DE2635289C2

DE2635289C2 - Metallene Trägerplatte der Oxidschicht direkt geheizter Oxidkathoden und Verfahren zu ihrer Herstellung

Info

Publication number: DE2635289C2
Application number: DE2635289A
Authority: DE
Inventors: Akira Mobara Misumi
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1975-11-07
Filing date: 1976-08-05
Publication date: 1981-10-15
Also published as: JPS5952503B2; GB1561736A; FR2331144A1; US4079164A; JPS5257771A; DE2635289A1; FR2331144B1

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine metallene Trägerplatte der Oxidschicht direkt geheizter Oxidkathoden aus einer Nickel-Wolfram-Zirkonium-Legierung mit 20 bis 30 Gew.-°/o Wolfram und ein Verfahren zum Herstellen einer solchen Trägerplatte.

Aus dem Buch von W. H. Kohl, »Electron Tubes«, I960, Seiten 557 bis 566, ist eine Nickel-Wolfram-Zirkonium-Legierung mit 20 bis 30 Gew.-% Wolfram als Trägermetall der Oxidschicht direkt geheizter Oxidkathoden bekannt.

Auf dem Gebiet der Abtaströhren, Kathodenstrahlröhren für verschiedene Beobachtungen, Fernsehbildröhren usw. ergab sich in neuerer Zeit ein großer Bedarf an sogenannten Schnellstart-Elektronenröhren, die innerhalb etwa einer Sekunde nach dem Einschalten funktionsbereit sind. Hierfür sind schnell aufzuheizende Kathoden erforderlich.

Wesentlich für schnell aufzuheizende direkt geheizte Oxidkathoden ist eine dafür geeignete metallene Trägerplatte. Die für diese erforderlichen Eigenschaften sind folgende:

Eine ausreichende Elektronenemission für eine lange Zeitdauer (praktisch wenigstens 20 000 Stunden),
eine ausreichende mechanische Festigkeit bei hoher Temperatur, die beispielsweise genügt, eine Erdalkalimetalloxidschicht mit einer Dicke von wenigstens 50 μίτι in einem Betriebstemperaturbereich von 750 bis 85O⁰C ohne Auftreten einer Deformation, eines Bruchs usw. zu tragen, und ein ausreichend hoher elektrischer Widerstand, um jede Abweichung der Kathodentemperatur von der normalen Betriebstemperatur aufgrund von Kontaktwiderständen z. B. am Elektronenröhrensockel oder anderen Teilen zu verhindern.

Die aus dem Buch von W. H. Kohl als Oxidkathodenträger bekannten Nickellegierungen, die 20 bis 30 Gew.-% Wolfram und eine Menge von 0,01 bis 0,2 Gew.-% Zirkonium als reduzierendes Element enthalten, gewährleisten nicht eine ausreichende Elektronenemission über eine längere Zeitdauer, aber befriedigende Eigenschaften hinsichtlich der Festigkeit bei hoher Temperatur und des elektrischen Widerstandes.

Als Material eines Heizbandes, das unterhalb der Öffnung der Steuerelektrode eines Elektronenstrahlerzeugup.gssystems einen mit einer Emissionsmasse angereicherten Sinterkörper trägt, sind ferner Nickei-Wolframverbindungen aus der DE-OS 15 62 027 bekannt, wobei das Heizband eine Dicke von 0,025 bis 0,1 mm aufweisen kann.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine metallene Trägerplatte der Oxidschicht direkt geheizter Oxidkathoden aus einer Nickel-Woifram-Zirkonium-Legierung mit 20 bis 30Gew.-% Wolfram so zu verbessern, daß sie neben einem ausreichenden elektrischen Widerstand und einer ausreichend hohen Festigkeit über eine genügend lange Zeit ausreichende Elektronenemission gewährleistet.

jo Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Legierung 0,3 bis 5,0 Gew.-°/o Zirkonium enthält, das im wesentlichen in der intermetallischen Verbindung (Ni-W)_xZr_y gebunden ist, und daß die Trägerplatte nicht dicker als 50 μπι ist.

Eine solche Trägerplatte kann aus den Legierungsbestandteilen durch Pulvermetallurgie und Verarbeitung zu einer Dicke von höchstens 50 μπι hergestellt werden. Durch den erhöhten Zirkoniumgehalt unter Bildung der intermetallischen Verbindung und die Begrenzung der Plattendicke auf höchstens 50 μηι erreicht man neben ausreichendem elektrischen Widerstand und ausreichend hoher Festigkeit über eine merklich gesteigerte Zeit eine brauchbare Elektronenemission.

