EP0900652B1 - Weisslicht-unempfindliches, thermisch bebilderbares Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck - Google Patents

Weisslicht-unempfindliches, thermisch bebilderbares Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck Download PDF

Info

Publication number
EP0900652B1
EP0900652B1 EP98116561A EP98116561A EP0900652B1 EP 0900652 B1 EP0900652 B1 EP 0900652B1 EP 98116561 A EP98116561 A EP 98116561A EP 98116561 A EP98116561 A EP 98116561A EP 0900652 B1 EP0900652 B1 EP 0900652B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
recording material
radiation
material according
layer
top layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
EP98116561A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP0900652A2 (de
EP0900652A3 (de
Inventor
Karin Dr. März
Helmut Haberhauer
Andreas Dr. Elsässer
Hans-Joachim Dr. Schlosser
Fritz-Feo Dr. Grabley
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
Agfa Gevaert AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert NV, Agfa Gevaert AG filed Critical Agfa Gevaert NV
Publication of EP0900652A2 publication Critical patent/EP0900652A2/de
Publication of EP0900652A3 publication Critical patent/EP0900652A3/de
Application granted granted Critical
Publication of EP0900652B1 publication Critical patent/EP0900652B1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06Developable by an alkaline solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/14Multiple imaging layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/20Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by inorganic additives, e.g. pigments, salts
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols

Definitions

  • the invention relates to a recording material with a substrate and a radiation-sensitive layer that absorbs IR radiation Component contains and after exposure to infrared radiation in one aqueous-alkaline developer becomes soluble or at least swellable.
  • the Material is insensitive to white light. It is particularly suitable for Manufacture of printing forms for offset printing.
  • the radiation-sensitive layer in the ultraviolet and / or visible range is sensitive.
  • the layer with radiation of the corresponding wavelength passes through it illustrated and then developed. Newer procedures come without such a film template.
  • infrared lasers especially infrared laser diodes
  • recording materials are needed, which in IR range, i.e. in the range from about 700 to 1,100 nm.
  • the present invention thus relates to a recording material with a substrate and a radiation-sensitive, water-insoluble Layer containing an IR radiation absorbing component and after Exposure to infrared radiation soluble in an aqueous alkaline developer or at least becomes swellable.
  • the recording material is characterized in that that there is a cover layer on the radiation-sensitive layer located that is opaque to white light, but to radiation in the IR range is permeable and can be removed with water or an aqueous solution.
  • the cover layer also makes the scratch-sensitive of the radiation-sensitive Layer greatly reduced.
  • the Top layer that are components of the radiation-sensitive layer, the possibly detached under the influence of the IR laser beams in the Remove the radiation device. Especially for inner drum imagesetters Contamination of the laser optics can lead to problems.
  • "White Light” means daylight or light from incandescent lamps, fluorescent tubes and others Illuminants that emit ordinary white light. Under “Radiation in the IR range” is intended here - as is generally the case - radiation with a Wavelength of 700 to 1,100 nm can be understood.
  • the top layer generally contains at least one water-soluble, organic, polymeric binder and at least one component, the radiation absorbed in the UV / VIS range.
  • This component preferably has one Absorption maximum in the range from 300 to 500 nm, especially in the range of 350 to 450 nm.
  • UV / VIS absorbers can also be used, but must first be dispersed with a water-soluble binder. That to disperse
  • the binder used is preferably identical to the rest Binder in the top layer.
  • the proportion of UV / VIS absorber is generally 5 to 50 wt .-%, preferably 20 to 30 wt .-%, each based on the total weight of the non-volatile components of the top layer.
  • the optical density of the cover layer is preferably 2.2 to 2.5.
  • suitable binders for the top layer are polyvinyl alcohols, polyvinyl pyrrolidones, partially saponified polyvinyl acetates, which also contain vinyl ether or may contain vinyl acetal units, gelatin, carbohydrates, Cellulose derivatives (e.g. hydroxyethyl cellulose), gum arabic, polyethylene oxides, Polyvinyl ether, poly (meth) acrylates and corresponding mixed polymers. Polyvinyl alcohols are particularly preferred.
  • the top layer still minor amounts of surfactants, surfactants, inert Contain particles and / or plasticizers.
  • the thickness of the top layer is generally up to 5 ⁇ m, preferably 0.5 to 2.5 ⁇ m. It should be chosen so that the IR-sensitive layer underneath can still be imaged without problems.
  • a top layer was also known from EP-A 0 354 475, which protects the underlying photopolymerizable layer from oxygen and at the same time acts as an optical filter. It contains a dye that Absorbs light with a wavelength of 300 to 700 nm, but within this area has an absorption gap. The gap is chosen that they are the emission range of the light source used for imaging equivalent.
  • the well-known top layer is then together with the non-irradiated areas of the photopolymerizable layer through the Developer solution removed.
  • the composition of the IR-sensitive layer is not particularly critical. However, it must be insoluble in water at least to the extent that it is removed the top layer is practically not attacked.
  • Carbon black pigments such as those described in WO 96/20429, are particularly suitable as IR-absorbing components, because they absorb over a wide IR wavelength range. When used, therefore, both Nd-YAG lasers, which operate at a wavelength of 1064 nm, and inexpensive laser diodes, which operate at 830 nm, can be used. Carbon black pigments with an average primary particle diameter of less than 80 nm are preferred. According to DIN 53206, the term “primary particles” refers to the smallest particles (individual particles) from which pulverulent substances are built up. They are recognizable as individual individuals by electron microscopy. Suitable carbon blacks are flame, furnace or channel blacks.
  • the surface determined by the method of Brunauer, Emmett and Teller is generally more than 10 m 2 / g.
  • Particularly suitable carbon blacks are oxidized on their surface, which creates acidic units.
  • the soot particles can be dispersed with a binder in generally known devices.
  • the mixture of pigment and binder can be predispersed in a dissolver and then finely dispersed in a ball mill.
  • the organic solvents used can differ from the actual coating solvents, but they are preferably identical.
  • Particularly suitable solvents are propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), ethyl lactate, butanone, ⁇ -butyrolactone, tetrahydrofuran and mixtures thereof.
  • PGME propylene glycol monomethyl ether
  • PMEA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • ethyl lactate butanone
  • ⁇ -butyrolactone tetrahydrofuran and mixtures thereof.
  • surfactants and thickeners which are soluble in aqueous alkaline solutions are particularly preferred.
  • other heat-absorbing substances such as squarylium, cyanine, merocyanine or pyrylium compounds, can also be present in the layer sensitive to IR radiation.
  • the proportion of the IR-absorbing component is generally 0.5 to 30% by weight, preferably 2 to 15% by weight, in each case based on the total weight of the nonvolatile constituents of the
  • the IR radiation-sensitive layer also contains a polymeric binder.
  • binders having acidic groups whose pK a value is less than. 13 include, for example, polycondensates as obtained from the reaction of phenols or sulfamoyl- or carbamoyl-substituted aromatics with aldehydes or ketones.
  • phenols can also be substituted phenols, such as resorcinol, cresol, xylenol or trimethylphenol, in addition to phenol.
  • the aldehyde is preferably formaldehyde. Reaction products of diisocyanates with diols or diamines are also suitable as long as they have acidic units of the type mentioned.
  • polymers with units of vinyl aromatics, N-aryl- (meth) acrylamides or aryl- (meth) acrylates these units each also having one or more carboxyl groups, phenolic hydroxyl groups, sulfamoyl or carbamoyl groups.
  • the polymers can additionally contain units from other monomers which have no acidic groups.
  • (meth) acrylate stands for "acrylate and / or methacrylate”.
  • the proportion of the binder is generally 2 to 98% by weight, preferably 50 to 85% by weight, in each case based on the total weight of the nonvolatile constituents of the layer.
  • the UVNIS-sensitive component is preferably an onium salt.
  • a combination of an acid-forming compound and a compound which can be cleaved by the acid thermally or photochemically generated from this compound is also particularly suitable.
  • Preferred acid-cleavable compounds are polymers with hydrophilic, acidic groups (especially carboxy and phenolic hydroxyl groups), some or all of which are masked with hydrophobic, acid-labile groups. After the acid-catalyzed elimination of the hydrophobic groups, the solubility of the polymer in aqueous alkaline developers is again greatly increased.
  • the hydrophobic, acid-labile groups are, for example, tert -alkoxycarbonyloxy, benzyloxycarbonyloxy and alkoxyalkyl ester groups of the formula -CO-O-CR 1 R 2 -OR 3 , in which R 3 is a (C 1 -C 18 ) alkyl group and R 1 and R 2 independently of one another represent a hydrogen atom or a (C 1 -C 18 ) alkyl group with the proviso that at least one of the radicals R 1 and R 2 is a hydrogen atom.
  • R 3 is a (C 1 -C 18 ) alkyl group
  • R 1 and R 2 independently of one another represent a hydrogen atom or a (C 1 -C 18 ) alkyl group with the proviso that at least one of the radicals R 1 and R 2 is a hydrogen atom.
  • Tert -butoxycarbonyloxy and tetrahydropyranyloxycarbonyl groups are particularly preferred.
  • acid-cleavable groups such as tert -butoxycarbonyloxy groups.
  • acid-labile groups gaseous decomposition products can be formed when they are split off.
  • acid generators are diazonium, phosphonium, sulfonium and iodonium salts of strong acids. The counter ion in these salts is preferably hexafluorophosphate, hexafluoroantimonate or perfluoroalkanesulfonate.
  • Diazo compounds especially esters or amides of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4- or -5-sulfonic acid. These include in particular esters of 1,2-naphthoquinone-2-diazid-4- or -5-sulfonic acid and a compound with at least one, preferably at least three phenolic hydroxyl groups.
  • Hydroxyl groups such as 2,3,4-trihydroxy-benzophenone, 2,3,4-trihydroxy-3'methyl-, propyl or isopropyl benzophenone, 2,3,4,4'-tetrahydroxy benzophenone, 2,3,4,2 ', 4'-pentahydroxy-benzophenone, 2,3,4,2', 3 ', 4'-hexahydroxybenzophenone and 5,5'-diacyl-2,3,4,2 ', 3', 4'-hexahydroxy-diphenylmethane.
  • Hydroxyl groups such as 2,3,4-trihydroxy-benzophenone, 2,3,4-trihydroxy-3'methyl-, propyl or isopropyl benzophenone, 2,3,4,4'-tetrahydroxy benzophenone, 2,3,4,2 ', 4'-pentahydroxy-benzophenone, 2,3,4,2', 3 ', 4'-hexahydroxybenzophenone and 5,5'-diacyl-2,3,4,2 ', 3
  • Hydroxy components that can be used for the esterification are also condensation products from pyrogallol and aldehydes or ketones as well as condensation products from alkylated phenols and formaldehyde.
  • the layer can also contain a mixture of several radiation-sensitive components.
  • the proportion of the UVNIS-sensitive component is generally 1 to 50% by weight, preferably 5 to 30% by weight, in each case based on the total weight of the non-volatile components of the layer.
  • the radiation-sensitive layer can also have further, in such layers contain common additives in minor amounts.
  • common additives include indicator dyes (e.g. dialkylaminoazobenzenes), photochemical acid generators (e.g. trifluoromethanesulfonates or hexafluorophosphates of diazodiphenylamines), surfactants (preferred fluorine-containing surfactants or silicone surfactants), polyalkylene oxides for control the acidity of the acidic groups and / or low molecular weight compounds with acidic units to increase the development speed.
  • indicator dyes e.g. dialkylaminoazobenzenes
  • photochemical acid generators e.g. trifluoromethanesulfonates or hexafluorophosphates of diazodiphenylamines
  • surfactants preferred fluorine-containing surfactants or silicone surfactants
  • polyalkylene oxides for control the acidity of the acidic groups and / or low molecular weight
  • the support in the recording material according to the invention is preferably an aluminum foil or plate.
  • a composite of is also suitable an aluminum and a polyester film.
