DE2342494A1 - Entladungslampe mit einer nickelund aluminiumhaltigen elektrode - Google Patents

Entladungslampe mit einer nickelund aluminiumhaltigen elektrode

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DE2342494A1 DE19732342494 DE2342494A DE2342494A1 DE 2342494 A1 DE2342494 A1 DE 2342494A1 DE 19732342494 DE19732342494 DE 19732342494 DE 2342494 A DE2342494 A DE 2342494A DE 2342494 A1 DE2342494 A1 DE 2342494A1
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Philips Gloeilampenfabrieken NV
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    • H01J17/00Gas-filled discharge tubes with solid cathode
    • H01J17/02Details
    • H01J17/04Electrodes; Screens
    • H01J17/06Cathodes
    • H01J17/066Cold cathodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2893/00Discharge tubes and lamps
    • H01J2893/0064Tubes with cold main electrodes (including cold cathodes)
    • H01J2893/0065Electrode systems
    • H01J2893/0066Construction, material, support, protection and temperature regulation of electrodes; Electrode cups

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  • Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
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  • Discharge Lamp (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)

Description

PHN. 6 JW/WG
Akte; PHN- 6502
Anmeldung vom. 22. AUg. 1973 23 A 2494
Did!.-Inn- RORST AUER
"Entladungslampe mit einer nickel- und aluminiumhaltigen Elektrode".
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen einer Gas- und/oder Dampfentladungslampe mit einer inneren Elektrode, die aus mindestens einer Aluminiumschicht und einer sich parallel dazu erstreckenden Nickelschicht besteht wobei Massnahmen getroffen werden, um das Austreten von Elektronen aus der dem Aluminium abgewandten Seite der Nickelschicht zu erleichtern.
Ein bekanntes Verfahren dieser Art ist beispielsweise in der U.S. Patentschrift 2.459.511 beschrieben. Ein Nachteil dieses bekannten Verfahrens ist, dass die vom Nickel abgewandte Seite der Aluminiumschicht noch mit einer zusätzlichen Schicht bedeckt werden muss, um die Entladung im Betriebszustand der Lampe an der Nickelseite angreifen zu lassen.
A09813/0341 BAD ORIGINAL*
Die Erfindung bezweckt nun, bei einem Verfahren der erwähnten Art eine einfache Massnahme zu schaffen, um die Entladung am Nickel der Elektrode angreifen zu lassen.
Gemäss der Erfindung ist das Verfahren- eingangserwähnte Art dadurch gekennzeichnet, dass als Ausgangsmaterial für die Elektrode Niferal verwendet und die Dicke der Aluminiumschicht kleiner als 15 /um gewählt wird, wobei dieses Niferal während maximal 15 min. bei einer Temperatur von mindestens 700 C einer nicht-oxydierenden Atmosphäre unterworfen wird.
Unter Niferal wird in diesem Zusammenhang ein handelsübliches Material verstanden, das aus drei parallelen Schichten besteht, wobei die innere Schicht Eisen ist und die anderen Schichten aus Nickel bzw. Aluminium bestehen.
Ein Vorteil des erfindungsgemässen Verfahrens ist, dass das verhältnismässig hohe Austrittspotential der Aluminiumseite des Niferals nun durch Diffusion des Eisens im Aluminium herbeigeführt wird. Dies ergibt an der Aussenseite der Aluminiumschicht meistens eine schwarze Farbe. Diese Aluminiumschicht braucht dann nicht mit einer weiteren Schicht versehen zu werden.
Bei einem bevorzugten erfindungsgemässen Verfahren erfolgt die Wärmebehandlung des Niferals der Elektrode erst nach dem Anordnen der Elektrode in dem Entladungskolben.
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-3- PHN. 6502
Ein Vorteil dabei ist, dass die Gefahr einer etwaigen Beschädigung der Elektrode bei der weiteren Herstellung gering ist.
Bei einem anderen bevorzugten erfindungsgemässen Verfahren, wobei die Massnahme zum erleichterten Austritt der Elektronen aus der Nickelschicht daraus besteht, dass die Nickelschicht mit einem Emitter versehen wird, wobei dieser Emitter auf dem Nickel in Form eines oder mehrerer Karbonate angebracht wird, die bei einer Wärmebehandlung in Oxyde umgewandelt werden, erfolgt die Wärmebehandlung des Emitters und die Wärmebehandlung des Niferals im gleichen Erhitzungsprozess, wobei die Temperatur 6 bis 15 Sekunden lang zwischen 1000°C und 1100°C gehalten wird.
