JPH11149162A - 白色光に非感応性の熱的に記録し得る材料、およびオフセット印刷用の印刷版の製造法 - Google Patents
白色光に非感応性の熱的に記録し得る材料、およびオフセット印刷用の印刷版の製造法Info
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- JPH11149162A JPH11149162A JP10254363A JP25436398A JPH11149162A JP H11149162 A JPH11149162 A JP H11149162A JP 10254363 A JP10254363 A JP 10254363A JP 25436398 A JP25436398 A JP 25436398A JP H11149162 A JPH11149162 A JP H11149162A
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- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＩＲ領域で感度があるが、通常の白色光の中
でもＩＲ放射線により記録できる記録材料の提供。 【解決手段】 基材、およびＩＲ放射線を吸収する成分
を含み、赤外放射線の作用により水性アルカリ現像剤に
対して可溶化するか、または少なくとも膨潤し得る様に
なる放射線感応性の水に不溶な層を有する記録材料。こ
の記録材料は、白色光に対しては不透明であるが、ＩＲ
領域における放射線に対しては透明であり、水または水
溶液で除去できる最上層を、放射線感応性層の上に有す
る。この記録材料は、白昼光に対しては実質的に非感応
性である。ＩＲ放射線で像様露光し、続いて水性アルカ
リ現像剤で現像することにより、この記録材料からオフ
セット印刷用の印刷版を製造することができる。最上層
を予め洗い流すと、通常のＵＶ放射線を使用して記録す
ることもできる。
でもＩＲ放射線により記録できる記録材料の提供。 【解決手段】 基材、およびＩＲ放射線を吸収する成分
を含み、赤外放射線の作用により水性アルカリ現像剤に
対して可溶化するか、または少なくとも膨潤し得る様に
なる放射線感応性の水に不溶な層を有する記録材料。こ
の記録材料は、白色光に対しては不透明であるが、ＩＲ
領域における放射線に対しては透明であり、水または水
溶液で除去できる最上層を、放射線感応性層の上に有す
る。この記録材料は、白昼光に対しては実質的に非感応
性である。ＩＲ放射線で像様露光し、続いて水性アルカ
リ現像剤で現像することにより、この記録材料からオフ
セット印刷用の印刷版を製造することができる。最上層
を予め洗い流すと、通常のＵＶ放射線を使用して記録す
ることもできる。
Description
【０００１】本発明は、基材、およびＩＲ放射線を吸収
する成分を含み、赤外放射線の作用により水性アルカリ
現像剤に対して可溶化するか、または少なくとも膨潤し
得る様になる放射線感応性層を有する記録材料に関する
ものである。この材料は白色光に対して非感応性であ
る。それはオフセット印刷用の印刷版の製造に特に適し
ている。
する成分を含み、赤外放射線の作用により水性アルカリ
現像剤に対して可溶化するか、または少なくとも膨潤し
得る様になる放射線感応性層を有する記録材料に関する
ものである。この材料は白色光に対して非感応性であ
る。それはオフセット印刷用の印刷版の製造に特に適し
ている。
【０００２】従来、オフセット印刷用の印刷版の製造に
は、放射線感応性層が紫外および／または可視領域で感
応性である記録材料が使用されている。その層は写真陰
画を通った適当な波長の放射線によって記録され、次い
で現像される。最近の方法では、その様な写真陰画を使
用しない。その場合には、記録はデジタル制御されるレ
ーザーから放射されるレーザー光線により行なわれる
（「コンピュータから版を製造する(computer-to-plat
e)」方法）。しかし、可視領域の放射線を放射するレー
ザーは比較的高価であり、特殊な記録材料も必要とする
［例えばＥＰ−Ａ０５７３８０５（＝ＣＡ−Ａ２０９７
０３８）およびＥＰ−Ａ ０７０４７６４各明細書参
照］。
は、放射線感応性層が紫外および／または可視領域で感
応性である記録材料が使用されている。その層は写真陰
画を通った適当な波長の放射線によって記録され、次い
で現像される。最近の方法では、その様な写真陰画を使
用しない。その場合には、記録はデジタル制御されるレ
ーザーから放射されるレーザー光線により行なわれる
（「コンピュータから版を製造する(computer-to-plat
e)」方法）。しかし、可視領域の放射線を放射するレー
ザーは比較的高価であり、特殊な記録材料も必要とする
［例えばＥＰ−Ａ０５７３８０５（＝ＣＡ−Ａ２０９７
