DE2214728B2

DE2214728B2 - Verfahren zur direkten photomechanischen herstellung von siebdruckformen

Info

Publication number: DE2214728B2
Application number: DE19722214728
Authority: DE
Inventors: Martin Gerlafingen Klemm (Schweiz)
Original assignee: Fritz Buser Ag, Maschinenfabrik, Wiler (Schweiz)
Priority date: 1971-04-13
Filing date: 1972-03-25
Publication date: 1978-02-09
Also published as: DE2214728C3; CA971806A; DD99024A5; NL7204992A; ES402438A1; GB1389327A; FR2136185A5; SE394839B; IT951195B; AR198380A1; DE2214728A1; NL162216B; US3836367A; NL162216C; AT321959B

Description

druckformen (DZ-OS 2151649) werden die Sieböffnungen mit einem Füllmaterial verschlossen und die Siebschablone und das Füllmaterial mindestens an der Oberfläche elektrisch leitend gemacht. Auf die so gebildete Schicht wird eine mustergebende Schicht aufgebracht und die Siebdruckform einer Galvanisierung unterworfen, worauf die mustergebende Schicht und das Füllmaterial der Sieböffnungen entfernt werden. Bei diesem Verfahren wird demnach die Schablonenmaterial-Schicht durch einen Galvanisierungsprozeß aufgebaut. Wenn jedoch die mustergebende Schicht nicht in derselben oder größeren Stärke als die abgeschiedene Metallschicht behalten werden kann, kann es zu einer Reduzierung der angelegten Konturenbreite kommen. Schließlich können auch beim Entfernen des Füilmaterials Schwierigkeiten auftreten, da mehr als Füllmaterial entfernt werden muß. Durch den galvanischen Aufbau der Schablonenmaterialschicht ist die Wiederverwendbarkeit de, Siebmaterials nicht oder nur unter erheblichem Aufwand möglich.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs beschriebenen Art so zu gestalten, daß bei hohem Auflösevermögen der Sägezahneffekt an den Druckrändern nicht auftritt.

Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß

a) die Sieböffnungen der Siebdruckschablone mit einem unsensibilisierbaren Füllmaterial geschlossen werden, unter Bildung einer glatten, absatzfreien Siebseite mit unbedeckten Siebstegen,

b) eine lichtempfindliche Schicht mit konstanter Schichtstärke auf diese Siebseite unter Bildung einer glatten Fläche aufgetragen,

c) die lichtempfindliche Schicht in an sich bekannter Weise bildmäßig belichtet, entwickelt und getrocknet und

d) das Füllmaterial aus den Sieböffnungen herausgewaschen wird.

Die Erfindung wird beispielsweise in der Zeichnung dargestellt und nachfolgend beschrieben. Es zeigen

Fig. 1-5 und Fig. 7 das Lackverfahren gemäß der Erfindung in verschiedenen Stufen,

Fig. 6 das Ergebnis des Lackverfahrens nach dem bekannten und nach dem erfindungsgemäßen Verfahren,

Fig. 8 die Anwendung des erfindungsgemäßen Lackverfahrens zur Mustergebung einer sehr feinen Linie,

Fig. 9 einen Schnitt nach der Linie IX-IX in Fig. 8,

Fig. 10 eine perspektivische Darstellung einer Siebdruckform mit einer, einen feinen Linienraster enthaltenden, Schablonenmaterialschicht und einer weiteren mustergebenden Schablonenmaterialschicht,

Fig. 11 einen Schnitt durch eine Siebdruckform mit feinem Raster (schematisch),

Fig. 12 eine Draufsicht auf eine schematisch dargestellte Siebdruckform mit teilweise weggebrochener mustergebenden Schicht und zwischen Siebschablone und mustergebender Schicht angeordneten weiteren Schablonenmaterialschichten in Form zweier Linienraster ungleicher Feinheit und

Fig. 13 eine perspektivische Darstellung einer Siebdruckform, die mit zwei lichtempfindlichen Schichten beschichtet ist, von denen die zweite Schicht die mustergebende Schicht ist.

Die Entstehung der bereits erwähnten Sägezahnbildung ist dem Zusammenwirken von zwei Gründen zuzuschreiben:

Völlig unabhängig vom jeweils verwendeten Fo- > toemulsionstyp ist nach der Trockung bzw. Polymerisation der Emulsionsschicht eine ausgeprägte Welligkeit der Schichtoberfläche festzustellen. Diese Welligkeit hat ihre Voraussetzung in der überall angewandten Applikationstechnik der Fotoemulsion

i" mittels Gummirakeln. Durch diese Technik wird stets in der Rasteröffnung mehr Emulsion aufgetragen als auf dem Rastersteg. Die eigentliche Wellenstruktur in der Schichtoberfläche entsteht jedoch erst durch dert, der Applikation nachfolgenden physikalischen Trocknungsvorgang, der zwangsläufig an den Stellen mit dem größeren Emulsionsvolumen deren größte Schrumpfung verursacht. Wird nun diese derartig aus Zonen hoher und niedriger Stärke bestehende Emulsionsschicht über ein Diapositiv belichtet, spielen sich folgende Vorgänge ab:

