DE2842393A1 - Verfahren zur herstellung goldfarbener ueberzuege - Google Patents

Verfahren zur herstellung goldfarbener ueberzuege

Info

Publication number
DE2842393A1
DE2842393A1 DE19782842393 DE2842393A DE2842393A1 DE 2842393 A1 DE2842393 A1 DE 2842393A1 DE 19782842393 DE19782842393 DE 19782842393 DE 2842393 A DE2842393 A DE 2842393A DE 2842393 A1 DE2842393 A1 DE 2842393A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
substrates
anode
potential
partial pressure
potential difference
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19782842393
Other languages
English (en)
Other versions
DE2842393C2 (de
Inventor
Helmut Daxinger
K H Dr Pulker
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OC Oerlikon Balzers AG
Original Assignee
Balzers AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Balzers AG filed Critical Balzers AG
Publication of DE2842393A1 publication Critical patent/DE2842393A1/de
Priority to FR7924336A priority Critical patent/FR2437651A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of DE2842393C2 publication Critical patent/DE2842393C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04BMECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B37/00Cases
    • G04B37/22Materials or processes of manufacturing pocket watch or wrist watch cases

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

Verfahren zur Herstellung goldfarbener Ueberzüge
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung goldfarbener Ueberzüge auf Substraten. Es ist bekannt, derartige Ueberzüge durch reaktives Ionenpiatieren (ion plating, ionenunterstützte Aufdampfung) im Vakuum herzustellen, wobei sich insbesondere die sogenannte Niedervoltbogenentladung für die verdampfung bewährt hat, wenn es darauf ankommt, eine zu starke Erwärmung der Substrate zu vermeiden. Wegen der starken Aktivierung der Reaktionspartner im Niedervoltbogen erhält man nämlich eine hinreichende Reaktion aunh auf gekühlten Substraten, was bei anderen reaktiven Aufbringurigsverfahren nicht ohne weiteres der Fall ist. Ein Problem, das dabei immer noch auftritt, betrifft die oft nicht hinreichend grosse Haftfestigkeit der UeberzUge. Diese ist besonders dann nicht zufriedenstellend, wenn zur Vermeidung
909826/0588
einer unzulässig grossen Temperaturerhöhung die Potentialdifferenz zwischen den Substraten und der Anode niedrig gehalten wird.
Die vorliegende Erfindung hat sich zur Aufgabe gestellt, ein Verfahren zur Herstellung goldfarbener Ueberzüge auf Substraten anzugeben, die das Erfordernis einer sehr hohen Haftfestigkeit erfüllen und mit grosser Genauigkeit in stets gleichbleibenden Farbtönen reproduziert werden können. Letzteres ist besonders wichtig z.B. für die Massenherstellung von goldfarbenen Teilen, weil die betreffenden Farbtöne unter Angabe von engen Toleranzen vertrieben werden sollen. Insbesondere stellt sich die Erfindung die Aufgabe, Ueberzüge zur Verfügung zu stellen, die den in der Uhrenindustrie üblichen Goldfarbtönen weitgehend gleichen, so dass bei der Herstellung eine geringere Ausschussquote und damit eine höhere Wirtschaftlichkeit als mit den bisher üblichen .'■* ' Herstellungsverfahren erzielt wird.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist eine besonders schonende Behandlung der Substrate bei der Aufbringung der Ueberzüge, damit auch solche Substrate verwendet werden können, die wegen ihrer Temperaturempfindlichkeit mit den üblichen Verfahren z.B. mittels des Chemical-Vapour-Deposition-Prozesses (CVD) nicht beschichtet werden können. Hiezu gehören insbesondere Hartverdiromungen, die ihre Härte bei Temperaturen über 400° C verlieren,
909826/0588
Temperaturempfindliche Substrate sind weiterhin Legierungen v;ie z.B. Messing und auch manche Kunststoffe.
Das erfindungsgemässe Verfahren zur Herstellung goldfarbener Ueberzüge auf Substraten durch Verdampfen von Titanium - und/ oder Zirkoniummetall in einer Stickstoff und Argon enthaltenden Unterdruckatmosphäre in Gegenwart einer Niedervoltbogenentladung ist gekennzeichnet durch die Kombination der folgenden Verfahrensmerkmale :