Ein Vorteil dieses bevorzugten Verfahrens ist, dass ein Fertigungsschritt'eingespart wird.
Eine Entladungslampe, die nach einem erfindungsgemässen Verfahren hergestellt worden ist, ist vorzugsweise eine Glimmentladungslampe mit einer plattenförmigen Elektrode, wobei die Nickelseite der Elektrode mit einem Emitter versehen und der Lichtaustrittsseite der Lampe zugewandt ist.
Ein Vorteil dieser Lösung ist, dass eine Glimmlampe erhalten werden kann mit einer verhältnismässig niedrigen Zündspannung und einer guten Glimmlichtbedeckung der Elektroden.
In einer anderen bevorzugten Lösung einer Entladungs-
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-h- PHN. 6502
lampe, die nach einem Verfahren nach der Erfindung
hergestellt worden ist, ist die Lampe eine Bogenentladungslampe, wobei die Elektrode als Hohlelektrode ausgebildet ist und sich die Nickelschicht an der Innenseite befindet.
Diese Ausbildung bevorzugt die Nickelseite, was das Austreten von Elektronen anbelangt, so dass in
diesem Fall die Nickelschicht nicht notwendigerweise mit einer Emitterschicht versehen zu werden braucht.
Ein Vorteil dieser bevorzugten Lösung ist, dass auf einfache Weise eine gute Elektrode erhalten werden kann. Der Bogen greift dabei an der Innenseite der Elektrode an, wodurch eine Abschwärzung der Wand des Entladungskolbens an der Stelle der Elektrode vermieden wird.
Zwei Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden im folgenden näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1-teilweise ge schnitten-eine Ansicht einer erfindungsgemässen Glimmentladungslampe,
Fig. 2 eine Darstellung einer erfindungsgemässen Bogenentladungslampe.
In Fig. 1 ist 1 der Kolben einer mit Neon und Argon gefüllten Entladungslampe. In dem Kolben 1 befinden sich eine schalenförmige Elektrode 2 und eine ringförmige Elektrode 3. Die schalenförmige Elektrode 2 besteht aus Niferal, das an der Nickelseite mit einem Emitter ver-
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-5- PHN. 6502
sehen ist. Diese Elektrode 2 ist 5 bis 15 Sekunden lang im Vakuum auf 1050 C erhitzt worden, nachdem sie im Kolben 1 angeordnet worden war. Die Nickelseite der Elektrode 1 ist vom Sockel 6 abgewandt und dadurch der Lichtaustrittsseite der Lampe zugewandt. Der Emitter auf der Nickelseite besteht aus einem bei der erwähnten Wärmebehandlung zerlegten Tripelkarbonat aus Barium, Strontium und Kalzium. Mit k und 5 sind Zuführungsdrähte bezeichnet. Die ringförmige Elektrode 3 besteht aus Nickel.
Die Zünd- und Brennspannung dieser Lampe war kleiner als 90 V. Das Austrxttspotential der aluminiumhaltigen (dem Sockel 6 zugewandten) Schicht der Elektrode 2 war grosser als 6 V.
In Fig. 2 ist eine sogenannte Ozon-Lampe angegeben, die mit rohrförmigen Quarzkolben 20 versehen ist.
An beiden Enden des länglichen Kolbens 20 befindet sich eine hohle Hauptelektrode 21 bzw. 22 aus Niferal. Diese Hauptelektroden sind, vor dem Anordnen in der Lampe 10 Minuten lang auf etwa 700 C in einer trocknen Wasserstoffatmosphäre erhitzt worden. Das Nickel befindet sich an der Innenseite der hohlen Elektroden 21 und 22. Diese Hauptelektroden 21 und 22 sind nicht mit einem Emitter versehen. Das Austrxttspotential der Aluminiura-haltigen Aussenschicht war auch wieder grosser als 6 V.
In jeder der Hauptelektroden 21 bzw. 22 steckt eine Hilfselektrode 23 bzw. 2k zur Zündung dieser Lampe. Der
409813/0341 BAP ORiQiNAi.'
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Kolben 20 enthält Neon und Argon und weiter Quecksilber zum Erzeugen von Ultraviolettlicht zur Ozon-Erzeugung. In der Lampe nach Fig. 1 sowie in der nach Fig. 2 greift die Entladung im Betriebszustand nur auf der Nickelseite der Elektroden an.
409 813/0341 BAD ORIGINAL