０３８）およびＥＰ−Ａ ０７０４７６４各明細書参
照］。
【０００３】他方、赤外レーザー、特に赤外レーザーダ
イオード、はかなり経済的である。しかし、この目的に
は、ＩＲ領域、すなわち約７００〜１１００ｎｍの領
域、で増感された記録材料が使用される。これらの材料
の多くにはさらに、紫外および可視領域（以下、ＵＶ／
ＶＩＳと呼ぶ）では感度が無く、したがって白昼光また
は通常の白色人工光中で処理できるという利点がある。
これらの材料の例は、ＤＥ−Ａ ２５１２０３８（＝Ｇ
Ｂ−Ａ １４８９３０８）、ＷＯ９０／１２３４２およ
びＥＰ−Ａ ０５６２９５２、ＥＰ−Ａ ０５８０３９
３およびＥＰ−Ａ０７７３１１２各明細書に記載されて
いる。
イオード、はかなり経済的である。しかし、この目的に
は、ＩＲ領域、すなわち約７００〜１１００ｎｍの領
域、で増感された記録材料が使用される。これらの材料
の多くにはさらに、紫外および可視領域（以下、ＵＶ／
ＶＩＳと呼ぶ）では感度が無く、したがって白昼光また
は通常の白色人工光中で処理できるという利点がある。
これらの材料の例は、ＤＥ−Ａ ２５１２０３８（＝Ｇ
Ｂ−Ａ １４８９３０８）、ＷＯ９０／１２３４２およ
びＥＰ−Ａ ０５６２９５２、ＥＰ−Ａ ０５８０３９
３およびＥＰ−Ａ０７７３１１２各明細書に記載されて
いる。
【０００４】ＵＶ／ＶＩＳおよびＩＲ領域の両方で感応
化されている材料も公知である（ＥＰ−Ａ ０６２５７
２８およびＥＰ−Ａ ０６７２９５４、ＷＯ ９６／２
０４２９各明細書）。無論、これらの材料は通常の照明
では処理できない。
化されている材料も公知である（ＥＰ−Ａ ０６２５７
２８およびＥＰ−Ａ ０６７２９５４、ＷＯ ９６／２
０４２９各明細書）。無論、これらの材料は通常の照明
では処理できない。
【０００５】したがって、ＵＶ／ＶＩＳならびにＩＲ領
域で感度があるが、通常の白色光の中でもＩＲ放射線に
より記録できる記録材料が必要とされている。この目的
は、ＵＶ／ＶＩＳ放射線に対しては事実上不透明である
が、ＩＲ放射線に対しては透明であり、水または水溶液
で除去できる最上層により達成される。
域で感度があるが、通常の白色光の中でもＩＲ放射線に
より記録できる記録材料が必要とされている。この目的
は、ＵＶ／ＶＩＳ放射線に対しては事実上不透明である
が、ＩＲ放射線に対しては透明であり、水または水溶液
で除去できる最上層により達成される。
【０００６】そこで本発明は、基材、および放射線感応
性で水不溶性の層を有する記録材料を提供するものであ
り、この層は、ＩＲ放射線を吸収する成分を含み、赤外
放射線の作用により水性アルカリ現像剤に対して可溶化
するか、または少なくとも膨潤し得る様になるものであ
る。この記録材料では、放射線感応性層の上に、白色光
に対しては不透明であるが、ＩＲ領域における放射線に
対しては透明であり、水または水溶液で除去できる最上
層が存在する。
性で水不溶性の層を有する記録材料を提供するものであ
り、この層は、ＩＲ放射線を吸収する成分を含み、赤外
放射線の作用により水性アルカリ現像剤に対して可溶化
するか、または少なくとも膨潤し得る様になるものであ
る。この記録材料では、放射線感応性層の上に、白色光
に対しては不透明であるが、ＩＲ領域における放射線に
対しては透明であり、水または水溶液で除去できる最上
層が存在する。
【０００７】この最上層により、放射線感応性層の耐引
っ掻き性が同時に大幅に向上する。その上、最上層によ
り、ＩＲレーザー光線の作用により除去されることがあ
る放射線感応性層の成分が露光装置中に堆積するのが阻
止される。特に内側ドラム露光装置の場合、レーザーの
光学系の汚れが問題となることがある。「白色光」と
は、白昼光または白熱電球、蛍光管および他の、通常の
白色光を放射する照明手段から放射される光を意味す
る。「ＩＲ領域における放射線」とは、一般的に波長７
００〜１１００ｎｍの放射線を意味する。
っ掻き性が同時に大幅に向上する。その上、最上層によ
り、ＩＲレーザー光線の作用により除去されることがあ
る放射線感応性層の成分が露光装置中に堆積するのが阻
止される。特に内側ドラム露光装置の場合、レーザーの
光学系の汚れが問題となることがある。「白色光」と
は、白昼光または白熱電球、蛍光管および他の、通常の
白色光を放射する照明手段から放射される光を意味す
る。「ＩＲ領域における放射線」とは、一般的に波長７
００〜１１００ｎｍの放射線を意味する。
【０００８】好ましい記録材料は、ＩＲ領域のみなら
ず、ＵＶ／ＶＩＳ領域でも像様識別(imagewise differe
ntiation)する様に十分に増感されているので、最上層
が除去された後は、通常のＵＶ露光（無論、これは白色
光環境中ではなく、赤色または黄色の安全光でのみ行な
うことができる）も可能な記録材料である。
ず、ＵＶ／ＶＩＳ領域でも像様識別(imagewise differe