Die Erfindung wird anhand der Zeichnungen näher erläutert; darin zeigt

F i g. 1 eine vergrößerte Querschnittsansicht einer direkt geheizten Oxidkathode;

F i g. 2 ein Diagramm zur Darstellung der Änderungen der Elektronenemission mit der Zeit im Fall von metallenen Trägerplatten für eine direkt geheizte Oxidkathode, die sehr geringe Mengen von bisher bekannten verschiedenen reduzierenden Elemenen enthalten und verschiedene Plattendicken aufweisen; und

F i g. 3 ein Diagramm zur Darstellung der Beziehungen zwischen den Gehalten an den Trägerplatten zugesetztem Mg, Zr, Al und Si für eine direkt geheizte Oxidkathode und der Lebensdauer der Elektronenemission.

Wie Fig. 1 schematisch zeigt, besteht eine direkt geheizte Oxidkathode aus einer metallenen Trägerplatte 1 und einer Schicht 2 aus Erdalkalimetalloxid als elektronenemissionsfähigem Material, das in einer Dicke von 50 bis 100 μη: nach dem üblichen Verfahren auf der Trägerplatte 1 abgeschieden ist. Man läßt einen elektrischen Strom von einer Endplatte 3 direkt durch die Trägerplatte 1 zur anderen Endplatte 3 fließen, um die Trägerplatte 1 und auch die Schicht 2 aus Erdalkalimetalloxid zu erhitzen, wodurch eine thermionische Emission von der Erdalkalimetalloxidschicht 2 bewirkt wird.

Wie von Elektroheizlegierungen usw. bekannt ist, liegt der elektrische Widerstand von Metall bei der Betriebstemperatur der Oxidkathode, d. h. etwa 750 bis 850° C, allgemein bei nicht mehr als 150 μ Ω cm, und daher ist es erforderlich, die Querschnittsfläche der Trägerplatte für den Stromfluß zu verringern, um einen ausreichend höheren elektrischen Widerstand der Trägerplatte als den Kontaktwiderstand des Elektronenröhrensockels usw. zu sichern und ebenfalls die stabile Kathodentemperatur in einem praktischen Stromstärkenbereich zur Erhitzung der Kathode der Elektronenröhre, z, B. unter etwa 1 A im Fall der Fernsehbildröhre, zu gewährleisten, während die Elektronenemissionsfläche der Oxidkathodenschicht (die in Fig. 1 mit 4 bezeichnete Fläche) größer als eine bestimmte Fläche, z. B. praktisch größer als eine Scheibenfläche mit einem Durchmesser von 1,0 mm im

Fall der Fernsehbildrohre sein muß, um einen normalen Betrieb der Elektronenröhre zu erreichen. Daher kann, falls die Dicke der Trägerplatte nicht so gering wie möglich gemacht wird, der elektrische Widerstand der Trägerplatte zum Erhitzen der Kathode niciit in einen solchen Bereich gesteigert werden, daß die Ausübung der normalen Funktion der Elektronenröhre ermöglicht wird. Gemäß Untersuchungen des Erfinders ist es unmöglich, einen zur Ausübung der normalen Funktion geeigneten Kathodenaufbau zu entwerfen, falls di^p Dicke der Trägerplatte nicht so gering wie möglich, beispielsweise nicht größer als etwa 30 μπι oder maximal nicht mehr als 50 μίτι im Fall der Farbbildröhre gemacht wird. Daher ist es für die direkt geheizte Oxidkathode, die in der Abtaströhre, in Kathodenstrahlröhren für verschiedene Beobachtungen, in Fernsehbildröhren usw. zu verwenden ist, erforderlich, daß die Dicke der Trägerplatte nicht mehr als 50 μΐη, vorzugsweis2 nicht mehr als 30 μπι, ist. Jedoch kann im Fall einer derart geringen Dicke die Trägerplatte, die eine sehr geringe Menge, d. h. eine Verunreinigungsmenge des reduzierenden Elements wie im Fall der herkömmlichen indirekt geheizten Oxidkathode enthält, keine Elektronenemission von dem auf der Trägerplatte abgeschiedenen elektronenemissionsfähigen Oxid über eine praktisch brauchbare lange Zeitdauer aufrechterhalten.