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUECHE:
    -7- PHN. 6502
    1.1 Verfahren zum Herstellen einer Gas- und/oder Dampfentladungslampe mit einer inneren Elektrode, die aus mindestens einer Aluminiumschicht und einer sich parallel dazu erstreckenden Nickelschicht besteht, wobei Massnahmen getroffen werden um das Austreten von Elektronen aus der dem Aluminium abgewandten Seite der Nickelschicht zu erleichtern, dadurch gekennzeichnet, dass als Ausgangsmaterial für die Elektrode Niferal verwendet und die Dicke der Aluminiumschicht kleiner als 15 /um gewählt wird, wobei dieses Niferal während maximal 15 min. bei einer Temperatur von mindestens 700 C einer nichtoxydierenden Atmosphäre unterworfen wird.
    2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Wärmebehandlung des Niferals der Elektrode erst nach dem Anordnen der Elektrode im Entladungskolben erfolgt.
    3. Verfahren nach Anspruch 2, wobei die Massnahme zum erleichtern Austritt der Elektronen aus der Nickelschicht daraus besteht, dass die Nickelschicht mit einem Emitter versehen wird, wobei dieser Emitter in Form eines oder mehrerer Karbonate auf dem Nickel angebracht wird, die bei einer Wärmebehandlung in Oxyde umgewandelt werden, dadurch gekennzeichnet, dass die Wärmebehandlung des Emitters und die Wärmebehandlung des Niferals im gleichen Erhitzungsprozess erfolgt, wobei die Temperatur 5 bis Sekunden lang zwischen 1000°C und 1100°C gehalten wird. h. Entladungslampe, die mit Hilfe eines Verfahrens nach einem oder mehreren /Aß.^ yar,s teilenden Ansprüche hergestellt
    BAD ORIQtNAU
    -8- PHN. 6502
    worden ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Aussenseite der aluminiumhaltigen Schicht der Elektrode ein Austrittspotential hat, das grosser ist als 6 V.
    5. Entladungslampe nach Anspruch h, wobei die Lampe eine Glimmentladungslampe ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrode (2) pattenförmig ist, wobei die Nickelseite der Elektrode mit einem Emitter versehen und der Lichtaustrittsseite der Lampe zugewandt ist.
    6. Entladungslampe nach Anspruch h, wobei die Lampe eine Bogenentladungslampe ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrode(21 bzw. 22) als Hohlelektrode mit der Nickelschicht an der Innenseite ausgebildet ist.
    409813/0341
DE2342494A 1972-09-12 1973-08-23 Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für eine Entladungslampe Expired DE2342494C2 (de)

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BE (1) BE804697A (de)
CA (1) CA983091A (de)
CH (1) CH559429A5 (de)
DE (1) DE2342494C2 (de)
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