DE19910363A1

DE19910363A1 - Positive, lichtempfindliche Zusammensetzung

Info

Publication number: DE19910363A1
Application number: DE19910363A
Authority: DE
Inventors: Masakazu Takata; Naoki Hisamatsu
Original assignee: Mitsubishi Paper Mills Ltd
Current assignee: Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority date: 1998-03-10
Filing date: 1999-03-09
Publication date: 1999-09-23
Anticipated expiration: 2019-03-10
Also published as: US6143471A; DE19910363B4

Abstract

Es wird eine lichtempfindliche Zusammensetzung vom Positivtyp offenbart, umfassend einen Träger und eine Aufzeichnungsschicht, die darauf vorgesehen ist, umfassend zumindest ein Polymer, das in einem alkalischen Entwickler löslich ist, einen nahe Infrarotstrahlen absorbierenden Farbstoff und eine Verbindung, die die Löslichkeit des Polymers in dem alkalischen Entwickler erniedrigt, worin ein Kontaktwinkel der Aufzeichnungsschicht 70 DEG oder höher ist und der Kontaktwinkel durch Bestrahlen mit einem nahen Infrarotstrahlenlaser erniedrigt ist.

Description

1. Gebiet der Erfindung

Diese Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit hoher Empfindlichkeit im nahen Infrarotbereich, insbesondere eine positive, lichtempfindliche Zusammensetzung, mit der es möglich ist, direkt eine Platte herzustellen, indem ein Laser mit nahem Infrarotlicht mit digitalen Signalen wie ein Computer und dergleichen verwendet wird.

2. Stand der Technik

Eine positive Druckplatte hat im allgemeinen eine Form, bei der eine lichtempfindliche Beschichtungsschicht durch Beschichten auf einem Träger vorgesehen ist. Es ist eine Druckplatte einer Art, bei der sich dann, wenn der lichtempfindliche Beschichtungsfilm einer geeigneten Strahlung ausgesetzt wird, eine Löslichkeit für einen Entwickler des lichtempfindlichen Beschichtungsfilmes an dem belichteten Bereich im Vergleich zu der des nicht-belichteten Bereiches erhöht, wodurch ein Bild gebildet und eine Platte erzeugt wird. Der Bildbereich (nicht mit Strahlung belichteter Bereich), der nach der Plattenherstellung verbleibt, ist tintenaufnehmend oder hydrophob, und der Bereich (mit Strahlung belichteter Bereich), bei der der Film aufgelöst und entfernt ist, ist wasseraufnehmend oder hydrophil, indem ein hydrophiler Träger verwendet oder eine hydrophile Schicht zwischen dem lichtempfindlichen Beschichtungsfilm und dem Träger vorgesehen wird. Bei dem Gebiet der positiven lithographischen PS-Platte wurde als lichtempfindlicher Beschichtungsfilm mit einer solchen Funktion eine Technik vorgeschlagen, bei der o-Naphthochinondiazid-5-sulfonsäurederivat und ein Phenolharz verwendet werden, wie zum Beispiel in den japanischen Patentveröffentlichungen 3627/1962, 1954/1962, 28406/1968 und 9610/1970 offenbart ist. Jedoch sind die in diesen Dokumenten offenbarten Bestrahlungen Ultraviolettstrahlen, die der Absorptionswellenlänge beim Ultraviolettbereich entspricht, den die o-Naphthochinondiazid-5-sulfonsäurederivate aufweisen. Es ist naheliegend, daß die Filme, die in den erwähnten Dokumenten offenbart sind, keine Lichtempfindlichkeit für Strahlung im nahen Infrarotbereich aufweisen.

Auf der anderen Seite gibt es in den letzten Jahren einen beachtlichen Fortschritt bei Laserstrahlen und insbesondere bei einem Halbleiterlaser mit hoher Leistung und kleiner Größe, der Infrarotstrahlen bei einer Wellenlänge von 760 bis 1200 nm strahlt, oder ein Feststofflaser kann leicht verfügbar sein. Unter Verwendung dieser Laser als Aufzeichnungslichtquelle wird es möglich, eine Platte mit einer hohen Auflösung von Digitaldaten eines Computers oder dergleichen direkt herzustellen. Somit wurden die Forschung und Entwicklung eines Plattenherstellungsmaterials der Wärmeart durch einen Laserstrahl stärker. In dem japanischen registrierten Patent 2577718 ist eine Technik unter Verwendung eines Phenolharzes, eines in der Wärme zersetzbaren Oniumsalzes und eines Farbstoffes, der nach Infrarotstrahlen absorbiert, in Kombination offenbart. Ebenso ist in den japanischen vorläufigen Patentveröffentlichungen 20629/1995, 138500/1997, 185160/1997 und 211863/1997 eine Technik unter Verwendung eines Phenolharzes, einer Brönsted- Säure vom latenten Typ und eines Farbstoffes, der nahe Infrarotstrahlen absorbiert, in Kombination offenbart. Durch geeignete Steuerung der Arten, der Molekulargewichte, des Zusammensetzungsverhältnisses der in den obigen Druckschriften offenbarten Materialien kann eine infrarotempfindliche Druckplatte vom Positiv- oder Negativtyp erhalten werden. Jedoch ist der gegenwärtige Status, daß eine infrarotempfindliche Druckplatte, die sowohl eine hohe Infrarotstrahlenempfindlichkeit als auch ausgezeichnete Lagerungsstabilität im Verlaufe der Zeit ebenso wie eine hohe Druckdauerhaftigkeit gleichzeitig aufweist, bis jetzt noch nicht entwickelt worden.

Ebenfalls ist in der japanischen Patentveröffentlichung 44416/1981 eine Technik offenbart, bei der ein alkalilösliches Harz, eine basische Verbindung und ein Photooxidationsmittel in Kombination verwendet werden. Auf der anderen Seite ist in der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung 60733/1974 oder Imaging Science, Bd. 34, S. 50 (1990) eine Technik unter Verwendung einer basischen Verbindung mit einer Nitrogruppe als Substituent, die als Fotooxidationsmittel in dem Molekül funktioniert, und ein alkalilösliches Harz in Kombination offenbart. Jedoch ist die Strahlung, die zum Aufzeichnen bei diesen Techniken verwendet wird, Ultraviolettstrahlung, die der Absorption beim Ultraviolettbereich entspricht, den das Fotooxidationsmittel selbst oder die basische Substanz selbst aufweist. Somit ist eine Kombination von Aufzeichnungsmaterialien mit Empfindlichkeit für Infrarotstrahlen nicht bekannt.

Darüber hinaus ist in den japanischen vorläufigen Patentveröffentlichungen 3165/1998 und 153863/1998 eine lichtempfindliche Zusammensetzung vom Positivtyp, umfassend ein Harz mit einer hydrophilen Gruppe, ein Thiopyryliumsalz mit einer spezifischen Struktur oder eine Metallchelatverbindung oder ein Borsalz und ein Infrarotstrahlen absorbierender Farbstoff in Kombination offenbart. Bei diesen Techniken werden durch Mischen von drei Komponenten aus (1) einem Harz, (2) einem Infrarotstrahlen absorbierenden Farbstoff und (3) einem Thiopyryliumsalz mit einer spezifischen Struktur oder einer Metallchelatverbindung oder einem Borsalz Aggregate, die in einer alkalischen Behandlungslösung schwer löslich sind, gebildet, und die Zersetzung der Aggregate wird durch An-/Abschalten von Wärme, die durch Infrarotlaserbestrahlung induziert wird, induziert, und der mit Laser bestrahlte Bereich wird aufgelöst und durch die alkalische Behandlungslösung entfernt, unter Bildung eines Bildes. Ebenso ist in der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung 43847/1997 eine Technik offenbart, bei der ein dünner Film durch eine Mischung gebildet wird, umfassend zwei Komponenten aus einem Novolakharz und einem Infrarotstrahlenabsorber, die Änderung der Kristallinität des dünnen Filmes wird durch Bestrahlen mit Infrarotlaserstrahlen induziert, wobei ein Resistmaterial unter Anwendung der Änderung der Löslichkeit des dünnen Filmes in der alkalischen Behandlungslösung gebildet wird. Jedoch sind die Laserempfindlichkeiten bei diesen Techniken gering, und der Unterschied der Löslichkeiten zwischen dem mit Infrarotlaser bestrahlten Bereich und dem nicht bestrahlten Bereich in der alkalischen Behandlungslösung gering, so daß es schwierig ist, ein klares und scharfes Bild zu bilden.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Ein Ziel dieser Erfindung liegt darin, eine lichtempfindliche Zusammensetzung vom positiven Typ anzugeben, die in der Lage ist, direkt eine Platte von Digitaldaten eines Computers, etc. herzustellen, indem unter der Verwendung eines Halbleiterlasers, der nahe Infrarotstrahlen ausstrahlt, aufgezeichnet wird, die eine ausgezeichnete Lagerungsstabilität ,aufweist und beim Druck eine gute Druckdauerhaftigkeit hat.

Das obige Ziel dieser Erfindung kann unter Verwendung einer lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp erzielt werden, die einen Träger und eine darauf vorgesehene Aufzeichnungsschicht aufweist, umfassend zumindest ein Polymer, das in einem alkalischen Entwickler löslich ist, einen Farbstoff, der nahe Infrarotstrahlen absorbiert, und eine Verbindung, die die Löslichkeit des Polymers in dem alkalischen Entwickler erniedrigt, wodurch ein Kontaktwinkel der Aufzeichnungsschicht 70° oder höher ist und der Kontaktwinkel durch Bestrahlen mit einem nahen Infrarotlaser erniedrigt wird.

BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN MERKMALE

Gemäß einem bevorzugten Merkmal dieser Erfindung umfaßt eine erfindungsgemäße Zusammensetzung, die für nahe Infrarotstrahlen empfindlich ist, einen Träger und eine darauf vorgesehene Aufzeichnungsschicht, umfassend zumindest (1) ein Polymer, das in einem alkalischen Entwickler löslich ist, (2) zumindest eine Verbindung aus einem Dihydropyridin mit einer spezifischen Struktur, einem Pyryliumsalz, einem Carbamat, einem Carbinol und einem Pinacol, und (3) einen Farbstoff, der nahe Infrarotstrahlen absorbiert, mit einer spezifischen Struktur. Die Wirkung und der Mechanismus der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung sind bisher noch nicht klar, aber es wird vermutet, daß durch gleichmäßiges Mischen von drei Komponenten aus (1) einem Polymer, das in einem alkalischen Entwickler löslich ist, (2) zumindest einer Verbindung aus einem Dihydropyridin mit einer spezifischen Struktur, einem Pyryliumsalz, einem Carbamat, einem Carbinol und einem Pinacol, und (3) einem Farbstoff, der nahe Infrarotstrahlen absorbiert, mit einer spezifischen Struktur, Aggregate oder Flocculate gebildet werden, die in einer alkalischen Behandlungslösung schwer löslich sind, und die Aggregate oder Flocculate durch Bestrahlung mit einem nahen Infrarotlaserstrahl entflockt werden und daß weiterhin eine Erniedrigung des Kontaktwinkels der Aufzeichnungsschicht durch die Entflockung der Aggregate oder Flocculate induziert wird, unter Bildung eines Bildes. Ein niedrigerer Wert des Kontaktwinkels einer Aufzeichnungsschicht mit dem Kontaktwinkel von 70° oder höher, der durch Bestrahlung mit nahem Infrarotlaserstrahl verursacht wird, ist inhärent ein äusserst kleiner Wert von 10° oder weniger. Jedoch ist es eine überraschende Tatsache, daß eine große Entwicklungsbreite von dem kleinen Unterschied bei den Kontaktwinkeln erhalten werden kann. Auf der anderen Seite wird bei dieser Erfindung keine Verbindung verwendet, die gegenüber Wärme oder Ultraviolettstrahlen instabil ist, wie ein in der Wärme zersetzbares Sulfoniumsalz, Jodoniumsalz, etc., so daß eine lichtempfindliche Zusammensetzung vom Positivtyp zur Verfügung gestellt werden kann, die eine ausgezeichnete Lagerungsstabilität und stabile Eigenschaften aufweist, selbst wenn sie in einem hellen Raum gehandhabt wird.

Als Dihydropyridinverbindung, die in der Aufzeichnungsschicht verwendet wird, kann eine Verbindung mit der folgenden Formel (I) verwendet werden. Die Verbindung kann in Kombination von zwei oder mehr verwendet werden.

worin R₁ und R₅ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Alkylgruppe bedeuten; R₂ und R₄ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine -COOR'-, -COR'- oder -CN-Gruppe sind, worin R' eine Alkylgruppe, Aralkylgruppe oder Arylgruppe ist; und R₃ eine Alkylgruppe, Alkenylgruppe, Aralkylgruppe, Aralkenylgruppe, Arylgruppe oder einen aromatischen heterozyklischen Rest bedeutet.