ntiation)する様に十分に増感されているので、最上層
が除去された後は、通常のＵＶ露光（無論、これは白色
光環境中ではなく、赤色または黄色の安全光でのみ行な
うことができる）も可能な記録材料である。
【０００９】最上層は、一般的に、少なくとも１種の水
溶性の有機重合体状バインダーおよび少なくとも１種
の、ＵＶ／ＶＩＳ領域の放射線を吸収する成分を含む。
この成分は、３００〜５００ｎｍの領域、特に３５０〜
４５０ｎｍ、の領域で吸収極大を有する。特に適当な吸
収成分は染料および顔料である。用語「染料」は、可視
領域でほんの僅かしか着色されていないか、あるいはま
ったく着色されていなくても、上記の領域で吸収するす
べての化合物を意味するものとする。ポリヒドロキシベ
ンゾフェノン（例えば２，４−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン）、スダンイエロー（カラーインデックスNo. ３０
＝C.I.30）、RRemazolgelb RTL(ReactiveYellow 24)、R
Astrazongelb 3G（C.I.48055）、RAstrazonorange 3R
（Basic Orange 22)、Fluorescent Yellow T(Acid Yell
ow 245) 、RBlankophor PSG(Fluorescent Brightener 1
13) およびTartrazine X90(C.I.19140)を特に挙げるこ
とができる。水に不要のＵＶ／ＶＩＳ吸収剤も同様に使
用できるが、水溶性バインダーで予め分散しなければな
らない。分散に使用するバインダーは、最上層中の他の
バインダーと同一であることが好ましい。ＵＶ／ＶＩＳ
吸収剤の量は、それぞれの場合に最上層の不揮発成分の
総重量に対して一般的に５〜５０重量％、好ましくは２
０〜３０重量％、である。一般的にこの量は、少なくと
も２（基準材料として白色の紙に対して測定して）の光
学密度を達成するだけ十分に高い必要がある。好ましく
は、最上層の光学密度は、２．２〜２．５である。最上
層に特に適したバインダーは、ポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン、部分的に加水分解されたポリ酢
酸ビニル（ビニルエーテルまたは酢酸ビニル単位をさら
に含んでいてもよい）、ゼラチン、炭水化物、セルロー
ス誘導体（例えばヒドロキシエチルセルロース）、アラ
ビアゴム、ポリエチレンオキシド、ポリビニルエーテ
ル、ポリ（メタ）アクリレートおよび対応する共重合体
である。ポリビニルアルコールが特に好ましい。さら
に、最上層は少量の界面活性剤、不活性粒子および／ま
たは可塑剤を含むことができる。最上層の厚さは、一般
的に５μｍまで、好ましくは０．５〜２．５μｍ、であ
る。最上層の厚さは、その下にあるＩＲ感応性層になお
問題なく記録できる様に選択すべきである。
溶性の有機重合体状バインダーおよび少なくとも１種
の、ＵＶ／ＶＩＳ領域の放射線を吸収する成分を含む。
この成分は、３００〜５００ｎｍの領域、特に３５０〜
４５０ｎｍ、の領域で吸収極大を有する。特に適当な吸
収成分は染料および顔料である。用語「染料」は、可視
領域でほんの僅かしか着色されていないか、あるいはま
ったく着色されていなくても、上記の領域で吸収するす
べての化合物を意味するものとする。ポリヒドロキシベ
ンゾフェノン（例えば２，４−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン）、スダンイエロー（カラーインデックスNo. ３０
＝C.I.30）、RRemazolgelb RTL(ReactiveYellow 24)、R
Astrazongelb 3G（C.I.48055）、RAstrazonorange 3R
（Basic Orange 22)、Fluorescent Yellow T(Acid Yell
ow 245) 、RBlankophor PSG(Fluorescent Brightener 1
13) およびTartrazine X90(C.I.19140)を特に挙げるこ
とができる。水に不要のＵＶ／ＶＩＳ吸収剤も同様に使
用できるが、水溶性バインダーで予め分散しなければな
らない。分散に使用するバインダーは、最上層中の他の
バインダーと同一であることが好ましい。ＵＶ／ＶＩＳ
吸収剤の量は、それぞれの場合に最上層の不揮発成分の
総重量に対して一般的に５〜５０重量％、好ましくは２
０〜３０重量％、である。一般的にこの量は、少なくと
も２（基準材料として白色の紙に対して測定して）の光
学密度を達成するだけ十分に高い必要がある。好ましく
は、最上層の光学密度は、２．２〜２．５である。最上
層に特に適したバインダーは、ポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン、部分的に加水分解されたポリ酢
