Der Patentanspruch des Hauptpatentes betrifft ein Verfahren zur photomechanischen Dessinierung von Druckschablonen für Film- und Siebdruck, insbesondere Rotationsfilmdruck, bei welchem eine lichtempfindliche Schicht entsprechend dem Druckbild belichtet und die unbelichteten Partien entfernt wenlen, wobei die lichtempfindliche Schicht als glatte Fläche mit konstanter und regulierbarer Schichtstärke auf das Sieb direkt aufgebracht wird. Die vorliegende Erfindung betrifft eine Weiterentwicklung des Verfahrens nach dem Hauptpatent.
Eine Siebdruckform besteht bekanntlich im wesentlichen aus dem Sieb und der Schablone. In den meisten Anwendungs fiillen treten zu diesen Bestandteilen ein oder mehrere Versteifungselemente (Rahmen, Endringe oder ähnliches), mit Hilfe derer die Siebdruckform während des Druckvorganges positioniert bzw. deren Bewegung determiniert wird. Die Art und Weise des Siebdruckvorganges selbst darf als bekannt vorausgesetzt ¯erden, so dass darauf nicht weiter eingegangen wird.
Abgesehen von der jeweiligen Druckanordnung, Druckgeschwindigkeit und Farbzusammensetzung wird das Druckergebnis wesentlich bestimmt durch die Art des Sieb- sowie die des Schablonenmaterials und schliesslich durch die Kom binationsweise beider.
Nach dem derzeitigen Stande der Technik werden als Siebmaterialien Gewebe aus Metall. Kunststoff oder natürlichen Fasern verwendet. Darüber hinaus werden insbesondere im Rotationssiebdruck galvanisch hergestellte Siebmaterialien eingesetzt.
Bei den Schablonenmaterialien unterscheidet man gemäss ihrer technischen Anwendungsweise a) direkt arbeitende Schablonenmaterialien indirekt arbeitende Schablonenmaterialien c) kombiniert arbeitende Schablonenmaterialien.
Die genannten Materialien erzeugen die gewünschte Mustergebung photomechanisch.
Darüber hinaus werden weitere, in der Praxis jedoch weniger wichtige Schablonenmaterialien eingesetzt, die in einigen Fällen mit einem photographischen Prozesss, in anderen Fällen ohne diesen die Mustergebung, d. h. offene sowie vom Schablonenmaterial geschlossene Siebflächen, erzeugen.
Vergleicht man diese drei wichtigsten Schablonenmaterialien unter dem Gesichtspunkt der Abbildungsgenauigkeit der zu druckenden Figur entsprechend der Mustergebung, so stellt man anhand der Figuren 1 bis 3 folgende Unterschiede fest: a) Direkt arbeitendes Schablonenmaterial (Fig. 1) Kein direkt arbeitendes Schablonenmaterial 2, das auf die bekannten Weisen verarbeitet wird, ermöglicht die Ausbildung einer zweckmässigen Druckschulter 4. Diese ist stets mehr oder weniger stark abgerundet. Aus dieser Gegebenheit ergibt sich beim Druck mit einer solchen Siebdruckform eine Formverlinderung der gedruckten Partie 15 gegenüber der, welche die Druckform 16 zeigt. Dies deswegen, weil die Druckfarbe 7 die Figurenränder 4 der Druckform mangels innigem Kontakt zwischen Druckform und Substrat 6 überfluten kann.
Dagegen haftet das Schablonenmaterial 1 stark an den Siebstegen 2.
h) Indirekt arbeitendes Schablonenmaterial (Fig. 2)
Bei den indirekt arbeitenden Schablonenmaterialien 3 wird das Material in der Weise mit dem Siebmaterial 1 in Verbindung gebracht, dass das erstere flächig auf dem zweiten aufliegt.
Die Folge dieser Technik der Siebdruckformenherstellung ist die Ausbildung einer zweckmässigen Druckschulter 5, die in ausgezeichneter Weise eine Abdichtung zwischen zu bedrukkender und nicht zu bedruckender Partie des Substrates 6 gegenüber der Druckfarbe 7 ermöglicht. Deshalb entspricht die gedruckte Partie 15 derjenigen der Druckform 16.
c) Kombiniert arbeitendes Schablonenmaterial (Fig. 3)
Die Anwendung eines Schablonenmateriales 5'nach dem kombinierten Verfahren zeitigt im Grunde die gleichen
Ergebnisse wie sie unter b) dargestellt wurden. Es unterscheidet sich von einem indirekt verarbeiteten Schablonen material in der stärkeren, wenn auch nicht vollständigen
Umhüllung des Siebmaterlals 2.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zu schaffen, das unter Anwendung des Verfahrens nach dem
Hauptpatent die Wiedergabe feinster Bilddetails unabhängig vom Siebmaterial ermöglicht.