a) Die Potentialdifferenz der Anode der Niedervoltbogenentiadung gegenüber dem Potential der Substrate beträgt 5 bis 100 Volt.
b) Das elektrische Potential der Substrate liegt um 0 bis 150 Volt tiefer als das Potential der den Aufdampfraum begrenzenden Wände.
c) Die Beschichtungsrate auf den Substraten beträgt zwischen 1 und 15 nm/s.
d) Der Partialdruck der Stickstoff enthaltenden Komponente liegt
h -2
zwischen 5.10 und 10 mbar.
Nachfolgend wird die Erfindung an Hand einiger Ausführungsbeispiele näher erläutert. Die anliegende Zeichnung zeigt zunächst eine für die Durchführung der Erfindung geeignete Ionenplattieranlage. In dieser stellt 17 eine Vakuumkammer mit einem Evakuierungsanschluss l8 dar, welche durch eine Oeffnung 6 mit einer
909826/0588
~ 6-
Glühkathodenkammer Γ3 verbunden ist. In letzterer ist die Glüh-'kathode 3 untergebracht, die durch das Stromversorgungsgerät 1 gespeist wird. Am Boden der Aufdampfkammer 10 befindet sich der mittels der Kühlmittelkanäle 21 und der Kühlmittelzu- und -ableitungen 11 kühlbare Tiegel 20 für das zu verdampfende Material 19. In der Auf dampf karr.mer ist eine zylindermantelförmige Haltevorrichtung 8 zur Aufnahme der zu bedampfenden Substrate angeordnet. Die Glühkathodenkammer weist ausserdem eine Gaszuleitung -2 und einen Kühlmittelkanal 14 auf, wobei letzterer besonders zur Kühlung der Trennwand zwischen der Glühkathodenkammer und der Aufdampfkammer während des Betriebes dient. Zur Erzeugung eines zur Achse 7 der Entladung ungefähr parallelen Magnetfeldes im Aufdampfraum sind am Bodenteil 10 und am Deckelteil l6 der Aufdampfkammer aussen Magnetspulen 5 angebracht.
Für die Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens werden divfe zu beschichtenden Substrate an der der Dampfquelle zugewandten Seite der Haltevorrichtung 8 befestigt, das zu verdampfende Material in den Tiegel gegeben, die Aufdampfkammer geschlossen und evakuiert, und über die Leitung 2 ein Stickstoff enthaltendes Gas in einem Gemisch mit Argon in die Glühkathodenkammer eingeführt. Man kann aber auch zwecks Schonung der Glühkathode 4 das Argon in die Glühkathodenkammer 14 und zur Erzielung der erwünschten Reaktionen im Aufdampfraum in diesen das Stickstoff enthaltende Gas über eine separate Zuleitung getrennt einführen, so dass in
909826/0588
letzterem während des Aufdampfens eine reaktive Restgasatmosphäre vorherrscht, deren Druck durch laufendes Abpumpen kv T den für den vorgesehenen Prozess optimalen Wert eingestellt werden kann.
Zur Herstellung von goldfarbenen Titannitridschichten wurde in den Tiegel 20 Titanmetall in Stückform eingebracht, alsdann die Anlage auf 10""^ Millibar evakuiert und danach über die Leitung 2, ' die Glühkathodenkammer 1J> und die Oeffnung 6 Stickstoff in die Auf dampf kammer 17 eingeführt und daraus laufend über den Saugstutzen l8 abgepumpt, in solchem Masse, dass in der Glühkathoden-
kammer ein Druck von 5 x 10 mb und in der Aufdampfkammer ein N2 Partialdruck zwischen 5· 10-^· und 10" Millibar aufrechterhalten wurde. Dann wurde die auf Erdpotential liegende Glühkathode mit 1,5 kW beheizt und darauf eine Spannung von +70 Volt an die Anode und von -30 Volt an die Substrate gelegt. Durch kurzzeitiges Anlegen der Anodenspannung an die Trennwand 15 zwischen der Glühkathodenkammer 13 und der Auf dampf kammer 17 wurde sodann der Niedervoltbogen gezündet (die vorstehenden und alle folgenden Spannungsangaben beziehen sich stets auf Spannungsdifferenzen gegenüber dem auf Erdpotential befindlichen Rezipienten.) Es ergab sich ein über die Glühkathode fliessender Strom von 100 A. Der über die Anode fliessende Strom betrug 120A. Die Differenz zwischen den beiden Strömen von 20 A gibt den Strom an, der über die Substrate und den Rezipienten floss. Durch den auf den Tiegel 19 als Anode fliessende Elektronenstrom wurde das
909826/0588