酸ビニル（ビニルエーテルまたは酢酸ビニル単位をさら
に含んでいてもよい）、ゼラチン、炭水化物、セルロー
ス誘導体（例えばヒドロキシエチルセルロース）、アラ
ビアゴム、ポリエチレンオキシド、ポリビニルエーテ
ル、ポリ（メタ）アクリレートおよび対応する共重合体
である。ポリビニルアルコールが特に好ましい。さら
に、最上層は少量の界面活性剤、不活性粒子および／ま
たは可塑剤を含むことができる。最上層の厚さは、一般
的に５μｍまで、好ましくは０．５〜２．５μｍ、であ
る。最上層の厚さは、その下にあるＩＲ感応性層になお
問題なく記録できる様に選択すべきである。
【００１０】ＵＶ／ＶＩＳ吸収剤を含まない最上層はす
でに公知であり、例えばＵＳ−Ａ３４５８３１１および
ＥＰ−Ａ ３５２６３０（＝ＵＳ−Ａ ５２７３８６
２）各明細書に記載されている。これらの最上層は特
に、その下にある、フリーラジカル重合し得る各層を大
気中の酸素の作用から保護するのに役立つが、これは酸
素が重合を抑制するためである。同時に、最上層は湿分
からも保護し、記録材料の貯蔵寿命を長くする。ＥＰ−
Ａ ０３５４４７５明細書には、下にある光重合可能な
層を酸素から保護し、同時に光学フィルターとしても作
用する最上層も開示されている。この目的には、該層
は、３００〜７００ｎｍの波長を有する光を吸収する
が、この領域内で吸収間隙を有する染料を含有する。こ
の間隙は、記録に使用する光源の放射領域に対応する様
に選択する。次いで現像剤溶液により、公知の最上層
を、重合性層の非露光部分と共に除去する。
でに公知であり、例えばＵＳ−Ａ３４５８３１１および
ＥＰ−Ａ ３５２６３０（＝ＵＳ−Ａ ５２７３８６
２）各明細書に記載されている。これらの最上層は特
に、その下にある、フリーラジカル重合し得る各層を大
気中の酸素の作用から保護するのに役立つが、これは酸
素が重合を抑制するためである。同時に、最上層は湿分
からも保護し、記録材料の貯蔵寿命を長くする。ＥＰ−
Ａ ０３５４４７５明細書には、下にある光重合可能な
層を酸素から保護し、同時に光学フィルターとしても作
用する最上層も開示されている。この目的には、該層
は、３００〜７００ｎｍの波長を有する光を吸収する
が、この領域内で吸収間隙を有する染料を含有する。こ
の間隙は、記録に使用する光源の放射領域に対応する様
に選択する。次いで現像剤溶液により、公知の最上層
を、重合性層の非露光部分と共に除去する。
【００１１】ＩＲ感応性層の組成は、特に重要ではな
い。しかし、水に対して十分な不溶性を有し、最上層が
除去される際に事実上攻撃されないことが必要である。
ＩＲ感応性で、ＵＶ／ＶＩＳ感応性であるのが好まし
い。特に適した層は、ＩＲ吸収性成分、重合体状バイン
ダーおよびＵＶ感応性成分を含有する。
い。しかし、水に対して十分な不溶性を有し、最上層が
除去される際に事実上攻撃されないことが必要である。
ＩＲ感応性で、ＵＶ／ＶＩＳ感応性であるのが好まし
い。特に適した層は、ＩＲ吸収性成分、重合体状バイン
ダーおよびＵＶ感応性成分を含有する。
【００１２】ＩＲ吸収性成分としては、広いＩＲ波長領
域にわたって吸収するので、例えばＷＯ９６／１０４２
９明細書に記載されている様な一般的な黒色顔料が特に
適している。したがって、これらの顔料を使用すれば、
１０６４ｎｍの波長で作動するＮｄ−ＹＡＧレーザー、
および８３０ｎｍで作動する経済的なレーザーダイオー
ドの両方を使用することができる。平均一次粒子直径が
８０ｎｍ未満である一般的な黒色顔料が好ましい。ＤＩ
Ｎ ５３２０６によれば、用語「一次粒子」は、粉末状
物質を構成する非常に小さな粒子（個別粒子）を意味す
る。これらの粒子は電子顕微鏡で個別の存在として検出
することができる。適当なカーボンブラックは、特にフ
レーム、ファーネス、またはチャネルブラックである。
Brunauer、EmmettおよびTellerの方法（「ＢＥＴ表面
積」）により測定した表面積は、一般的に１０ｍ2／ｇ
を超えている。特に適したカーボンブラックは、表面上
で酸化され、酸性単位が形成されたものである。カーボ
ンブラック粒子は、一般的に公知の装置を使用し、バイ
ンダーで分散させることができる。例えば、顔料および
バインダーの混合物をまずディソルバー中で分散させ、
次いでボールミル中で最終的に分散させることができ
る。使用される有機溶剤は、実際の塗装溶剤と異なって
いてもよいが、同一であるのが好ましい。特に適当な溶
剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧ
ＭＥ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート（ＰＧＭＥＡ）、乳酸エチル、ブタノン、γ−ブ