Das Licht durchdringt unter allen möglichen Winkeln die Emulsionsschicht und wird zudem in ihr in die verschiedensten Richtungen gestreut. Aus diesem Grund ist es grundsätzlich nicht möglich, den Figurenrand dreidimensional kongruent in der Emulsionsschicht abzuoilden. Für die Praxis wirksam wird dieser eher theoretische Tatbestand jedoch erst dadurch, daß gerade in der Rasteröffnung, in der ja aus drucktechnischen Gründen die größte Abbildungsgenauigkeit

3<) verlangt wird, das größere Schichtvolumen und damit die größere Abbildungsungenauigkeit vorliegt. Wird also eine Rasteröffnung vom lichtundurchlässigen Teil des Diapositivs abgedeckt (Maschenüberquerung), so kommt es praktisch immer zu einem totalen Verschluß

J5 eben dieser Öffnung, so daß der Figurenrand nicht der Ideallinie des Diapositivs sondern den einzelnen Rasteröffnungen der Rotationsschablone und damit der Rasterformation im Figurenrandbereich folgt.

Selbst wenn es möglich wäre, parallelisiertes Licht zur Belichtung zu verwenden, würde man zwar die erwünschte ideale Abbildung und damit Überquerung der Rasteröffnung durch die Emulsion erreichen, der Sägezahneffekt bliebe im Druck jedoch immer noch sichtbar (wie z. B. bei Rotationsschablone niedriger mesh-Zahl festzustellen ist). Durch die Welligkeit der Emulsionsschicht ist an der Überquerungsstelle der Rasteröffnung kein optimaler Kontakt zwischen Emulsionsschicht und Substrat gegeben, was zur Überflutung des Figurenrandes im Bereich eben dieser Rasteröffnung wiederum druckt, als ob sie völlig offen wäre.

Zwei Gründe machen also den Sägezabneffekt aus:

Die Welligkeit der Emulsionsschicht läßt, auch

wenn mit herkömmlichen Mitteln eine gewisse, wenn auch im drucktechnischen Sinne unbrauchbare Maschenüberquerung erzielt wird, eine zum Diapositiv adäquate Abbildung nicht zu, da wegen der Wellenstruktur keine Abdichtung zwischen Emulsionsoberfläche und Substrat erreicht werden kann. Darüber hinaus verhindert das Zusammenwirken von ungleichen Schichtstärken der Emulsion und schrägem bzw. nicht parallelisiertem Lichteinfali während der Belichtung die kongruente Abbildung des Diapositivs. Zur Darstellung des erfindungsgemäßen Verfah-

t,5 rens bedarf es im übrigen der Erwähnung folgender Zusammenhänge:

Im Bereich des Siebdruckes mit Flachschablonen umgeht man den genannten Sägezahneffekt mit der

Ausbildung einer sogenannten Druckschulter. Es handelt sich hierbei darum, den nicht druckenden Teil des Figurenrandes reliefartig auszubilden, wobei auf annähernde Rechtwinkligkeit des Figurenrandes großer Wert gelegt wird. Abrundungen jedoch möglichst ^r> vermieden werden, so daß sich die erhabenen, nicht druckenden Partien der Schablone gut an den Bedruckstoff anschmiegen können. Auf diese Weise entsteht eine optimale Abdichtung zwischen druckender und nicht druckender Partie gegenüber der Druck- i< > farbe, die wie bereits dargestellt wurde, im herkömmlichen Herstellungsverfahren für Rotations-Siebdruckformen nicht gegeben ist. Als praxiserprobte Verfahren im Bereich des Flach-Siebdruckes sind die reinen Indirektverfahren (z. B. Schneidefilm-, Pig- ι^Γ> mentpapierverfahren), die Mischformen aus reinen Direktverfahren und reinen Indirektverfahren (z. B. Kombinationsverfahren) und schließlich die reinen Direktverfahren, z. B. Direktverfahren mit Zusatzbeschichtungen zu nennen. Alle Verfahren eignen sich -'<> zur Ausbildung einer Druckschulter und ermöglichen damit einen zägezahnfreien Druck. Ihr Nachteil besteht darin, daß sie Schichten erzeugen, die aufgrund ihrer geringen Adhäsion zum Sieb in Verbindung mit ihrer geringen chemischen und mechanischen Stabili- -'> tat im Vergleich mit den im Rotationssiebdruck üblichen Metragen nur geringe Auflagen zulassen. Auch ist die spezifische Belastung der Siebdruckform im Rotationssiebdruck weitaus höher, so daß eine Anwendung der genannten Verfahren selbst bei kleinen jo Metragen ausgeschlossen ist. Für den Zweck der Herstellung von Rotations-Siebdruckformen wurden Emulsionen entwickelt, die allen auftretenden Belastungen zwar gerecht werden, jedoch - da im Direktverfahren verarbeitet, das wirksame Zusatzbeschich- ά tungen nicht zuläßt - die nachteilige Sägezahnbildung verursachen. Aufgabe der Erfindung ist es, die charakteristischen Vorteile der indirekten Verfahren aus dem Bereich des Flach-Siebdruckes, d. h. die Erstellung einer präzisen Druckschulter, mit Hilfe eines di- 4<i rekt arbeitenden Verfahrens zu ermöglichen.

