DE2342494C2 - Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für eine Entladungslampe - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für eine EntladungslampeInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für eine Gas· und/oder
Dampfentladungslampe mit einer Nickelschicht auf der Vorderseite und einer rückseitigen Aluminiumschicht,
wobei die Nickelschicht mit einem Emitter aus Verbindungen von Erdalkalimetallen versehen ist, die
als Karbonate aufgebracht und durch eine Wärmebehandlung in Oxide umgewandelt werden.
Bei einem aus der US-FS 24 59 511 bekannten
Verfahren dieser Art muß die von der Nickelschicht abgewandte Seite der Aluminiumschicht noch mit einer
zusätzlichen Schicht bedeckt werden, um die Entladung im Betriebszustand der Lampe an der Nickelschicht
angreifen zu lassen.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für eine Gas-
und/oder Dampfentladungslampe zu schaffen, bei der mit einfachen Mitteln erreicht wird, daß die Entladung
sicher an der Nickelschicht der Elektrode angreift.
Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe bei einem Verfahren nach dem Oberbegriff des Anspruches 1
dadurch gelöst, daß als Ausgangsmaterial für die Elektrode das Dreischichtmaterial Niferal mit einer
Aluminiumschichtdicke kleiner als 15 μπι verwendet wird, das zusammen mit dem Emitterausgangsmaterial
einer Wärmebehandlung von 5 bis 15 Sekunden bei einer Temperatur zwischen 1000 und 11000C in einer
nichtoxidierenden Atmosphäre unterworfen wird.
Niferal ist ein handelsübliches aus drei parallelen Schichten bestehendes Material, bei dem die innere
ίο Schicht Eisen ist. Durch die beanspruchte sehr kurze,
aber bei relativ hoher Temperatur durchgeführte Wärmebehandlung dieses Materials wird erreicht, daß
Eisen in das Aluminium hineindiffundiert, wodurch an der Außenseite der Aluminiumschicht eine schwarze
Schicht entsteht Hierdurch erhält die Aluminiumseite ein verhältnismäßig hohes Austrittspotential. Bei dieser
Wärmebehandlung werden gleichzeitig die in Form von Karbonaten aufgebrachten Erdalkalimetalle in Oxide
umgewandelt.
Bei einem bevorzugten erfindungsgemäßen Verfahren erfolgt die Wärmebehandlung des Niferals erst nach
dem Anordnen der Elektrode im Entladungskolben. Dadurch ist die Gefahr einer etwaigen Beschädigung
der Elektrode bei der weiteren Herstellung gering.
Ein Aüsführungsbeispiel der Erfindung wird nunmehr anhand der Zeichnung näher beschrieben.
Die Figur zeigt — teilweise geschnitten — eine Ansicht einer Glimmentladungslampe.
In der Figur ist 1 der Kolben einer mit Neon und Argon gefüllten Entladungslampe. In dem Kolben 1
befinden sich eine schalenförmige Elektrode 2 und eine ringförmige Elektrode 3. Die schalenförmige Elektrode
2 besteht aus Niferal, das an der Nickelseite mit einem Emitter versehen ist Diese Elektrode 2 ist 5 bis
15 Sekunden lang im Vakuum auf 10500C erhitzt
worden, nachdem sie im Kolben 1 angeordnet worden war. Die Nickelseite der Elektrode 1 ist vom Sockel 6
abgewandt und dadurch der Lichtaustrittsseite der Lampe zugewandt Der Emitter auf der Nickelseite
besteht aus einem bei der erwähnten Wärmebehandlung zerlegten Tripelkarbonat aus Barium, Strontium
und Kalzium. Mit 4 und 5 sind Zuführungsdrähte bezeichnet Die ringförmige Elektrode 3 besteht aus
Nickel.
Die Zünd- und Brennspannung dieser Lampe war kleiner als 90 V. Das Austrittspotential der aluminiumhaltigen,
dem Sockel 6 zugewandten Schicht der Elektrode 2 war größer als 6 V.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (2)
1. Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für eine Gas- und/oder Dampfentladungslampe mit
einer Nickelschicht auf der Vorderseite und einer rückseitigen Aluminiumschicht, wobei die Nickelschicht
mit einem Emitter aus Verbindungen von Erdalkalimetallen versehen ist, die als Karbonate
aufgebracht und durch eine Wärmebehandlung in Oxide umgewandelt werden, dadurch gekennzeichnet,
daß als Ausgangsmaierial für die Elektrode das Dreischichtmaterial Niferal mit einer
Aluminiumschichtdicke kleiner als 15 μπι verwendet
wird, das zusammen mit dem Emitterausgangsmaterial einer Wärmebehandlung von 5 bis 15 Sekunden
bei einer Temperatur zwischen 1000 und 11000C in
einer nichtoxidierenden Atmosphäre unterworfen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Wärmebehandlung nach dem
Anordnen der Elektrode im Entiadungskolben erfolgt.
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