チロラクトン、テトラヒドロフランおよびそれらの混合
物である。この様にして製造した分散液の安定性は、場
合により、界面活性剤および／または増粘剤を加えるこ
とにより、さらに改良することができる。アルカリ性水
溶液に可溶な界面活性剤および増粘剤が特に好ましい。
カーボンブラック粒子の代わりに、またはそれに加え
て、他の熱吸収性物質、例えばsquarylium、シアニン、
メロシアニンまたはピリリウム化合物、もＩＲ放射線に
対して感応性の層の中に存在することができる。ＩＲ吸
収性成分の量は、それぞれの場合に層の不揮発成分の総
重量に対して一般的に０．５〜３０重量％、好ましくは
２〜１５重量％、である。
域にわたって吸収するので、例えばＷＯ９６／１０４２
９明細書に記載されている様な一般的な黒色顔料が特に
適している。したがって、これらの顔料を使用すれば、
１０６４ｎｍの波長で作動するＮｄ−ＹＡＧレーザー、
および８３０ｎｍで作動する経済的なレーザーダイオー
ドの両方を使用することができる。平均一次粒子直径が
８０ｎｍ未満である一般的な黒色顔料が好ましい。ＤＩ
Ｎ ５３２０６によれば、用語「一次粒子」は、粉末状
物質を構成する非常に小さな粒子（個別粒子）を意味す
る。これらの粒子は電子顕微鏡で個別の存在として検出
することができる。適当なカーボンブラックは、特にフ
レーム、ファーネス、またはチャネルブラックである。
Brunauer、EmmettおよびTellerの方法（「ＢＥＴ表面
積」）により測定した表面積は、一般的に１０ｍ2／ｇ
を超えている。特に適したカーボンブラックは、表面上
で酸化され、酸性単位が形成されたものである。カーボ
ンブラック粒子は、一般的に公知の装置を使用し、バイ
ンダーで分散させることができる。例えば、顔料および
バインダーの混合物をまずディソルバー中で分散させ、
次いでボールミル中で最終的に分散させることができ
る。使用される有機溶剤は、実際の塗装溶剤と異なって
いてもよいが、同一であるのが好ましい。特に適当な溶
剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧ
ＭＥ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート（ＰＧＭＥＡ）、乳酸エチル、ブタノン、γ−ブ
チロラクトン、テトラヒドロフランおよびそれらの混合
物である。この様にして製造した分散液の安定性は、場
合により、界面活性剤および／または増粘剤を加えるこ
とにより、さらに改良することができる。アルカリ性水
溶液に可溶な界面活性剤および増粘剤が特に好ましい。
カーボンブラック粒子の代わりに、またはそれに加え
て、他の熱吸収性物質、例えばsquarylium、シアニン、
メロシアニンまたはピリリウム化合物、もＩＲ放射線に
対して感応性の層の中に存在することができる。ＩＲ吸
収性成分の量は、それぞれの場合に層の不揮発成分の総
重量に対して一般的に０．５〜３０重量％、好ましくは
２〜１５重量％、である。
【００１３】ＩＲ放射線に対して感応性の層は、さらに
重合体状バインダーを含む。ｐＫaが１３未満である酸
性基を有するバインダーが特に適している。これらのバ
インダーとしては、例えばフェノール類またはスルファ
モイル置換された、またはカルバモイル置換された芳香
族化合物とアルデヒド類またはケトン類の反応で得られ
る様な重縮合物類である。これに関して、「フェノール
類」は、フェノールの他に、置換されたフェノール、例
えばレゾルシノール、クレゾール、キシレノールまたは
トリメチルフェノール、であってもよい。アルデヒドは
好ましくはホルムアルデヒドである。ジイソシアネート
とジオールまたはジアミンの反応生成物も、上記の種類
の酸性単位を有していれば、適当である。ビニル芳香族
化合物、Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミドまたはア
リール（メタ）アクリル酸エステルの単位を有する重合
体をさらに挙げることができるが、これらの単位は、１
個またはそれより多いカルボキシル基、フェノール性水
酸基、スルファモイル基またはカルバモイル基も有す
る。具体的な例は、２−ヒドロキシフェニル（メタ）ア
クリレートの単位、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）
（メタ）アクリルアミドの単位、Ｎ−（４−スルファモ
イルフェニル）（メタ）アクリルアミドの単位、Ｎ−
（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル）（メ
タ）アクリルアミドの単位、４−ヒドロキシスチレンの
単位、またはヒドロキシフェニルマレイミドの単位を有
する重合体である。重合体は、酸性基を有していない他
のモノマーの単位をさらに含むことができる。これらの