Die Lösung der Aufgabe erfolgt gemäß dem vorstehenden Anspruch 1.

Hierbei wird die Sieboberfläche, beispielsweise die zylindrische Rundschablone, mit einer in bestimmten « Lösungsmitteln löslichen Substanz 32 z. B. mit einem Lack beschichtet (Fig. 1). Hierauf wird die so behandelte Sieboberfläche z. B. geschliffen, wodurch die Rasterstege 1 an ihrer Oberfläche wieder von der als Füllack zu bezeichnenden Substanz 32 befreit werden, während aber die Rasteröffnungen 2 geschlossen bleiben, siehe Fig. 2. Hierauf wird (Fig. 3) die geschliffene Sieboberfläche mit einer lichtempfindlichen Schicht 33 beschichtet und dann; selbstverständlich unter Einschaltung entsprechender Trocknungsoperaitionen auf die Schicht 33 das photographische Diapositiv 5 mit den geschwärzten Partien 6 und den durchlässigen Partien 7 gespannt und durch mit 8 bezeichnetes Licht belichtet (Fig. 4). Nach dem Auswaschen der Schicht 33 bleiben die belichteten wasser- <,o unlöslichen Partien 9' auf der Sioboberfläche zurück, siehe Fig. 5. Aus Fig. 4 und 5 ist ersichtlich, daß die auch bei diesem Verfahren unter allen möglichen Winkeln auf die Emulsionsschicht auftreffenden Lichtstrahlen 8 sich nicht mehr deformierend am Fi- _h<·, gurcnrand bzw. an der Übergangsstelle der Rasteröffnung auswirken können, weil eine einerseits überall gleiche Stärke der Schicht 33 vorliegt und andererseits die Stärke der Schicht 33 im Verhältnis zur Größe der Rasteröffnung 2 beliebig stark gehalten werden kann und damit der erwähnte dreidimensionale Abbildungsprozeß kontrollierbar wird. Ebenso ist die Ausbildung der genannten Druckschulter ersichtlich, die eine optimale Abdichtung zwischen druckender und nicht druckender Partie zuläßt.

Die auf der Sieboberfläche zurückgebliebene Schicht 9' wird getrocknet und polymerisiert. Die hierbei auftretende Schrumpfung wird in Fig. 6 auf der linken Seite für das bisher bekannte Verfahren und auf der rechten Seite für das erfindungsgemäße Verfahren dargestellt, wobei die Schrumpfung mit 35 bezeichnet ist. Wie aus diesem Vergleich ersichtlich ist, schrumpft beim bekannten Verfahren die Emulsionsschicht allseitig, d. h. dreidimensional, und durch dieses Schrumpfen wird der Deformationsprozeß der Emulsionsschicht verstärkt. Dagegen kann beim erfindungsgemäßen Verfahren die Emulsionsschicht 9' nur noch »zweidimensional« schrumpfen, womit eine weitgehende Deformationsfreiheit an der Überbrükkungsstelle 4' der Rasteröffnung gegeben ist.

Nach dem Polymerisationsprozeß wird die Füllung mit einem geeigneten Lösungmittel ausgewaschen, siehe Fig. 7. Da die Schicht 9' im polymerisierten Zustand chemisch äußerst stabil ist, braucht ihre Beschädigung durch Lösungsmittel nicht befürchtet werden. Die Druckschulter, die mit der Oberfläche der Schicht 9' fluchtet, ist mit 9" bezeichnet.