  • the aluminum surface is preferred mechanically and / or electrochemically roughened and anodically oxidized.
  • You can also with a suitable, usually polymeric Compound, be hydrophilized. Connections are well suited for this purpose with phosphonic acid or phosphonate units, especially polyvinylphosphonic acid.
  • the actual roughening can be degreased, optionally also a further mechanical and / or chemical roughening be upstream.
  • Suitable coating solvents are the above-mentioned, generally customary organic solvents, as can also be used in the dispersion of the carbon black.
  • the IR radiation-sensitive layer generally has a layer weight of 0.5 to 5.0 g / m 2 , preferably 1.0 to 3.0 g / m 2 , corresponding to about 0.5 to 5.0 ⁇ m, preferred about 1.0 to 3.0 ⁇ m.
  • the top layer is then applied from an aqueous solution or dispersion, which may also contain small amounts of organic solvents, ie less than 5% by weight, based on the total weight of the coating solvents for the top layer.
  • the present invention finally also relates to a method for producing a printing form for offset printing from the recording material according to the invention.
  • the recording material is first irradiated imagewise with infrared radiation and then developed in a conventional aqueous alkaline developer at a temperature of 20 to 40 ° C.
  • the water-soluble top layer is also removed during development.
  • the cover layer is removed with water before or after imaging with IR rays, but before development.
  • External or inner drum imagesetters with laser diodes (emission maximum 830 nm) or Nd-YAG lasers (emission maximum 1064 nm) are particularly suitable for imaging with infrared rays.
  • the developer generally has a ratio of SiO 2 to alkali oxide of at least 1. This ensures that the aluminum oxide layer of the carrier is not damaged.
  • Preferred alkali oxides are Na 2 O and K 2 O, and mixtures thereof.
  • the developer can contain further components, such as buffer substances, complexing agents, defoamers, organic solvents in small amounts, corrosion inhibitors, dyes, surfactants and / or hydrotropes. The development mostly takes place in machine processing plants.
  • UV / VIS and IR sensitized recording material UV sensitization with diazo compound
  • a coating dispersion was made from 20.0 pbw an ester of 1 mol of 2,3,4-trihydroxy-benzophenone and 1.5 mol of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride, 20.0 pbw Carbon black dispersion of the composition given below, 3.0 pbw 2,4-dihydroxy-benzophenone, 57.0 pbw Cresol / xylenol / formaldehyde novolak (®Alnovol SPN 400, 43.5% in propylene glycol monomethyl ether acetate), 455.0 pbw Propylene glycol monomethyl ether (PGME) and 455.0 pbw Tetrahydrofuran.
  • PGME Propylene glycol monomethyl ether
  • the soot dispersion consisted of 10.0 pbw Carbon black (®Printex 25), 10.0 pbw Cresol / xylenol / formaldehyde novolak (®Alnovol SPN 400, 45.3% in PGMEA), 28.8 pbw PGME and 0.01 pbw Silicone oil.
  • the coating solution was roughened into a hydrochloric acid solution Anodized sulfuric acid and hydrophilized with polyvinylphosphonic acid Aluminum foil applied. After drying at 100 ° C. for 2 minutes, the Layer thickness 2 ⁇ m.
  • the development was the same for both imagewise irradiated recording materials. It was carried out in a conventional processing plant at a throughput speed of 0.4 m / min at a temperature of 28 ° C. using an aqueous potassium silicate developer, the K 2 SiO 3 (normality: 0.8 mol / l in water) and 0.2% by weight .-% O, O'-bis-carboxymethyl-polyethylene glycol-1000 and 0.4 wt .-% pelargonic acid contained. A point resolution of 2 to 98% of a 60s grid was achieved with both recording materials. The background of the picture was free of fog. With the offset printing plates produced in this way, more than 100,000 flawless prints could be produced.
  • Samples of the recording material were used to determine the daylight sensitivity before or after thermal imaging, but in any case before development, exposed to (UV-containing) daylight for different lengths of time. With a photometer (spectral sensitivity: 300 to 450 nm) the energy was determined which acted on the material. It was cheating about 2 mJ per square centimeter per minute. If only the material 1 min in daylight was already evident after the development Losses in the peak area, after 4 minutes in daylight the material had no more resistance and was also in the unirradiated areas of Developers attacked.
  • UVNIS and IR-sensitized recording material UV sensitization by combining acid generator and polymer with acid-cleavable groups
  • a plate made of electrochemically roughened and then anodized aluminum was coated with a dispersion by spin coating 6.7 pbw Poly (4-hydroxy-styrene) in which 30% of the hydroxyl groups were converted into tert-butoxycarbonyloxy groups and 15% into 2,3-dihydroxy-propoxy groups (as described in the unpublished DE 197 29 067.1), 0.5 pbw 4- para- toluenmercapto-2,5-diethoxy-benzenediazonium hexafluorophosphate, 0.01 pbw Silicone oil as a surface improver, 17.0 Gt Carbon black dispersion (as in example 1), 42.0 pbw Propylene glycol monomethyl ether and 34.0 pbw Tetrahydrofuran.
  • the layer weight was 1.8 to 2.2 g / m 2 .
  • the recording material thus produced was thermally imaged with an Nd-YAG laser (wavelength 1064 nm; power: 10 mW). In the irradiated areas, parts of the layer were detached by the gas evolution, which led to contamination of the irradiation device. The material was then developed in a developer at 28 ° C. for 1 min 5.5 pbw Sodium silicate nonahydrate, 3.4 pbw Trisodium phosphate dodecahydrate, 0.4 pbw Monosodium phosphate (anhydrous) and 90.7 pbw demineralized water.
  • the top layers thus obtained were each applied to the recording material from Example 1 and dried at 100 ° C. for 2 minutes. The weight of the dried cover layer was then about 2 to 3 g / m 2 . The material thus obtained was then - as described in Example 1 a) - imaged with IR rays. The subsequent development was also carried out according to Example 1.
  • the printing plates obtained in this way were equivalent to those from Example 1 in all their essential properties, particularly in terms of quality and durability.
  • Example 1 b To carry out a conventional exposure - as described in Example 1 b) To be able to, the top layer was previously with ordinary tap water washed. The printing plates obtained after development showed practically no difference from those from Example 1 b).
  • a coating solution according to Example 3c or 3f was applied to the recording material according to Example 2 and dried. After drying for 2 minutes at 100 ° C., the weight of the outer layers thus produced was again 2 to 3 g / m 2 . In contrast to comparative example 2, no constituents detached from the layer during IR irradiation.
  • Example 1 without top layer
  • Example 3c with top layer
  • the size of the test disk was measured must be acting force so that after the development visible scratches in the image layer are recognizable.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Schichtträger und einer strahlungsempfindlichen Schicht, die eine IR-Strahlung absorbierende Komponente enthält und nach Einwirkung von Infrarotstrahlung in einem wäßrig-alkalischen Entwickler löslich oder zumindest quellbar wird. Das Material ist unempfindlich gegenüber Weißlicht. Es eignet sich besonders zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck.
Konventionell werden zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck Aufzeichnungsmaterialien verwendet, deren strahlungsempfindliche Schicht im ultravioletten und/oder sichtbaren Bereich empfindlich ist. Durch eine Filmvorlage hindurch wird die Schicht mit Strahlung der entsprechenden Wellenlänge bebildert und anschließend entwickelt. Neuere Verfahren kommen ohne eine solche Filmvorlage aus. Die Bebilderung erfolgt dann mit Laserstrahlen aus digital gesteuerten Lasern ("computer-to-plate"-Verfahren). Laser, die Strahlung im Bereich des sichtbaren Lichts emittieren, sind jedoch relativ teuer und benötigen auch spezielle Aufzeichnungsmaterialien (wie sie beispielsweise in der EP-A 0 573 805 (= CA-A 2 097 038) und der EP-A 0 704 764 beschrieben sind).
Infrarot-Laser, insbesondere Infrarot-Laserdioden, sind dagegen deutlich preiswerter. Dafür werden jedoch Aufzeichnungsmaterialien gebraucht, die im IR-Bereich, d.h. im Bereich von etwa 700 bis 1.100 nm, sensibilisiert sind. Zahlreiche dieser Materialien haben den weiteren Vorteil, daß sie im ultravioletten und sichtbaren Bereich (im folgenden bezeichnet als UV/VIS) nicht empfindlich sind und folglich bei Tageslicht oder normalem weißem Kunstlicht verarbeitet werden können. Beispiele dafür sind in den DE-A 25 12 038 (= GB-A 1 489 308), WO 90/12342 sowie EP-A 0 562 952, 0 580 393 und 0 773 112 beschrieben.
Daneben sind auch Materialien bekannt, die sowohl im UVNIS- als auch im IR-Bereich sensibilisiert sind (EP-A 0 625 728 und 0 672 954, WO 96/20429). Sie können naturgemäß nicht bei normaler Beleuchtung verarbeitet werden.
Es bestand daher der Bedarf, ein Aufzeichnungsmaterial zu schaffen, das im UVNIS- wie auch im IR-Bereich sensibilisiert ist und dennoch bei normalem Umgebungslicht mit IR-Strahlen bebildert werden kann. Gelöst wird die Aufgabe mit einer Deckschicht, die für UVNIS-Strahlung praktisch undurchlässig, für IR-Strahlung dagegen durchlässig ist und sich mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung entfernen läßt.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist damit ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Schichtträger und einer strahlungsempfindlichen, wasserunlöslichen Schicht, die eine IR-Strahlung absorbierende Komponente enthält und nach Einwirkung von Infrarotstrahlung in einem wäßrig-alkalischen Entwickler löslich oder zumindest quellbar wird. Das Aufzeichnungsmaterial ist dadurch gekennzeichnet, daß sich auf der strahlungsempfindlichen Schicht eine Deckschicht befindet, die für Weißlicht undurchlässig, für Strahlung im IR-Bereich dagegen durchlässig ist und sich mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung entfernen läßt.
Durch die Deckschicht wird gleichzeitig die Kratzempfindlichkeit der strahlungsempfindlichen Schicht stark vermindert. Darüber hinaus verhindert die Deckschicht, daß sich Bestandteile der strahlungsempfindlichen Schicht, die eventuell bei der Einwirkung der IR-Laserstrahlen abgelöst wurden, in der Bestrahlungseinrichtung absetzen. Insbesondere bei Innentrommelbelichtern kann eine Verschmutzung der Laseroptik zu Problemen führen. "Weißlicht" bedeutet Tageslicht oder Licht von Glühlampen, Leuchtstoffröhren und anderen Beleuchtungsmitteln, die gewöhnliches weißes Licht abstrahlen. Unter "Strahlung im IR-Bereich" soll hier - wie allgemein üblich - Strahlung mit einer Wellenlänge von 700 bis 1.100 nm verstanden werden.
Bevorzugt ist ein Aufzeichnungsmaterial, das nicht nur im IR-, sondern auch im UV/VIS-Bereich für eine bildmäßige Differenzierung ausreichend sensibiliert ist, so daß nach dem Entfernen der Deckschicht auch eine konventionelle UV-Belichtung möglich ist (die naturgemäß nicht in Weißlichtumgebung, sondern nur bei rotem oder gelbem Sicherheitslicht erfolgen kann).