Beispielsweise setzt man Kathoden, die aus einer Trägerplatte aus einer Ni-W-Legierung mit 27,5 Gew.-°/o W und einer bestimmten Menge von Mg, Zr, Al oder Si als dem reduzierenden Element, wie bisher vorgeschlagen (wobei die hier erwähnte Menge des reduzierenden Elements eine Menge des im Grundmetall in einem solchen Zustand enthaltene ist, daß sie beispielsweise Ba durch Reaktion mit dem elektronenemissionfähigen Oxid eines Erdalkalimetalls, z. B. mit BaO bildet und sich von der unterscheidet, die im Zustand des Oxids, Karbids usw. vorliegt und nicht die Rolle eines reduzierenden Mittels spielen kann), und einer Schicht von Erdalkalimetalloxid für die gewöhnliehe Oxidelektrode bestehen, die auf der Trägerplatte abgeschieden ist, in Farbfernsehbildröhren als direkt geheizte Oxidkathode ein, um die Elektronenemission und die Lebensdauer der Elektronenemission zu messen. Und zwar mißt man bei einer Oxidkathode, die aus einer Trägerplatte 1 und einer Erdalkalimetalloxidschicht 2 für die Oxidkathode, die auf der Trägerplatte 1. wie F i g. 1 zeigt, abgeschieden ist, besteht, die Änderungen der Elektronenemission von Farbfernsehbildröhren mit der Zeit, wo Ni-W-Legierungen mit 27,5 Gew.-% W und 0,07 Gew.-% eines Elements der Gruppe Mg, Zr, Al und Si als den typischen reduzierenden Elementen als Trägerplatten für die Kathoden der Bildröhren verwendet werden, während man die Dicke der Trägerplatten auf 0,03 mm, d. h. die Dicke festlegt, die beim direkt geheizten System verwendet werden muß, und für Vergleichszwecke auf 0,1 mm, d. h. die der Hälfte von 0,2 mm entsprechende Dicke festlegt, weiche Dicke von 0,2 mm die bei gewöhnlichen Farbfernsehbildröhren von gegenwärtig gebräuchlichen indirekt geheizten Oxidkathoden ist. Die Ergebnisse dieser Messungen sind in F i g. 2 gezeigt. Der Grund, weshalb die Dicke von 0,1 mm anstelle der Dicke des gewöhnlichen indirekt erhitzten Typs, d. h. 0,2 mm für die Vergleichszwecke verwendet wird, ist der, daß die 0,2 mm dicken Trägerplatten so geringe Heizwiderstände für den direkt geheizten Typ ergeben, daß eine hohe elektrische Stromstärke für die Kathodenheizung benötigt wird, und es ist gegenwartig unmöglich, eine Farbfernsehbildröhre für eine derart hohe Stromstärke herzustellen.

Wie aus der graphischen Darstellung der Fig.2, insbesondere der Analyse der Gruppen (1) und (II) ersichtlich ist, hängt die Lebensdauer der Elektronenemission von den Kathoden entscheidend von der Dicke der Trägerplatte ab.

In F i g. 2 entsprechen die Kurven ΙΙ-Λ uid H-S in der Gvuppe (II) einem Gehalt von 0,07 Gew.-% Mg bzw. Zr als dem reduzierenden Element, und es wurde gefunden, daß die durch die Kurven ΙΙ-Λ und IJ-S dargestellte Lebensdauer der Elektronenemission hauptsächlich auf dem Verbrauch von in den Trägerplatten enthaltenem Mg bzw. Zr basiert, während im Fall der durch die Kurve II-Cin Fi g. 2 veranschaulichten, 0,07 Gew.-% Al enthaltenden Trägerplatten die Erscheinung einer Abschälung des Erdalkalimetalloxids von der Trägerplatte nach 3000 Stunden seit dem Betriebsbeginn beobachtet wird, und die meisten Proben zeigen nach einigen tausend Stunden überhaupt keine Elektronenemission mehr. Das bedeutet, daß genaue Daten der Lebensdauer der Elektronenemission nicht erhältlich sind, und daher bedeutet die gestrichelte Kurve in Fig.2 lediglich eine Annahme. Die 0,07 Gew.-% Si enthaltende Trägerplatte hat die durch die Kurve II-D in F i g. 2 veranschaulichten Eigenschaften, wo die Lebensdauer der Elektronenemission hautsächlich von der Anwesenheit einer Zwischenschicht mit hohem elektrischen Widerstand abhängt, die zwischen dem Si und dem Erdalkalimetalloxid gebildet ist. Sobald eine solche Zwischenschicht gebildet ist, ist der Spannungsabfall an dieser Schicht so groß, daß es bei der üblichen Farbfernsehbildröhre schwierig ist, eine Elektronenemission von der Kathode zu erzielen, so daß mit diese·- keine befriedigende Funktion aufrechterhalten werden kann. Wenn eine viel höhere Spannung zwischen der Kathode und der Elektrode zwecks Abziehens der Elektronen zur Erzielung einer Elektronenemission angelegt wird, wird das Erdalkalimetalloxid durch die Hitzeentwicklung der Zwischenschicht hohen elektrischen Widerstandes geschädigt, so daß letztlich die Lebensdauer der Kathode beendet wird.