darin befindliche Titan geschmolzen und verdampfte mit einer Rate von etwa 0,4 g pro Minute. Unter der Einwirkung des durch die !»'iedervoltbogenentladung zwischen der Glühkathode und der Anode stark ionisierten Restgases erhielt man auf den am Träger 8 befestigten Substraten eine harte, äusserst haftfeste Titanritridschicht von goldgelber Färbung. In weiteren Ausführungsbeispielen, wobei jeweils eine solche Titanverdampfungsrate eingestellt wurde, dass auf einem Testglas pro Minute ein Niederschlag von 0,33 pw Dicke erhalten wurde und wobei die Substratspannung stets minus 40 Volt und der Argonpartialdruck 1,6 χ 10""-^ Millibar betrug, wurden die folgenden Farbtöne v/eitgehend approximiert:
1) jaune-päle IN-14 *) mit pN2 = 0,2 χ 10~3 rnbar
2) jaune-pale 2N-18 *) mit pN2 = 0,4 χ ίο"-* mbar
3) jaune j5N *) mit pNp = 0,6 χ 10"^ mbar
4) rose 4N *) mit pN2 = 0,7 x 10~5 mbar
5) rouge 5N *) mit pN2 = 0,8 χ 10"' mbar
*)Farbton-Bezeichnungen gemäss Normalisation Industrielle de l'Horlogerie Suisse NIHS - 03 - 50.
Wie aus don Beispielen zu ersehen ist, kann durch die passende Einstellung des N2 - Partialdruckes der Farbton genau eingestellt werden.
909826/0588 BAD ORIGINAL
Um eine Oberfläche mit dem gewünschten Farbton zu erhalten, genügt es meistens, nur die obersten Teilschichten des Ueberzuges genau mit der entsprechenden Farbe d.h. mit d^n angegebenen Grossen der Spannungen und Partialdrücken herzustellen, wogegen die tieferen, der Substratoberfläche näher liegenden TriilscMchter: auch unter davon abweichenden Bedingungen aufgebracht werden können. Es kann z.B. zweckmässig sein, zunächst eine höhere Potentialdifferenz zwischen Anode und Substraten anzuwenden, um eine höhere Energie der auf die Substratoberfläche auftreffenden Teilchen und damit eine bessere Verankerung und Haftfestigkeit zu erzielen, allmählich aber dann während der Aufbringung weiterer Teilschichten des Ueberzuges die genannte Potentialdifferenz mindestens bis auf die sogenannte Sputterschwelle des Substrates und/oder der Rezipientenwand zu verringern; unter Sputterschwelle versteht man diejenige Potentialdifferenz, oberhalb deren eine Zerstäubung des Substrates bzw. des Werkstoffes, aus dem die Rezipientenwand besteht, möglich ist. Es sei noch erwähnt, dass eine höhere Potentialdifferenz farbvertiefend wirkt.
Bei der Herstellung aller dieser Ueberzüge konnte die Temperatur des Substrates stets unterhalb J>80° C gehalten werden, meistens sogar wesentlich tiefer. Es wurden hochglänzende Ueberzüge erhalten, wenn die Substratoberflächen, auf die sie aufgebracht wurden, vorher poliert worden waren; eine Nachbehandlung war
909826/0588 BAD ORIGINAL
-40-
nicht erforderlich. Die Härte betrug bei allen Ueberzügen mehr als 2000 kp mm , gemessen nach dem Vickers-Verfahren.
Da durch die Nitridbildung ^ verbraucht wird ist es zur Konstar.ihai tung des N2-Partialdruckes zweckmässig, in die Glühkathoaenkarf.p-ier laufend so viel Ng-haltiges Gas einzuführen, dass die mittlere freie Weglänge der Gasmoleküle in der genannten Kammer grössenordnungsmässig gleich ist der Kathodenfallstrecke der Niedervoltbogenentladung. Pur letztere empfehlen sich Bogenspannungen kleiner als 200 Volt, jedoch mit Strömen von mindestens 3o A. Weiter empfiehlt es sich, die Trennwand mit der Oeffnung zwischen der Glühkathodenkammer und dem Aufdampfraum elektrisch zu isolieren und bei der Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens auf Schwebepotential zu halten. Das zu verdampfende Material kann entweder auf positivem oder Erdpotential gehalten werden, wobei dann die Kathode., auf Erd- bzw. negatives Potential gelegt wird. Auch eine Betriebsweise, bei der sowohl die Kathode als auch das zu verdampfende Material auf positivem Potential gegenüber Masse gehalten werden, ist möglich. Die zu bedampfenden Substrate befinden sich stets auf einem gegenüber der Anode negativem Potential und sie können ausserdem zeitweise (insbesondere intermittierend) als Kathode einer selbständigen-Gasentladung geschaltet werden.
909826/0588

