EP0900653A1 - Positiv arbeitendes, IR-sensitives Gemisch, damit hergestelltes thermisch bebilderbares Aufzeichnungsmaterial sowie Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck - Google Patents
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Abstract
Description
- 11,0 Gt
- Rußdispersion der im folgenden angegebenen Zusammensetzung,
- 12,0 Gt
- Cresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak (®Alnovol SPN 400 von Vianova Resins GmbH, 45,3%ig in Propylenglykol-monomethylether-acetat),
- 52,0 Gt
- Propylenglykol-monomethylether (PGME) und
- 25,0 Gt
- Tetrahydrofuran.
- 10,0 Gt
- Ruß (®Printex 25),
- 59,99 Gt
- Cresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak (®Alnovol SPN 400, 45,3%ig in PGMEA),
- 30,0 Gt
- PGME und
- 0,01 Gt
- Silikonöl.
- 11,00 Gt
- Cresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak (®Alnovol SPN 400, 45,3%ig in PGMEA),
- 0,35 Gt
- 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon,
- 11,00 Gt
- Rußdispersion (wie im Beispiel 1),
- 52,65 Gt
- PGME und
- 25,00 Gt
- Tetrahydrofuran.
- 9,70 Gt
- Cresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak (®Alnovol SPN 400, 45,3%ig in PGMEA),
- 0,80 Gt
- Poly(4-hydroxy-styrol) mit einem Mw von 4.000 bis 6.000 und einem Mn von 2.100 bis 3.100 (®Maruka Lyncur M, Typ S-2, von Maruzen Petrochemical Co., Ltd.),
- 8,00 Gt
- Rußdispersion (wie im Beispiel 1),
- 50,00 Gt
- PGME und
- 31,50 Gt
- Tetrahydrofuran.
- 8,60 Gt
- Rußdispersion der im folgenden angegebenen Zusammensetzung,
- 9,60 Gt
- Cresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak (®Alnovol SPN 400, 45,3 %ig in PGMEA),
- 0,40 Gt
- Polymethacrylat-Harz (®Elvacite 2013 von DuPont de Nemours),
- 1,40 Gt
- Poly(4-hydroxy-styrol) (®Maruka Lyncur M, Typ S-2),
- 0,01 Gt
- Silikonöl zur Verbesserung der Oberflächenstruktur,
- 49,99 Gt
- PGME und
- 30,00 Gt
- Tetrahydrofuran.
- 5,00 Gt
- Ruß (Spezialschwarz 250 der Degussa AG),
- 66,00 Gt
- Cresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak (®Alnovol SPN 400, 45,3%ig in PGMEA),
- 28,99 Gt
- PGME und
- 0,01 Gt
- Silikonöl.
- 8,50 Gt
- Rußdispersion der im folgenden angegebenen Zusammensetzung,
- 11,00 Gt
- Cresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak (®Alnovol SPN 400, 45,3%ig in PGMEA),
- 0,40 Gt
- Benzophenon,
- 0,01 Gt
- Silikonöl,
- 49,99 Gt
- PGME und
- 30,00 Gt
- Tetrahydrofuran.
- 5,00 Gt
- Ruß (Spezialschwarz 250),
- 66,00 Gt
- Cresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak (®Alnovol SPN 400, 45,3%ig in PGMEA),
- 28,99 Gt
- PGME und
- 0,01 Gt
- Silikonöl.
- 8,00 Gt
- Rußdispersion der im folgenden angegebenen Zusammensetzung,
- 11,58 Gt
- Cresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak (®Alnovol SPN 400, 45,3%ig in PGMEA),
- 0,15 Gt
- Nitrocellulose (Walsroder Nitrocellulose E 330 von Wolff Walsrode AG),
- 0,26 Gt
- Poly(4-hydroxy-styrol) (®Maruka Lyncur M, Typ S-2),
- 0,01 Gt
- Silikonöl zur Verbesserung der Oberflächenstruktur,
- 54,00 Gt
- PGME und
- 26,00 Gt
- Tetrahydrofuran.
- 5,00 Gt
- Ruß (Spezialschwarz 250),
- 66,00 Gt
- Cresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak (®Alnovol SPN 400, 45,3%ig in PGMEA),
- 28,99 Gt
- PGME und
- 0,01 Gt
- Silikonöl.
- 34,00 Gt
- Rußdispersion (wie in Beispiel 4 beschrieben),
- 6,70 Gt
- Poly(4-hydroxy-styrol), worin 30 % der Hydroxygruppen in tert.-Butoxycarbonyloxygruppen und 15 % in 2,3-Dihydroxy-propoxy-Gruppen umgewandelt waren (Herstellung siehe EP-A 683 435),
- 0,01 Gt
- Silikonöl,
- 42,00 Gt
- PGME und
- 34,00 Gt
- Tetrahydrofuran.