Wie dargestellt wurde, eignet sich das erfindungsgemäße Verfahren, sägezahnfreie Figurenränder zu erzielen. Ein weiterer Anwendungsbereich ist die Herstellung feiner Details, vor allem feiner Linien. Im übrigen eignet sich das erfindungsgemäße Verfahren zur Wiedergabe von Halbtönen. Hierbei wird das zu reproduzierende Motiv photographisch in einen Linienraster zerlegt (Autotypie), der dann in Form eines Diapositivs bei der Belichtung verwendet wird. Bei Anwendung des herkömmlichen Herstellungsverfahrens für Rotations-Siebdruckformen liegt die Breite der schmälsten und einwandfrei druckbaren Linie erfahrungsgemäß bei der Breite, die von zwei Rasteröffnungen und einem Rastersteg gebildet wird. Es ist ohne weiteres einzusehen, daß die Linienbreite von der Feinheit des Rasters der verwendeten Rotations-Siebdruckform abhängig ist, d. h. grobe Raster bedeuten breite, feinere Raster schmalere Linien. Beim erfindungsgemäßen Verfahren kann eine Linienbreite von der Breite eines Rastersteges, gemessen auf der äußeren Seite der Rotations-Siebdruckform, dessiniert werden.

Um noch schmalere Linien drucken zu können, d. h. um weitgehend unabhängig von der verwendeten Rasterfeinheit der Rotationsschablone zu werden, kann das erfindungsgemäße Verfahren erweitert werden, siehe Fig. 8 und 9.

Es ist mit 40 die auf das Sieb, das mit der Füllsubstanz 32 gefüllt und sodann geschliffen wurde, durch Belichten, Auswaschen und Trocknen abgebildete Linie angegeben. Wie aus Fig. 8 ersichtlich, ist die Linienbreite wesentlich geringer als die Breite eines Siebsteges 1. Für den Fall, daß die Linie auf dem Rastersteg abgebildet wird, ist eine unmittelbare Verbindung mit einer Rasteröffnung nicht gegeben, was zu schlechtem Druckausfall an dieser Stelle führen kann. Um diese Verbindung zu schaffen, wird die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Siebdruckform, nachdem die Photoemulsionsschicht poly-

merisiert, jedoch bevor die als Füllack bezeichnete Substanz ausgewaschen ist, einer Ätzbehandlung unterzogen. Es wird hierbei das Ätzgut nur mit der Siebseite, auf der sich die polymerisierte Emulsionsschicht befindet, in Berührung gebracht und eine Ätztechnik gewählt, deren Breitenwirkung hoch, deren Tiefenwirkung dagegen gering ist. Dadurch, daß die nicht ätzbare Füllsubstanz sich während des Ätzvorganges in den Sieböffnungen befindet, trägt das Ätzgut Stegmaterial lediglich an den Stellen ab, wo dies auch erforderlich ist, was zur Stabilitätserhaltung der Rotations-Siebdruckform wesentlich beiträgt.

Der Ätzprozeß ist abgeschlossen, wenn Öffnungen 41 durch Abtragung des Rastersteges 1 zwischen der abgebildeten Linie 40 und den jeweils benachbarten Rasteröffnungen 2 geschaffen sind.

Im Anschluß an die Ätzung wird die Füllsubstanz ausgewaschen und das Sieb ist druckbereit.

Da als Siebmaterial bei Rotations-Siebdruckformen praktisch ausschließlich Nickel in Frage kommt, eignet sich als Ätzgut z. B. Eisenchlorid in wäßriger Lösung.

Bei der Anwendung des Verfahrens in Verbindung mit sehr groben Rastern (z. B. 40 und 60 mesh) oder beim Druck sehr hoher Metragen werden an die Haltbarkeit der Emulsionsschicht wegen der entsprechend großen Emulsionsschichtbrücken über den Rasteröffnungen vor allem mechanisch große Anforderungen gestellt. Um auch für diesen Fall fehlerfreie Drucke garantieren zu können, kann auf der Innenseite der an sich druckbereiten Siebdruckform z. B. ein Lack aufgebracht wenien, der unmittelbar anschließend in noch fließfähigem Zustand von der Emulsionsseite der Siebdruckform her abgesaugt wird. Nach einer entsprechenden Trockenoperation bzw. nach chemischer Aushärtung ist die Emulsionsschicht an den nicht druckenden Partien verstärkt, ohne die Qualität der Siebdruckform zu beeinträchtigen.

Das beschriebene Verfahren kann zur Wiedergabe feinster Bilddetails unabhängig von der Feinheit des verwendeten Siebmaterials erweitert werden, siehe Fig. 10-12.