Claims (3)

  1. l) Verfahren zur Herstellung goldfarbener Ueberzüge auf Substraten durch Verdampfen von Titanium - und/oder Zirkoniumiretfcll in einer Stickstoff und Ar-gon enth?] tenden Unterdruckatr.iosphäre in Gegenwart einer Niedervoltbogenentladung, gekennzeichnet durch die Kombination der folgenden Verfahrensmerkmale :
    a) Die Potentialdifferenz der Anode der Niedervoltbogenentladung gegenüber dem Potential der Substrate beträgt 5 bis 100 Volt.
    b) Das elektrische Potential der Substrate liegt um 0 bis 150 Volt tiefer als das Potential der den Aufdampfraum begrenzenden Wände.
    c) Die Beschichtungsrate auf den Substraten beträgt zwischen 1 und 15 nm/s.
    d) Der Partialdruck der Stickstoff enthaltenden Komponente
    -4 -2
    liegt zwischen 5«10 und 10 mbar.
  2. 2. Verfahren nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Potentialdifferenz zwischen der Anode und den Substraten während des Prozesses mindestens bis auf die Sputterschwelle des Substrates und/oder der Rezipientenwand verringert wird.
    909826/0 5 88
    ORIGINAL INSPECTED
    - Z-
  3. 3. Verfahren nach Patentanspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, dass der Partialdruck der Stickstoff enthaltenden Komponente während des Verfahrens stetig erhöht wird.
    PR 7735
    909826/0588
DE2842393A 1977-12-23 1978-09-29 Verfahren zur Herstellung goldfarbener Überzüge Expired DE2842393C2 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR7924336A FR2437651A1 (fr) 1978-09-29 1979-09-28 Installation de surveillance pour des dispositifs commandes sur programmes, notamment pour des systemes commandes a partir de microprocesseurs dans les vehicules automobiles

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1593477A CH619344B (de) 1977-12-23 1977-12-23 Verfahren zur herstellung goldfarbener ueberzuege.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2842393A1 true DE2842393A1 (de) 1979-06-28
DE2842393C2 DE2842393C2 (de) 1984-06-14