Andererseits sind die Trägerplatten der Gruppe (I) in Fig.2 die gleichen Trägerplatten wie die der Gruppe (II), haben jedoch eine unterschiedliche Dicke von 0,03 mm, d. h. es handelt sich um Trägerplatten aus Ni-W-Legierungen mit 27,5Gew.-% W und 0,07 Gew.-% je eines der gleichen reduzierenden Elemente Mg, Zr, Al oder Si, wie in der Gruppe (II), jedoch mit einer Dicke von 0,03 mm. Die Änderungen der Elektronenemission mit der Zeit im Fall der Trägerplatten der Gruppe (I) sind in F i g. 2 durch die Kurven Ι-Λ für Mg, I-ßfür Zr, I-Cfür Al und I-Dfür Si veranschaulicht. Im Fall der Al enthaltenden Trägerplatte tritt die gleiche Erscheinung der Abschälung der Erdalkalimetalloxidschicht auf, wie die Kurve \-Czeigt. Andererseits werden im Fall der nicht Al, sondern Mg, Zr oder Si enthaltenden Trägerplatten die in den Trägerplatten enthaltenden reduzierenden Elemente verbraucht, so daß die Elektronenemission unterbrochen wird. Somit kann im Fall der Trägerplatten, die Mg, Zr₁ Al oder Si enthalten, das als das reduzierende Element für die gewöhnliche Oxidkathode in einem solchen Grad verbraucht wird, wie es bei der indirekt geheizten Oxidkathode verbraucht wird, infolge der geringen Dicke der Trägerplatte keine praktisch brauchbare Lebensdauer der Elektronenemission er-

zielt werden (C als das reduzierende Element ist ausgeschlossen, da es eine sehr geringe Lebensdauer aufweist, wie durch einen vom Erfinder durchgeführten Vorversuch bestätigt wurde).

Wie sich aus dem Vorstehenden klar ergibt, kann das eine sehr geringe Menge von 0,01 bis 0,2 Gew.-% des reduzierenden Elements Zr, wie sie bisher bekannt war, enthaltende Grundmetall bei einer Elektronenröhre dann nicht verwendet werden, wenn die Trägerplatte eine bei der direkt geheizten Oxidkathode zu verwendende sehr geringe Dicke aufweist, da die Lebensdauer der Elektronenemission entscheidend zu kurz ist.

Um diese vorstehend beschriebenen Nachteile des Standes der Technik zu überwinden, wurden ausführliche Untersuchungen von neuen Ni-W-Basislegierungen durchgeführt, die das reduzierende Element nicht nur in einer Legierungsform, sondern auch in einer von der bekannten unterschiedlichen Bindungsart, wie etwa als intermetallische Verbindung enthalten, um nach einem neuen Material auf Basis der Untersuchung der herkömmlichen Oxidkathode mit Verwendung der Trägerplatte großer Dicke zu suchen, und als Ergebnis wurde gefunden, daß unter den reduzierenden Elementen nur Zr die intermetallische Verbindung bildet, die die für die metallene Trägerplatte der direkt geheizten Oxidkathode erforderlichen Merkmale und Eigenschaften erfüllt.

Auf Basis dieses Befundes ergibt sich daher die oben genannte erfindungsgemäße metallene Trägerplatte.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sollen nun anhand der F i g. 3 beschrieben werden.