単位は、例えば、オレフィンまたはビニル芳香族化合
物、メチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）ア
クリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メタクリ
ルアミドまたはアクリロニトリルの単位である。用語
「（メタ）アクリレート」は、「アクリレートおよび／
またはメタクリレート」を意味する。同じことは「（メ
タ）アクリルアミド」にも当てはまる。バインダーの量
は、それぞれの場合に層の不揮発成分の総重量に対して
一般的に２〜９８重量％、好ましくは５０〜８５重量
％、である。
重合体状バインダーを含む。ｐＫaが１３未満である酸
性基を有するバインダーが特に適している。これらのバ
インダーとしては、例えばフェノール類またはスルファ
モイル置換された、またはカルバモイル置換された芳香
族化合物とアルデヒド類またはケトン類の反応で得られ
る様な重縮合物類である。これに関して、「フェノール
類」は、フェノールの他に、置換されたフェノール、例
えばレゾルシノール、クレゾール、キシレノールまたは
トリメチルフェノール、であってもよい。アルデヒドは
好ましくはホルムアルデヒドである。ジイソシアネート
とジオールまたはジアミンの反応生成物も、上記の種類
の酸性単位を有していれば、適当である。ビニル芳香族
化合物、Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミドまたはア
リール（メタ）アクリル酸エステルの単位を有する重合
体をさらに挙げることができるが、これらの単位は、１
個またはそれより多いカルボキシル基、フェノール性水
酸基、スルファモイル基またはカルバモイル基も有す
る。具体的な例は、２−ヒドロキシフェニル（メタ）ア
クリレートの単位、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）
（メタ）アクリルアミドの単位、Ｎ−（４−スルファモ
イルフェニル）（メタ）アクリルアミドの単位、Ｎ−
（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル）（メ
タ）アクリルアミドの単位、４−ヒドロキシスチレンの
単位、またはヒドロキシフェニルマレイミドの単位を有
する重合体である。重合体は、酸性基を有していない他
のモノマーの単位をさらに含むことができる。これらの
単位は、例えば、オレフィンまたはビニル芳香族化合
物、メチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）ア
クリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メタクリ
ルアミドまたはアクリロニトリルの単位である。用語
「（メタ）アクリレート」は、「アクリレートおよび／
またはメタクリレート」を意味する。同じことは「（メ
タ）アクリルアミド」にも当てはまる。バインダーの量
は、それぞれの場合に層の不揮発成分の総重量に対して
一般的に２〜９８重量％、好ましくは５０〜８５重量
％、である。
【００１４】ＵＶ／ＶＩＳ感応性成分は、好ましくはオ
ニウム塩である。酸形成化合物およびこの化合物から熱
的または光化学的に生じた酸により開裂し得る化合物の
組合せも特に適当である。酸により開裂し得る好ましい
化合物は、親水性の酸性基（特にカルボキシルおよびフ
ェノール性水酸基）を有する重合体であり、これらの基
の一部または全部が疎水性の、酸に敏感な基によりマス
クされている。疎水性の基が酸触媒の作用により除去さ
れた後、重合体の水性アルカリ現像剤に対する溶解度は
再び大幅に増加する。疎水性の、酸に敏感な基は、例え
ばｔｅｒｔ−アルコキシカルボニルオキシ、ベンジル−
オキシカルボニルオキシおよび式−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2
−ＯＲ3のアルコキシアルキルエステル基であり、式
中、Ｒ3は（Ｃ1〜Ｃ18）アルキル基であり、Ｒ1および
Ｒ2は互いに独立して水素原子または（Ｃ1〜Ｃ18）アル
キル基であるが、ただし基Ｒ1およびＲ2の少なくとも一
方が水素原子である。ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオ
キシおよびテトラヒドロピラニルオキシカルボニル基が
特に好ましい。水酸基の一部または全部が酸に敏感な
基、例えばｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、に
転化されているポリヒドロキシスチレンが特に適当であ
る。酸により開裂し得る基を有するその様な重合体は、
例えばＥＰ−Ａ ０６５２４８３およびＥＰ−Ａ ０６
８３４３５（＝ＵＳ−Ａ ５６５４１２１）各明細書に