Gemäß Fig. 10 wird von einem beliebig feinen oder groben Siebmaterial 51 ausgegangen, das, wie vorstehend beschrieben, mit einem Füllmaterial derart gefüllt wird, daß einerseits die Sieb- oder Rasterstege unbedeckt sind und andererseits das Füllmaterial und die Rasterstegoberfläche eine glatte Fläche bilden. Sodann wird in einem zweiten Arbeitsvorgang unter Verwendung eines geeigneten Schablonenmaterials, z. B. einer der bekannten härtbaren Photoemulsionen, ein Linienraster aufkopiert, entwickelt und gehärtet. Die eigentliche Mustergebung der Siebdruckform erfolgt in einem dritten Arbeitsgang analog zum zweiten, indem die nunmehr reliefartige Schablonenmaterialoberfläche in gleicher Weise wie bei der Aufbringung der ersten Schicht mit einem geeigneten Lack aufgefüllt wird. Sodann wird dieser Lack soweit abgetragen, beispielsweise abgeschliffen, daß die Linienrasterstege 58 an ihrer Oberfläche 59 von jeglichem Füllack frei, jedoch die Zwischenräume 60 zwischen den Rasterstegen 58 aufgefüllt sind und zusammen mit der Füllung eine glatte Fläche bilden.

Auf die solchermaßen vorbereitete Druckform wird nunmehr das Druckbild, beispielsweise mittels einer härtbaren Photoemulsion aufkopiert und nach Aushärtung der nötigen Zwischenarbeitsgänge (Entwikkcln, Trocknen etc.) ausgehärtet. In Fig. 10 bezeich

net 62 die mustergebende, letzte Schablonenmaterial schicht und 61 eine offene, also druckende Partie dei Siebdruckform.

In einem letzten Arbeitsgang wird der Füllack mii einem geeigneten Lösungsmittel ausgewaschen.

Die Dimensionierung der Linienrasterstege 58 sowie deren Abstand voneinander richten sich nach derr photographischen Auflösungsvermögen des jeweih verwendeten Schablonenmaterials. In diesen, vor dem Schablonenmaterial vorgegebenen Grenzen be deuten schmale und hohe Rasterstege eine groß« druckbare Farbmenge, flache und breite Rasterstege dagegen eine geringere Farbmenge. Zur Variation dei Verhältnisse bzw. zur Anpassung der Siebdruckfonr an das zu bedruckende Substrat wird die Regulierbarkeit der Schichtstärke des Schablonenmaterials sowi« eine geeignete Ausführung der photographischer Vorlage herangezogen.

Neben seiner Bedeutung, das Farbvolumen dei Siebdruckform variieren zu können, kommt dem Li nienraster eine zweite Funktion zu. Sollte es beispiels weise erwünscht sein, Details auf bzw. mit der Druck form abzubilden, welche kleiner sind als die licht« Weite des Siebmaterials, so würden diese, wenn si« nach den herkömmlichen Verfahren auf dem Siebma terial erzeugt und hierbei auf eine Sieböffnung faller würden, von vornherein keine Verbindung mit derr Siebmaterial eingehen, somit also auf diesem erst gai nicht befestigt werden können, siehe Fig. 11. Die De tails 52' sind auf dem Siebmaterial 51 nicht befestig und fallen deshalb heraus. Bei unregelmäßig angeord neten Details würde dies zu nicht originaltreuer Wie dergabe beim Druck, bei regelmäßigen Details, ζ. Β Kreuzrastern, unweigerlich zum Moire-Effekt führen

Diese unerwünschten Erscheinungen werden au vorstehend beschriebene Weise vermieden. Es ist Ie diglich notwendig, den Linienraster der ersten Scha blonenmaterialschicht so fein anzulegen, daß auch die kleinsten Musterdetails in der folgenden Schablonen materialschicht die notwendige Abstützung erhalten

Als weiteres Anwendungsbeispiel (Fig. 12) soll ge zeigt werden, wie ein in einen 60er Raster zerlegte! photographisches Motiv mit beispielsweise 80-mesl Siebmaterial (32er Raster) moirefrei kombiniert wer den kann:

Auf das gefüllte Siebmaterial 51 wird zunächst eil erster Linienraster 58 mit beispielsweise 40 Linien pre cm aufgebracht. Sodann wird unter Einhaltung de: entsprechenden bereits geschilderten Arbeitsgängf ein zweiter Linienraster 63 mit beispielsweise 60 Li nien pro cm in einer Winkelung von ca. 90° gegenübe; dem ersten Linienraster aufgelegt. In einer drittel Schicht 64 des Schablonenmaterials wird schließlicl die Rasterung des Bildmotivs in eben der Rasterfrei heit der letzten Schablonenmaterialschicht, hier je doch in einem 60er Kreuzraster vorgenommen selbstverständlich auch erst, nachdem die Struktur de; letzten Linienrasters 63 eingeebnet wurde, der jsdocl auch erst nach Einebnung des ersten Linienrasters 51 aufgebracht wurde. Der Kreuzraster mit waagerech ten Stegen 67 und senkrechten Stegen 68 wird so au dem letzten Linienraster 63 angeordnet, daß di( farbundurchlässigen wagrechten Rasterstege 67 de Kreuzrasters stets auf die unmittelbar darunterliegen den Stege des zweiten Linienrasters 63 fallen. Dii senkrechten Stegpartien 68 des Kreuzrasters sind frei tragend.