Die Deckschicht enthält allgemein mindestens ein wasserlösliches, organisches, polymeres Bindemittel und mindestens eine Komponente, die Strahlung im UV/VIS-Bereich absorbiert. Diese Komponente besitzt vorzugsweise ein Absorptionsmaximum im Bereich von 300 bis 500 nm, speziell im Bereich von 350 bis 450 nm. Besonders geeignete absorbierende Komponenten sind Farbstoffe und Pigmente. Unter dem Begriff "Farbstoffe" sollen dabei alle Verbindungen verstanden werden, die in dem angegebenen Bereich absorbieren, auch wenn sie im sichtbaren Bereich nur wenig oder gar nicht gefärbt sind. Besonders zu nennen sind Polyhydroxybenzophenone (z.B. 2,4-Dihydroxy-benzophenon), Sudangelb (Color Index No. 30 = C.I. 30), ®Remazolgelb RTL (Reactive Yellow 24), ®Astrazongelb 3G (C.I. 48055), ®Astrazonorange 3R (Basic Orange 22), Fluoreszenzgelb T (Acid Yellow 245), ®Blankophor PSG (Fluorescent Brightener 113) und Tartrazin X90 (C.I. 19140). Nicht wasserlösliche UV/VIS-Absorber sind ebenfalls verwendbar, müssen jedoch vorher mit einem wasserlöslichen Bindemittel dispergiert werden. Das zum Dispergieren verwendete Bindemittel ist dabei vorzugsweise identisch mit dem übrigen Bindemittel in der Deckschicht. Der Anteil an UV/VIS-Absorber beträgt allgemein 5 bis 50 Gew.-%, bevorzugt 20 bis 30 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der Deckschicht. Allgemein sollte er mindestens so hoch sein, daß eine optische Dichte von mindestens 2 erreicht wird (gemessen gegen weißes Papier als Referenzmaterial). Vorzugsweise beträgt die optische Dichte der Deckschicht 2,2 bis 2,5. Besonders geeignete Bindemittel für die Deckschicht sind Polyvinylalkohole, Polyvinylpyrrolidone, teilweise verseifte Polyvinylacetate, die zusätzlich noch Vinylether- oder Vinylacetal-Einheiten enthalten können, Gelatine, Kohlenhydrate, Cellulosederivate (z.B. Hydroxyethyl-cellulose), Gummi arabicum, Polyethylenoxide, Polyvinylether, Poly(meth)acrylate und entsprechende Mischpolymere. Besonders bevorzugt sind Polyvinylalkohole. Daneben kann die Deckschicht noch untergeordnete Mengen an Tensiden, oberflächenaktiven Mitteln, inerten Partikeln und/oder Weichmachern enthalten. Die Dicke der Deckschicht beträgt allgemein bis zu 5 µm, bevorzugt 0,5 bis 2,5 µm. Sie ist so zu wählen, daß sich die darunter liegende IR-sensitive Schicht noch ohne Probleme bebildern läßt.
Deckschichten ohne UV/VIS-Absorber sind bereits bekannt und beispielsweise in der US-A 3 458 311 und der EP-A 352 630 (= US-A 5 273 862) beschrieben. Sie dienen vor allem dazu, darunter liegende radikalisch polymerisierbare Schichten vor der Einwirkung von Luftsauerstoff zu schützen, denn Sauerstoff inhibiert die Polymerisation. Gleichzeitig bewirkt die Deckschicht einen Schutz vor Feuchtigkeit, was zu einer erhöhten Lagerfähigkeit der Aufzeichnungsmaterialien führt. Aus der EP-A 0 354 475 war auch eine Deckschicht bekannt, die die darunter liegende photopolymerisierbare Schicht vor Sauerstoff schützt und gleichzeitig als optischer Filter wirkt. Dazu enthält sie einen Farbstoff, der Licht mit einer Wellenlänge von 300 bis 700 nm absorbiert, jedoch innerhalb dieses Bereiches eine Absorptionslücke aufweist. Die Lücke ist so gewählt, daß sie dem Emissionsbereich der zur Bebilderung verwendeten Lichtquelle entspricht. Die bekannte Deckschicht wird dann zusammen mit den nichtbestrahlten Bereichen der photopolymerisierbaren Schicht durch die Entwicklerlösung entfernt.
Die Zusammensetzung der IR-sensitiven Schicht ist nicht besonders kritisch. Sie muß jedoch mindestens so weit wasserunlöslich sein, daß sie beim Entfernen der Deckschicht praktisch nicht angegriffen wird. Bevorzugt ist eine Schicht, die IR- und UVNIS-sensitiv ist. Eine besonders geeignete Schicht enthält eine IR-absorbierende Komponente, ein polymeres Bindemittel und eine UV-sensitive Komponente.
Rußpigmente, wie sie beispielsweise in der WO 96/20429 beschrieben sind, eignen sich besonders als IR-absorbierende Komponente, denn sie absorbieren über einen breiten IR-Wellenlängenbereich. Bei ihrer Verwendung können daher sowohl Nd-YAG-Laser, die bei einer Wellenlänge von 1064 nm arbeiten, als auch preiswerte Laserdioden, die bei 830 nm arbeiten, eingesetzt werden. Bevorzugt sind Rußpigmente mit einem mittleren Primärteilchendurchmesser von weniger als 80 nm. Mit dem Begriff "Primärteilchen" sind dabei gemäß DIN 53206 kleinste Teilchen (Einzelteilchen) gemeint, aus denen pulverförmige Stoffe aufgebaut sind. Sie sind elektronenmikroskopisch als Einzelindividuen erkennbar. Geeignete Ruße sind Flamm-, Furnace-, oder Channelruße. Die nach dem Verfahren von Brunauer, Emmett und Teller bestimmte Oberfläche ("BET-Oberfläche") beträgt allgemein mehr als 10 m2/g. Besonders geeignete Ruße sind an ihrer Oberfläche oxidiert, wodurch saure Einheiten entstehen. Die Dispergierung der Rußpartikel mit Bindemittel kann in allgemein bekannten Vorrichtungen erfolgen. Beispielsweise kann die Mischung aus Pigment und Bindemittel in einem Dissolver vordispergiert und dann in einer Kugelmühle feindispergiert werden. Die dabei verwendeten organischen Lösemittel können von den eigentlichen Beschichtungslösemitteln verschieden sein, vorzugsweise sind sie jedoch identisch. Besonders geeignete Lösemittel sind Propylenglykol-monomethylether (PGME), Propylenglykol-monomethylether-acetat (PGMEA), Ethyllactat, Butanon, γ-Butyrolacton, Tetrahydrofuran sowie Gemische davon. Die Stabilität der so erzeugten Dispersionen läßt sich in manchen Fällen durch Zugabe von Tensiden und/oder Verdickungsmitteln noch verbessern. In wäßrig-alkalischen Lösungen lösliche Tenside und Verdickungsmittel sind dabei besonders bevorzugt. Anstelle oder zusätzlich zu den Rußpigmenten können auch andere wärmeabsorbierende Substanzen, wie Squarylium-, Cyanin-, Merocyanin- oder Pyryliumverbindungen in der IR-strahlungsempfindlichen Schicht vorhanden sein. Der Anteil der IR-absorbierenden Komponente beträgt allgemein 0,5 bis 30 Gew.-%, bevorzugt 2 bis 15 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der Schicht.
Die IR-strahlungsempfindliche Schicht enthält daneben ein polymeres Bindemittel. Besonders geeignet sind dabei Bindemittel mit aciden Gruppen, deren pKs-Wert bei weniger als 13 liegt. Dazu gehören beispielsweise Polykondensate, wie man sie bei der Umsetzung von Phenolen oder sulfamoyl- oder carbamoyl-substituierten Aromaten mit Aldehyden oder Ketonen erhält. "Phenole" können in diesem Zusammenhang neben Phenol auch substituierte Phenole sein, wie Resorcin, Kresol, Xylenol oder Trimethylphenol. Der Aldehyd ist vorzugsweise Formaldehyd. Geeignet sind auch Umsetzungsprodukte von Diisocyanaten mit Diolen oder Diaminen, solange sie acide Einheiten der genannten Art aufweisen. Weiterhin zu nennen sind Polymere mit Einheiten aus Vinylaromaten, N-Aryl-(meth)acrylamiden oder Aryl-(meth)acrylaten, wobei diese Einheiten jeweils noch eine oder mehrere Carboxylgruppen, phenolische Hydroxygruppen, Sulfamoyl- oder Carbamoylgruppen aufweisen. Spezifische Beispiele sind Polymere mit Einheiten aus (2-Hydroxy-phenyl)-(meth)acrylat, aus N-(4-Hydroxy-phenyl)-(meth)acrylamid, aus N-(4-sulfamoyl-phenyl)-(meth)acrylamid, aus N-(4-Hydroxy-3,5-dimethyl-benzyl)-(meth)acrylamid, aus 4-Hydroxy-styrol oder aus Hydroxyphenyl-maleimid. Die Polymere können zusätzlich Einheiten aus anderen Monomeren, die keine aciden Gruppen besitzen, enthalten. Das sind beispielsweise Einheiten aus Olefinen oder Vinylaromaten, Methyl-(meth)acrylat, Phenyl-(meth)acrylat, Benzyl-(meth)acrylat, Methacrylamid oder Acrylnitril. Der Begriff "(meth)acrylat" steht dabei für "acrylat und/oder methacrylat". Entsprechendes gilt für "(meth)acrylamid". Der Anteil des Bindemittels beträgt allgemein 2 bis 98 Gew.-%, bevorzugt 50 bis 85 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der Schicht.
Bei der UVNIS-sensitiven Komponente handelt es sich bevorzugt um ein Oniumsalz. Besonders geeignet ist auch eine Kombination aus einer säurebildenden Verbindung und einer durch die aus dieser Verbindung thermisch bzw. photochemisch erzeugten Säure spaltbaren Verbindung. Bevorzugte säurespaltbare Verbindungen sind Polymere mit hydrophilen, sauren Gruppen (insbesondere Carboxy- und phenolische Hydroxygruppen), von denen ein Teil oder alle mit hydrophoben, säurelabilen Gruppen maskiert sind. Nach der säurekatalysierten Abspaltung der hydrophoben Gruppen ist die Löslichkeit des Polymers in wäßrig-alkalischen Entwicklern dann wieder stark erhöht. Die hydrophoben, säurelabilen Gruppen sind beispielsweise tert.-Alkoxycarbonyloxy-, Benzyloxycarbonyloxy- und Alkoxyalkylestergruppen der Formel -CO-O-CR1R2-OR3, worin R3 eine (C1-C18)Alkylgruppe darstellt und R1 und R2 unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom oder eine (C1-C18)Alkylgruppe darstellen mit der Maßgabe, daß mindestens einer der Reste R1 und R2 ein Wasserstoffatom ist. Besonders bevorzugt sind tert.-Butoxycarbonyloxy- und Tetrahydropyranyloxycarbonylgruppen. Besonders gut geeignet sind Polyhydroxystyrole, deren Hydroxygruppen teilweise oder vollständig in säurespaltbare Gruppen, wie tert.-Butoxycarbonyloxygruppen, umgewandelt sind. Solche Polymere mit säurespaltbaren Gruppen sind beispielsweise in den EP-A 0 652 483 und 0 683 435 (= US-A 5 654 121) beschrieben. Je nach Art der hydrophoben, säurelabilen Gruppen können bei deren Abspaltung gasförmige Zersetzungssprodukte entstehen. Bei der Spaltung der tert.-Butoxycarbonyloxygruppe entsteht beispielsweise CO2 und Isobuten. Als Säurebildner eignen sich insbesondere Diazonium-, Phosphonium-, Sulfonium- und lodoniumsalze starker Säuren. Das Gegenion in diesen Salzen ist bevorzugt Hexafluorophosphat, Hexafluoroantimonat oder Perfluoralkansulfonat.
Besonders bevorzugt als UV/VIS-strahlungsempfindliche Komponente sind Diazoverbindungen, speziell Ester oder Amide der 1,2-Naphthochinon-2-diazid-4- oder -5-sulfonsäure. Dazu gehören insbesondere Ester aus 1,2-Naphthochinon-2-diazid-4- oder -5-sulfonsäure und einer Verbindung mit mindestens einer, bevorzugt mindestens drei phenolischen Hydroxygruppen.
Ganz besonders bevorzugt sind Verbindungen mit 3 bis 6 phenolischen Hydroxygruppen, wie 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon, 2,3,4-Trihydroxy-3'methyl-, -propyl- oder -isopropyl-benzophenon, 2,3,4,4'-Tetrahydroxy-benzophenon, 2,3,4,2',4'-Pentahydroxy-benzophenon, 2,3,4,2',3',4'-Hexahydroxybenzophenon und 5,5'-Diacyl-2,3,4,2',3',4'-hexahydroxy-diphenylmethan. Brauchbare Hydroxykomponenten für die Veresterung sind auch Kondensationsprodukte aus Pyrogallol und Aldehyden oder Ketonen sowie Kondensationsprodukte aus alkylierten Phenolen und Formaldehyd. Die Schicht kann auch ein Gemisch mehrerer strahlungsempfindlicher Komponenten enthalten. Der Anteil der UVNIS-empfindlichen Komponente beträgt allgemein 1 bis 50 Gew.-%, bevorzugt 5 bis 30 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der Schicht.
Schließlich kann die strahlungsempfindliche Schicht auch noch weitere, in solchen Schichten allgemein übliche Zusätze in untergeordneten Mengen enthalten. Dazu gehören Indikatorfarbstoffe (beispielsweise Dialkylaminoazobenzole), photochemische Säurebildner (beispielsweise Trifluormethansulfonate oder Hexafluorophosphate von Diazodiphenylaminen), Tenside (bevorzugt fluorhaltige Tenside oder Silikon-Tenside), Polyalkylenoxide zur Steuerung der Acidität der aciden Gruppen und/oder niedermolekulare Verbindungen mit aciden Einheiten zur Erhöhung der Entwicklungsgeschwindigkeit.
Der Schichtträger in dem erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterial ist bevorzugt eine Aluminiumfolie oder -platte. Geeignet ist auch ein Verbund aus einer Aluminium- und einer Polyesterfolie. Die Aluminiumoberfläche ist vorzugsweise mechanisch und/oder elektrochemisch aufgerauht und anodisch oxidiert. Sie kann daneben noch mit einer geeigneten, in der Regel polymeren Verbindung, hydrophiliert sein. Gut geeignet für diesen Zweck sind Verbindungen mit Phosphonsäure oder Phosphonateinheiten, insbesondere Polyvinylphosphonsäure. Der eigentlichen Aufrauhung kann noch eine Entfettung, gegebenenfalls auch eine weitere mechanische und/oder chemische Aufrauhung vorgeschaltet sein.