Spezifische Beispiele der Substituenten R₁ und R₅ können eine Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen umfassen, wie eine Methylgruppe, Ethylgruppe und dergleichen.

Spezifische Beispiele der Substituenten R₂ und R₄ können einen Esterrest wie eine Methoxycarbonylgruppe, Ethoxycarbonylgruppe, t-Butoxycarbonylgruppe, Benzyloxycarbonylgruppe, etc.; eine Acylgruppe wie eine Acetylgruppe, Benzoylgruppe, etc.; oder eine Cyanogruppe enthalten. R₂ und R₄ können weiterhin einen oder mehrere Substituenten haben.

Spezifische Beispiele des Substituenten R₃ können eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen wie eine Methylgruppe, Ethylgruppe, n-Octylgruppe, etc.; eine Alkenylgruppe mit 2 bis 12 Kohlenstoffatomen wie eine 1-Propenylgruppe, eine 3-Cyclohexenylgruppe, etc., eine Aralkylgruppe wie eine Benzylgruppe, Phenethylgruppe, etc.; eine Aralkenylgruppe wie eine Styrylgruppe, Cinnamylgruppe, etc.; eine Arylgruppe wie eine Phenylgruppe, Naphthylgruppe, 4-Methylphenylgruppe, etc.; oder einen aromatischen heterozyklischen Rest wie eine 4-Pyridylgruppe, 2-Furylgruppe etc. umfassen. R₃ kann weiterhin einen bzw. mehrere Substituenten haben.

Als Pyryliumsalz, das in der Aufzeichnungsschicht verwendet wird, kann eine Verbindung mit der folgenden Formel (II), (III) oder (IV) verwendet werden. Die Verbindung kann in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.

worin R₆, R₇ und R₈ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Alkylgruppe, Arylgruppe oder Styrylgruppe bedeuten; und X⁻ ein Gegenanion wie ein Perchloration, Tetrafluorboration, Hexafluorboration, etc. bedeutet.

worin R₉ und R₁₀ die Substituenten an dem Cyclohexanring sind, gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder ein Halogenatom sind; und X⁻ ein Gegenanion wie ein Perchloration, ein Tetrafluorboration, Hexafluorboration, etc. bedeutet.

worin R₁₁, R₁₂, R₁₃ und R₁₄ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Alkylgruppe oder Arylgruppe bedeuten; und X⁻ ein Gegenanion wie ein Perchloration, Tetrafluorboration, Hexafluorboration, etc. ist.

Spezifische Beispiele der Substituenten R₆, R₇ und R₈ in der obigen Formel (II) können eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen wie eine Methylgruppe, etc.; eine Arylgruppe wie eine Phenylgruppe, 4-Methylphenylgruppe, 4-Chlorphenylgruppe, 4-Methoxyphenylgruppe, etc.; oder eine Styrylgruppe, eine 4-Dimethylaminostyrolygruppe, etc. umfassen.

Spezifische Beispiele der Substituenten R₉ und R₁₀ in der obigen Formel (III) können eine Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen wie eine Methylgruppe, Ethylgruppe, n-Propylgruppe, Isopropylgruppe, n-Butylgruppe, t-Butylgruppe, etc.; oder ein Halogenatom wie ein Chloratom, Bromatom, etc. umfassen.

Spezifische Beispiele der Substituenten R₁₁, R₁₂, R₁₃ und R₁₄ in der obigen Formel (IV) können eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen wie eine Methylgruppe, Ethylgruppe, etc.; eine Arylgruppe wie eine Phenylgruppe, eine 4-Methylphenylgruppe, etc. umfassen.

X⁻ in den Formeln (II), (III) und (IV) bedeutet ein Gegenanion wie ein Perchloration, Tetrafluorboration, Hexafluorboration, etc.

Als Carbamat, das in der Aufzeichnungsschicht verwendet wird, kann eine Verbindung mit der folgenden Formel (V), (VI) oder (VII) verwendet werden. Die Verbindung kann in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.

worin R₁₅ eine Arylgruppe, Alkylgruppe oder Aralkylgruppe bedeutet; R₁₆ ein Wasserstoffatom, Arylgruppe, Alkylgruppe oder Aralkylgruppe bedeutet; oder R₁₅ und R₁₆ zur Bildung eines zyklischen Kohlenwasserstoffrestes gebunden sein können; und R₁₇ eine Arylgruppe, Alkylgruppe oder Aralkylgruppe ist.

worin R₁₈ eine bivalente Gruppe ist, die durch einen aliphatischen Kohlenwasserstoffrest, einen aromatischen Kohlenwasserstoffrest oder einen heterozyklischen Rest gebildet ist; und R₁₉ und R₂₀ gleich oder verschieden voneinander sein können, und jeweils eine Arylgruppe, Alkylgruppe oder Aralkylgruppe bedeuten.

worin R₂₁ eine bivalente Gruppe ist, die durch einen aliphatischen Kohlenwasserstoffrest oder einen aromatischen Kohlenwasserstoffrest gebildet ist; und R₂₂ und R₂₃ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Arylgruppe, Alkylgruppe oder Aralkylgruppe bedeuten.

Spezifische Beispiele der Substituenten R₁₅ und R₁₆ in der Formel (V) können eine Arylgruppe wie eine Phenylgruppe, p-Methylphenylgruppe, 4-Methoxyphenylgruppe, 2-Tri fluoromethylphenylgruppe, 1-Naphthylgruppe, etc.; eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen wie eine n-Propylgruppe, n-Hexylgruppe, Cyclohexylgruppe, n-Octadecylgruppe, etc.; oder eine Aralkylgruppe umfassen, wie eine Benzylgruppe, Phenethylgruppe, etc. Beispiele eines zyklischen Kohlenwasserstoffrestes, der durch Binden von R₁₅ und R₁₆ gebildet ist, können einen Kohlenwasserstoffrest umfassen, der zum Beispiel Piperidin, Pyrolidin, 1,2,3,4- Tetrahydroisochinolin, etc. bildet.

Spezifische Beispiele des Substituenten R₁₇ der Formel (V) können eine Arylgruppe wie eine Phenylgruppe, 4- Methoxyphenylgruppe, etc.; eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen wie eine Ethylgruppe, n-Hexylgruppe, etc.; oder eine Aralkylgruppe wie eine Benzylgruppe, 1,2,3,4- Tetrahydro-1-naphthylgruppe, Phenethylgruppe, etc. umfassen, die weiterhin mit einem oder mehreren Substituenten substituiert sein können.

Spezifische Beispiele des Substituenten R₁₈ in der Formel (VI) können einen bivalenten aliphatischen Kohlenwasserstoffrest wie eine Alkylengruppe mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen, einschließlich einer Ethylengruppe, Propylengruppe, Hexamethylengruppe, etc.; einen bivalenten aromatischen Kohlenwasserstoffrest wie eine Phenylengruppe, p-Xylylengruppe, m-Xylylengruppe, Naphthylengruppe, etc.; einen heterozyklischen Rest wie eine Pyridin-2,6- dimethylengruppe, Pyrazin-2,5-dimethylengruppe, etc., die weiterhin mit einen oder mehreren Substituenten substituiert sein können, umfassen.

Spezifische Beispiele der Substituenten R₁₉ und R₂₀ in der Formel (VI) können eine Arylgruppe wie eine Phenylgruppe, 3- Methylphenylgruppe, 1-Naphthylgruppe, etc.; eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, eine Ethylgruppe, eine n- Propylgruppe, t-Butylgruppe, n-Hexylgruppe, etc.; oder eine Arylkylgruppe wie eine Benzylgruppe, Phenethylgruppe etc. umfassen.

Spezifische Beispiele des Substituenten R₂₁ in der Formel (VII) können einen aliphatischen Kohlenwasserstoffrest wie eine Hexamethylengruppe, einen Isophoronrest, etc.; und einen aromatischen Kohlenwasserstoffrest wie eine m-Xylylengruppe, eine p-Xylylengruppe etc. umfassen.

Spezifische Beispiele der Substituenten R₂₂ und R₂₃ in der Formel (VII) können eine -Arylgruppe wie eine Phenylgruppe, 3- Methylphenylgruppe, 3,5-Dimethylphenylgruppe, 3- Bromphenylgruppe, Naphthylgruppe, etc.; eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen wie eine Ethylgruppe, eine t-Butylgruppe, eine n-Hexylgruppe, etc.; oder eine Aralkylgruppe wie eine Benzylgruppe, Phenethylgruppe, etc. umfassen, die weiterhin durch einen bzw. mehrere Substituenten substituiert sein können.

Als Carbinol, das in der Aufzeichnungsschicht verwendet wird, kann eine Verbindung mit der folgenden Formel (VII) verwendet werden. Die Verbindung kann in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.

worin Ar₁, Ar₂ und Ar₃ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Arylgruppe oder einen heterozyklischen Rest bedeuten.

Spezifische Beispiele der Substituenten Ar₁, Ar₂ und Ar₃ in der Formel (VIII) können eine Arylgruppe wie eine Phenylgruppe, 4-Methylphenylgruppe, 4-t-Butylphenylgruppe, 2,4-Dimethylphenylgruppe, 2,4-Dimethoxyphenylgruppe, 1-Naphthylgruppe, etc.; oder einen heterozyklischen Rest wie eine 4-Pyridylgruppe, etc. umfassen, die weiterhin durch einen bzw. mehrere Substituenten substituiert sein kann.

Als Pinacol, das in der Aufzeichnungsschicht verwendet wird, kann eine Verbindung mit der folgenden Formel (IX) verwendet werden. Die Verbindung kann in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.

worin Ar₄, Ar₅, Ar₆ und Ar₇ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Arylgruppe bedeuten.

Spezifische Beispiele der Substituenten Ar₄, Ar₅, Ar₆ und Ar₇ in der Formel (IX) können eine Arylgruppe wie eine Phenylgruppe, 3-Methylphenylgruppe, 4-Methylphenylgruppe, 4-Ethylphenylgruppe, 4-t-Butylphenylgruppe, 2,4- Dimethylphenylgruppe, 2,4-Dimethoxyphenylgruppe, Biphenylgruppe, 1-Naphthylgruppe etc. umfassen, die weiterhin durch einen bzw. mehrere Substituenten substituiert sein können.

Als Infrarotstrahlen absorbierender Farbstoff, der zu der Aufzeichnungsschicht gegeben wird, kann ein Cyaninfarbstoff mit der folgenden Formel (X) verwendet werden. Die Verbindung kann in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.

worin R₂₄ ein Wasserstoffatom, Halogenatom, eine Alkylgruppe oder eine Diphenylaminogruppe bedeutet; R₂₅ und R₂₆ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Alkylgruppe, Alkoxyalkylgruppe, Acyloxyalkylgruppe oder Sulfoalkylgruppe sind; R₂₇ und R₂₈ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils ein Wasserstoffatom, Halogenatom, Alkoxygruppe oder Phenylgruppe bedeuten und wenn R₂₇ oder R₂₈ eine Phenylgruppe bedeuten, diese mit der Phenylgruppe des Farbstoffgerüstes unter Bildung eines Naphthalinringes verschmolzen sein kann; Z₁ ein Substituent an Kohlenstoffatomen des Farbstoffgerüstes ist und eine bivalente Kohlenwasserstoffgruppe bedeutet, die einen Cyclohexenring oder einen Cyclopentenring mit den Kohlenstoffatomen des Farbstoffgerüstes bildet oder unabhängig zwei Substituenten bedeutet, ausgewählt aus einem Wasserstoffatom und einer Alkylgruppe; X₁ und X₂ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils ein Schwefelatom, eine Methylengruppe, die einen oder zwei Substituenten haben kann, oder eine unsubstituierte Vinylengruppe bedeuten; und worin der bzw. die Substituenten der Methylengruppe ausgewählt sind aus einer Alkylgruppe aus 1 bis 6 Kohlenstoffatomen oder einem Kohlenwasserstoffrest, der einen Spiroring mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen bildet, Y⁻ ein ein Paarungsanion des Farbstoffes ist, aber wenn R₂₅ und R₂₆ beide Sulfoalkylgruppen bedeuten, wird der Farbstoff selbst ein neutrales Molekül, so daß dieses nicht notwendig ist.