Die Tatsache, daß Rasteröffnungen 69 in den Be

reich eines Rastersteges 58' aus der ersten Schablonenmaterialschicht 58 fallen, ist unerheblich. Die beim Druckprozeß zugeführte Farbe füllt das gesamte, hier aus drei Materialschichten bestehende Linienrastersystem auf und tritt wegen der vorhandenen, durch die Rasterstege 58, 63 gebildeten Zwischenräume auch durch alle scheinbar abgedeckten Rasteröffnungen 69 der kreuzgerasterten letzten Schabloner "naterialschicht 64 aus.

Man erhält auf diese Weise eine Siebdruckform, die sich - gemessen am heutigen Stand der Technik - durch eine Motivzerlegung in einen äußerst feinen Kreuzraster auszeichnet.

Dadurch, daß die bildgebende Schicht nicht auf der Siebschablone, sondern auf einer oder mehreren auf der Siebschablone liegenden, vor Aufbringen der bildgebenden Schicht verarbeitenden Schablonenmaterialschicht liegt, kann eine Regulierung der druckbaren Farbmenge durch die freie Gestaltung des sogenannten Farbvolumens der Siebdruckform ermöglicht werden und weiter kann durch die Kombination entsprechend gerasterter Schablonenmaterialschichten eine Unabhängigkeit der Bilddetailgröße - in den Grenzen des photographischen Auflösungsvermögens des verwendeten Schablonenmaterials - vom Siebmaterial erreicht werden, wodurch zudem ein moirefreier Siebdruck autotypisch zerlegter Farbtonskalen ermöglicht wird.

Nach dem in Fig. 10-12 beschriebenen Verfahren ist es demnach notwenig, vor Aufbringen der zweiten lichtempfindlichen Schicht die erste lichtempfindliche Schicht zu belichten und weiterzuverarbeiten (Entwickeln, Härten). Es hat sich nun gezeigt, daß eine Vereinfachung dieses Verfahrens möglich ist, indem auf die Fertigstellung, d. h. auf die Entwicklung und Härtung, sowie auf die Präparierung durch Füllen mit Füllmaterial und Schleifen der ersten lichtempfindlichen Schicht verzichtet und nach deren Belichtung gleich die zweite, beispielsweise mustergebende, Schablonenmaterialschicht aufgelegt wird, welches Vorgehen zu einer erheblichen Reduzierung der Fehlerquote sowie zu einer wesentlichen Einsparung an Arbeitszeit und Arbeitsmaterial führt und somit wesentlich kostengünstiger ist. Trotzdem wird in gleicher Weise wie beim Verfahren nach Fig. 10-12 die Ausbildungeiner zweckmäßigen Druckschulter, jedoch in vereinfachter Weise, erreicht und zudem läßt sich der Farbdurchlaß des Siebmaterials begrenzen. Dies wird an Hand von Fig. 13 nachstehend beschrieben.

Es wird hierbei von einem beliebig groben oder feinen Siebmaterial mit Siebstegen 71 und Sieböffnungen 72 ausgegangen, das mit einem Füllmaterial derart gefüllt wird, daß einerseits die Sieb- oder Rasterstege unbedeckt sind und andererseits das Füllmaterial und die Rasterstegoberfläche eine glatte Fläche bilden, wie dies in Fig. 13 gezeigt ist.

Sodann wird in einem zweiten Arbeitsgang auf das nunmehr eingeebnete Siebmaterial eine lichtempfindliche Schablonenmaterialschicht aufgetragen und getrocknet. Dies wird sodann über ein Diapositiv belichtet, das beispielsweise lediglich Linien zeigt (Linienraster-Diapositiv).

Im dritten Arbeitsgang wird auf die belichtete Schablonenmaterialschicht eine zweite lichtempfindliche Schablonenmaterialschicht 75 aufgetragen, die wegen der glatten Oberfläche der ersten Schicht ebenfalls eine glatte Oberfläche bildet.

Unter Verwendung eines Diapositivs, welches die eigentliche Mustergebung aufweist, wird nunmehr im vierten Arbeitsgang diese zweite lichtempfindliche Schicht 75 belichtet, wobei zwangsläufig auch alle diejenigen Partien der ersten lichtempfindlichen Schicht belichtet werden, die durch das mustergebende Dia positiv hindurch Licht erhalten und in der ersten Belichtung unbelichtet geblieben sind; die schon belichteten Partien dagegen werden durch die zweite Belichtung noch einmal belichtet, was bei Verwendung der bekannten, polymerisierbaren Photoemulsionen keineswegs schadet.

Im letzten Arbeitsgang wird die gesamte Schablonematerialschicht entwickelt, gehärtet, sowie das Füllmaterial entfernt, worauf die Siebdruckform druckfertig ist.