Ni-W-Legierungsplatten mit 27,5 Gew.-% W und verschiedenen Mengen von Mg, Zr, Al oder Si als reduzierendem Element (wobei die Mengen des reduzierenden Elements nur auf die wirksam als J5 reduzierendes Mittel funktionfähige Form beschränkt sind) und mit einer Plattendicke von 0,03 mm wurden in Farbfernsehbildröhren als Trägerplatten der direkt erhitzten Oxidkathode eingesetzt, um die Lebensdauer der Elektronenemission der jeweiligen Kathoden zu 4n messen, wobei die Lebensdauer der Elektronenemission der Kathoden als die Zeitdauer definiert ist, innerhalb deren der Anfangswert der Elektronenemission auf 50% absank. Die Ergebnisse sind in F i g. 3 gezeigt.

Die Kurve A in F i g. 3 entspricht Trägerplatten aus *"> der Ni-W-Legierung mit Mg als reduzierenden Element. Wenn der Mg-Gehalt 0,1 Gew.-% in der Ni-W-Legierung überschreitet, bildet sich in dieser Legierung eine niedrigschmelzende Verbindung, was zu einem beträchtlichen Abfall der Festigkeit der Legierung bei der hohen Temperatur führt, und die Trägerplatte zerbricht während des Lebensdauerversuchs. Der Grund, weshalb die Kurve A nur bis zu 0,1 Gew.-% in Fig. 3 aufgetragen ist. beruht auf dieser Tatsache. Der zulässige Bereich für den Mg-Gehalt in w der Trägerplatte für die direkt geheizte Oxidkathode geht also nicht weiter als 0,1 Gew.-%, und die Lebensdauer der Elektronenemission der Legierung ist so kurz wie oder kurzer als 3 bis 4 χ 10³ h aufgrund der hohen Mg-Verbrauchsgeschwindigkeit infolge eines so «> geringen Mg-Gehalts. Die Ni-W-Mg-Legierung ist daher praktisch überhaupt nicht einsatzfähig. Die Mg als hauptsächliches reduzierendes Element enthaltende Ni-W-Legierung ist also als Trägerplatte für die direkt erhitzte Oxidkathode nicht verwendbar. f>s

Die Kurve C in F i g. 3 entspricht Trägerplatten aus der Al als das reduzierende Element enthaltenden Ni-W-Legierung. Wenn der Al-Gehalt in der Ni-W-Al-Legierung 0,05 Gew.-% überschreitet, tritt eine Erscheinung der Abschälung der Erdalkalimetalloxidschicht von der Trägerplatte auf (in Fig.3 deutet der gestrichelte Teil der Kurve C das Auftreten der Abschälungserscheinung an), und es findet in den meisten der untersuchten Röhren infolge der Abschälung der Oxidschicht überhaupt keine Elektronenemission statt. Daher ist die Al als hauptsächliches reduzierendes Element enthallende Ni-W-Legierung als Trägerplatte für die direkt geheizte Oxidkathode ebenfalls nicht verwendbar.

Die Kurve O in F i g. 3 entspricht Trägerplatten aus der Si als reduzierendes Element enthaltenden Ni-W-Legicrung. Wenn der Si-Gehalt in der Ni-W-Si-Legierung 0,14 Gew.-°/o überschreitet, bildet sich zwischen der Trägerplatte und der Oxidschicht eine Zwischen schicht mit hohem elektrischen Widerstand, und die Elektronenemission verringert sich durch den Einfluß des hohen elektrischen Widerstandes, und im äußersten Fall wird die Erdalkalimetalloxidschicht durch die entwickelte Joulesche Wärme zerstört. Daher ist die Si als hauptsächliches reduzierendes Element enthaltende Ni-W-Legierung als Trägerplatte für die direkt erhitzte Oxidkathode nicht verwendbar.