記載されている。疎水性で、酸に敏感な基の種類に応じ
て、それらが除去される時に、気体状の分解生成物が形
成されることがある。例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニルオキシ基の開裂により、ＣＯ2およびイソブテン
が形成される。特に好ましい酸形成剤は、強酸のジアゾ
ニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩およびヨー
ドニウム塩である。これらの塩における対イオンは、好
ましくはヘキサフルオロリン酸塩、ヘキサフルオロアン
チモン酸塩またはペルフルオロアルカンスルホン酸塩で
ある。
ニウム塩である。酸形成化合物およびこの化合物から熱
的または光化学的に生じた酸により開裂し得る化合物の
組合せも特に適当である。酸により開裂し得る好ましい
化合物は、親水性の酸性基（特にカルボキシルおよびフ
ェノール性水酸基）を有する重合体であり、これらの基
の一部または全部が疎水性の、酸に敏感な基によりマス
クされている。疎水性の基が酸触媒の作用により除去さ
れた後、重合体の水性アルカリ現像剤に対する溶解度は
再び大幅に増加する。疎水性の、酸に敏感な基は、例え
ばｔｅｒｔ−アルコキシカルボニルオキシ、ベンジル−
オキシカルボニルオキシおよび式−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2
−ＯＲ3のアルコキシアルキルエステル基であり、式
中、Ｒ3は（Ｃ1〜Ｃ18）アルキル基であり、Ｒ1および
Ｒ2は互いに独立して水素原子または（Ｃ1〜Ｃ18）アル
キル基であるが、ただし基Ｒ1およびＲ2の少なくとも一
方が水素原子である。ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオ
キシおよびテトラヒドロピラニルオキシカルボニル基が
特に好ましい。水酸基の一部または全部が酸に敏感な
基、例えばｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、に
転化されているポリヒドロキシスチレンが特に適当であ
る。酸により開裂し得る基を有するその様な重合体は、
例えばＥＰ−Ａ ０６５２４８３およびＥＰ−Ａ ０６
８３４３５（＝ＵＳ−Ａ ５６５４１２１）各明細書に
記載されている。疎水性で、酸に敏感な基の種類に応じ
て、それらが除去される時に、気体状の分解生成物が形
成されることがある。例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニルオキシ基の開裂により、ＣＯ2およびイソブテン
が形成される。特に好ましい酸形成剤は、強酸のジアゾ
ニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩およびヨー
ドニウム塩である。これらの塩における対イオンは、好
ましくはヘキサフルオロリン酸塩、ヘキサフルオロアン
チモン酸塩またはペルフルオロアルカンスルホン酸塩で
ある。
【００１５】ＵＶ／ＶＩＳ放射線に対して感応性である
特に好ましい成分は、ジアゾ化合物、特に１，２−ナフ
トキノン−２−ジアジド−４−または−５−スルホン酸
のエステルまたはアミドである。これらの物質には、特
に１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−または−
５−スルホン酸のエステルおよび少なくとも１個のフェ
ノール性水酸基、好ましくは少なくとも３個のフェノー
ル性水酸基を有する化合物がある。特に好ましい化合物
は、３〜６個のフェノール性水酸基を有する化合物、例
えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，
３，４−トリヒドロキシ−３’−メチル−、−プロピル
−または−イソプロピル−ベンゾフェノン、２，３，
４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，
４，２’，４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、
２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサヒドロキシベン
ゾフェノン、および５，５’−ジアシル−２，３，４，
２’，３’，４’−ヘキサヒドロキシジフェニルメタン
である。エステル化に使用できる他のヒドロキシ成分
は、ピロガロールおよびアルデヒドまたはケトンの縮合
物、およびアルキル化フェノールおよびホルムアルデヒ
ドの縮合物である。層は複数の放射線感応性成分の混合
物も含むことができる。ＵＶ／ＶＩＳ感応性成分の量
は、それぞれの場合に層の不揮発成分の総重量に対して
一般的に１〜５０重量％、好ましくは５〜３０重量％、
