphit wieder verbrannt. Oder man hat die Rillen mit Gips ausgefüllt und nun eine Metallschicht gleichmäßig aufgebracht, -,vorauf die Gipsunterlage wieder herausgelöst und das darüber befindliche Metall entfernt wurde.
  • Während nun bei der ersten Art der Aufbringung der Elektroden durch Galvanisierung die nachfolgende Wärrnebehandlung unter Umständen für den Glaskörper nachteilig sein kann, ist es bei dem zweiten Verfahren nachteilig, daß -das Selen in den Rillen.,, liegt und bei geringer Ungleichmäßigkeit d# Rillen Verschiedenheiten im Widerstand d Zelle auftreten und daß es ferner bei der e@k-"i forderlichen Feinheit der Unterteilung schwieriger ist, einen ununterbrochenen, vielfach gewundenen Linienzug in der Schutzschicht herzustellen, als z. B. parallele Striche in geringen Abständen zu ziehen.
  • Während man also bei den bisherigen Methoden zur Herstellung von Elektrodenrastern für lichtempfindliche Zellen entweder grob in sich feste Schablonen verwandte, die nur ein ganz grobes Raster herzustellen gestatteten, oder bei der Verwendung von dünnen Schablonen, z. B. aus Wachs, die Unterlage ätzte, um ein genügend starkes Haftvermögen des Elektrodenmaterials zu erhalten, geht die Erfindung von der Erkenntnis aus, daß: bei geeignetem Material das Haftvermögen des Schablonenmateria1s auf der Unterlage erheblich kleiner ist als das des Elektrodenmaterials, und nutzt diesen Unterschied aus, um ohne Verlust an Rasterfeinheit das Verfahren zur Herstellung des Elektrodenrasters erheblich zu vereinfachen und somit zu vebilligen. Auf einen elektrisch nicht leitenden- Körper wird gemäß der Erfindung eine Schicht aufgetragen und in dieser, z..B. durch Gravieren ohne Verletzung der Oberfläche der Unterlage, eine Schablone gebildet. Auf dem mit dieser Schablone versehenen Träger wird nun . ohne weiteres das Elektrodenmaterial aufgebracht, worauf die Schablone wieder entfernt wird.
  • Die Erfindung beruht somit auf der Erkenntnis,. daß es ganz unnötig ist,. erst Rillen in das Glas einzuätzen oder zu schneiden und dann eine unter Umständen hierzu benutzte Schablone wieder zu. entfernen, bevor die Elektroden aufgetragen sind. Vielmehr wird unmittelbar unter Benutzung der ursprünglichen, Schablone die Metallelektrode aufgebracht. Dadurch werden einige bei den bekannten Verfahren. grundlegende und sehr schwierige Arbeitsgänge ausgeschaltet. Außerdem können auch die nachfolgenden Arbeitsgänge bedeutend einfacher gestaltet werden. Auch gegenüber de _m Verfahren, bei dem das Elektroderimaterial in Form einer Lösung mittels eines Stempels oder einer Schablone aufgetragen und das Lösungsmittel wieder verdampft wird, zeigt das Verfahren gemäß der Erfindung erhebliche Vorteile, da jenes Verfahren öfter. wiederholt werden muß, damit ein genügend dickes Elektrodenraster entsteht, und auch die Unterteilung und die Genauigkeit der Wiederholungen nicht weit gesteigert werden kann, da die Schablone oder der Stempel jedesmal entfernt und wieder genau an der ursprünglichen Stelle angebracht werden muß. Das Arbeiten mit einer Scha->blone ist daher in diesem Fall besonders ,s wierig.
  • `hin besonders einfaches Verfahren ergibt "sich nun, wenn man bei der Herstellung der Schablone ein den nachher aufzutragenden Elektroden entsprechendes Strichsystem von der Form ineinandergreifender Kämme aus der aufgetragenen Schutzschicht ohne Verletzung der Oberfläche der Unterlage freilegt, hierauf das Metall durch Kathodenzerstäubung aufträgt und dann die stehengebliebene Schutzschicht samt dem darauf befindlichen Metall entfernt. Man ist jedoch bei der Art der Auftragung des Metalls nicht an die Kathodenzerstäubung gebunden. Bei diesem Verfahren ist es vollkommen unnötig, in den Träger einzuritzen, obwohl es, mehr zufällig, vorkommen kann, daß beim Herstellen der Schablone auch der Träger angeritzt wird.
  • Im folgenden wird das Verfahren gemäß der Erfindung in einer besonders vorteilhaften Ausführungsform im Prinzip beschrieben.