Family

ID=4413151

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2842393A Expired DE2842393C2 (de) 1977-12-23 1978-09-29 Verfahren zur Herstellung goldfarbener Überzüge

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4254159A (de)
JP (1) JPS5489944A (de)
CH (1) CH619344B (de)
DE (1) DE2842393C2 (de)
FR (1) FR2412619A1 (de)
GB (1) GB2010919B (de)
NL (1) NL7801986A (de)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3027526A1 (de) * 1979-08-02 1981-02-19 Balzers Hochvakuum Verfahren zum aufbringen harter verschleissfester ueberzuege auf unterlagen
DE3027404A1 (de) * 1979-09-04 1981-04-02 Balzers Hochvakuum Gmbh, 6200 Wiesbaden Verfahren zur herstellung goldfarbener ueberzuege
US4420498A (en) * 1981-06-26 1983-12-13 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Method of forming a decorative metallic nitride coating
US4500602A (en) * 1981-08-10 1985-02-19 Ltv Aerospace And Defense Co. Composite protective coating for carbon-carbon substrates
DE3428951A1 (de) * 1984-08-06 1986-02-13 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Mit einer deckschicht aus gold oder einem goldhaltigen material ueberzogener dekorativer gebrauchsgegenstand und verfahren zu seiner herstellung