Spezifische Beispiele des Substituenten R₂₄ in der obigen Formel (X) können ein Wasserstoffatom, Halogenatom wie ein Chloratom, Bromatom, etc.; eine Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen wie eine Methylgruppe, Ethylgruppe, etc. oder eine Diphenylaminogruppe umfassen. Spezifische Beispiele der Substituenten R₂₅ und R₂₆ in der obigen Formel (X) können eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen wie eine Methylgruppe, Ethylgruppe, Butylgruppe etc.; eine Alkoxyalkylgruppe mit 3 bis 20 Kohlenstoffatomen wie eine Methoxyethylgruppe, Ethoxypropylgruppe, Ethoxybutylgruppe, etc., eine Acyloxyalkylgruppe mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen wie eine Acetoxyethylgruppe, Acetoxypropylgruppe, Benzoyloxyethylgruppe, etc.; oder eine Sulfoalkylgruppe mit 2 bis 6 Kohlenstoffatomen wie eine Sulfoethylgruppe, Sulfopropylgruppe, Sulfobutylgruppe, etc., umfassen, und die Sulfoalkylgruppe ist in der Form eines Salzes eines Alkalimetalls wie Natrium, Kalium, etc. Spezifische Beispiele der Substituenten R₂₇ und R₂₈ in der obigen Formel (X) können ein Wasserstoffatom, Halogenatom wie Choratom, Bromatom etc., eine Alkoxygruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen wie eine Methoxygruppe, Ethoxygruppe, etc., oder eine Phenylgruppe bedeuten, und wenn R₂₇ oder R₂₈ eine Phenylgruppe ist, kann sie mit der Phenylgruppe des Farbstoffgerüstes unter Bildung eines Naphthalinringes verschmolzen sein. Spezifische Beispiele des Substituenten Z₁ in der obigen Formel (X) ist ein Substituent an Kohlenstoffatomen des Farbstoffgerüstes und kann eine bivalente Kohlenwasserstoffgruppe, die einen Cyclohexenring oder Cyclopentenring mit den Kohlenstoffatomen des Farbstoffgerüstes bildet oder unabhängig zwei Substituenten umfassen, ausgewählt aus einem Wasserstoffatom und einer Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen wie einer Methylgruppe, Ethylgruppe, etc. Spezifische Beispiele der Substituenten X₁ und X₂ in der obigen Formel (X) können ein Schwefelatom, eine Methylgruppe, die einen oder zwei Substituenten haben kann, oder eine unsubstituierte Vinylengruppe umfassen, und der bzw. die Substituenten der Methylengruppe werden aus einer Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen wie Methylgruppe, Ethylgruppe, etc., oder einem Kohlenwasserstoffrest, der einen Spiroring mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen wie eine Cyclohexylgruppe, etc. bildet, ausgewählt. Spezifische Beispiele der Substituenten Y⁻ in der obigen Formel (X) bedeutet ein Paarungsanion des Farbstoffes wie ein Perchloration, Tetrafluorboration, Hexafluorboration, Jodion, etc., aber wenn R₂₅ und R₂₆ beides Sulfoalkylgruppe sind, wird der Farbstoff selbst ein neutrales Molekül, so daß er nicht notwendig ist.

Nachfolgend werden spezifische Beispiele der Verbindung mit der Formel (I), die in der lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp gemäß dieser Erfindung verwendet wird, angegeben, aber diese Erfindung ist nicht auf diese beschränkt.

Diese Dihydropyridinverbindung kann leicht entsprechend den Syntheseverfahren von Pyridin von Hantzsch synthetisiert werden, wie in Journal of Organic Chemistry, Bd. 30, S. 1914 (1965), Journal of Chemical Society (1946) S. 884, Organic Synthesis (Collective Volume), Bd. 2, S. 214 oder Angevante Chemie (International edition), Bd. 20, S. 762 (1981), etc. beschrieben ist.

Als nächstes werden typische Beispiele der Verbindung mit der Formel (II), die in der lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp gemäß dieser Erfindung verwendet wird, dargestellt, aber diese Erfindung ist nicht darauf beschränkt.

Diese Verbindungen können entsprechend den Syntheseverfahren leicht synthetisiert werden, die in Organic Synthesis, Bd. 44, S. 101 (1964), Helvetica Chemica Acta, Bd. 34, S. 2290, Helvetica Chemica Acta, bd. 45, S. 1918 (1962), Tetrahedron Supplement Bd. 7, S. 1 (1966), etc. beschrieben sind.

Als nächstes werden spezifische Beispiele der Verbindung mit der Formel (III), die in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp verwendet wird, gezeigt, aber diese Erfindung ist nicht darauf beschränkt.

Diese Verbindungen können durch die Syntheseverfahren synthetisiert werden, die in Chemische Berichte, Bd. 102 (1969) S. 1214, Tetrahedron, Bd. 22 (1966) S. 1821, etc. beschrieben sind.

Als nächstes werden spezifische Beispiele der durch die Formel (IV) dargestellten Verbindung, die in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp verwendet wird, unten gezeigt, aber diese Erfindung ist nicht darauf beschränkt.

Diese Verbindungen können gemäß den Syntheseverfahren synthetisiert werden, die in Tetrahedron, Bd. 27 (1971) S. 3503, etc. beschrieben sind.

Als nächstes werden spezifische Beispiele der Verbindung, dargestellt durch die Formel (V), die in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp verwendet wird, unten gezeigt, aber diese Erfindung ist nicht darauf beschränkt.

Nachfolgend werden spezifische Beispiele der Verbindung mit der Formel (VI), die in der erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp verwendet wird, unten gezeigt, aber diese Erfindung ist nicht darauf beschränkt.

Als nächstes werden spezifische Beispiele der Verbindung, dargestellt durch die Formel (VII), die in der erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp verwendet wird, unten gezeigt, aber diese Erfindung ist nicht darauf beschränkt.

Als nächstes werden spezifische Beispiele der Verbindung mit der Formel (VIII), die in der erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp verwendet wird, unten gezeigt, aber diese Erfindung ist nicht darauf beschränkt.

Als nächstes werden spezifische Beispiele der Verbindung mit der Formel (IX), die in der erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp verwendet wird, unten gezeigt, aber diese Erfindung ist nicht darauf beschränkt.

Als nächstes werden spezifische Beispiele der Verbindung mit der Formel (X) unter den Farbstoffen, die nahes Infrarot absorbieren, die in der erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp verwendet wird, unten gezeigt, aber diese Erfindung ist nicht auf diese beschränkt.

Erfindungsgemäß kann ein anderer Farbstoff zum Absorbieren von schwachen Infrarotstrahlen als die Verbindung mit der Formel (X), die oben erwähnt ist, verwendet werden, aber im Hinblick auf die Konservierungsstabilität eines lichtempfindlichen Materials vom Positivtyp im Verlaufe der Zeit ist es insbesondere bevorzugt, die Verbindung mit der obigen Formel (X) als Farbstoff mit naher Infrarotstrahlenabsorption zu verwenden.

Als Polymer, das in zumindest einem alkalischen Entwickler löslich ist, zur Verwendung in der erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp ist ein Phenolharz bevorzugt, mehr spezifisch sind ein Novolakharz, ein Resolharz oder ein Polyvinylphenolharz bevorzugt.

Als Novolakharz wird ein Material, bei dem zumindest ein aromatischer Kohlenwasserstoff wie Phenol, Cresol, Resorcinol, Pyrogallol, Bisphenol A, t-Butylphenol, 1-Nephthol, etc. mit einem Aldehyd wie Formaldehyd, Praformaldehyd, Acetaldehyd, Benzaldehyd, etc., oder einem Keton wie Aceton, Methylethylketon, etc., in der Gegenwart eines sauren Katalysators polykondensiert. Das Molekulargewicht des Novolakharzes hat bevorzugt ein Molekulargewicht im Gewichtsmittel (Mw) berechnet auf Polystyrol, gemessen durch Gelpermeationschromatographie- Analyse (GPC) von 1000 bis 15 000, mehr bevorzugt 1500 bis 10 000.

Als Resolharz wird ein Material, bei dem zumindest ein aromatischer Kohlenwasserstoff wie Phenol, Cresol, Resprcinol, Pyrogallol, Bisphenol A, t-Butylphenol, 1-Nephthol, mit einem Aldehyd wie Formaldehyd, Paraformaldehyd, Acetaldehyd, Benzaldehyd, etc., oder einem Keton wie Aceton, Methylethylketon, etc. in der Gegenwart eines basischen Katalysators polykondensiert. Das Molekulargewicht des Resolharzes hat bevorzugt ein MW gemessen durch eine GPC Analyse von 1000 bis 5000, mehr bevorzugt 1500 bis 3000.

Als Polyvinylphenolharz kann ein Homopolymer oder Copolymer von zwei oder mehreren Arten von Hydroxystyrolmonomeren, ausgewählt aus o-Hydroxystyrol, p-Hydroxystyrol, 2-(m- Hydroxyphenyl)propylen, etc. erwähnt werden. Ebenso kann es ein Harz sein, bei dem ein Teil der Hydroxylgruppen des Polyvinylphenols durch eine t-Butoxycarbonylgruppe, Pyranylgruppe, Furanylgruppe, etc. geschützt ist. Ein Mw des Polyvinylphenolharzes ist bevorzugt 1000 bis 100 000, insbesondere bevorzugt 1500 bis 50 000.

Unter den oben erwähnten Harzen ist das Novolakharz insbesondere für den Erhalt einer guten Konservierungsstabilität der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung vom Positivtyp und die Fähigkeit der Beibehaltung der mechanischen Stärke der gebildeten Bilder bevorzugt.

Die Menge des Polymers, das in einem alkalischen Entwickler löslich ist, zur Verwendung in der Aufzeichnungsschicht der lichtempfindlichen, erfindungsgemäßen Zusammensetzung vom Positivtyp ist im allgemeinen 40 bis 95 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtfeststoffkomponenten der Aufzeichnungsschicht, bevorzugt 60 bis 90 Gew.-%.

Die Menge der Verbindung mit der Formel (I), die in der Aufzeichnungsschicht der lichtempfindlichen, erfindungsgemäßen Zusammensetzung vom Positivtyp verwendet wird, ist im allgemeinen 0,5 bis 30 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtfeststoffkomponente der Aufzeichnungsschicht, bevorzugt 1 bis 10 Gew.-%. Wenn die Menge der Verbindung mit der Formel (I) zu groß ist, erniedrigt sich die Löslichkeit des Nicht- Bildbereiches (laserbestrahlter Bereich) in dem alkalischen Entwickler, während dann, wenn sie zu wenig ist, die Löslichkeitsresistenz des Bildbereiches (nicht mit Laser bestrahlter Bereich) für den alkalischen Entwickler schlecht wird.

Eine Menge der Verbindung mit der Formel (II), (III) oder (IV), die in der Aufzeichnungsschicht der erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp verwendet wird, ist im allgemeinen 0,5 bis 30 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtfeststoffkomponente der Aufzeichnungsschicht, bevorzugt 1 bis 10 Gew.-%. Wenn die Menge der Verbindung mit der Formel (II), (III) oder (IV) zu groß ist, wird die Löslichkeit des Nicht-Bildbereiches (mit Laser bestrahlter Bereich) in dem alkalischen Entwickler erniedrigt, während dann, wenn sie zu gering ist, die Löslichkeitsresistenz des Bildbereiches (nicht mit Laser bestrahlter Bereich) in dem alkalischen Entwickler schlecht wird.

Eine Menge der Verbindung der Formeln (V), (VI), (VII), (VIII) oder (IX), die in der Aufzeichnungsschicht der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp verwendet wird, ist im allgemeinen 0,5 bis 30 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtfeststoffkomponente der Aufzeichnungsschicht, bevorzugt 1 bis 10 Gew.-%. Wenn die Menge der Verbindung (V), (VI), (VII), (VIII) oder (IX) zu groß ist, wird die Löslichkeit des Nicht-Bildbereiches (mit Laser bestrahlter Bereich) in dem alkalischen Entwickler erniedrigt, während dann, wenn sie zu gering ist, die Löslichkeitsresistenz des Bildbereiches (nicht mit Laser bestrahlter Bereich) für den alkalischen Bereich schlecht wird.

Als Farbstoff, der nahes Infrarotlicht absorbiert, kann in Kombination mit der Verbindung mit der Formel (X) ein kommerziell erhältlicher Farbstoff oder Pigment mit einer lokalen maximalen Absorption der Wellenlänge von 700 bis 1200 nm verwendet werden. Mehr spezifisch können ein Azofarbstoff, Metallkomplexazofarbstoff, Naphthochinonfarbstoff, Anthrachinonfarbstoff, Phthalocyaninfarbstoff, Squaryliumfarbstoff, Metallthiolatkomplex, Thiopyryliumsalz, ein unlösliches Azopigment, Chelatazopigment, Phthalocyaninserienpigment, Perylenserienpigment, Perinonserienpigment, Ruß, Aminiumfarbstoff, Diimmoniumfarbstoff, etc. erwähnt werden. Unter diesen sind ein Phthalocyaninfarbstoff, Aminiumfarbstoff und Diimmoniumfarbstoff, die alle in einem Lösungsmittel löslich sind, insbesondere bevorzugt, weil sie die mechanische Stärke der Bilder nicht erniedrigen und die Löslichkeit an dem Nicht-Bildbereich (mit Laser bestrahlter Bereich) in dem alkalischen Entwickler nicht erniedrigen.