  • Auf einem Träger i nach Fig. i, der aus Glas, Quarz oder einem sonstiger. elektrisch nicht leitenden Material sein kann, wird eine leicht entfernbare Masse gleichmäßig aufgetragen. Es kommen Salzniederschläge, Sublimate von Elementen oder Verbindungen, ferner Firnisse, Lacke und ähnliches in Frage. Besonders vorteilhaft ist es, eine glatte Trägeroberfläche mit einer Rußschicht zu überziehen; die man mittels rußender Flammen von Arnylazetat oder Petroläther erhalten kann. Aus der Rußschicht 2 werden dann parallele Linien 3, q, durch Ausschaben freigelegt. Hierzu kann eine Vorrichtung, die im Prinzip in Fig, 2 dargestellt ist, benutzt werden. Eine Anzahl Nadeln 5, 6 verschiedener Länge sind einander abwechselnd an dem einen Ende zusammengelötet oder in einem elastischen Träger 7 befestigt. Der so gebildete Kamm wird unter einem gewissen Anstellwinkel und Druck auf der berußten Glasfläche angesetzt, in Richtung der Linien 3, q. gezogen und bei entsprechender Länge der Striche wieder abgehoben. Durch die Elastizität des Kammes wird hierbei ein Ecken und Springen des Kammes vermieden.
  • Darauf werden noch die Querlinien 8, 9 tierausgeschabt. Es entsteht somit die in Fig. i dargestellte Zeichnung von kammartig ineinandergreifenden Linienzügen auf der berußten Glasoberfläche. Der mit dieser Schablone versehene Träger wird nun in einen evakuierbaren Raum gebracht, wo durch Kathodenzerstäubung. eine dünne Metallschicht, z. B. eine Platinschicht, niedergeschlagen wird. Darauf wird die Fläche mit Watte, gegebenenfalls unter Zuhilfenahme von Äther, abgewischt, und man erhält so einen mit den Elektroden io, ii versehenen Zellenträger gemäß der Fig. 3.
  • Das Verfahren der Erfindung übertrifft alle bekannten Verfahren an Einfachheit und beansprucht auch viel weniger Zeit. Insbesondere hat es in der beschriebenen Ausführungsform noch den besonderen Vorteil, daß der Zellenträger keinerlei mechanischer, chemischer oder thermischer Behandlung ausgesetzt zu werden braucht, wie das bei den sämtlichen bekannten Verfahren der Fall ist, und an seiner Oberfläche nicht verletzt wird. Es besteht somit in der Wahl dieses Zellenträgers ein gewisser Spielraum. Beispielsweise kann ein nur für bestimmte, z. B. infrarote Strahlen durchlässiges Material verwendet werden, das unter Umständen durch Wärmebehandlung usw. seine guten Eigenschaften verlieren könnte.
  • Das Verfahren gemäß der Erfindung ist besonders auch zur Herstellung von Metallrastern für Thalliumzellen geeignet.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung von rasterartigen Elektroden auf einer isolierenden Unterlage für lichtempfindliche Zellen unter Verwendung von Schablonen, dadurch gekennzeichnet, daß vor dem Aufbringen des Elektrodenmaterials die Schablone auf der Unterlage aus einem auf dieser haftenden Material ohne Verletzung der Oberfläche der Unterlage hergestellt und nach dem Aufbringen des Elektrodenmaterials, das ein größeres Haftvermögen als das des Schablonenmaterials besitzt, wieder entfernt wird. z. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die gesamte Fläche des mit der Schablonenschicht versehenen Isolierträgers durch Aufstäuben oder Aufdampfen metallisiert wird und danach die auf der Schablonenschicht abgeschiedenen Teile der Metallfläche gemeinsam mit der Schablonenschicht entfernt werden. 3. Verfahren nach Anspruch i oder a, dadurch gekennzeichnet, daß als Material für die Schablonenschicht Ruß angewendet wird. q.. Kamm zur Herstellung des Rasters in der Schablonenschicht nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß eine Anzahl abwechselnd verschieden langer nadelförmiger Zähne in einem als Handgriff dienenden Querbalken befestigt sind. 5. Kamm zur Herstellung des Rasters in der Schablonenschicht nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß eine Anzahl abwechselnd verschieden langer nadelförmiger Zähne in einem als Handgriff dienenden Querbalken elastisch befestigt sind.
DES102005D 1931-11-21 1931-11-21 Verfahren zur Herstellung von rasterartigen Elektroden auf einer isolierenden Unterlage fuer lichtempfindliche Zellen Expired DE631002C (de)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1057250B (de) * 1955-04-13 1959-05-14 Eltro Ag Fuer Strahlungstechni Photokondensator mit kammartig eingreifenden Metallelektroden
DE3139069A1 (de) * 1981-10-01 1983-04-14 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zum herstellen von strukturierten schichten auf der oberflaeche eines halbleiterkoerpers

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1057250B (de) * 1955-04-13 1959-05-14 Eltro Ag Fuer Strahlungstechni Photokondensator mit kammartig eingreifenden Metallelektroden
DE3139069A1 (de) * 1981-10-01 1983-04-14 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zum herstellen von strukturierten schichten auf der oberflaeche eines halbleiterkoerpers

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