Diese Aufgabe wird gemäss der Erfindung dadurch gelöst, dass auf die auf dem Sieb aufgebrachte lichtempfindliche erste
Schicht nach deren Belichtung und weiteren Verarbeitung mindestens eine weitere lichtempfindliche Schicht als glatte
Fläche mit konstanter und regulierbarer Schichtstärke direkt aufgebracht wird.
Dadurch, dass die bildgebende Schicht nicht auf der Siebschablone, sondern auf einer oder mehreren auf der Siebschablone liegenden, vor Aufbringen der bildgebenden Schicht verarbeiteten Schablonenmaterialschichten liegt, kann eine Regulierung der druckbaren Farbmenge durch die freie Gestaltung des sogenannten Farbvolumens der Siebdruckform ermöglicht werden und weiter kann durch die Kombination entsprechend gerasteter Schablonenmaterialschichten eine Unabhängigkeit der Bilddetailgrösse - in den Grenzen des photographischen Auflösungsvermögens des verwendeten Schablonenmaterials - vom Siebmaterial erreicht werden, wodurch zudem ein moiréfreier Siebdruck autotypisch zerlegten Farbtonskalen ermöglicht wird.
Die Erfindung ist in zwei Ausführungsbeispielen dargestellt und nachfolgend beschrieben. Es zeigt:
Fig. 1 bis 3 Die Anwendung bekannter Schablonenmaterialien,
Fig. 4 eine perspektivische Darstellung einer Siebschablone mit einer, einen feinen Raster enthaltenden Schablonenmaterialschicht,
Fig. 5 einen Schnitt durch eine Siebschablone mit feinem Raster und
Fig. 6 eine Draufsicht auf eine schematisch dargestellte Siebschablone mit teilweise weggebrochener mustergebenden Schicht und zwischen Siebschablone und mustergebenden Schicht angeordneten weiteren Schablonenmaterialschichten in Form zweier Linienraster ungleicher Feinheit.
Das nachfolgend beschriebene Verfahren stützt sich in seiner Durchführung auf das Verfahren des Hauptpatentes und soll in einem ersten Anwendungsbeispiel an der Herstellung einer Siebdruckform, beispielsweise für den Rotationsfilmdruck, dargestellt werden.
Gemäss Fig. 4 wird von einem beliebig feinen oder groben Siebmaterial 1 ausgegangen, das gemäss dem Verfahren des Hauptpatentes mit einem Füllmaterial derart gefüllt wird, dass einerseits die Sieb- oder Rasterstege unbedeckt sind und anderseits das Füllmaterial und die Rasterstegoberfläche eine glatte Fläche bilden. Sodann wird in einem zweiten Arbeitsgang unter Verwendung eines geeigneten Schablonenmaterials, z.B.
einer der bekannten härtbaren Photoemulsionen, ein Linienraster aufkopiert, entwickelt und gehärtet. Die eigentliche Mustergebung der Siebdruckform erfolgt in einem dritten Arbeitsgang analog zum zweiten, indem die nunmehr reliefartige Schablonenmaterialoberfläche in gleicher Weise wie bei der Aufbringung der ersten Schicht mit einem geeigneten Lack aufgefüllt wird. Sodann wird dieser Lack soweit abgetragen, beispielsweise abgeschliffen, dass die Linienrasterstege 9 an ihrer Oberfläche von jeglichem Füllack frei, jedoch die Zwischenräume 10 zwischen den Rasterstegen 9 aufgefüllt sind und zusammen eine glatte Fläche bilden.
Auf die solchermassen vorbereitete Druckform wird nunmehr das Druckbild, beispielsweise mittels einer härtbaren Photoemuslion aufkopiert und nach Ausführung der nötigen Zwischen arbeitsgänge (Entwickeln, Trocknen etc.) ausgehärtet. In Fig. 4 bezeichnet 12 die mustergebende, letzte Schablo nenmaterialschicht und 11 eine offene, also druckende Partie der Siebdruckform.
In einem letzten Arbeitsgang wird der Füllack mit einem geeigneten Lösungsmittel ausgewaschen.
Die Dimensionierung der Linienrasterstege 8 sowie deren Abstand voneinander richten sich nach dem photographischen Auflösungsvermögen des jeweils verwendeten Schablonenmaterials. In diesen, von dem Schablonenmaterial vorgegebenen Grenzen bedeuten schmale und hohe Rasterstege eine grosse druckbare Farbmenge, flache und breite Rasterstege dagegen eine geringere Farbmenge. Zur Variation der Verhältnisse bzw. zur Anpassung der Siebdruckform an das zu bedruckende Substrat wird die Regulierbarkeit der Schichtstärke des Schablonenmaterials sowie eine geeignete Ausführung der photographischen Vorlage herangezogen.
Neben seiner Funktion zum Anpassen des Farbvolumens für die zu druckende Farbmenge kommt dem Linienraster eine zweite Funktion zu. Sollte es beispielsweise erwünscht sein, Details auf bzw. mit der Druckform abzubilden, welche kleiner sind als die lichte Weite der Siebmaterialöffnungen, so würden diese, wenn sie nach den herkömmlichen Verfahren auf dem Siebmaterial erzeugt und hierbei auf eine Sieböffnung fallen würden, von vornherein keine Verbindung mit dem Siebmaterial eingehen, somit also auf diesem erst gar nicht befestigt werden können (s. Fig. 5). Die Details 2' sind auf dem Siebmaterial nicht befestigt und fallen deshalb heraus. Bei unregelmässig angeordneten Details würde dies zu nicht originalgetreuer Wiedergabe beim Druck, bei regelmässigen Kreuzrastern unweigerlich zum Moire-Effekt führen.
Diese unerwünschten Erscheinungen werden mit Hilfe des beschriebenen Verfahrens vermieden. Es ist lediglich notwendig, den Linienraster der ersten Schablonenmaterialschicht so fein, d. h. mit so hoher Linienzahl pro Masseinheit anzulegen, dass auch die kleinsten Musterdetails in der folgenden Schablonenmaterialschicht die notwendige Abstützung erhalten.
Ein weiteres Anwendungsbeispiel (Fig. 6) soll die Darstellung des Verfahrens abrunden. Um beispielsweise ein in einem 60er Raster zerlegtes photographisches Motiv mit beispielsweise 80-mesh Siebmaterial (= 32er Raster) moirefrei kombinieren zu können, wird folgendermassen vorgegangen:
Auf das gefüllte Siebmaterial 1 wird zunächst ein erster Linienraster 8 mit beispielsweise 40 Linien pro cm aufgebracht.
Sodann wird unter Einhaltung der entsprechenden bereits geschilderten Arbeitsgänge ein zweiter Linienraster 13 mit beispielsweise 60 Linien pro cm in einer Winkelung von ca 90 gegenüber dem ersten Linienraster aufgelegt. In einer dritten Schicht 14 des Schablonenmaterials wird schliesslich die Rasterung des Bildmotivs in eben der Rasterfeinheit der letzten Schablonenmaterialschicht, hier jedoch in einem 60er Kreuzraster 17, vorgenommen, selbstverständlich auch erst, nachdem die Struktur des letzten Linienrasters eingeebnet wurde, der jedoch auch erst nach Einebnung des ersten Linienrasters 8 aufgebracht wurde. Der Kreuzraster 17 wird so auf dem letzten Linienraster 13 angeordnet, dass die farbundurchlässigen Rasterstege des Kreuzrasters 17 stets auf die unmittelbar darunterliegenden Stege des zweiten Linienrasters 13 fallen.
Die übrigen Stegpartien 18 des Kreuzrasters 17 sind freitragend.
Die Tatsache, dass Rasteröffnungen 19 in den Bereich eines Rastersteges 8' aus der ersten Schablonenmaterialschicht 8 fallen, ist unerheblich. Die beim Druckprozess zugeführte Farbe füllt das gesamte, hier aus zwei Materialschichten bestehende Linienrastersystem auf und tritt wegen der vorhandenen, durch die Rasterstege 8, 13 gebildeten Zwischenräume auch durch alle scheinbar abgedeckten Rasteröffnungen 19 der kreuzgerasterten letzten Schablonenmaterialschicht 14 aus.
Man erhält auf diese Weise eine Siebdruckform, die sich gemessen am heutigen Stand der Technik - durch eine Motivzerlegung in einen äusserst feinen Kreuzraster auszeichnet.
Typisch ist, dass eine solche Siebdruckform nur relativ grobes Siebmaterial beansprucht, auf welches Raster mit zunehmender Feinheit aufgebracht werden, und trotzdem moirefreie Drucke erzeugt.