Auf diesen Schichtträger wird dann eine Lösung des beschriebenen IR-strahlungsempfindlichen Gemisches aufgebracht und getrocknet. Als Beschichtungslösemittel sind die bereits genannten, allgemein üblichen organischen Lösemittel, wie sie auch bei der Dispergierung des Rußes eingesetzt werden können, geeignet. Nach dem Trocknen hat die IR-strahlungsempfindliche Schicht allgemein ein Schichtgewicht von 0,5 bis 5,0 g/m2, bevorzugt 1,0 bis 3,0 g/m2, ensprechend etwa 0,5 bis 5,0 µm, bevorzugt etwa 1,0 bis 3,0 µm. Danach wird die Deckschicht aufgebracht aus einer wäßrigen Lösung oder Dispersion, die gegebenenfalls auch geringe Mengen an organischen Lösemitteln, d.h. weniger als 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Beschichtungslösemittel für die Deckschicht, enthalten kann.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist schließlich auch ein Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck aus dem erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterial. In diesem Verfahren wird das Aufzeichnungsmaterial zunächst mit Infrarotstrahlung bildmäßig bestrahlt und anschließend in einem üblichen wäßrig-alkalischen Entwickler bei einer Temperatur von 20 bis 40 °C entwickelt. Beim Entwickeln wird die wasserlösliche Deckschicht mitentfernt. In einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die Deckschicht vor oder nach der Bebilderung mit IR-Strahlen, jedoch vor der Entwicklung, mit Wasser entfernt. Zur Bebilderung mit Infrarotstrahlen sind besonders Außen- oder Innentrommelbelichter mit Laserdioden (Emissionsmaximum 830 nm) oder Nd-YAG-Lasern (Emissionsmaximum 1064 nm) geeignet. Der Entwickler weist allgemein ein Verhältnis von SiO2 zu Alkalioxid von mindestens 1 auf. Dadurch ist sichergestellt, daß die Aluminiumoxidschicht des Trägers nicht geschädigt wird. Bevorzugte Alkalioxide sind Na2O und K2O, sowie Mischungen davon. Neben Alkalisilikaten kann der Entwickler weitere Komponenten enthalten, wie Puffersubstanzen, Komplexbildner, Entschäumer, organische Lösemittel in geringen Mengen, Korrosionsinhibitoren, Farbstoffe, Tenside und/oder Hydrotrope. Die Entwicklung erfolgt meistens in maschinellen Verarbeitungsanlagen.
Zur Erhöhung der Widerstandsfähigkeit der fertigen Druckform, und damit zur Steigerung der möglichen Druckauflage, kann sie kurzzeitig auf erhöhte Temperaturen erwärmt werden ("Einbrennen"). Dadurch steigt auch die Resistenz der Druckform gegenüber Auswaschmitteln, Korrekturmitteln und UV-härtbaren Druckfarben. Eine solche thermische Nachbehandlung ist beispielsweise in der DE-A 14 47 963 (= GB-A 1 154 749) beschrieben.
Die folgenden Beispiele sollen den Gegenstand der Erfindung erläutern, ohne damit eine Einschränkung zu bewirken. Prozente sind darin Gewichtsprozente, Verhältnisse sind Gewichtsverhältnisse, soweit nicht anders angegeben. "Gt" steht für Gewichtsteil(e).
Beispiel 1 (Vergleichsbeispiel):
UV/VIS- und IR-sensibilisiertes Aufzeichnungsmaterial (UV-Sensibilisierung mit Diazoverbindung), ohne Deckschicht:
Es wurde eine Beschichtungsdispersion hergestellt aus
20,0 Gt eines Esters aus 1 mol 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon und 1,5 mol 1,2-Naphthochinon-2-diazid-5-sulfonylchlorid,
20,0 Gt Rußdispersion der im folgenden angegebenen Zusammensetzung,
3,0 Gt 2,4-Dihydroxy-benzophenon,
57,0 Gt Cresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak (®Alnovol SPN 400, 43,5 %ig in Propylenglykol-monomethylether-acetat),
455,0 Gt Propylenglykol-monomethylether (PGME) und
455,0 Gt Tetrahydrofuran.
Dabei bestand die Rußdispersion aus
10,0 Gt Ruß (®Printex 25),
10,0 Gt Cresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak (®Alnovol SPN 400, 45,3 %ig in PGMEA),
28,8 Gt PGME und
0,01 Gt Silikonöl.
Die Beschichtungslösung wurde auf eine in Salzsäure aufgerauhte, in Schwefelsäure anodisierte und mit Polyvinylphosphonsäure hydrophilierte Aluminiumfolie aufgebracht. Nach 2 min Trocknen bei 100 °C betrug die Schichtdicke 2 µm.
Die Bebilderung erfolgte dann in zwei verschiedenen Varianten:
  • a) In einem Außentrommelbelichter mit einer IR-Laserdiodenleiste (Emissionsmaximum: 830 nm; Leistung jeder einzelnen Diode: 40 mW, Schreibgeschwindigkeit: 1 m/s; Strahlbreite: 10 µm) wurde das Aufzeichnungsmaterial unter Einsatz einer digitalen Rastervorlage thermisch bebildert.
  • b) In einem konventionellen Vakuum-Kontaktkopierrahmen wurde das Aufzeichnungsmaterial unter eine Rastervorlage mit einer metallhalogenid-dotierten Quecksilberdampflampe mit einer Leistung von 5 kW (Emissionsbereich: 350 bis 450 nm) mit einer Dosis von 700 mJ/cm2 mit UV-Strahlen bebildert.
  • Die Entwicklung war für beide bildmäßig bestrahlten Aufzeichnungsmaterialien gleich. Sie erfolgte in einer herkömmlichen Verarbeitungsanlage mit einer Durchlaufgeschwindigkeit von 0,4 m/min bei einer Temperatur von 28 °C mit einem wäßrigen Kaliumsilikatentwickler, der K2SiO3 (Normalität: 0,8 mol/l in Wasser) sowie 0,2 Gew.-% O,O'-Bis-carboxymethyl-polyethylenglykol-1000 und 0,4 Gew.-% Pelargonsäure enthielt. Mit beiden Aufzeichnungsmaterialien wurde eine Punktauflösung von 2 bis 98 % eines 60er Rasters erreicht. Der Bildhintergrund war schleierfrei. Mit den so hergestellten Offsetdruckplatten konnten mehr als 100.000 einwandfreie Drucke hergestellt werden.
    Zur Ermittlung der Tageslichtempfindlichkeit wurden Proben des Aufzeichnungsmaterials vor bzw. nach der thermischen Bebilderung, in jedem Fall aber vor der Entwicklung, unterschiedlich lange dem (UV-haltigen) Tageslicht ausgesetzt. Mit einem Photometer (spektrale Empfindlichkeit: 300 bis 450 nm) wurde die Energie bestimmt, die dabei auf das Material einwirkte. Sie betrug etwa 2 mJ pro Quadratzentimeter und pro Minute. Wenn das Material auch nur 1 min im Tageslicht war, zeigten sich nach der Entwicklung bereits deutliche Verluste im Spitzpunktbereich, nach 4 min im Tageslicht hatte das Material keine Resistenz mehr und wurde auch in den unbestrahlten Bereichen vom Entwickler angegriffen.
    Beispiel 2 (Vergleichsbeispiel):
    UVNIS- und IR-sensibilisiertes Aufzeichnungsmaterial (UV-Sensibilisierung durch Kombination von Säurebildner und Polymer mit säurespaltbaren Gruppen), ohne Deckschicht:
    Eine Platte aus elektrochemisch aufgerauhtem und anschließend anodisiertem Aluminium wurde durch Aufschleudern beschichtet mit einer Dispersion aus
    6,7 Gt Poly(4-hydroxy-styrol), in dem 30 % der Hydroxygruppen in tert.- Butoxycarbonyloxygruppen und 15 % in 2,3-Dihydroxy-propoxygruppen (wie in der nicht vorveröffentlichten DE 197 29 067.1 beschrieben) umgewandelt waren,
    0,5 Gt 4-para-Toluolmercapto-2,5-diethoxy-benzoldiazonium-hexafluorophosphat,
    0,01 Gt Silikonöl als Oberflächenverbesserer,
    17,0 Gt Rußdispersion (wie im Beispiel 1),
    42,0 Gt Propylenglykol-monomethylether und
    34,0 Gt Tetrahydrofuran.
    Nach 1 min Trocknen bei 100 °C betrug das Schichtgewicht 1,8 bis 2,2 g/m2. Das so hergestellte Aufzeichnungsmaterial wurde mit einem Nd-YAG-Laser (Wellenlänge 1064 nm; Leistung: 10 mW) thermisch bebildert. In den bestrahlten Bereichen waren Teile der Schicht durch die Gasentwicklung abgelöst, was zu einer Verschmutzung der Bestrahlungseinrichtung führte.
    Anschließend wurde das Material 1 min lang bei 28 °C entwickelt in einem Entwickler aus
    5,5 Gt Natriumsilikat-nonahydrat,
    3,4 Gt Trinatriumphosphat-dodecahydrat,
    0,4 Gt Mononatriumphosphat (wasserfrei) und
    90,7 Gt vollentsalztem Wasser.
    Beispiel 3: (wie Beispiel 1, jedoch mit Deckschicht)
    Zu jeweils 100 g einer Lösung aus 7 Gt Polyvinylalkohol (mittlerer Polymerisationsgrad PW etwa 1.000) und 93 Gt vollentsalztem Wasser ("VE-Wasser") wurden folgende Farbstoffe bzw. UV-Absorber in den angegebenen Mengen zugegeben:
    Beispiel Nr. Additiv C.I.-Bezeichnung Menge [g]
    3a Astrazongelb 3G 48085 2,5
    3b Säureorange GG 16230 2,5
    3c ®Vitasyn Tartrazin X90 19140 3,0
    3d Fluoreszenzgelb T Acid Yellow 245 2,0
    3e ®Blankophor PSG Fluorescent Brightener 113 0,4
    3f -- (kein Additiv) -- --
    Die so erhaltenen Deckschichten wurden jeweils auf das Aufzeichnungsmaterial aus Beispiel 1 aufgetragen und 2 min lang bei 100 °C getrocknet. Das Gewicht der getrockneten Deckschicht lag dann bei etwa 2 bis 3 g/m2. Das so erhaltene Material wurde danach - wie im Beispiel 1 a) beschrieben - mit IR-Strahlen bebildert. Die sich daran anschließende Entwicklung erfolgte ebenfalls gemäß Beispiel 1. Die damit erhaltenen Druckplatten waren in allen wesentlichen Eigenschaften, besonders in der Qualität und der Haltbarkeit, mit denen aus Beispiel 1 gleichwertig.
    Um eine konventionelle Belichtung - wie im Beispiel 1 b) beschrieben - durchführen zu können, wurde die Deckschicht vorher mit gewöhnlichem Leitungswasser abgewaschen. Die nach dem Entwickeln erhaltenen Druckplatten zeigten praktisch keinen Unterschied zu denen aus Beispiel 1 b).
    Zur Ermittlung der Tageslichtempfindlichkeit wurden die mit einer Deckschicht versehenen Aufzeichnungsmaterialien unterschiedlich lange UV-haltigem weißen Licht ausgesetzt. Die Materialien gemäß den Beispielen 3a bis 3e zeigten selbst nach 6 min noch keinen Verlust an Resistenz. Bei den Mustern 3a bis 3d war auch nach 12 min Weißlicht nach der Entwicklung noch kein Verlust in den Spitzpunktbereichen sichtbar. Das Aufzeichnungsmaterial gemäß 3f zeigte nach 2 min bereits deutlich Spitzpunktverluste.
    Beispiel 4: (wie Beispiel 2, jedoch mit Deckschicht)
    Auf das Aufzeichnungsmaterial gemäß Beispiel 2 wurde eine Beschichtungslösung gemäß Beispiel 3c oder 3f aufgebracht und getrocknet. Nach 2 min Trocknen bei 100 °C betrug das Gewicht der so hergestellten Deckschichten wiederum 2 bis 3 g/m2. Im Gegensatz zum Vergleichsbeispiel 2 lösten sich bei der IR-Bestrahlung keine Bestandteile aus der Schicht.
    Beispiel 5:
    Auf ein Aufzeichnungsmaterial gemäß Beispiel 2 wurde eine Lösung aus
    5,0 Gt Polyvinylpyrrolidon (®Luviskol K 30),
    10,0 Gt eines Copolymers aus 70 % Vinylpyrrolidon-Einheiten und 30 % Vinylacetat-Einheiten; 50 %ig in Wasser (®Luviskol VA73 W),
    5,0 Gt ®Duasyn Säuregelb XX (Acid Yellow 23, C.I. 19140) und
    80,0 Gt VE-Wasser
    aufgebracht und 2 min bei 100 °C getrocknet. Nach dem Trocknen betrug das Schichtgewicht 2,5 g/m2. Das Aufzeichnungsmaterial wurde dann wie im Beispiel 1 a) beschrieben thermisch bebildert. Die Weißlichtstabilität betrug unter den im Beispiel 1 angegebenen Lichtbedingungen mindestens 15 min.
    Beispiel 6: (Bestimmung der Kratzempfindlichkeit)
    Aufzeichnungsmaterialien gemäß Beispiel 1 (ohne Deckschicht) und Beispiel 3c (mit Deckschicht) wurden mit einem Schmißbeständigkeitsprüfer nach Oesterle (Erichsen scar resistance tester model 435) auf ihre Kratzfestigkeit untersucht. Es wurde jeweils gemessen, wie groß die auf die Prüfscheibe einwirkende Kraft sein muß, damit nach der Entwicklung sichtbare Kratzer in der Bildschicht erkennbar sind.
    Bei dem Material gemäß Beispiel 1 genügte eine Kraft von 1 N, um nach der Entwicklung eine sichtbare Verletzung in den Bildbereichen zu verursachen. Bei dem Material gemäß Beispiel 3c waren selbst bei einer Krafteinwirkung von 20 N nach der Entwicklung noch keine Verletzungen der Schicht in den Bildbereichen erkennbar, obwohl dann bereits eine Verformung des Aluminiumträgers eintrat.