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT385058B (de) * 1946-07-17 1988-02-10 Vni Instrument Inst Verfahren zur verfestigung von schneidwerkzeugen
CH643421B (fr) * 1980-04-10 Asu Composants Sa Procede de depot d'un revetement dur d'un compose d'or, cible de depot pour un tel procede et piece de joaillerie comportant un tel revetement.
FR2483848A1 (fr) * 1980-06-06 1981-12-11 Stephanois Rech Mec Procede pour la fabrication d'une couche composite resistant a la fois au grippage, a l'abrasion, a la corrosion et a la fatigue par contraintes alternees, et couche composite ainsi obtenue
US4351855A (en) * 1981-02-24 1982-09-28 Eduard Pinkhasov Noncrucible method of and apparatus for the vapor deposition of material upon a substrate using voltaic arc in vacuum
US4537794A (en) * 1981-02-24 1985-08-27 Wedtech Corp. Method of coating ceramics
US4596719A (en) * 1981-02-24 1986-06-24 Wedtech Corp. Multilayer coating method and apparatus
US4609564C2 (en) * 1981-02-24 2001-10-09 Masco Vt Inc Method of and apparatus for the coating of a substrate with material electrically transformed into a vapor phase
CH645137A5 (de) * 1981-03-13 1984-09-14 Balzers Hochvakuum Verfahren und vorrichtung zum verdampfen von material unter vakuum.
EP0079860A1 (de) * 1981-11-16 1983-05-25 Battelle Memorial Institute Matrizenoberfläche zum Präzisionsformen oder Pressen von Kunststoffen insbesondere für Informationsträger und Verfahren zum Bekleiden dieser Oberfläche
JPS58153776A (ja) * 1982-03-05 1983-09-12 Citizen Watch Co Ltd 装飾部品の製造方法およびそれに用いるイオンプレ−テイング装置
US4407712A (en) * 1982-06-01 1983-10-04 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Hollow cathode discharge source of metal vapor
FR2540767A1 (fr) * 1983-02-14 1984-08-17 Instr I Outil de coupe pourvu d'un revetement resistant a l'usure constitue de composes refractaires de metaux difficilement fusibles et procede de fabrication dudit outil de coupe
US5096558A (en) * 1984-04-12 1992-03-17 Plasco Dr. Ehrich Plasma - Coating Gmbh Method and apparatus for evaporating material in vacuum
DE3413891A1 (de) * 1984-04-12 1985-10-17 Horst Dipl.-Phys. Dr. 4270 Dorsten Ehrich Verfahren und vorrichtung zum verdampfen von material in vakuum
IL74360A (en) * 1984-05-25 1989-01-31 Wedtech Corp Method of coating ceramics and quartz crucibles with material electrically transformed into a vapor phase
JPS61183458A (ja) * 1985-02-08 1986-08-16 Citizen Watch Co Ltd 黒色イオンプレ−テイング膜
CH664163A5 (de) * 1985-03-01 1988-02-15 Balzers Hochvakuum Verfahren zum reaktiven aufdampfen von schichten aus oxiden, nitriden, oxynitriden und karbiden.
GB8508338D0 (en) * 1985-03-29 1985-05-09 British Aerospace Application of stop-off coating
US5084151A (en) * 1985-11-26 1992-01-28 Sorin Biomedica S.P.A. Method and apparatus for forming prosthetic device having a biocompatible carbon film thereon
FR2612204A1 (fr) * 1987-03-12 1988-09-16 Vac Tec Syst Procede et appareil pour le depot par un plasma d'arc electrique sous vide de revetements decoratifs et de revetements resistant a l'usure
DE3832693A1 (de) * 1988-09-27 1990-03-29 Leybold Ag Vorrichtung zum aufbringen dielektrischer oder metallischer werkstoffe
US5601652A (en) * 1989-08-03 1997-02-11 United Technologies Corporation Apparatus for applying ceramic coatings
US5250779A (en) * 1990-11-05 1993-10-05 Balzers Aktiengesellschaft Method and apparatus for heating-up a substrate by means of a low voltage arc discharge and variable magnetic field
GB2264718B (en) * 1992-03-04 1995-04-26 Univ Hull Coatings produced by vapour deposition
US5490910A (en) * 1992-03-09 1996-02-13 Tulip Memory Systems, Inc. Circularly symmetric sputtering apparatus with hollow-cathode plasma devices
US5457298A (en) * 1993-07-27 1995-10-10 Tulip Memory Systems, Inc. Coldwall hollow-cathode plasma device for support of gas discharges
US5753319A (en) * 1995-03-08 1998-05-19 Corion Corporation Method for ion plating deposition
DE19725930C2 (de) * 1997-06-16 2002-07-18 Eberhard Moll Gmbh Dr Verfahren und Anlage zum Behandeln von Substraten mittels Ionen aus einer Niedervoltbogenentladung
US9412569B2 (en) 2012-09-14 2016-08-09 Vapor Technologies, Inc. Remote arc discharge plasma assisted processes
US9793098B2 (en) 2012-09-14 2017-10-17 Vapor Technologies, Inc. Low pressure arc plasma immersion coating vapor deposition and ion treatment
US10056237B2 (en) 2012-09-14 2018-08-21 Vapor Technologies, Inc. Low pressure arc plasma immersion coating vapor deposition and ion treatment
CN110507045B (zh) * 2019-08-19 2020-12-22 湖南文理学院 一种基于淡水养殖珍珠的表面处理方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2823876A1 (de) * 1977-06-01 1979-01-04 Balzers Hochvakuum Verfahren zum verdampfen von material in einer vakuumaufdampfanlage

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5123393B2 (de) * 1972-10-03 1976-07-16
CH264574A4 (de) * 1973-03-05 1977-04-29 Suwa Seikosha Kk Verfahren zum Plattieren von Uhrenteilen in einem Vakuumbehälter
US3900592A (en) * 1973-07-25 1975-08-19 Airco Inc Method for coating a substrate to provide a titanium or zirconium nitride or carbide deposit having a hardness gradient which increases outwardly from the substrate

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2823876A1 (de) * 1977-06-01 1979-01-04 Balzers Hochvakuum Verfahren zum verdampfen von material in einer vakuumaufdampfanlage