Die Kurve B in F i g. 3 entspricht Trägerplatten aus der Zr als reduzierendes Element enthaltenden Ni-W-Legierung. In diesem Fall wächst die Lebensdauer der Elektronenemission mit steigendem Zr-Gehalt, wie die Kurve B deutlich zeigt. Dies ist darauf zurückzuführen, daß die Zr-Festlösungsgrenze in der Ni-W-Legierung niedrig liegt (sie wurde mit 0,2 Gew.-°/o im Betriebstemperaturbereich der Oxidkathode vom Erfinder ermittelt). Auch wenn der Zr-Gehalt weiter gesteigert wird, ist die Reaktionsgeschwindigkeit von Zr mit der Erdalkalimetalloxidschicht im Anfangsabschnitt der Lebensdauer relativ gering, d. h. fast gleich derjenigen, wenn der Zr-Gehalt 0,2 Gew.-% beträgt. Es wurde gefunden, daß aus der intermetallischen Verbindung (Ni-W)_xZr,,, ausgeschiedenes Zr den Verbrauch von Zr aus der Festlösungsphase kompensiert und daß die Zersetzungsreaktion fortdauert, bis die intermetallische Verbindung verbraucht ist. So wirkt die intermetallische Verbindung (Ni-W)„Zr> als Speicher für Zr. Es wurde ebenfalls gefunden, daß die Lebensdauer der Elektronenemission um so mehr verlängert wird, je höher der Zr-Gehalt ist. Weiter wurde gefunden, daß, da die in Form sehr feiner Körner vorliegende intermetallische Verbindung (Ni-W)_xZr, einen hohen Schmelzpunkt hat, der Zr-Gehalt bis zu 5 Gew.-% keinen wesentlichen Einfluß auf die Festigkeit der Trägerplatte bei der hohen Temperatur ausübt. Die 0,3 bis 5 Gew.-% Zr enthaltende Trägerplatte hat also auch bei einer so geringen Dicke wie 30 \im eine befriedigende Festigkeit bei der hohen Temperatur und eine gute Lebensdauer der Elektronenemission, so daß sie als Trägerplatte für die direkt geheizte Oxidkathode verwendbar ist

Als Ergebnis weiterer ausgedehnter Untersuchungen und Versuche mit der Ni-W-Zr-Legierung mit Variieren des Zr-Gehaltes im Bereich von 03 bis 5 Gew -% und des W-Gehalts im Bereich von 20 bis 30 Gew.-% und Zusatz anderer reduzierender Elemente, wie z. B. Mg, Al. Si, C U usw. in so geringen Mengen, um keinen ungünstigen Effekt, z. B. Abfall der Festigkeit bei der hohen Temperatur, Abschälung der Oxidschicht, erhöhten elektrischen Widerstand einer Zwischenschicht usw. zu verursachen, wurde gefunden, daß auch diese Trägerplatten auf Basis der Ni-W-Zr-Legierung mit einer Dicke bis zu 50 μπι als Trägerplatte für die direkt

geheizte Oxidkathode verwendbar sind.

Es wurde auch gefunden, daß dünne Platten aus der 20 bis 30 Gew.-% W und 0,3 bis 5 Gew.-°/o Zr enthaltenden Ni-W-Zr-Legierung, in denen Zr gleichmäßig in der Legierung verteilt ist, nach einem pulvermetallurgischen Verfahren hergestellt werden können. Das übliche Schmelzverfahren ist zur Herstellung eines Blockes aus der Legierung nicht geeignet, da das Material bei der

ersten Stufe der Verarbeitung eines nach dem Schmelzverfahren erhaltenen Blocks zerbricht, wodurch es unmöglich wird, dünne Platten zu erhalten, während nach dem pulvermetallurgischen Verfahren Zr in einer die Festlöslichkeit überschreitenden Menge gleichmäßig in der Legierung verteilt werden kann, wobei die Verarbeitung dünner Platten mit einer Dicke von weniger als 0,001 mm ermöglicht wird.

Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Metallene Trägerplatte der Oxidschicht direkt geheizter Oxidkathoden aus einer Nickel-Wolfram-Zirkonium-Legierung mit 20 bis 30 Ge\v.-% Wolfram, dadurch gekennzeichnet, daß die Legierung 0,3 bis 5,0 Gew.-% Zirkonium enthält, das im wesentlichen in der intermetallischen Verbindung (Ni-W)_xZr_y gebunden ist, und daß die Trägerplatte (1) nicht dicker als 50 μΐη ist

2. Verfahren zum Herstellen einer metallenen Trägerplatte nach dem Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Trägerplatte aus den Legierungsbestandteilen durch Pulvermetallurgie und Verarbeitung zu einer Dicke von höchstens 50 μπι hergestellt wird.