    Claims (16)

    1. Aufzeichnungsmaterial mit einem Schichtträger und einer strahlungsempfindlichen, wasserunlöslichen Schicht, die eine IR-Strahlung absorbierende Komponente enthält und nach Einwirkung von Infrarotstrahlung in einem wäßrig-alkalischen Entwickler löslich oder zumindest quellbar wird, dadurch gekennzeichnet, daß sich auf der strahlungsempfindlichen Schicht eine Deckschicht befindet, die für Weißlicht undurchlässig, für Strahlung im IR-Bereich dagegen durchlässig ist und sich mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung entfernen läßt.
    2. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht auch im UVNIS-Bereich für eine bildmäßige Differenzierung ausreichend sensibiliert ist.
    3. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die IR-Strahlung absorbierende Komponente ein Rußpigment ist.
    4. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Rußpigment mit einem Bindemittel dispergiert ist.
    5. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Anteil der IR-absorbierenden Komponente 0,5 bis 30 Gew.-%, bevorzugt 2 bis 15 Gew.-%, beträgt, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der Schicht.
    6. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht mindestens ein wasserlösliches, organisches, polymeres Bindemittel und mindestens eine Komponente, die Strahlung im UV/VIS-Bereich absorbiert, enthält.
    7. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Komponente, die UV/VIS-Strahlung absorbiert, ein Absorptionsmaximum im Bereich von 300 bis 500 nm, bevorzugt im Bereich von 350 bis 450 nm, aufweist.
    8. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die UV/VIS-Strahlung absorbierende Komponente ein Farbstoff oder ein Pigment ist.
    9. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß Anteil der UV/VIS-Strahlung absorbierenden Komponente 5 bis 50 Gew.-%, bevorzugt 20 bis 30 Gew.-%, beträgt, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der Deckschicht.
    10. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht eine optische Dichte von mindestens 2,0, bevorzugt 2,2 bis 2,5 aufweist, gemessen gegen weißes Papier als Referenzmaterial.
    11. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Deckschicht bis zu 5 µm, bevorzugt 0,5 bis 2,5 µm, beträgt.
    12. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger eine Aluminiumfolie oder -platte oder ein Verbund aus einer Aluminium- und einer Polyesterfolie ist.
    13. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Aluminiumoberfläche vorzugsweise mechanisch und/ oder elektrochemisch aufgerauht und anodisch oxidiert, bevorzugt zusätzlich auch noch hydrophiliert ist.
    14. Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 13 mit Infrarotstrahlung bildmäßig bestrahlt und anschließend in einem üblichen wäßrig-alkalischen Entwickler bei einer Temperatur von 20 bis 40 °C entwickelt.
    15. Verfahren gemäß Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß zur Bebilderung Infrarot-Laser eingesetzt werden.
    16. Verfahren gemäß Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Bebilderung, aber vor der Entwicklung, die Deckschicht mit Wasser entfernt wird.
    EP98116561A 1997-09-08 1998-09-02 Weisslicht-unempfindliches, thermisch bebilderbares Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck Expired - Lifetime EP0900652B1 (de)