- 5,5 Gt
- Natriumsilikat-nonahydrat,
- 3,4 Gt
- Trinatriumphosphat-dodecahydrat,
- 0,4 Gt
- Mononatriumphosphat (wasserfrei) und
- 90,7 Gt
- vollentsalztem Wasser.
Claims (17)
- Positiv arbeitendes, IR-sensitives Gemisch, das ein in Wasser unlösliches, in wäßrigem Alkali dagegen lösliches, zumindest quellbares Bindemittel und in einem solchen Bindemittel dispergierte Rußpartikel umfaßt, wobei die dispergierten Rußpartikel die für die bildmäßige Differenzierung wesentliche strahlungsempfindliche Komponente bilden.
- Gemisch gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Rußpartikel einen mittleren Primärteilchendurchmesser von 10 bis 220 nm, bevorzugt 35 bis 110 nm, besonders bevorzugt 45 bis 100 nm, aufweisen.
- Gemisch gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die BET-Oberfläche der Rußpartikel bei 5 bis 500 m2/g, bevorzugt 8 bis 250 m2/g, beträgt.
- Gemisch gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß Anteil der Rußpartikel 1 bis 50 Gew.-%, bevorzugt 3 bis 15 Gew.-%, beträgt, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile des Gemisches.
- Gemisch gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Bindemittel acide Gruppen mit einem pKs-Wert von weniger als 13 enthält.
- Gemisch gemäß Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Bindemittel ein Polykondensationsprodukt ist aus Phenolen oder sulfamoyl- oder carbamoyl-substituierten Aromaten mit Aldehyden oder Ketonen, ein Umsetzungsprodukt von Diisocyanaten mit Diolen oder Diaminen oder ein Polymer mit Einheiten aus Vinylaromaten, N-Aryl-(meth)acrylamiden oder Aryl-(meth)acrylaten, wobei diese Einheiten jeweils noch eine oder mehrere Carboxylgruppen, phenolische Hydroxygruppen, Sulfamoyl- oder Carbamoylgruppen enthalten.
- Gemisch gemäß Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Polykonsationsprodukt ein Novolak, bevorzugt ein Cresol/Formaldehyd- oder ein Cresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak, ist, wobei der Anteil an Novolak bevorzugt mindestens 50 Gew.-%, besonders bevorzugt mindestens 80 Gew.-%, beträgt, bezogen auf das Gesamtgewicht aller Bindemittel.
- Gemisch gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Anteil des Bindemittels 50 bis 99 Gew.-%, bevorzugt 85 bis 97 Gew.-%, beträgt, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile des Gemisches.
- Gemisch gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht zusätzlich mindestens eine Verbindung enthält, die ihre Resistenz gegenüber wäßrig-alkalischen Entwicklern und/oder Verarbeitungschemikalien erhöht, wobei deren Anteil bevorzugt 0,5 bis 20,0 Gew.-%, besonders bevorzugt 1,0 bis 10,0 Gew.-% beträgt, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile des Gemisches.
- Gemisch gemäß Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung, die zur Erhöhung der Resistenz dient, ein Keton, ein Chinon, ein Indenon, ein Chromen-4-one, Xanthon, Meldrumsäure, ein Sulfon, ein Sulfonsäureester, ein Polyphthalaldehyd, Nitrocellulose, Polyethylenglykol, Polypropylenglykol, ein Poly(4-hydroxy-styrol) mit geschützten Hydroxygruppen oder ein Poly(meth)acrylat ist.
- Gemisch gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich mindestens eine Verbindung enthält, die die Entwicklungsgeschwindigkeit steuert, wobei deren Anteil bevorzugt 0,5 bis 20,0 Gew.-%, besonders bevorzugt 1,0 bis 10,0 Gew,-%, beträgt, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile des Gemisches.
- Gemisch gemäß Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die zur Steuerung der Entwicklungsgeschwindigkeit dienende Verbindung ein Polyhydroxyaromat, eine aromatische Mono-, Di- oder Polycarbonsäure, eine aliphatische Di- oder Polycarbonsäure, eine Sulfonsäure, eine Verbindung mit N-H acider Gruppe oder ein Polymer mit einer Säurezahl von mehr als 100 ist.
- Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger und einer strahlungsempfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht aus einem Gemisch gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 12 besteht.
- Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß sich auf der strahlungsempfindlichen Schicht eine Deckschicht aus mindestens einem wasserlöslichen polymeren Bindemittel befindet, wobei die Deckschicht bevorzugt eine Dicke bis zu 5,0 µm, besonders bevorzugt von 0,1 bis 3,0 µm, aufweist.
- Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das wasserlösliche polymere Bindemittel Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, teilverseiftes Polyvinylacetat, Gelatine, ein Kohlenhydrat oder Hydroxyethyl-cellulose ist.
- Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 13 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger eine Aluminiumfolie oder -platte oder ein Verbund aus einer Aluminium- und einer Polyesterfolie ist, wobei die Aluminiumoberfläche vorzugsweise mechanisch und/oder elektrochemisch aufgerauht und anodisch oxidiert, besonders bevorzugt zusätzlich auch noch hydrophiliert ist.
- Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 13 bis 16 mit Infrarotstrahlung, bevorzugt mit Infrarot-Laserstrahlung, bildmäßig bestrahlt und anschließend in einem üblichen wäßrig-alkalischen Entwickler bei einer Temperatur von 20 bis 40 °C entwickelt.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19739302 | 1997-09-08 | ||
DE19739302A DE19739302A1 (de) | 1997-09-08 | 1997-09-08 | Positiv arbeitendes IR-sensitives Gemisch, damit hergestelltes thermisch bebilderbares Aufzeichnungsmaterial sowie Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
EP0900653A1 true EP0900653A1 (de) | 1999-03-10 |
EP0900653B1 EP0900653B1 (de) | 2002-02-27 |
Family
ID=7841599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
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EP1162063A2 (de) | 2000-06-05 | 2001-12-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Flachdruckplattenvorläufer |
EP1162063A3 (de) * | 2000-06-05 | 2003-11-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Flachdruckplattenvorläufer |
WO2002034517A1 (en) * | 2000-10-26 | 2002-05-02 | Kodak Polychrome Graphics Company, Ltd. | Compositions comprising a pigment |
US6936404B2 (en) | 2000-12-20 | 2005-08-30 | Agfa-Gevaert | Radiation-sensitive recording material having a structured back |
US6670092B2 (en) | 2001-03-06 | 2003-12-30 | Agfa-Gevaert | Radiation-sensitive recording material having an electrically conductive back coating |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11147378A (ja) | 1999-06-02 |
DE19739302A1 (de) | 1999-03-11 |
DE59803175D1 (de) | 2002-04-04 |
US20020009671A1 (en) | 2002-01-24 |
EP0900653B1 (de) | 2002-02-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PUAI | Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012 |
|
AK | Designated contracting states |
Kind code of ref document: A1 Designated state(s): DE FR GB IT NL |
|
AX | Request for extension of the european patent |
Free format text: AL;LT;LV;MK;RO;SI |
|
RTI1 | Title (correction) | ||
RTI1 | Title (correction) | ||
17P | Request for examination filed |
Effective date: 19990910 |
|
AKX | Designation fees paid |
Free format text: DE FR GB IT NL |
|
17Q | First examination report despatched |
Effective date: 20000724 |
|
RTI1 | Title (correction) |
Free format text: THERMAL IMAGEABLE RECORDING MATERIAL COMPRISING A LAYER OF A POSITIVE WORKING IR SENSITIVE MIXTURE AND METHOD OF PRODUCING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE FOR OFFSET PRINTING |
|
GRAG | Despatch of communication of intention to grant |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS AGRA |
|
RIN1 | Information on inventor provided before grant (corrected) |
Inventor name: JUNG, JOERG DR. Inventor name: GRIES, WILLI-KURT DR. |
|
RAP1 | Party data changed (applicant data changed or rights of an application transferred) |
Owner name: AGFA-GEVAERT |
|
GRAG | Despatch of communication of intention to grant |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS AGRA |
|
GRAH | Despatch of communication of intention to grant a patent |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA |
|
GRAH | Despatch of communication of intention to grant a patent |
Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: GB Ref legal event code: IF02 |
|
GRAA | (expected) grant |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210 |
|
AK | Designated contracting states |
Kind code of ref document: B1 Designated state(s): DE FR GB IT NL |
|
REF | Corresponds to: |
Ref document number: 59803175 Country of ref document: DE Date of ref document: 20020404 |
|
GBT | Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977) |
Effective date: 20020502 |
|
ET | Fr: translation filed | ||
PLBE | No opposition filed within time limit |
Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261 |
|
STAA | Information on the status of an ep patent application or granted ep patent |
Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT |
|
26N | No opposition filed |
Effective date: 20021128 |
|
PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: FR Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20050531 |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: FR Ref legal event code: ST |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: FR Ref legal event code: D3 |
|
PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: IT Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20050902 |
|
PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: NL Payment date: 20050922 Year of fee payment: 8 Ref country code: FR Payment date: 20050922 Year of fee payment: 8 |
|
PGFP | Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: GB Payment date: 20050926 Year of fee payment: 8 Ref country code: DE Payment date: 20050926 Year of fee payment: 8 |
|
PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: NL Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20070401 |
|
PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: DE Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20070403 |
|
GBPC | Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee |
Effective date: 20060902 |
|
NLV4 | Nl: lapsed or anulled due to non-payment of the annual fee |
Effective date: 20070401 |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: FR Ref legal event code: ST Effective date: 20070531 |
|
PG25 | Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo] |
Ref country code: GB Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES Effective date: 20060902 |