Wenn eine andere Art an Farbstoffen, die nahe Infrarotstrahlen absorbieren, in Kombination mit dem nahen Infrarotabsorptionsfarbstoff mit der Formel (X) verwendet wird, kann die andere Art des nahen Infrarotabsorptionsstoffes zu der Aufzeichnungsschicht, die den Farbstoff mit Absorption der nahen Infrarotstrahlen mit der Formel (X) enthält, oder in eine benachbarte Schicht gegeben werden, vorausgesetzt, daß sie benachbart zu der Aufzeichnungsschicht ist.

Die Menge der Farbstoffe mit Absorption von nahen Infrarotstrahlen, die in der erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp verwendet wird, ist, wenn sie zu der Aufzeichnungsschicht gegeben wird, im allgemeinen 1 bis 60 Gew.-%, bezogen auf die gesamten Feststoffkomponenten der Materialien in der Aufzeichnungsschicht, bevorzugt 5 bis 40 Gew.-%. Wenn ein Aminiumfarbstoff, Diimmoniumfarbstoff oder Phthalocyaninfarbstoff (nachfolgend werden diese Farbstoffe mit (b) abgekürzt) in der Aufzeichnungsschicht in Kombination mit dem Farbstoff, der nahe Infrarotstrahlen absorbiert (nachfolgend wird der Farbstoff mit (a) abgekürzt) dargestellt durch die Formel (X) verwendet wird, sind die Mengen von (a) und (b) 0,5/1 bis 20/1, ausgedrückt als Zugabegewichtsverhältnis (b/a) bevorzugt 1/1 bis 10/1. Wenn der nahe Infrarotabsorptionsfarbstoff (b) zu einer benachbarten Schicht, die zu der Aufzeichnungsschicht benachbart ist, gegeben wird, ist die Menge von (b) im allgemeinen 5 bis 70 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtfeststoffkomponenten der Materialien in der benachbarten Schicht, bevorzugt 10 bis 50 Gew.-%.

Als Aminiumfarbstoff oder Diimmoniumfarbstoff kann das folgende kommerziell erhältliche Produkt als Verbindung mit einem Absorptionspeak bei einer längeren Wellenlänge als 700 nm verwendet werden.
Aminiumfarbstoff: IRG002, IRG003 (Warenname, erhältlich von Nihon Kayaku Co.)
Diimmoniumfarbstoff: IRG022, IRG023 (Warenname, erhältlich von Nihon Kyaku Co.).

Als Phthalocyaninfarbstoff können irgendwelche kommerziell erhältlichen Farbstoffe und Pigmente verwendet werden. Im Hinblick auf die Nichtsenkung der Löslichkeit des Nichtbildbereiches (mit Laser bestrahlter Bereich) in dem alkalischen Entwickler ist ein Phthalocyanin, der in einem organischen Lösungsmittel löslich ist, insbesondere bevorzugt. Insbesondere kann das folgende, kommerziell erhältliche Phthalocyanin verwendet werden.
Excolor IR-1, Excolor IR-3 (jeweils Warenname, erhältlich von Nihon Shokubai).

Als Polymer, das in einem alkalischen Entwickler löslich ist, das in der benachbarten Schicht verwendet wird, kann vollkommen das gleiche Phenolharz verwendet werden, das in der Aufzeichnungsschicht verwendet wird. Ebenso kann zusätzlich dazu ein Acrylharz, ein Polystyrol, etc. weiterhin verwendet werden. Mehr spezifisch kann ein Polymer mit der unten gezeigten Monomereinheit erwähnt werden. Das heißt, es können N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid, p-Hydroxystyrol, p-Hydroxyphenylmethacrylat, Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäureanhydrid, Itaconsäure etc. erwähnt werden. Unter diesen ist ein Copolymer aus zumindest einem der oben erwähnten Monomeren und zumindest einem Monomer, ausgewählt aus Styrol, Methylmethacrylat, Butylacrylat, Benzylmethacrylat, Acrylonitril, etc. bevorzugt. Ein Mw dieser Harze ist bevorzugt 5000 bis 150 000, insbesondere bevorzugt 10 000 bis 100 000.

Eine Menge des Polymers, das in einem alkalischen Entwickler löslich ist, das in der zu der Aufzeichnungsschicht der erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp benachbarten Schicht verwendet wird, ist im allgemeinen 40 bis 95 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der benachbarten Schicht, bevorzugt 60 bis 90 Gew.-%.

Die benachbarte Schicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung gemäß dieser Erfindung vom Positivtyp kann in einem mittleren Bereich oder zwischen der Aufzeichnungsschicht und dem Träger oder an der obigen Schicht der Aufzeichnungsschicht vorgesehen sein. Es ist insbesondere bevorzugt, die benachbarte Schicht zwischen der Aufzeichnungsschicht und dem Träger vorzusehen, um die Schleierbildung im Hintergrund des Nicht-Bildbereiches (mit Laser bestrahlter Bereich) nach der Behandlung durch den alkalischen Entwickler zu vermindern.

In der lichtempfindlichen Zusammensetzung gemäß dieser Erfindung vom Positivtyp kann zur Erhöhung der Stabilität gegenüber der Entwicklungsbehandlung ein nicht-ionisches Tensid wie Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Stearinsäuremonoglycerid, Polyoxyethylennonylphenylether, etc. zugegeben werden. Eine Menge dieses oberflächenaktiven Mittels, das in der lichtempfindlichen Zusammensetzung zugegeben wird, ist bevorzugt 0,05 bis 15 Gew.-%, insbesondere bevorzugt 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung.

Die lichtempfindliche Zusammensetzung gemäß dieser Erfindung vom Positivtyp kann durch Auflösen der Bestandteilskomponenten in einem geeigneten Lösungsmittel und Schichten dieser auf einem geeigneten Träger hergestellt werden. Das erfindungsgemäß zu verwendende Lösungsmittel kann einen Alkohol wie Methanol, Ethanol, 1-Propanol, 1-Methoxy-2- propanol, etc.; einen Ether wie Tetrahydrofuran (THF), 1,4- Dioxan, 1,2-Dimethoxyethan, Ethylenglycolmonomethylether, etc.; ein Keton wie Aceton, Methylethylketon, Cyclohexanon, Methylisobutylketon, etc.; einen aromatischen Kohlenwasserstoff wie Toluol, Xylol, etc.; einen Ester wie Ethylacetat, Methylacetat, Isobutylacetat, etc.; ein Amid wie N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, N- Methylpyrrolidon, etc.; Dimethylsulfoxid, Wasser oder dergleichen umfassen, aber diese Erfindung ist nicht nur auf diese Lösungsmittel beschränkt. Diese Lösungsmittel können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden. Eine Feststoffkonzentration der Beschichtungslösung der lichtempfindlichen Zusammensetzung ist bevorzugt 1 bis 50 Gew.-%. Ebenso ist eine Beschichtungsmenge auf dem Träger, erhalten nach Beschichten und Trocknen, bevorzugt 0,5 bis 5,0 g/m². Als Beschichtungsverfahren können eine Stangenbeschichtung, Spinnbeschichtung, Sprühbeschichtung, Vorhangbeschichtung, Tauchbeschichtung, Luftmesserstreichbeschichtung, Messerbeschichtung, Rakebeschichtung oder dgl. erwähnt werden.

Als erfindungsgemäß zu verwendender Träger können ein Papier, ein Papier, auf das ein Kunststoff wie ein Polyethylen, etc. laminiert ist, Metall wie ein Aluminium, Zink, Kupfer, etc. eine Kunststoffolie wie Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polycarbonat, Celluloseacetat, etc., ein Kunststoff, auf dem ein Metall niedergeschlagen ist, oder dgl. erwähnt werden. Als erfindungsgemäß zu verwendender Träger ist eine Polyesterfolie oder eine Aluminiumplatte bevorzugt. Unter diesen ist eine Aluminiumplatte insbesondere bevorzugt, weil ihre Dimensionsstabilität gut ist und sie verhältnismäßig günstig ist. Eine Dicke der Aluminiumplatte ist bevorzugt 0,1 bis 1 mm, insbesondere bevorzugt 0,2 bis 0,4 mm.

Die Aluminiumplatte wird bevorzugt nach Durchführung der konventionellen, bekannten Behandlungen auf dem Gebiet der Druckplatte wie Entfettungsbehandlung, Oberflächenrauhigkeitsbehandlung, Anodisierbehandlung oder dgl. verwendet. Mit der Oberfläche der Aluminiumplatte, mit der die Anodisierbehandlung durchgeführt ist, kann weiterhin einer hydrophilen Behandlung unter Verwendung von Natriumsilicat, Kaliumfluorozirkonat, Polyvinylsulfonsäure etc. durchgeführt werden.

In der lichtempfindlichen, erfindungsgemäßen Zusammensetzung vom Positivtyp kann eine Unterschicht je nach Bedarf auf dem Träger vorgesehen sein. Als Unterschichtkomponenten können zum Beispiel Carboxymethylcellulose, Dextrin, Gummi arabicum, 2-Aminoethylphosphonsäure, Phenylphosphonsäure, Phenylphosphinsäure, Alkylphosphinsäure, Glycin, β-Alanin, Triethanolaminhydrochlorid, etc. erwähnt werden. Diese Komponenten können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden. Eine Beschichtungsmenge der Unterschicht ist bevorzugt 2 bis 200 mg/m².

Ein Material für die lithographische Druckplatte kann unter Verwendung der lichtempfindlichen, erfindungsgemäßen Zusammensetzung vom Positivtyp hergestellt werden. Dieses Plattenmaterial wird bildweise durch einen Halbleiterlaser belichtet, der nahe Infrarotstrahlen bei einer Wellenlänge von 700 bis 900 nm strahlt. Im Hinblick auf die Ausstoßleistung des Halbleiterlasers wird eine Anlage mit einer Ausstoßleistung von 100 mW bis 5 W verwendet. Die Belichtungszeit des nahen Infrarotstrahlenlasers für die lichtempfindliche Zusammensetzung wird in Abhängigkeit von der Ausstoßleistung des Halbleiterlasers aus 0,1 × 10^-6 s bis 1 × 10^-3 s ausgewählt. Erfindungsgemäß kann eine Entwicklungsbehandlung unmittelbar nach der Belichtung mit einem Laserstrahl durchgeführt werden, und es ist nicht notwendig, einen Wärmebehandlungsschritt, etc. zwischen der Laserstrahlbelichtung und der Entwicklungsbehandlung durchzuführen.

Im Hinblick auf den Kontaktwinkel der Aufzeichnungsschicht der lichtempfindlichen, erfindungsgemäßen Zusammensetzung vom Positivtyp kann dieser entsprechend dem Tröpfchenverfahren gemessen werden, bei dem ein Wassertropfen aus destilliertem Wasser, der auf eine Aufzeichnungsschicht gegeben ist, unter Verwendung einer Kontaktwinkel-Meßanlage gemessen wird. Das Meßverfahren kann entsprechend dem Verfahren durchgeführt werden, das in "Shin-Jikken Kagaku Koza" (New Experiment Chemistry Lecture), Bd. 18, S. 97, veröffentlicht von Maruzen, Japan, beschrieben ist. Ebenso ist es bei einer Druckplatte unter Verwendung einer Aufzeichnungsschicht, die hauptsächlich ein oleophiles Harz als Tintenaufnahmeschicht umfaßt, als notwendige Bedingung für die zufriedenstellende Aufnahme einer Tinte durch die Aufnahmeschicht eine bekannte Tatsache auf dem Gebiet der Druckplatte, daß der Kontaktwinkel der Aufzeichnungsschicht zumindest 50° oder mehr, bevorzugt 70° oder mehr ausmachen soll. Die Aufzeichnungsschicht der lichtempfindlichen erfindungsgemäßen Zusammensetzung vom Positivtyp hat einen Kontaktwinkel von 70° oder mehr und der Kontaktwinkel der Aufzeichnungsschicht nach der Bestrahlung mit dem nahen Infrarotlaser erniedrigt sich um maximal 10°, aber erniedrigt sich nicht weiter. Durch die Entwicklungsbehandlung unter Verwendung eines alkalischen Entwicklers kann jedoch eine große Entwicklungsbreite von dem kleinen Unterschied der Kontaktwinkel erhalten werden.

Nach der Laserbelichtung wird das Plattenmaterial einer Entwicklungsbehandlung durch einen alkalischen Entwickler unterworfen. Als Entwickler kann eine Alkalilösung verwendet werden, die konventionell bekannt ist. Eine solche Alkalisubstanz kann z. B. ein anorganisches Alkalisalz wie Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Natriumphosphat, Kaliumphosphat, Ammoniumphosphat, Natriumhydrogenphosphat, Kaliumhydrogenphosphat, Ammoniumhydrogenphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Ammoniak, Lithiumhydroxid oder dgl. umfassen. Ebenso kann ein organisches Alkalimittel wie Methylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Ethylamin, Diethylamin, Triethylamin, n- Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Ethylendiamin oder dgl. verwendet werden. Diese Alkalimittel können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden. Unter diesen Alkalimitteln sind insbesondere bevorzugt wässrige Silicatlösungen eines Alkalimetalls wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, etc.

Ebenso können verschiedene oberflächenaktive Mittel oder organische Lösungsmittel nach Bedarf zur Entwicklungslösung gegeben werden, um die Entwicklungsrate zu steuern, Entwicklungstonen zu dispergieren oder die Tintenaffinität an einem Bildbereich einer Druckplatte zu erhöhen. Ebenso können nach Bedarf ein organisches Reduktionsmittel wie Hydrochinon, Natriumsulfit, Natriumhydrogensulfit, etc., ein Entschäumungsmittel, ein Chelatisiermittel zum Weichmachen von hartem Wasser etc. zu dem Entwickler gegeben werden.

Die mit dem Entwickler behandelte Platte wird einer Nachbehandlung durch Waschwasser, eine Spüllösung, umfassend ein oberflächenaktives Mittel, eine Entsensibilisierlösung, umfassend Gummi arabicum, ein Stärkederivat, etc. behandelt. Wenn die erfindungsgemäße, lichtempfindliche Zusammensetzung vom Positivtyp in einer Druckplatte verwendet wird, werden mit der Platte diese Behandlungen in unterschiedlicher Kombination durchgeführt, und dann wird sie für eine Offset- Druckmaschine, etc. verwendet, zum Drucken einer Anzahl von Blättern.

BEISPIELE

Nachfolgend werden die Wirkungen dieser Erfindung detailliert erläutert, aber diese Erfindung ist nicht durch diese Beispiele beschränkt. Übrigens bedeuten alle Teile und %- Angaben in den Beispielen Gewichtsteile bzw. Gew.-%.

(Herstellung einer Aluminiumplatte)

Eine Aluminiumplatte (Material: 1050) mit einer Dicke von 0,30 mm wurde einer Entfettungsbehandlung (40°C für 10 sec) in einer 5%igen wässrigen Natriumhydroxidlösung, einem elektrolytischen Ätzen (25°C bei einer Stromdichte von 40 A/dm² für 30 s) in 0,5 Mol/l einer wässrigen Salzsäurelösung, einer Entschmutzungsbehandlung (30°C für 10 s) in einer 5%igen wässrigen Natriumhydroxidlösung und anschließend einer Anodisierbehandlung (20°C bei einer Stromdichte von 5 A/dm² für 1 min) in einer 20%igen wässrigen Schwefelsäurelösung unterworfen, zur Herstellung einer Aluminiumplatte, die für einen Träger einer lithographischen Druckplatte verwendet wird.

Beispiel 1

Eine lichtempfindliche Lösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 1, wurde auf einer Aluminiumplatte mit einem Drahtbarren geschichtet und 20 min bei 40°C getrocknet, unter Erhalt einer für nahes Infrarotlicht empfindlichen Zusammensetzungsplatte mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 4,1 g/m². Diese Platte wurde an eine Rotationstrommel befestigt, und die Abtastbelichtung wurde durch Ausblenden eines Halbleiterlasers (Ausstoßleistung von 500 mW) bei 830 nm bis 20 µm durch eine Linse durchgeführt. Die lichtempfindliche Zusammensetzungsplatte nach der Belichtung wurde unter Verwendung eines Entwicklers MX1710 (Warenname, erhältlich von Eastman Kodak AG, für eine thermische Druckplatte) bei 25°C für 30 min entwickelt. Die Empfindlichkeit wurde als Energiewert von einer Trommelrotationsrate gemessen, bei der das resultierende Bild 20 µm Breite ergab, und der Wert wurde als Anfangsempfindlichkeit genommen. Auf der anderen Seite konnte eine Probe, die durch die gleiche Beschreibung hergestellt war, in einem Ofen bei einer Temperatur von 60°C 6 Tage lang stehen, wodurch die Probe beschleunigt zerstört wurde. Dann wurde ein Energiewert auf gleiche Weise wie oben erhalten und der Wert als Empfindlichkeit nach der Zerstörung verwendet. Als nächstes wurde ein Empfindlichkeitsbeibehaltungsverhältnis entsprechend der folgenden Formel erhalten:

Empfindlichkeitsbeibehaltungsverhältnis = (1/Empfindlichkeit nach der Zerstörung) (1/anfängliche Empfindlichkeit)

Beschreibung 1

m-Cresolnovolakharz (BRM565; MW=2500 bis 3500, erhältlich von Showa Kobunshi Ca,) 20%ige Methanollösung 50 Teile
Beispielhafte Verbindung (X-9) 10%ige Methanolfeststoffdispersion 40 Teile
Beispielhafte Verbindung (I-4) 5%ige Methylethylketonlösung 10 Teile.

Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.

Tabelle 1

Die somit erhaltene lithographische Druckplatte wurde auf eine Offset-Druckpresse (3200MCD, Warenname, hergestellt von Ryobi K.K.) befestigt und das Abziehen wurde bis zu 150 000 Blättern durchgeführt. Als Ergebnis wurden Materialien mit einer ausgezeichneten Druckqualität ohne jegliche Flecken am Nicht-Bildbereich erhalten.

Beispiele 2 bis 7

Gemäß der Beschreibung 1 von Beispiel 1 wurde eine für nahes Infrarot empfindliche Zusammensetzung durch unterschiedliches Austauschen der beispielhaften Verbindung mit der Formel (I) und der Formel (X) hergestellt. Die gleichen Experimente wurden wie bei Beispiel 1 durchgeführt, und die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt. Ebenso wurden die somit erhaltenen lithographischen Druckplatten jeweils auf eine Offset- Druckpresse (3200 MCD, Warenname, hergestellt von Ryobi K.K.) befestigt, und das Abziehen wurde bis zu 150 000 Blättern durchgeführt. Als Ergebnis wurden Druckmaterialien mit ausgezeichneter Druckqualität ohne jegliche Flecken beim Nicht-Bildbereich erhalten.

Tabelle 2

Beispiel 8

Eine Unterbeschichtungslösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 2, wurde auf eine Aluminiumplatte für eine Druckplatte unter Verwendung eines Drahtbarrens geschichtet und bei 80°C 30 s lang getrocknet. Die Beschichtungsmenge davon war 10 mg/m². Als nächstes wurde eine lichtempfindliche Lösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 3, auf die Unterschicht durch einen Drahtbarren geschichtet und bei 40°C 20 min lang getrocknet, unter Erhalt einer für nahes Infrarot lichtempfindlichen Zusammensetzungsplatte mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 4,1 g/m². Diese Platte wurde an eine Rotationstrommel befestigt und die Abtastbelichtung durch Ausblenden eines Halbleiterlasers (Ausstoßleistung 500 mW) bei 830 nm bis 20 µm durch eine Linse durchgeführt. Die lichtempfindliche Zusammensetzungsplatte nach der Belichtung wurde unter Verwendung eines Entwicklers MX1710 (Warenname, erhältlich von Eastman Kodak AG, für eine thermische Druckplatte) bei 25°C 30 s entwickelt. Eine Empfindlichkeit wurde als Energiewert von einer Trommelrotationsrate gemessen, bei der das resultierende Bild 20 µm Breite ergab und der Wert wurde als Anfangsempfindlichkeit genommen. Auf der anderen Seite konnte eine Probe, die durch die gleiche Beschreibung hergestellt war, in einem Ofen bei einer Temperatur von 60°C 6 Tage stehen, wodurch die Probe beschleunigt zerstört wurde. Dann wurde ein Energiewert auf gleiche Weise wie oben erhalten und der Wert als Empfindlichkeit nach der Zerstörung genommen. Als nächstes wurde ein Empfindlichkeitsbeibehaltungsverhältnis entsprechend der folgenden Formel erhalten:

Beschreibung 2

β-Alanin: 0,1 Teile
Phenylphosphonsäure: 0,05 Teile
Methanol: 40 Teile
Wasser: 60 Teile.

Beschreibung 3

m-Cresolnovolak-Harz (BRM565; Mw=2500 bis 3500, erhältlich von Showa Kobunshi Co.) 20%ige Methanollösung 25 Teile
o-Cresolnovolak-Harz (CRG951; Mw=1200 bis 1400, erhältlich von Showa Kubunshi Co.) 20%ige Methanollösung 25 Teile
Beispielhafte Verbindung (X-9) 10%ige Methanol- Feststoffdispersion 40 Teile
Beispielhafte Verbindung (I-4) 5%ige Methylethylketonlösung 10 Teile.

Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.

Tabelle 3

Die somit erhaltene lithographische Druckplatte wurde auf eine Offset-Druckpresse (3200MCD, Warenname, hergestellt von Ryobi K.K.) befestigt und ein Abziehen wurde bis zu 150 000 Blättern durchgeführt. Als Ergebnis wurden Druckmaterialien mit ausgezeichneter Druckqualität ohne jegliche Flecken am Nicht-Bildbereich erhalten.

Vergleichsbeispiel 1

Eine lichtempfindliche Lösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 4, wurde auf die Unterschicht durch einen Drahtbarren geschichtet und bei 40°C 20 min lang getrocknet, unter Erhalt einer für nahes Infrarotlicht lichtempfindlichen Zusammensetzungsplatte mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 4,1 g/m². Diese Platte wurde an eine Rotationstrommel befestigt und die Abtastbelichtung durch Ausblenden eines Halbleiterlasers (Ausstoßleistung 500 mW) bei 830 nm bis 20 µm durch eine Linse durchgeführt. Die lichtempfindliche Zusammensetzungsplatte nach der Belichtung wurde unter Verwendung eines Entwicklers MX1710 (Warenname, erhältlich von Eastman Kodak AG, für eine thermische Druckplatte) bei 25°C 30 s entwickelt. Eine Empfindlichkeit wurde als Energiewert von einer Trommelrotationsrate gemessen, bei der das resultierende Bild 20 µm Breite ergab und der Wert wurde als Anfangsempfindlichkeit genommen. Auf der anderen Seite konnte eine Probe, hergestellt durch die gleiche Beschreibung, in einem Ofen bei einer Temperatur von 60°C 6 Tage lang stehen, wodurch die Probe beschleunigt zerstört wurde. Somit wurde ein Energiewert auf gleiche Weise wie oben erhalten und der Wert als Empfindlichkeit nach der Zerstörung genommen. Durch Stehenlassen der Probe in einem Ofen für 6 Tage ging die Löslichkeit an den mit Laserstrahlen bestrahlen Bereich vollständig verloren und die Probe hatte keine Funktion als Druckplatte. Die Ergebnisse sind in Tabelle 4 gezeigt.

Beschreibung 4

m-Cresolnovolak-Harz (BRM565; Mw=2500 bis 3500 erhältlich von Showa Kobunshi Co.) 20%ige Methanollösung 10 Teile
Resolharz aus der Cresolserie (BSK326; Mw=2400, erhältlich von Showa Kobunshi Co.) 20%ige Butanollösung 40 Teile
Beispielhafte Verbindung (X-9) 10%ige Methanolfeststoffdispersion 40 Teile
Triphenylsulfoniumtetrafluorborat 5%ige Methanollösung 30 Teile.

Tabelle 4

Beispiel 9

Eine lichtempfindliche Lösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung S, wurde auf eine Aluminiumplatte durch einen Drahtbarren geschichtet und bei 40°C 20 min lang geschichtet, unter Erhalt einer für nahes Infrarotlicht empfindlichen Zusammensetzungsplatte mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 1,3 g/m². Diese Platte wurde an eine Rotationstrommel befestigt und die Abtastbelichtung durch Ausblenden eines Halbleiterlasers (Ausstoßleistung: 500 mW) bei 830 nm bis 20 µm durch eine Linse durchgeführt. Die lichtempfindliche Zusammensetzungsplatte nach der Belichtung wurde unter Verwendung eines Entwicklers mit der folgenden Beschreibung 6 bei 30°C 30 s durchgeführt. Eine Empfindlichkeit wurde als ein Energiewert von einer Trommelrotationsrate gemessen, bei der das resultierende Bild 20 µm Breite erhielt und der Wert als Anfangsempfindlichkeit genommen. Auf der anderen Seite konnte eine Probe, die durch die gleiche Beschreibung hergestellt war, in einem Ofen bei einer Temperatur von 60°C 6 Tage lang stehen, wodurch die Probe beschleunigt zerstört wurde. Dann wurde ein Energiewert auf gleiche Weise wie oben erwähnt erhalten und der Wert als Empfindlichkeit nach der Zerstörung genommen. Als nächstes wurde ein Empfindlichkeitsbeibehaltungsverhältnis der folgenden Formel erhalten:

Beschreibung 5

Cresolnovolakharz (PR51767; Mw=4800; erhältlich von Sumitomo Durez Co.) 20%ige Methanollösung 50 Teile
Beispielhafte Verbindung (X-8) 2,5%ige Methanollösung 40 Teile
Beispielhafte Verbindung (I-4) 5%ige Methanollösung 10 Teile.

Beschreibung 6

8%ige wässrige Kaliumsilicatlösung: 1000 Teile
Kaliumhydroxid: 35 Teile
Glycerin: 30 Teile.

Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 gezeigt.

Tabelle 5

Die somit erhaltene lithographische Druckplatte wurde auf eine Offset-Druckplatte (3200MCD, Warenname, hergestellt von Ryobi K.K.) befestigt und ein Abziehen wurde bis zu 150 000 Blättern durchgeführt. Als Ergebnis wurden Druckmaterialien mit ausgezeichneter Druckqualität ohne jegliche Flecken beim Nichtbildbereich erhalten.

Beispiel 10

Eine lichtempfindliche Lösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 7, wurde auf eine Aluminiumplatte durch einen Drahtbarren geschichtet und bei 90°C für 20 min getrocknet, unter Erhalt einer für nahes Infrarotlicht empfindlichen Zusammensetzungsplatte mit einer Beschichtungsmenge von 1,3 g/m². Diese Platte wurde an einer Rotationstrommel befestigt und die Abtastbelichtung durch Ausblenden des Halbleiterlasers (Ausstoßleistung 500 mW) bei 830 nm bis 20 µm durch eine Linse durchgeführt. Die lichtempfindliche Zusammensetzungsplatte nach der Belichtung wurde unter Verwendung eines Entwicklers MX1710 (Warenname, erhältlich von Eastman Kodak AG, für eine thermische Druckplatte) bei 25°C 30 s entwickelt. Eine Empfindlichkeit wurde als Energiewert von einer Trommelrotationsrate gemessen, bei der das resultierende Bild 20 µm Breite ergab, und der Wert wurde als Anfangsempfindlichkeit genommen. Auf der anderen Seite konnte eine Probe, die durch die gleiche Beschreibung hergestellt war, in einem Ofen bei einer Temperatur von 60°C 6 Tage lang stehen, wodurch die Probe beschleunigt zerstört wurde. Dann wurde ein Energiewert auf gleiche Weise wie oben erhalten und der Wert als Empfindlichkeit nach der Zerstörung genommen. Als nächstes wurde ein Empfindlichkeitsbeibehaltungsverhältnis entsprechend der folgenden Formel erhalten:

Beschreibung 7

m-Cresolnovolakharz (BRM565; Mw=2500 bis 3500, erhältlich von Showa Kobunshi Co.) 20%ige Methanollösung 50 Teile
Beispielhafte Verbindung (X-9) 10%ige Methanolfeststoffdispersion 40 Teile
Beispielhafte Verbindung (II-2) 2, 5%ige Methoxyethanollösung 20 Teile.

Die Ergebnisse sind in Tabelle 6 gezeigt.

Tabelle 6

Die somit erhaltene lithographische Druckplatte wurde auf eine Offset-Druckplatte (3200 MCD, Warenname, hergestellt von Ryobi K.K.) befestigt und ein Abziehen bis zu 150 000 Blättern durchgeführt. Als Ergebnis wurden Druckmaterialien mit ausgezeichneter Druckqualität ohne Flecken am Nicht-Bildbereich erhalten.

Beispiele 11 bis 16

Gemäß der Beschreibung 7 von Beispiel 10 wurden für nahes Infrarotlicht empfindliche Zusammensetzungen hergestellt, indem die beispielhaften Verbindungen ausgetauscht wurden. Die gleichen Experimente wurden wie bei Beispiel 10 durchgeführt und die Ergebnisse sind in Tabelle 7 gezeigt. Die somit erhaltenen lithographischen Druckplatten wurden ebenfalls jeweils auf eine Offset-Druckpresse (3200MCD, Warenname, hergestellt von Ryobi K.K.) befestigt und das Abziehen bis zu 150 000 Blättern durchgeführt. Als Ergebnis wurden Druckmaterialien mit ausgezeichneter Druckqualität ohne jegliche Flecken beim Nicht-Bildbereich erhalten.

Tabelle 7

Beispiel 17

Eine Unterbeschichtungslösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 8, wurde auf eine Aluminiumplatte für eine Druckplatte unter Verwendung eines Drahtbarrens geschichtet und bei 80°C 30 s lang getrocknet. Die Beschichtungsmenge davon war 10 mg/m². Als nächstes wurde eine lichtempfindliche Lösung₁ hergestellt durch die folgende Beschreibung 9, auf die Unterschicht durch einen Drahtbarren geschichtet und bei 90°C für 20 min getrocknet, um eine für nahes Infrarotlicht empfindliche Zusammensetzungsplatte mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 1,7 g/m² zu erhalten. Diese Platte wurde an eine Rotationstrommel befestigt und eine Abtastbelichtung durch Ausblenden eines Halbleiterlasers (Ausstoßleistung 500 mW) bei 830 nm bis 20 µm durch eine Linse durchgeführt. Die lichtempfindliche Zusammensetzungsplatte nach der Belichtung wurde unter Verwendung einer 10%igen wässrigen Natriummetasilicatlösung bei 25°C 30 s entwickelt. Eine Empfindlichkeit wurde als Energiewert von einer Trommelrotationsrate gemessen, bei der das resultierende Bild 20 µm Breite ergab, und der Wert wurde als Anfangsempfindlichkeit genommen. Auf der anderen Seite konnte eine Probe, hergestellt durch die gleiche Beschreibung, in einem Ofen bei einer Temperatur von 60°C für 6 Tage stehen, wodurch die Probe beschleunigt zerstört wurde. Dann wurde ein Energiewert auf gleiche Weise wie oben erhalten und der Wert als Empfindlichkeit nach der Zerstörung genommen. Als nächstes wurde ein Empfindlichkeitsbeibehaltungsverhältnis entsprechend der folgenden Formel erhalten:

Beschreibung 8

Beschreibung 9

Cresolnovolakharz (PR51767; Mw=4800, erhältlich von Sumitomo Durez Co.) 20%ige Methanollösung 50 Teile
Beispielhafte Verbindung (X-8) 10%ige Methanolfeststoffdispersion 10 Teile
Beispielhafte Verbindung (II-3) 5%ige Methanollösung 5 Teile.

Die Ergebnisse sind in Tabelle 8 gezeigt.

Tabelle 8

Die somit erhaltene lithographische Druckplatte wurde auf eine Offset-Druckpresse (3200 MCD, Warenname, hergestellt von Ryobi K.K.) befestigt und ein Abziehen wurde bis zu 150 000 Blättern durchgeführt. Als Ergebnis wurden Druckmaterialien mit ausgezeichneter Druckqualität ohne jegliche Flecken am Lichtbildbereich erhalten.

Vergleichsbeispiel 2

Eine lichtempfindliche Lösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 10 wurde auf die untere Schicht durch einen Drahtbarren geschichtet und bei 90°C für 20 min getrocknet, unter Erhalt einer für das nahe Infrarotlicht empfindlichen Zusammensetzungsplatte mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 1,3 g/m². Die Platte wurde an eine Rotationstrommel befestigt und die Abtastbelichtung durch Ausblenden eines Halbleiterlasers (Ausstoßleistung: 500 mW) bei 830 nm bis 20 µm durch eine Linse durchgeführt. Die Druckplatte nach der Belichtung wurde unter Verwendung eines Entwicklers MX1710 (Warenname, erhältlich von Eastman Kodak AG für eine thermische Druckplatte) bei 25°C 30 s entwickelt. Eine Empfindlichkeit wurde als Energiewert von einer Trommelrotationsrate gemessen, bei der das resultierende Bild 20 µm Breite ergab, und der Wert wurde als anfängliche Empfindlichkeit genommen. Auf der anderen Seite konnte eine Probe, hergestellt durch die gleiche Beschreibung, in einem Ofen bei einer Temperatur von 60°C 6 Tage lang stehen, wodurch die Probe beschleunigt zerstört wurde. Dann wurde ein Energiewert auf gleiche Weise wie oben erwähnt erhalten und der Wert als Empfindlichkeit nach der Zerstörung genommen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 9 gezeigt. Wie von den Ergebnissen gemäß der Tabelle ersichtlich ist, kann gefunden werden, daß die Anfangsempfindlichkeit niedrig und die Zerstörung der Empfindlichkeit durch beschleunigte Zerstörung beachtlich ist.

Beschreibung 10

m-Cresolnovolakharz (BRM565; Mw=2500 bis 3500, erhältlich von Showa Kobunshi Co.) 20%ige Methanollösung 50 Teile
Beispielhafte Verbindung (X-9) 10%ige Methanolfeststoffdispersion 40 Teile
Beispielhafte Verbindung K 2,5%ige Methoxyethanollösung 20 Teile

Tabelle 9

Beispiel 18

Eine lichtempfindliche Lösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 11, wurde auf eine Aluminiumplatte durch einen Drahtbarren geschichtet und bei 40°C für 20 min getrocknet, unter Erhalt einer für das nahe Infrarotlicht empfindlichen Zusammensetzungsplatte mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 1,3 g/m². Diese Platte wurde an eine Rotationstrommel befestigt und die Abtastbelichtung durch Ausblenden eines Halbleiterlasers (Ausstoßleistung: 500 mW) bei 830 nm bis 20 µm durch eine Linse durchgeführt. Die lichtempfindliche Zusammensetzungsplatte nach der Belichtung wurde unter Verwendung eines Entwicklers MX1710 (Warenname, erhältlich von Eastman Kodak AG, für eine thermische Druckplatte) bei 25°C 30 s entwickelt. Eine Empfindlichkeit wurde als Energiewert von einer Trommelrotationsrate gemessen, bei der das resultierende Bild 20 µm Breite ergab, und der Wert wurde als Anfangsempfindlichkeit genommen. Auf der anderen Seite konnte eine Probe, hergestellt durch die gleiche Beschreibung, in einem Ofen bei einer Temperatur von 60°C 6 Tage lang stehen, wodurch die Probe beschleunigt zerstört wurde. Dann wurde ein Energiewert auf gleiche Weise wie oben erhalten und der Wert als Empfindlichkeit nach der Zerstörung genommen. Als nächstes wurde ein Empfindlichkeitkeitsbeibehaltungsverhältnis entsprechend der folgenden Formel erhalten:

Beschreibung 11

m-Cresolnovolakharz (BRM565; Mw=2500 bis 3500, erhältlich von Showa Kobunshi Co.) 20%ige Methanollösung 50 Teile
Beispielhafte Verbindung (X-8) 5%ige Methanolfeststoffdispersion 40 Teile
Beispielhafte Verbindung (V-2) 5%ige Methanollösung 10 Teile.

Die Ergebnisse sind in Tabelle 10 gezeigt.

Tabelle 10

Beispiele 19 bis 27

Gemäß der Beschreibung 11 bei Beispiel 18 wurde eine für nahes Infrarotlicht empfindliche Zusammensetzung durch unterschiedliches Austauschen der beispielhaften Verbindungen hergestellt. Die gleichen Experimente wurden wie bei Beispiel 18 durchgeführt, und die Ergebnisse sind in Tabelle 11 gezeigt. Ebenso wurden die somit erhaltenen lithographischen Druckplatten jeweils auf eine Offset-Druckpresse (3200 MCD, Warenname, hergestellt von Ryobi K.K.) befestigt und das Abziehen bis zu 150 000 Blättern durchgeführt. Als Ergebnis wurden Druckmaterialien mit ausgezeichneter Druckqualität ohne jegliche Flecken am Nicht-Bildbereich erhalten.

Tabelle 11

Beispiel 28

Eine Unterbeschichtungslösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 12, wurde auf eine Aluminiumplatte für eine Druckplatte unter Verwendung eines Drahtbarrens geschichtet und bei 80°C 30 s getrocknet. Die Beschichtungsmenge davon war 10 mg/m². Als nächstes wurde eine lichtempfindliche Lösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 13, auf die Unterschicht durch einen Drahtbarren geschichtet und bei 90°C für 20 min getrocknet, unter Erhalt einer für das nahe Infrarotlicht empfindlichen Zusammensetzungsplatte mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 1,7 g/m². Diese Platte wurde an eine Rotationstrommel befestigt und eine Abtastbelichtung durch Ausblenden eines Halbleiterlasers (Ausstoßleistung 500 mW) bei 830 nm bis 20 µm durch eine Linse durchgeführt. Die lichtempfindliche Zusammensetzungsplatte nach der Belichtung wurde unter Verwendung einer 10%igen, wässrigen Natriummetasilicatlösung bei 25°C 30 s entwickelt. Eine Empfindlichkeit wurde als Energiewert von einer Trommelrotationsrate gemessen, bei der das resultierende Bild 20 µm Breite ergab, und der Wert wurde als Anfangsempfindlichkeit genommen. Auf der anderen Seite konnte eine Probe, hergestellt durch die gleiche Beschreibung, in einem Ofen bei einer Temperatur von 60°C 6 Tage stehen, wodurch die Probe beschleunigt zerstört wurde. Dann wurde ein Energiewert auf gleiche Weise wie oben erhalten und der Wert wurde als Empfindlichkeit nach der Zerstörung genommen. Als nächstes wurde ein Empfindlichkeitsbeibehaltungsverhältnis entsprechend der folgenden Formel erhalten:

Beschreibung 12

β-Alanin: 0,1 Teile
Phenylphosphonsäure: 0,05 Teile
Methanol: 40 Teile
Wasser: 60 Teile

Beschreibung 13

Cresolnovolakharz (PR51767; Mw=4800, erhältlich von Sumitomo Durez Co.) 20%ige Methanollösung 50 Teile
Beispielhafte Verbindung (X-8) 10%ige Methanolfeststoffdispersion 20 Teile
Beispielhafte Verbindung (VI-4) 5%ige Methanollösung 5 Teile.

Die Ergebnisse sind in Tabelle 12 gezeigt

Tabelle 12

Beispiel 29

Eine Beschichtungslösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 14, wurde auf eine Aluminiumplatte durch einen Drahtbarren geschichtet und bei 90°C 20 min getrocknet, zur Bildung einer benachbarten Schicht, die einen Farbstoff, der nahe Infrarotstrahlen absorbiert, enthält, mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 0,8 g/m². Ebenso wurde eine Beschichtungslösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 15, darauf durch einen Drahtbarren geschichtet und bei 20°C 20 min getrocknet, zum Laminieren einer Aufzeichnungsschicht mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 1,3 g/m². Die somit hergestellte Platte wurde an eine Rotationstrommel befestigt und eine Abtastbelichtung durch Ausblenden eines Halbleiterlasers (Ausstoßleistung 500 mW) bei 830 nm bis 20 µm durch eine Linse durchgeführt. Die lichtempfindliche Zusammensetzungsplatte nach der Belichtung wurde unter Verwendung einer 10%igen, wässrigen Natriummetasilicatlösung bei 25°C 30 s entwickelt. Eine Empfindlichkeit wurde als Energiewert von einer Trommelrotationsrate gemessen, bei der das resultierende Bild 20 µm Breite ergab, und der Wert wurde als Anfangsempfindlichkeit genommen. Auf der anderen Seite konnte eine Probe, hergestellt durch die gleiche Beschreibung, in einem Ofen bei einer Temperatur von 60°C 6 Tage stehen, wodurch die Probe beschleunigt zerstört wurde. Dann wurde ein Energiewert auf gleiche Weise wie oben erhalten und der Wert als Empfindlichkeit nach der Zerstörung genommen. Als nächstes wurde ein Empfindlichkeitsbeibehaltungsverhältnis entsprechend der folgenden Formel erhalten:

Beschreibung 14

m-Cresolnovolakharz (BRM565; Mw=2500 bis 3500, erhältlich von Showa Kobunshi Co.) 20%ige Methanollösung 50 Teile
Excolor IR-1 (erhältlich von Nihon Shokubai K.K.) 5%ige Methanollösung 40 Teile

Beschreibung 15

m-Cresolnovolakharz (BRM565; Mw=2500 bis 3500, erhältlich von Showa Kobunshi Co.) 20%ige Methanollösung 50 Teile
Beispielhafte Verbindung (X-9) 10%ige Methanolfeststoffdispersion 20 Teile
Beispielhafte Verbindung (I-4) 5%ige Methylethylketonlösung 20 Teile.

Die Ergebnisse sind in Tabelle 13 gezeigt

Tabelle 13

Beispiele 30 bis 33

Gemäß der Beschreibung 14 von Beispiel 29 wurde eine benachbarte Schicht mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 0,8 g/m² vorgesehen, und weiterhin wurde gemäß der Beschreibung 15 eine Aufzeichnungsschicht darauf laminiert, in dem die beispielhaften Verbindungen der Verbindung (I) und (X) mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 1,3 g/m² ausgetauscht wurden. Die gleichen Experimente wurden wie bei Beispiel 29 durchgeführt, indem die somit hergestellten, für das nahe Infrarotlicht empfindlichen Zusammensetzungsplatten verwendet wurden. Die Ergebnisse sind in Tabelle 14 gezeigt. Ebenso wurden die erhaltenen lithographischen Druckplatten jeweils auf einer Offset-Druckpresse (3200 MCD, Warenname, hergestellt von Ryobi K.K.) befestigt und ein Abziehen bis zu 150 000 Blättern durchgeführt. Als Ergebnis wurden Druckmaterialien mit ausgezeichneter Druckqualität ohne jegliche Flecken am Nichtbildbereich erhalten.

Tabelle 14

Beispiel 34

Eine Unterbeschichtungslösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 16, wurde auf eine Aluminiumplatte unter Verwendung eines Drahtbarrens geschichtet und bei 80°C 30 s getrocknet. Die Beschichtungsmenge davon war 10 mg/m². Ebenso wurde eine Beschichtungslösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 17, darauf durch einen Drahtbarren geschichtet und bei 90°C 20 min getrocknet, zum Laminieren einer Aufzeichnungsschicht mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 1,4 g/m². Die somit erhaltene, für das nahe Infrarotlicht empfindliche Zusammensetzungsplatte wurde an eine Rotationstrommel befestigt und eine Abtastbelichtung durch Ausblenden eines Halbleiterlasers (Ausstoßleistung: 500 mW) bei 830 nm bis 20 µm durch eine Linse durchgeführt. Die lichtempfindliche Zusammensetzungsplatte nach der Belichtung wurde unter Verwendung einer 10%igen, wässrigen Natriummetasilicatlösung bei 25°C 30 s entwickelt. Eine Empfindlichkeit wurde als Energiewert von einer Trommelrotationsrate gemessen, bei der das resultierende Bild 20 µm Breite ergab, und der Wert wurde als Anfangsempfindlichkeit genommen. Auf der anderen Seite konnte eine Probe, hergestellt durch die gleiche Beschreibung, in einem Ofen von 60°C 6 Tage lang stehen, wodurch die Probe beschleunigt zerstört wurde. Dann wurde ein Energiewert auf gleiche Weise wie oben erwähnt erhalten, und der Wert wurde als Empfindlichkeit nach der Zerstörung genommen. Als nächstes wurde ein Empfindlichkeitsbeibehaltungsverhältnis entsprechend der folgenden Formel erhalten:

Beschreibung 16

Beschreibung 17

Cresolnovolakharz (PR51767; Mw=4800, erhältlich von Sumitomo Durez Co.) 20%ige Methanollösung 50 Teile
Beispielhafte Verbindung (I-4) 5%ige Methylethylketonlösung 10 Teile.
Beispielhafte Verbindung (X-9) 5%ige Methylethylketonlösung 20 Teile
Excolor IR-3 (erhältlich von Nihon Shokubai K.K.) 5%ige Methanollösung 40 Teile

Die Ergebnisse sind in Tabelle 15 gezeigt.

Beispiel 35

Auf gleiche Weise wie bei Beispiel 34, mit der Ausnahme, daß der nahe Infrarotstrahlen absorbierende Farbstoff Excolor IR-3 gemäß Beschreibung 17 durch den Diimmoniumfarbstoff: IRG023 (Warenname, erhältlich von Nihon Kayaku K.K.) ausgetauscht wurde, wurde eine für nahes Infrarotlicht empfindliche Zusammensetzung hergestellt und die Auswertung wie bei Beispiel 34 durchgeführt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 16 gezeigt.

Tabelle 16

Beispiel 36

Eine lichtempfindliche Lösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 18 wurde auf eine Aluminiumplatte durch einen Drahtbarren geschichtet und bei 90°C 10 min getrocknet, unter Erhalt einer für das nahe Infrarotlicht empfindlichen Zusammensetzungsplatte mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 1,3 g/m². Diese Platte wurde an eine Rotationstrommel befestigt und die Abtastbelichtung durch Ausblenden eines Halbleiterlasers (Ausstoßleistung 500 mW) bei 830 nm bis 20 µm durch eine Linse durchgeführt. Eine Belichtungsenergie ist eine Energie, berechnet von einer Trommelrotationsrate, die eine Belichtungsbildlinie nach der Entwicklungsbehandlung von 20 µm Breite ergibt. Kontaktwinkel für destilliertes Wasser an dem belichteten Bereich und dem nicht-belichteten Bereich der lichtempfindlichen Zusammensetzungsplatte nach der Belichtung wurden unter Verwendung einer Kontaktwinkelmessanlage CA-DT-A-Typ (Warenname, hergestellt von Kyowa Kaimen Kagaku K.K.) gemessen. Die Meßtemperatur war 20°C und die Messung wurde bei 10 Punkten in einer Probenoberfläche durchgeführt, und der Durchschnittswert davon wurde als gemessener Wert genommen. Die lichtempfindliche Zusammensetzungsplatte wurde dann unter Verwendung eines Entwicklers entsprechend der folgenden Beschreibung 19 bei 30°C 30 s entwickelt. Nach der Entwicklungsbehandlung wurden Kontaktwinkel für destilliertes Wasser im mit Laser belichteten Bereich und am nicht belichteten Bereich der lichtempfindlichen Zusammensetzungsplatte gemessen und ein aufgelöster Zustand der Aufzeichnungsschicht in dem Entwickler wurde ebenfalls bestätigt. Die Meßtemperatur war 20°C und die Messung wurde bei 10 Punkten in einer Probenoberfläche durchgeführt und der Durchschnittswert davon als gemessener Wert genommen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 17 gezeigt. Wie aus Tabelle 17 klar ersichtlich ist, wurde aufgrund eines geringen Unterschiedes zwischen dem mit Laser belichteten Bereich und dem nicht belichteten Bereich der lichtempfindlichen Zusammensetzungsplatte ein großer Unterschied der Löslichkeit der Aufzeichnungsschicht in dem alkalischen Entwickler beobachtet und als Ergebnis kann gefunden werden, daß die Aufzeichnungsschicht an dem belichteten Bereich vollständig aufgelöst und entfernt wird, wodurch die Oberfläche einer anodisierten Aluminiumplatte exponiert wird.

Beschreibung 18

Cresolnovolakharz (PR51767; Mw=4800, erhältlich von Sumitomo Durez Co.) 20%ige Methanollösung 50 Teile
Beispielhafte Verbindung (I-4) 5%ige Methylethylketonlösung 5 Teile.

Beispielhafte Verbindung (X-8) 5%ige Methanollösung 20 Teile.

Beschreibung 19

8%ige wässrige Kaliumsilicatlösung: 1000 Teile
Kaliumhydroxid: 35 Teile
Glycerin: 30 Teile

Tabelle 17

Beispiele 37 bis 46

Gemäß der Beschreibung 18 von Beispiel 36 wurden für nahe Infrarotstrahlen lichtempfindliche Zusammensetzungen hergestellt, indem die beispielhaften Verbindungen ausgetauscht wurden. Die gleichen Experimente wie bei Beispiel 36 wurden durchgeführt und die Ergebnisse sind in Tabelle 18 gezeigt.

Tabelle 18

Vergleichsbeispiel 3

Gemäß der Beschreibung 18 von Beispiel 18 wurden für nahe Infrarotstrahlen lichtempfindliche Zusammensetzungen durch Ändern der beispielhaften Verbindungen hergestellt. Die gleichen Experimente wie bei Beispiel 36 wurden durchgeführt und die Ergebnisse sind in Tabelle 19 gezeigt. Wie aus Tabelle 19 klar ersichtlich ist, gibt es, wenn eine Vergleichsverbindung verwendet wird, keinen Unterschied bei den Kontaktwinkeln zwischen dem belichteten und dem nicht belichteten Bereich nach Belichtung mit Laserstrahlen, und der Kontaktwinkel am durch Laserstrahl belichteten Bereich nach der Entwicklung ist groß, so daß zu verstehen ist, daß das Harz der Aufzeichnungsschicht am belichteten Bereich nicht vollständig aufgelöst oder entfernt werden kann.

