DE2326447C2 - Verfahren zum Entfernen von Schichten aus organischem Material und seine Verwendung - Google Patents
Verfahren zum Entfernen von Schichten aus organischem Material und seine VerwendungInfo
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Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2326447A DE2326447C2 (de) | 1973-05-24 | 1973-05-24 | Verfahren zum Entfernen von Schichten aus organischem Material und seine Verwendung |
| FR7411895A FR2231110B1 (https=) | 1973-05-24 | 1974-03-29 | |
| GB1469774A GB1427482A (en) | 1973-05-24 | 1974-04-03 | Stripping organic matter |
| IT21505/74A IT1006475B (it) | 1973-05-24 | 1974-04-17 | Metodo perfezionato per la rimo zione di strati di materiale orga nico dalla superficie di compo nenti semiconduttori |
| CA199,318A CA1026220A (en) | 1973-05-24 | 1974-05-08 | Method for stripping layers of organic material |
| JP49053494A JPS5231712B2 (https=) | 1973-05-24 | 1974-05-15 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2326447A DE2326447C2 (de) | 1973-05-24 | 1973-05-24 | Verfahren zum Entfernen von Schichten aus organischem Material und seine Verwendung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2326447A1 DE2326447A1 (de) | 1974-12-12 |
| DE2326447C2 true DE2326447C2 (de) | 1986-02-06 |
Family
ID=5881998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2326447A Expired DE2326447C2 (de) | 1973-05-24 | 1973-05-24 | Verfahren zum Entfernen von Schichten aus organischem Material und seine Verwendung |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5231712B2 (https=) |
| CA (1) | CA1026220A (https=) |
| DE (1) | DE2326447C2 (https=) |
| FR (1) | FR2231110B1 (https=) |
| GB (1) | GB1427482A (https=) |
| IT (1) | IT1006475B (https=) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57186330A (en) * | 1981-05-12 | 1982-11-16 | Matsushita Electronics Corp | Removing method for photoresist |
| JPS6053954A (ja) * | 1983-09-05 | 1985-03-28 | Oki Electric Ind Co Ltd | フォトマスク洗浄方法 |
| EP0256284B1 (en) * | 1986-08-09 | 1991-03-27 | Micro-Image Technology Limited | Composition for use in the production of integrated circuits and method for its preparation and use |
| US4872919A (en) * | 1988-01-28 | 1989-10-10 | The Procter & Gamble Company | Method for removing precipitated calcium citrate from juice pasteurization or sterilization equipment |
| JPH0294911A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-05 | Toshiba Corp | 弾性表面波素子の製造方法 |
| JP3152430B2 (ja) * | 1990-10-09 | 2001-04-03 | クロリンエンジニアズ株式会社 | 有機物被膜の除去方法 |
-
1973
- 1973-05-24 DE DE2326447A patent/DE2326447C2/de not_active Expired
-
1974
- 1974-03-29 FR FR7411895A patent/FR2231110B1/fr not_active Expired
- 1974-04-03 GB GB1469774A patent/GB1427482A/en not_active Expired
- 1974-04-17 IT IT21505/74A patent/IT1006475B/it active
- 1974-05-08 CA CA199,318A patent/CA1026220A/en not_active Expired
- 1974-05-15 JP JP49053494A patent/JPS5231712B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1026220A (en) | 1978-02-14 |
| FR2231110B1 (https=) | 1979-02-16 |
| DE2326447A1 (de) | 1974-12-12 |
| JPS5021681A (https=) | 1975-03-07 |
| IT1006475B (it) | 1976-09-30 |
| GB1427482A (en) | 1976-03-10 |
| FR2231110A1 (https=) | 1974-12-20 |
| JPS5231712B2 (https=) | 1977-08-16 |
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