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3027526A1 (de) * 1979-08-02 1981-02-19 Balzers Hochvakuum Verfahren zum aufbringen harter verschleissfester ueberzuege auf unterlagen
DE3027404A1 (de) * 1979-09-04 1981-04-02 Balzers Hochvakuum Gmbh, 6200 Wiesbaden Verfahren zur herstellung goldfarbener ueberzuege
US4420498A (en) * 1981-06-26 1983-12-13 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Method of forming a decorative metallic nitride coating
US4500602A (en) * 1981-08-10 1985-02-19 Ltv Aerospace And Defense Co. Composite protective coating for carbon-carbon substrates
DE3428951A1 (de) * 1984-08-06 1986-02-13 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Mit einer deckschicht aus gold oder einem goldhaltigen material ueberzogener dekorativer gebrauchsgegenstand und verfahren zu seiner herstellung

Also Published As

Publication number Publication date
CH619344B (de)
US4254159A (en) 1981-03-03
GB2010919A (en) 1979-07-04
DE2842393C2 (de) 1984-06-14
GB2010919B (en) 1982-10-27
JPS5489944A (en) 1979-07-17
NL7801986A (nl) 1979-06-26
FR2412619A1 (fr) 1979-07-20
CH619344GA3 (de) 1980-09-30
FR2412619B1 (de) 1983-11-10
JPS6135269B2 (de) 1986-08-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2842393A1 (de) Verfahren zur herstellung goldfarbener ueberzuege
DE3027526C2 (de)
DE3027404A1 (de) Verfahren zur herstellung goldfarbener ueberzuege
DE2823876C2 (de) Verfahren zum Verdampfen von Material mittels eines Niedervoltbogens
EP0478909B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Diamantschicht und Anlage hierfür
EP2718481B1 (de) Entschichtungsverfahren für harte kohlenstoffschichten
DE3107914A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum beschichten von formteilen durch katodenzerstaeubung
DE2638097A1 (de) Verfahren zur oberflaechenbehandlung von kunststofflinsen und nach diesem hergestellte produkte
DE3490250T1 (de) Verfahren und Einrichtung zum Einbringen von normalerweise festen Materialien in Substrat-Oberflächen
EP1156131B1 (de) Verfahren zur Herstellung beschichteter Kunststoffkörper sowie Verwendung desselben
DE4115616A1 (de) Oberflaechenschicht fuer substrate insbesondere fuer arbeitswerkzeuge
DE3640086A1 (de) Dekorative schwarze verschleissschutzschicht
EP0867036B1 (de) Verfahren und einrichtung zur vorbehandlung von substraten
EP2286643B1 (de) Vorrichtung und verfahren zum hochleistungs-puls-gasfluss-sputtern
DE4222406A1 (de) Verfahren zur herstellung von diamantschichten durch dampfphasensynthese
DE3204764A1 (de) Vorrichtung zur physikalischen bedampfung von oberflaechen
DE2616270C3 (de) Verfahren zum Herstellen einer schweroxidierbaren Schicht auf einem Körper aus einem leichtoxidierenden Metall oder einer entsprechenden Metallegierung
EP3768871A1 (de) Magnetronsputtervorrichtung
DE2919191A1 (de) Verfahren zum aufbringen einer beschichtung aus abriebfestem material auf rohre, insbesondere schreibroehrchen fuer roehrchenschreiber
EP1655385A1 (de) Verfahren zum Aufbringen optischer Beschichtungen
DE19604334C1 (de) Verfahren zur Herstellung von Kohlenstoffnitridschichten
DE3512825A1 (de) Verfahren zur herstellung von verschleissfesten verbundwerkstoffen
DE2062664A1 (de) Verfahren zum Anbringen dunner Schich ten aus binaren Verbindungen von Titan und Sauerstoff auf eine Unterlage und Vorrich tung zur Durchfuhrung dieses Verfahrens
EP0792381B1 (de) Verfahren zur beschichtung von substraten und vorrichtung zur durchführung des verfahrens
DE4340952A1 (de) Verfahren zur Reinigung von nachmals zu beschichtenden Oberflächen

Legal Events

Date Code Title Description
8125 Change of the main classification

Ipc: C23C 13/04

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee