DE4243750C2

DE4243750C2 - Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Tiefdruck, Siebdruck, Flexodruck oder Offsetdruck

Info

Publication number: DE4243750C2
Application number: DE19924243750
Authority: DE
Inventors: Hans-Georg Schepers
Original assignee: SCHEPERS HANS GEORG
Current assignee: Schepers GmbH and Co KG
Priority date: 1992-12-23
Filing date: 1992-12-23
Publication date: 1998-07-02
Anticipated expiration: 2012-12-24
Also published as: DE4243750A1; DE4243750C5; DE4243750C8

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Her stellung einer Druckform für den Tiefdruck, Siebdruck, Flexodruck oder Offsetdruck, mit folgenden Verfahrens schritten:

a) die Oberfläche des Schichtträgers wird mit einer photopolymerisierbaren Schicht überzogen,

b) auf die photopolymerisierbare Schicht wird eine zu nächst lichtdurchlässige thermosensitive Masken schicht aufgebracht, in der mittels eines nach Maß gabe elektronisch gespeicherter Daten gesteuerten thermisch wirksamen Laserstrahls, der die Masken schicht in den bestrahlten Bereichen lichtundurch lässig macht, eine Photonaske mit einem Positiv- oder Negativ-Bild des gewünschten Druckbildes der Druck form erzeugt wird,

c) durch die Photomaske hindurch wird die photopolymeri sierbare Schicht unter deren Polymerisation in den belichteten Bereichen belichtet,

d) die bildmäßig belichtete Schicht wird entwickelt oder einem Ablöseprozeß in den belichteten oder den unbe lichteten Bereichen unterzogen.

Aus der DE 33 42 579 A1 sind Bildaufzeichnungsmateria lien und damit durchführbare Bildaufzeichnungsverfahren bekannt, u. a. ein mehrschichtiges Bildaufzeichnungsma terial, welches eine reliefbildende Schicht (entspre chend der photopolymerisierbaren Schicht) und eine mas kenbildende Schicht (entsprechend der Maskenschicht) um faßt. Zwischen dieser reliefbildenden Schicht und der maskenbildenden Schicht ist eine dimensionsstabile, für aktinisches Licht durchlässige und gegenüber Wärmestrah lung stabile Zwischenschicht angeordnet. Vorzugsweise besteht die Zwischenschicht aus einem transparenten, filmbildenden Polymeren. Die Zwischenschicht dient ins besondere der Verhinderung der Diffusion von Bestand teilen der Maskenschicht in die reliefbildende Schicht und umgekehrt.

Als nachteilig wird bei diesen bekannten Stand der Tech nik angesehen, daß durch die zwischen der reliefbilden den Schicht und der maskenbildenden Schicht vorzusehende Zwischenschicht der Herstellungsaufwand und damit die Kosten für die Durchführung des Verfahrens merklich erhöht werden.

Der vorliegenden Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung einer Druckform anzugeben, bei dem der zuvor beschriebene Nachteil ver mieden wird und bei dem insbesondere ein geringerer Auf wand für die Ausführung erforderlich ist.

Die Lösung dieser Aufgabe gelingt erfindungsgemäß durch ein Verfahren der eingangs genannten Art, welches da durch gekennzeichnet ist, daß die Maskenschicht unmittel bar auf die photopolymerisierbare Schicht aufgebracht wird.

Erfindungswesentlich wird die Maskenschicht als Beschich tung außenseitig unmittelbar auf die photopolymerisier bare Schicht aufgebracht. Eine Zwischenschicht, wie sie beim oben erläuterten Stand der Technik noch benötigt wurde, ist nun nicht mehr erforderlich. Dies vermindert den Herstellungsaufwand bei der Fertigung der Druckform, was Zeit und Kosten einspart.

Vorteilhaft läßt sich das Verfahren gemäß Erfindung nicht nur zur Herstellung einer Druckform einsetzen, sondern kann auch zur Herstellung einer Prägeform für das Prägen von Bedruckstoffen verwendet werden. Dies erweitert die Einsatzmöglichkeiten des erfindungsgemäßen Verfahrens auf zusätzliche Anwendungsgebiete, was ein weiterer Beitrag zu einer hohen Wirtschaftlichkeit des erfindungsgemäßen Verfahrens ist.

Für die Verwendung in dem erfindungsgemäßen Verfahren geeignetes thermosensitives Beschichtungsmaterial ist an sich bekannt, z. B. als Beschichtung auf Papieren für Thermodrucker, wie sie in Telefax-Geräten verwendet wer den. Laser für die Erzeugung eines thermisch wirksamen Laserstrahls sind ebenfalls bekannt.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren lassen sich vielfäl tige Druckformen herstellen, z. B. Druckzylinder für das Tiefdruckverfahren, Druckplatten- oder zylinder für das Flexodruckverfahren, Flachsiebe, rotative Siebdruckfor men, Lackschablonen oder Galvanoschablonen für den Sieb druck oder Druckplatten für den Offsetdruck. Außerdem kann das Verfahren, wie erwähnt, für die Herstellung von Prägeformen für das Prägen von Bedruckstoffen eingesetzt werden, wobei dann die mit dem Verfahren hergestellte Struktur der Oberfläche der Druckform nicht zur Aufnahme und Übertragung von Farbe sondern zur mechanischen Prägung des Bedruckstoffes dient.

Im folgenden wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand einer Zeichnung erläutert. Die Zeichnung zeigt in

Fig. 1 bis 4 ein Verfahren anhand von vier Verfahrens stufen.

Fig. 1 der Zeichnung zeigt einen Ausschnitt eines Tief druckzylinders 1 in rein schematischer, nicht maßstäbli cher Schnittdarstellung. Der Zylinder ist rotationssymme trisch zu einer in strichpunktierter Linie dargestellten Mittelachse und besitzt an seinen beiden Stirnseiten je einen Achsstummel 11 zur Lagerung. Auf der Oberfläche 10 seines äußeren Umfanges trägt der Zylinder 1 eine photo polymerisierbare Schicht 2, auf welche außenseitig eine thermosensitive Maskenschicht 3 aufgebracht ist. Das Material der photopolymerisierten Schicht 2 ist bekannt und wird in üblicher Weise auf den Zylinder 1 aufgetra gen. Die Maskenschicht 3 wird ebenfalls mittels bekann ter Beschichtungsverfahren aufgebracht; wesentlich ist dabei, daß sie sich hinsichtlich der Art der Sensitivi tät von der photopolymerisierbaren Schicht 2 unterschei det.

Im weiteren Verfahrensablauf wird der beschichtete Druck zylinder 1 gemäß Fig. 2 einer ersten Belichtung unterzo gen. Die Belichtung wirkt dabei lediglich auf die äußere Maskenschicht 3, wobei die Belichtung durch einen Laser 32, z. B. ein CO₂-Laser, der einen thermisch wirksamen Laserstrahl 33 aussendet, erfolgt. Der Laser 32 wird nach Maßgabe von in einer elektronischen Bildverarbei tungsanlage gespeicherten Text- und Bilddaten zeilen- und spaltenweise relativ zum Druckzylinder 1 bewegt und der Laserstrahl 33 dabei den Daten entsprechend ein- und ausgeschaltet, bis die gesamte Mantelfläche des Zylin ders 1 überstrichen worden und abgearbeitet ist.

Die äußere Maskenschicht 3 ist in ihrem Grundzustand lichtdurchlässig, wird aber in den von dem Laserstrahl 33 getroffenen Bereichen durch die Wärmeeinwirkung un mittelbar geschwärzt und dadurch lichtundurchlässig. Durch diesen Verfahrensschritt entsteht im Ergebnis eine Fotomaske aus der Maskenschicht 3. Diese Fotomaske be sitzt entsprechend den gespeicherten Text- und Bilddaten verteilte lichtdurchlässige Bereiche 30 und lichtundurch lässige Bereiche 31.

In einem folgenden Verfahrensschritt, der in Fig. 3 dar gestellt ist, wird nun mittels einer weiteren Strahlquel le 22, die einen Strahl 23 größerer Lichtstärke aussen det, durch die Fotomaske hindurch die photopolymerisier bare Schicht 2 belichtet. Hierbei wird also eine Kopie durch die Fotomaske auf die Schicht 2 belichtet. In den lichtdurchlässigen Bereichen 30 der Fotomaske dringt der Strahl 23 in die Schicht 2 ein und bewirkt dort eine Photopolymerisation, d. h. eine chemische Veränderung der Schicht 2. In den lichtundurchlässigen Bereichen 31 der Beschichtung 3 wird die Schicht 2 von dem Strahl 23 nicht erreicht und bleibt dadurch chemisch unverändert. Hierdurch ergeben sich in der Schicht 2 Bereiche 20, die chemisch unverändert sind, und Bereiche 21, in denen eine Photopolymerisation erfolgt ist.

In einem anschließenden Verfahrensschritt werden dann mittels bekannter Entwicklungs- oder Ablöseprozesse die durch die verbliebenen Teile der Maskenschicht 3 gebilde te Fotomaske vollständig und in den unbelichteten, d. h. chemisch nicht veränderten Bereichen 20 die photopolyme risierbare Schicht 2 entfernt, während die belichteten Bereiche 21 der Schicht 2 aufgrund ihrer durch die Be lichtung geänderten chemischen Eigenschaften in diesem Entwicklungs- oder Ablöseprozeß nicht entfernt werden, sondern auf der Oberfläche 10 des Zylinders 1 verblei ben. Den nun erreichten Zustand der Zylinderoberfläche zeigt Fig. 4, wobei jetzt die verbliebenen Bereiche 21 der Schicht 2 eine Ätzmaske bilden. Anschließend kann dann der Zylinder 1 in üblicher Art und Weise durch Ätz techniken oder Galvanoformung weiterbearbeitet werden.

Claims

1. Verfahren zur Herstellung einer Druckform (1) für den Tiefdruck, Siebdruck, Flexodruck oder Offset druck, mit folgenden Verfahrensschritten:

a) die Oberfläche (10) des Schichtträgers (11) wird mit einer photopolymerisierbaren Schicht (2) überzogen,
b) auf die photopolymerisierbare Schicht wird eine zunächst lichtdurchlässige thermosensitive Masken schicht (3) aufgebracht, in der mittels eines nach Maßgabe elektronisch gespeicherter Daten ge steuerten thermisch wirksamen Laserstrahls (33), der die Maskenschicht in den bestrahlten Berei chen lichtundurchlässig macht, eine Photomaske mit einem Positiv- oder Negativ-Bild des gewünsch ten Druckbildes der Druckform (1) erzeugt wird,
c) durch die Photomaske hindurch wird die photopoly merisierbare Schicht (2) unter deren Polymerisa tion in den belichteten Bereichen belichtet,
d) die bildmäßig belichtete Schicht (2) wird ent wickelt oder einem Ablöseprozeß in den belichte ten oder den unbelichteten Bereichen unterzogen,

dadurch gekennzeichnet, daß die Maskenschicht (3) unmittelbar auf die photo polymerisierbare Schicht (2) aufgebracht wird.

2. Verwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 zur Her stellung einer Prägeform für das Prägen von Bedruck stoffen.