    Applications Claiming Priority (2)

    Application Number Priority Date Filing Date Title
    DE19739299 1997-09-08
    DE19739299A DE19739299A1 (de) 1997-09-08 1997-09-08 Weißlicht-unempfindliches, thermisch bebilderbares Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck

    Publications (3)

    Publication Number Publication Date
    EP0900652A2 EP0900652A2 (de) 1999-03-10
    EP0900652A3 EP0900652A3 (de) 1999-03-17
    EP0900652B1 true EP0900652B1 (de) 2002-07-24

    Family

    ID=7841596

    Family Applications (1)

    Application Number Title Priority Date Filing Date
    EP98116561A Expired - Lifetime EP0900652B1 (de) 1997-09-08 1998-09-02 Weisslicht-unempfindliches, thermisch bebilderbares Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck

    Country Status (4)

    Country Link
    US (1) US6165685A (de)
    EP (1) EP0900652B1 (de)
    JP (1) JPH11149162A (de)
    DE (2) DE19739299A1 (de)

    Families Citing this family (16)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Publication number Priority date Publication date Assignee Title
    US6969635B2 (en) * 2000-12-07 2005-11-29 Reflectivity, Inc. Methods for depositing, releasing and packaging micro-electromechanical devices on wafer substrates
    DE19729067A1 (de) * 1997-07-08 1999-01-14 Agfa Gevaert Ag Infrarot-bebilderbares Aufzeichnungsmaterial und daraus hergestellte Offsetdruckplatte
    JP3775634B2 (ja) * 1999-02-22 2006-05-17 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用原版
    DE10022786B4 (de) * 1999-05-12 2008-04-10 Kodak Graphic Communications Gmbh Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte
    JP3741353B2 (ja) * 1999-12-22 2006-02-01 富士写真フイルム株式会社 感熱性平版印刷用原板
    SG98433A1 (en) * 1999-12-21 2003-09-19 Ciba Sc Holding Ag Iodonium salts as latent acid donors
    US6558787B1 (en) 1999-12-27 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to manufacture of masks and electronic parts
    JP2004252201A (ja) * 2003-02-20 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
    JP2004252285A (ja) * 2003-02-21 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
    JP4048133B2 (ja) * 2003-02-21 2008-02-13 富士フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
    JP4299639B2 (ja) * 2003-07-29 2009-07-22 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料
    JP2005099284A (ja) * 2003-09-24 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及び平版印刷版原版
    JP2005225107A (ja) * 2004-02-13 2005-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版およびそれを用いる平版印刷方法
    US7073440B2 (en) * 2004-03-26 2006-07-11 Presstek, Inc. Printing members having solubility-transition layers and related methods
    JP2007272138A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Nippon Zeon Co Ltd レジストパターン形成方法及び感光性樹脂組成物
    CN102365584B (zh) 2009-01-29 2014-07-30 迪吉福来克斯有限公司 用于在光聚合物表面上产生光掩模的工艺