Zusammenfassend ergeben sich:

1. Durch den Aufbau eines Linienrasters 73 kann der Farbdurchlaß des Siebmaterials beliebig reduziert werden. Dies deswegen, weil die Dimension der Linienstege 73' selbst über die Variation der Schichtstärke 76 der ersten lichtempfindlichen Schicht in Verbindung mit der Linienbreite bzw. -anzahl des zuerst verwendeten Diapositivs variiert werden kann.

2. Durch die Applikation einer zweiten lichtempfindlichen Schicht 75 beliebiger Stärke 77 auf der fertig belichteten ersten Schicht, wodurch eine gesamte Stärke 78 erreicht wird, wird eine Höhendifferenz 77 der zweiten lichtempfindlichen Schicht 75 gegenüber der ersten 73 mit der Schichtstärke 76 erreicht, was zu einer zweckmäßigen Druckschulterausbildung 80 an den Figurenrändern führt.

3. Durch die Belichtung der zweiten Schicht 75 über das mustergebende Diapositiv werden auch alle Partien 79 der ersten lichtempfindlichen Schicht belichtet, die für einen Farbdurchlaß von vornherein nicht vorgesehen sind. Durch diese Belichtung wird neben der Mustergebung ein sehr stabiler Verbund beider Schichten 74 untereinander sowie zum Siebmaterial erreicht, wodurch auch an den Uberbrückungsstellen der Rasteröffnungen 72 eine gute Stabilität erreicht ist.

Die als Füllmittel bzw. Füllack bezeichnete und bei dem Verfahren verwendete Substanz muß folgende Eigenschaften aufweisen, nämlich Applikationsfähigkeit für die üblichen Applikationstechniken, Antischaumverhalten, Schleifbarkeit für die üblichen Schleiftechniken, Wasserunlöslichkeit, Schrumpfungsfreiheit über längere Zeiträume (12 Monate und länger), Schrumpfungsfreiheit über kürzere Zeiträume bei Erhitzung auf ca. 200° C (3-4 Stunden), gute Adhäsion zu den üblichen Siebmaterialien im Rotationsfilmdruck, vor allem auf Nickel unabhängig von Alter und Temperatur (bis 200 ° C max.), geringes thermoplastisches Verhalten bei Temperaturen bis 200° C, gute Auflösbarkeit vor und nach Wärmebehandlung in solchen Lösungsmitteln, die die polymerisierte Emulsion nicht angreifen, chemische Resistanz gegenüber üblichen Ätzmitteln wie z. B. Eisenchlorid und relative Ungiftigkeit.

Das beschriebene Verfahren wurde im Zusammenhang mit Rund-Siebdruckformen beschrieben, jedoch ist es in gleicher Weise auch auf Flach-Siebdruckformen anwendbar.

Hierzu 5 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zur direkten photomechanischen Herstellung von Siebdruckformen, bei welchen die Sieböffnungen des Siebes mit einem Füllmaterial ^r> geschlossen werden, und auf der so hergestellten Fläche eine lichtempfindliche Schicht aufgetragen wird, dadurch gekennzeichnet, daß

a) die Sieböffnungen der Siebdruckschablone mit einem unsensibilisierbaren Füllmaterial "> geschlossen werden, unter Bildung einer glatten, absatzfreien Siebseite mit unbedeckten Siebstegen,

b) eine lichtempfindliche Schicht mit konstanter Schichtstärke auf diese Siebseite unter BiI-dung einer glatten Fläche aufgetragen,

c) die lichtempfindliche Schicht in an sich bekannter Weise bildmäßig belichtet, entwikkelt und getrocknet und

d) das Füllmaterial aus den Sieböffnungen her- -'» ausgewaschen wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Wiedergabe feiner Details die Schichtseite der Siebdruckform mit einem Ätzmittel so lange behandelt wird, bis an denjenigen Stellen, an denen die Linie auf einen oder mehrere Siebstege fällt, eine Verbindung zwischen dieser Stelle bzw. diesen Stellen und einer benachbarten Sieböffnung geschaffen wird (Fig. 9).

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- «) kennzeichnet, daß auf der der Schicht abgewandten Seite der Siebdruckform ein Lack aufgebracht und anschließend in noch fließfähigem Zustand von der Schichtseite her abgesaugt wird.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- J5 kennzeichnet, daß auf die auf der Siebdruckform aufgebrachte lichtempfindliche erste Schicht nach deren Belichtung, Entwicklung und Auffüllung der Täler des entstandenen Reliefs mit einem unsensibilisierbaren Füllmaterial mindestens eine weitere lichtempfindliche Schicht als glatte Fläche mit konstanter und regulierbarer Schichtstärke direkt aufgebracht wird.