Tabelle 19

Die somit erhaltene lithographische Druckplatte wurde auf eine Offset-Druckpresse (3200 MCD, Warenname, hergestellt von Ryobi K.K.) befestigt und ein Abziehen wurde bis zu 150 000 Blättern durchgeführt. Als Ergebnis wurde eine Schleierbildung im Hintergrund am Nicht-Bildbereich (entsprechend dem durch Laser belichteten Bereich) erzeugt, und es konnten keine guten Druckmaterialien erhalten werden.

Wie aus den Ergebnissen von Beispielen 36 bis 46 und dem Vergleichsbeispiel 3 ersichtlich ist, kann unter Verwendung von lichtempfindlichen Zusammensetzungen, die einen Kontaktwinkel von 70° oder mehr haben und eine Erniedrigung des Kontaktwinkels auf 10° oder weniger verursachen, durch die Belichtung mit einem Laser mit nahem Infrarot eine gute Bildbildung durchgeführt werden.

Beispiel 47

Eine lichtempfindliche Lösung, hergestellt durch die folgende Beschreibung 20, wurde auf eine Aluminiumplatte durch einen Drahtbarren geschichtet und bei 90°C 20 min getrocknet, unter Erhalt einer für das nahe Infrarotlicht empfindlichen Zusammensetzungsplatte mit einer Beschichtungsmenge nach dem Trocknen von 1,3 g/m². Als nahe Infrarotstrahlen absorbierender Farbstoff wurde unter den unten gezeigten Verbindungen die Verbindung mit der Formel M-1 verwendet. Diese Platte wurde an eine Rotationstrommel befestigt, und eine Abtastbelichtung wurde durch Ausblenden eines Halbleiterlasers (Ausstoßleistung: 500 mW) bei 830 nm bis 20 µm durch eine Linse durchgeführt. Die lichtempfindliche Zusammensetzungsplatte nach der Belichtung wurde unter Verwendung einer 6%igen wässrigen Natriummetasilicatlösung als Entwickler bei 25°C 30 s entwickelt. Eine Empfindlichkeit wurde als Energiewert von einer Trommelrotationsrate gemessen, bei der das resultierende Bild 20 µm Breite ergab, und der Wert wurde als Anfangsempfindlichkeit genommen. Auf der anderen Seite konnte eine Probe, hergestellt durch die gleiche Beschreibung, in einem Ofen bei einer Temperatur von 60°C 6 Tage lang stehen, wodurch die Probe beschleunigt zerstört wurde. Dann wurde ein Energiewert auf die gleiche Weise wie oben erhalten und der Wert als Empfindlichkeit nach der Zerstörung genommen. Als nächstes wurde ein Empfindlichkeitsbeibehaltungsverhältnis entsprechend der folgenden Formel erhalten:

Empfindlichkeitsbeibehaltungsverhältnis = (1/Empfindlichkeit nach der Zerstörung) (1/anfängliche Empf 02847 00070 552 001000280000000200012000285910273600040 0002019910363 00004 02728indlichkeit)

Beschreibung 20

m-Cresolnovolakharz (BRM565; Mw=2500 bis 3500, erhältlich von Showa Kobunshi Co.) 20%ige Methanollösung 50 Teile
nahe Infrarotstrahlen absorbierender Farbstoff; M-1 10%ige Methanolfeststoffdispersion 10 Teile

Beispielhafte Verbindung (I-9) 5%ige Methylethylketonlösung 10 Teile

Die Ergebnisse sind in Tabelle 20 gezeigt.

Tabelle 20

Beispiele 48 bis 54

Gemäß der Beschreibung 20 von Beispiel 47 wurden für nahe Infrarotstrahlen lichtempfindliche Zusammensetzungen durch Austauschen der nahes Infrarot absorbierenden Farbstoffe hergestellt. Die gleichen Versuche wie bei Beispiel 47 wurden durchgeführt, und die Ergebnisse sind in Tabelle 21 gezeigt.

Tabelle 21

Gemäß dieser Erfindung kann unter Verwendung einer lichtempfindlichen Zusammensetzung, umfassend eine Aufzeichnungsschicht, enthaltend zumindest eine Verbindung, ausgewählt aus einer Dihydropyridinverbindung, einer Pyryliumverbindung, einer Carbamatverbindung, Triarylcarbinolverbindung und Pinacolverbindung; ein Polymer, das in einem alkalischen Entwickler löslich ist; und einen nahe Infrarotstrahlen absorbierenden Farbstoff, und bei der ein Kontaktwinkel der Aufzeichnungsschicht durch Bestrahlen mit nahen Infrarotstrahlenlasern erniedrigt wird, ein Plattenmaterial aus einer lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp mit einer hohen Empfindlichkeit für nahe Infrarotstrahlen und mit ausgezeichneter Konservierbarkeit erhalten werden.

Claims

1. Lichtempfindliche Zusammensetzung vom Positivtyp, umfassend einen Träger und eine Aufzeichnungsschicht, die darauf vorgesehen ist, umfassend zumindest ein Polymer, das in einem alkalischen Entwickler löslich ist, einen nahe Infrarotstrahlen absorbierenden Farbstoff und eine Verbindung, die die Löslichkeit des Polymers in dem alkalischen Entwickler erniedrigt, worin ein Kontaktwinkel der Aufzeichnungsschicht 70° oder höher ist und der Kontaktwinkel durch Bestrahlen mit einem nahen Infrarotstrahlenlaser erniedrigt ist.

2. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin sich der Kontaktwinkel der Aufzeichnungsschicht in dem Bereich von 1 bis 10° durch Bestrahlen mit einem nahen Infrarotstrahlenlaser erniedrigt.

3. Lichtempfindliche Zusammensetzung vom Positivtyp, umfassend einen Träger und eine darauf vorgesehene Aufzeichnungsschicht, umfassend ein Polymer, das in einem alkalischen Entwickler löslich ist, eine Verbindung, dargestellt durch die Formel (I)
worin R₁ und R₅ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Alkylgruppe bedeuten; R₂ und R₄ jeweils gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine -COOR'-Gruppe, -COR'-Gruppe oder -CN-Gruppe bedeuten, worin R' eine Alkylgruppe, Aralkylgruppe oder Arylgruppe bedeutet; und R₃ eine Alkylgruppe, Alkenylgruppe, Aralkylgruppe, Aralkenylgruppe, Arylgruppe oder aromatischer heterozyklischer Rest ist;
und einen nahe Infrarotstrahlen absorbierenden Farbstoff, worin durch Bestrahlen der Aufzeichnungsschicht mit nahen Infrarotstrahlen eine Löslichkeit in dem Entwickler in einem Bereich, der mit nahen Infrarotstrahlen bestrahlt ist, mehr erhöht wird als eine Löslichkeit in dem Entwickler an einem Bereich, der nicht mit nahen Infrarotstrahlen bestrahlt ist.

4. Lichtempfindliche Zusammensetzung vom Positivtyp, umfassend einen Träger und darauf vorgesehen eine Aufzeichnungsschicht, umfassend ein Polymer, das in einem alkalischen Entwickler löslich ist, zumindest eine Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus einer Verbindung mit der Formel (II):
worin R₆, R₇ und R₈ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Alkylgruppe, Arylgruppe oder Styrylgruppe bedeuten und X^- ein Gegenanion ist;
einer Verbindung mit der Formel (III):
worin R₉ und R₁₀, die Substituenten an dem Cyclohexanring sind, gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder ein Halogenatom bedeuten; und X⁻ ein Gegenanion ist; und einer Verbindung mit der Formel (IV):
worin R₁₁, R₁₂, R₁₃ und R₁₄ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe bedeuten; und X⁻ ein Gegenanion ist;
und einen nahe Infrarotstrahlen absorbierenden Farbstoff, worin durch Bestrahlen der Aufzeichnungsschicht mit nahen Infrarotstrahlen eine Löslichkeit in dem Entwickler an einem Bereich, der mit nahen Infrarotstrahlen bestrahlt ist, mehr erhöht wird, als eine Löslichkeit in dem Entwickler an einem Bereich, der nicht mit nahen Infrarotstrahlen bestrahlt ist.

5. Lichtempfindliche Zusammensetzung vom Positivtyp, umfassend einen Träger und eine darauf vorgesehene Aufzeichnungsschicht, umfassend ein Polymer, das in einem alkalischen Entwickler löslich ist, zumindest eine Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus einer Verbindung mit der Formel (V):
worin R₁₅ eine Arylgruppe, Alkylgruppe oder Aralkylgruppe ist, R₁₆ ein Wasserstoffatom, eine Arylgruppe, eine Alkylgruppe oder Aralkylgruppe ist; oder R₁₅ und R₁₆ zur Bildung eines zyklischen Kohlenwasserstoffrestes gebunden sein können und R₁₇ eine Arylgruppe, Alkylgruppe oder Aralkylgruppe bedeutet,
einer Verbindung mit der Formel (VI):
worin R₁₈ eine bivalente Gruppe ist, die durch einen aliphatischen Kohlenwasserstoffrest, einen aromatischen Kohlenwasserstoffrest oder heterozyklischen Rest gebildet ist; und R₁₉ und R₂₀ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Arylgruppe, Alkylgruppe oder Aralkylgruppe bedeuten;
einer Verbindung mit der Formel (VII):
worin R₂₁ eine bivalente Gruppe ist, die durch einen aliphatischen Kohlenwasserstoffrest oder aromatischen Kohlenwasserstoffrest gebildet ist; und R₂₂ und R₂₃ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Arylgruppe, Alkylgruppe oder Aralkylgruppe sind;
einer Verbindung mit der Formel (VIII):
worin Ar₁, Ar₂ und Ar₃ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Arylgruppe oder einen heterozyklischen Rest bilden;
und einer Verbindung mit der Formel (IX):
worin Ar₄, Ar₅, Ar₆ und Ar₇ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Arylgruppe bedeuten, und einen nahe Infrarotstrahlen absorbierenden Farbstoff, worin durch Bestrahlen der Aufzeichnungsschicht mit nahen Infrarotstrahlen eine Löslichkeit in dem Entwickler an einem Bereich, der mit nahen Infrarotstrahlen bestrahlt ist, mehr erhöht wird als eine Löslichkeit in dem Entwickler an einem Bereich, der nicht mit nahen Infrarotstrahlen bestrahlt ist.

6. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 3 bis 5, worin der nahe Infrarotstrahlen absorbierende Farbstoff ein Cyaninfarbstoff mit der Formel (X) ist
worin R₂₄ ein Wasserstoffatom, Halogenatom, eine Alkylgruppe oder Diphenylaminogruppe ist; R₂₅ und R₂₆ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils eine Alkylgruppe, Alkoxyalkylgruppe, Acyloxyalkylgruppe oder Sulfoalkylgruppe sind; R₂₇ und R₂₈ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils ein Wasserstoffatom, Halogenatom, eine Alkoxygruppe oder Phenylgruppe bedeuten und wenn R₂₇ oder R₂₈ eine Phenylgruppe ist, diese mit der Phenylgruppe des Farbstoffgerüstes unter Bildung eines Naphthalinringes verschmolzen sein kann; Z₁ ein Substituent an Kohlenstoffatomen des Farbstoffgerüstes ist und eine bivalente Kohlenwasserstoffgruppe, die einen Cyclohexenring oder einen Cyclopentenring mit den Kohlenstoffatomen des Farbstoffgerüstes bildet oder unabhängig zwei Substituenten, ausgewählt aus einem Wasserstoffatom und einer Alkylgruppe, darstellt; X₁ und X₂ gleich oder verschieden voneinander sein können und jeweils ein Schwefelatom, eine Methylengruppe, die einen oder zwei Substituenten haben kann, oder eine unsubstituierte Vinylengruppe sind; und worin der bzw. die Substituenten der Methylengruppe ausgewählt sind aus einer Alkylgruppe aus 1 bis 6 Kohlenstoffatomen oder einem Kohlenwasserstoffrest, der einen Spiroring mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen bildet; Y⁻ ein ein Paarungsanionen des Farbstoffes ist, aber wenn R₂₅ und R₂₆ jeweils Sulfoalkylgruppen sind, wird der Farbstoff selbst ein neutrales Molekül, so daß diese nicht notwendig ist.

7. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 6, worin die Aufzeichnungsschicht oder eine dazu benachbarte Schicht zumindest einen nahe Infrarotstrahlen absorbierenden Farbstoff, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus einem Cyaninfarbstoff, Aminiumfarbstoff, Diimmoniumfarbstoff und eine Phthalocyaninverbindung enthält.

8. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 3 bis 7, worin das Polymer, das in dem alkalischen Entwickler löslich ist, ein Novolakharz ist.

9. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 8, worin der Kontaktwinkel der Aufzeichnungsschicht 70° oder höher ist und der Kontaktwinkel davon durch Bestrahlen der Aufzeichnungsschicht mit einem nahen Infrarotstrahlenlaser erniedrigt ist.