    Family Cites Families (21)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Publication number Priority date Publication date Assignee Title
    DE1447963B2 (de) * 1965-11-24 1972-09-07 KaIIe AG, 6202 Wiesbaden Biebnch Verfahren zur herstellung einer offsetdruckform aus einem vorsensibilisierten druckplattenmaterial
    US3458311A (en) * 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
    GB1489308A (en) * 1974-03-18 1977-10-19 Scott Paper Co Laser imagable dry planographic printing plate blank
    US5273862A (en) * 1988-07-29 1993-12-28 Hoechst Aktiengesellschaft Photopolymerizable recording material comprising a cover layer substantially impermeable to oxygen, binds oxygen and is soluble in water at 20°C.
    DE3827245A1 (de) * 1988-08-11 1990-02-15 Hoechst Ag Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
    CA2049362C (en) * 1989-03-30 2001-07-03 Diane M. Foley Near infrared laser absorbing coating and method for using same in color imaging and proofing
    US6027849A (en) * 1992-03-23 2000-02-22 Imation Corp. Ablative imageable element
    DE4217495A1 (de) * 1992-05-27 1993-12-02 Hoechst Ag Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
    AU674518B2 (en) * 1992-07-20 1997-01-02 Presstek, Inc. Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus
    US5372915A (en) * 1993-05-19 1994-12-13 Eastman Kodak Company Method of making a lithographic printing plate containing a resole resin and a novolac resin in the radiation sensitive layer
    GB9322705D0 (en) * 1993-11-04 1993-12-22 Minnesota Mining & Mfg Lithographic printing plates
    EP0672954B1 (de) * 1994-03-14 1999-09-15 Kodak Polychrome Graphics LLC Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, enthaltend ein Resolharz, ein Novolakharz, einen Infrarotabsorber und ein Triazin, und seine Verwendung in lithographischen Druckplatten
    DE4414896A1 (de) * 1994-04-28 1995-11-02 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungempfindliches Gemisch
    US5738974A (en) * 1994-09-05 1998-04-14 Mitsubishi Chemical Corporation Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate
    GB9426206D0 (en) * 1994-12-23 1995-02-22 Horsell Plc Lithographic plate
    EP0773112B1 (de) * 1995-11-09 2001-05-30 Agfa-Gevaert N.V. Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit
    US5879861A (en) * 1996-04-23 1999-03-09 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making a lithographic printing plate wherein an imaging element is used that comprises a thermosensitive mask
    US5922502A (en) * 1996-04-23 1999-07-13 Agfa-Gevaert, N.V. Imaging element for making a lithographic printing plate wherein that imaging element comprises a thermosensitive mask
    US5912105A (en) * 1996-12-23 1999-06-15 Agfa-Gevaert Thermally imageable material
    DE19712323A1 (de) * 1997-03-24 1998-10-01 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für Offsetdruckplatten
    US6022667A (en) * 1997-05-27 2000-02-08 Agfa-Gevaert, N.V. Heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith

    Also Published As

    Publication number Publication date
    EP0900652A2 (de) 1999-03-10
    EP0900652A3 (de) 1999-03-17
    JPH11149162A (ja) 1999-06-02
    DE59804861D1 (de) 2002-08-29
    US6165685A (en) 2000-12-26
    DE19739299A1 (de) 1999-03-11

    Similar Documents

    Publication Publication Date Title
    EP0900652B1 (de) Weisslicht-unempfindliches, thermisch bebilderbares Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck
    EP0978375B1 (de) Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
    EP0867278B1 (de) Strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für Offsetdruckplatten
    DE69731513T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden lithographischen Druckplatte
    DE69827882T2 (de) Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes
    DE60028505T2 (de) Gegenstand mit beschichtungen, in denen ein bild aufgezeichnet werden kann
    EP0978376B1 (de) Strahlungsempfindlisches Aufzeichnungsmaterial mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
    DE602004007007T2 (de) Thermisch reaktive, nah-infrarot absorbierende Polymere und ihre Verwendung in wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatten
    EP0993966B1 (de) Negativ arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch zur Herstellung eines mit Wärme oder Infrarotlaser bebilderbaren Aufzeichnungsmaterials
    DE2607207C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen
    DE69800847T3 (de) Wärmempfindliches Aufzeichnungselement zur Herstellung von positiv arbeitenden Flachdruckformen
    DE69826396T2 (de) Lichtempfindliche Zusammensetzung und Bildaufzeichnungmaterial
    DE69838703T2 (de) Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer und Flachdruckplatte
    DE60218005T2 (de) Strahlungsempfindliches Produkt, Verfahren zur Herstellung eines strahlungsempfindlichen Produkts und Verfahren zum Drucken oder Formen eines Bildes mit dem Produkt
    DE10239505A1 (de) Wärmeempfindlicher positiv arbeitender Lithographie-Druckplattenvorläufer mit hoher Chemikalienbeständigkeit
    CN101454159A (zh) 制造平版印刷版的方法
    EP0900653B1 (de) Thermisch bebilderbares Aufzeichnungsmaterial mit einer Schicht aus einem positiv arbeitenden, IR-sensitiven Gemisch sowie Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck
    DE69906171T2 (de) Wärmehärtbare Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese verwendet
    DE10337506A1 (de) Wärmeempfindlicher positiv arbeitender Lithographie-Druckplattenvorläufer
    DE69916162T2 (de) IR- und UV-Strahlungsempfindliche Zusammensetzung und Offsetdruckplatte
    EP0474010A1 (de) Entwicklerzusammensetzung für bestrahlte, strahlungsempfindliche, positiv und negativ arbeitende sowie umkehrbare reprographische Schichten und Verfahren zur Entwicklung solcher Schichten
    DE19910363B4 (de) Positives, lichtempfindliches bebilderbares Element
    EP0890879B1 (de) Infrarot-bebilderbares Aufzeichnungsmaterial und daraus hergestellte Offsetdruckplatte
    DE19850181C2 (de) Strahlungsempfindliche Zusammensetzung und deren Verwendung für thermisch bebilderbare Druckplatten
    DE69917004T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte durch Laserablation eines wärmempfindlichen Elements

    Legal Events

    Date Code Title Description
    PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

    Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

    PUAL Search report despatched

    Free format text: ORIGINAL CODE: 0009013

    AK Designated contracting states

    Kind code of ref document: A2

    Designated state(s): DE FR GB IT NL

    AX Request for extension of the european patent

    Free format text: AL;LT;LV;MK;RO;SI

    AK Designated contracting states

    Kind code of ref document: A3

    Designated state(s): AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE

    AX Request for extension of the european patent

    Free format text: AL;LT;LV;MK;RO;SI

    17P Request for examination filed

    Effective date: 19990917

    AKX Designation fees paid

    Free format text: DE FR GB IT NL

    GRAG Despatch of communication of intention to grant

    Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS AGRA

    17Q First examination report despatched

    Effective date: 20020211

    RAP1 Party data changed (applicant data changed or rights of an application transferred)

    Owner name: AGFA-GEVAERT

    GRAG Despatch of communication of intention to grant

    Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS AGRA

    GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

    Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

    GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

    Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

    GRAA (expected) grant

    Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

    AK Designated contracting states

    Kind code of ref document: B1

    Designated state(s): DE FR GB IT NL

    PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: IT

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRE;WARNING: LAPSES OF ITALIAN PATENTS WITH EFFECTIVE DATE BEFORE 2007 MAY HAVE OCCURRED AT ANY TIME BEFORE 2007. THE CORRECT EFFECTIVE DATE MAY BE DIFFERENT FROM THE ONE RECORDED.SCRIBED TIME-LIMIT

    Effective date: 20020724

    REG Reference to a national code

    Ref country code: GB

    Ref legal event code: FG4D

    Free format text: NOT ENGLISH

    REF Corresponds to:

    Ref document number: 59804861

    Country of ref document: DE

    Date of ref document: 20020829

    GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)

    Effective date: 20020923

    ET Fr: translation filed
    PLBE No opposition filed within time limit

    Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

    STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

    Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

    26N No opposition filed

    Effective date: 20030425

    PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: FR

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

    Effective date: 20050531

    REG Reference to a national code

    Ref country code: FR

    Ref legal event code: ST

    REG Reference to a national code

    Ref country code: FR

    Ref legal event code: D3

    PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: NL

    Payment date: 20050922

    Year of fee payment: 8

    Ref country code: FR

    Payment date: 20050922

    Year of fee payment: 8

    PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: GB

    Payment date: 20050926

    Year of fee payment: 8

    Ref country code: DE

    Payment date: 20050926

    Year of fee payment: 8

    PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: NL

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

    Effective date: 20070401

    PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: DE

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

    Effective date: 20070403

    GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

    Effective date: 20060902

    NLV4 Nl: lapsed or anulled due to non-payment of the annual fee

    Effective date: 20070401

    REG Reference to a national code

    Ref country code: FR

    Ref legal event code: ST

    Effective date: 20070531

    PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

    Ref country code: GB

    Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

    Effective date: 20060902