5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß auf die erste Schicht ein Raster auf kopiert und fertiggestellt und nach Aushärtung derselben in die zweite Schicht als mustergebende Schicht verwendet wird.

6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß auf die erste Schicht ein anderer Raster als derjenige der Siebdruckform und auf die zweite Schicht wiederum ein anderer Raster als derjenige der ersten Schicht aufkopiert und fertiggestellt wird, auf welch letztere nach Aushärtung derselben die bildgebende Schicht aufgebracht wird.

7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf die auf der Siebdruckform aufgebrachte lichtempfindliche erste Schicht nach deren Belichtung ohne weitere Verarbeitung min- &o destens eine weitere lichtempfindliche Schicht als glatte Fläche mit konstanter und regulierbarer Schichtstärke aufgebracht wird.

8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht mittels eines Raster-Diapositivs belichtet und die zweite Schicht als mustergebende Schicht verwendet wird.

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur direkten photomechanischen Herstellung von Siebdruckformen, bei welchen die Sieböffnungen des Siebes mit einem Füllmaterial geschlossen werden, und auf der so hergestellten Fläche eine lichtempfindliche Schicht aufgetragen wird. Mit Hilfe solchermaßen hergestellter Siebdruckformen sind verschiedene Materialien, wie z. B. Textilgewebe oder Papier, bedruckbar.

Beim Rotationssiebdruck, einem Spezialverfahren des Siebdruckes, werden Siebe in Form einer hohlzylindrischen Siebdruckform verwendet. Zu ihrer Herstellung werden hauptsächlich das galvanoplastische Verfahren, bei dem die farbundurchlässigen Schablonenpartien und die siebförmigen Partien der Siebdruckform in einem Arbeitsgang galvanisch aufgebaut werden, und das Lackverfahren angewandt, bei dem ein galvanisch hergestelltes Sieb mit einem lichtempfindlichen Kunststoffilm versehen wird, der im Laufe des Verarbeitungsprozesses an den druckenden Partien entfernt, an den nichtdruckenden Partien aber auf dem Sieb belassen wird.

Die Erfindung bezieht sich auf das zweitgenannte Verfahren. Trotz des hohen Standes der Lackdessinierungstechnik bestehen nichtsdestoweniger einige dieser Technik anhaftende Nachteile, wovon einer derselben in der mangelnden Wiedergabeschärfe zu erblicken ist, die sich typischerweise als treppenförmiger oder sägezahnähnlicher Zackenrand an den Figurenrändern äußert, weshalb sich der Begriff der Sägezahnbildung eingebürgert hat. Zwar kann man diesen unerwünschten Effekt bis zu einem gewissen Grade durch drucktechnische Manipulation mildern, doch hat man ihn, ob schwach oder stark ausgeprägt, in der Praxis als unvermeidbares Übel hinzunehmen.

Es ist ein Verfahren zur Herstellung von Siebdruckformen bekannt (DT-PS 896456), bei welchem ein Trägermaterial, z. B. ein Sieb, mit einer Filmmasse übergössen und diese anschließend glattgestrichen wird. Nach dem Trocknen der Filmmasse wird erneut, gegebenenfalls mehrmals, Filmmasse aufgetragen, bis die gewünschte Filmstärke erreicht ist. Nach dem Trocknen wird die Siebdruckform in bekannter Weise bemustert.

Unabhängig von der Art der verwendeten Filmmasse und ihrer Auftragung umhüllt die Filmmasse einerseits die Siebstege, sinkt jedoch andererseits in den Sieböffnungen ein. Die hieraus resultierende Welligkeit kann zwar durch wiederholtes Auftragen der Filmmasse unter entsprechender Schichtstärkenerhöhung mehr oder weniger ausgeglichen werden, jedoch wächst dadurch die Schichtstärke erheblich, da das Auflösungsvermögen der lichtempfindlichen Schicht mindestens proportional zu ihrer Stärke sinkt, wird eine Abbildung feiner Details eingeschränkt.

Bei einem weiteren, nicht vorbekannten, jedoch älteren Verfahren zur Herstellung einer Siebdruckform (DT-OS 2151214) wird auf das Trägermaterial ein Filmbildner aufgebracht, wobei bezüglich der Welligkeit und der Schichtstärke die beim erstgenannten Verfahren genannten Argumente gelten. Demnach kann die Schichtstärke des Filmbildners nicht unter eine durch das Siebmaterial vorbestimmte Minimalstärke sinken, ohne gleichzeitig wieder die Siebstruktur, d. h. eine entsprechende Welligkeit, zu zeigen.

Die so vorbereiteten Siebdruckformen werden erst im Zeitpunkt unmittelbar vor der Weiterverarbeitung sensibilisiert. Bei einem weiteren nicht vorbekannten, jedoch älteren Verfahren zur Herstellung von Sieb-