である。
特に好ましい成分は、ジアゾ化合物、特に１，２−ナフ
トキノン−２−ジアジド−４−または−５−スルホン酸
のエステルまたはアミドである。これらの物質には、特
に１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−または−
５−スルホン酸のエステルおよび少なくとも１個のフェ
ノール性水酸基、好ましくは少なくとも３個のフェノー
ル性水酸基を有する化合物がある。特に好ましい化合物
は、３〜６個のフェノール性水酸基を有する化合物、例
えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，
３，４−トリヒドロキシ−３’−メチル−、−プロピル
−または−イソプロピル−ベンゾフェノン、２，３，
４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，
４，２’，４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、
２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサヒドロキシベン
ゾフェノン、および５，５’−ジアシル−２，３，４，
２’，３’，４’−ヘキサヒドロキシジフェニルメタン
である。エステル化に使用できる他のヒドロキシ成分
は、ピロガロールおよびアルデヒドまたはケトンの縮合
物、およびアルキル化フェノールおよびホルムアルデヒ
ドの縮合物である。層は複数の放射線感応性成分の混合
物も含むことができる。ＵＶ／ＶＩＳ感応性成分の量
は、それぞれの場合に層の不揮発成分の総重量に対して
一般的に１〜５０重量％、好ましくは５〜３０重量％、
である。
【００１６】最後に、放射線感応性層は、その様な層に
一般的に使用される少量の他の添加剤を含むことができ
る。これらの添加剤には、指示薬染料（例えばジアルキ
ルアミノアゾベンゼン）、光化学酸形成剤（例えばジア
ゾジフェニルアミンのトリフルオロメタンスルホン酸塩
またはヘキサフルオロリン酸塩）、界面活性剤（好まし
くはフッ素含有界面活性剤またはケイ素界面活性剤）、
酸性基の酸性度を調整するためのポリアルキレンオキシ
ドおよび／または現像速度を増加させるための酸性単位
を有する低分子量化合物が含まれる。
一般的に使用される少量の他の添加剤を含むことができ
る。これらの添加剤には、指示薬染料（例えばジアルキ
ルアミノアゾベンゼン）、光化学酸形成剤（例えばジア
ゾジフェニルアミンのトリフルオロメタンスルホン酸塩
またはヘキサフルオロリン酸塩）、界面活性剤（好まし
くはフッ素含有界面活性剤またはケイ素界面活性剤）、
酸性基の酸性度を調整するためのポリアルキレンオキシ
ドおよび／または現像速度を増加させるための酸性単位
を有する低分子量化合物が含まれる。
【００１７】本発明の記録材料における基材は、好まし
くはアルミニウムホイルまたはシートである。アルミニ
ウムホイルおよびポリエステルフィルムを含んでなるラ
ミネートも適当である。アルミニウム表面は、好ましく
は機械的および／または電気化学的に粗面化させ、陽極
酸化させる。基材は適当な、一般的に重合体化合物で親
水性付与しておくこともできる。この目的には、ホスホ
ン酸またはホスホン酸塩単位を有する化合物、特にポリ
ビニルホスホン酸、が適当である。実際の粗面化の前
に、さらに脱脂を行ない、必要に応じて機械的および／
または化学的な粗面化をさらに行なうこともできる。
くはアルミニウムホイルまたはシートである。アルミニ
ウムホイルおよびポリエステルフィルムを含んでなるラ
ミネートも適当である。アルミニウム表面は、好ましく
は機械的および／または電気化学的に粗面化させ、陽極
酸化させる。基材は適当な、一般的に重合体化合物で親
水性付与しておくこともできる。この目的には、ホスホ
ン酸またはホスホン酸塩単位を有する化合物、特にポリ
ビニルホスホン酸、が適当である。実際の粗面化の前
に、さらに脱脂を行ない、必要に応じて機械的および／
または化学的な粗面化をさらに行なうこともできる。
【００１８】次いで、この基材にＩＲ放射線に感応性で
ある上記混合物の溶液を塗布し、乾燥させる。適当な塗
装溶剤は、上記の、カーボンブラックの分散にも使用で
きる様な、通常使用する有機溶剤である。乾燥後、ＩＲ
放射線感応性層は、一般的に層重量が、約０．５〜５．
０μｍ、好ましくは約１．０〜３．０μｍ、に相当する
０．５〜５．０ ｇ／ｍ2、好ましくは１．０〜３．０ｇ
／ｍ2、である。次いで最上層を水溶液または水性分散
液から塗布するが、これらの液は、必要に応じて少量
の、すなわち最上層用塗装溶剤の総重量に対して５重量
％未満の、有機溶剤を含むことができる。
ある上記混合物の溶液を塗布し、乾燥させる。適当な塗
装溶剤は、上記の、カーボンブラックの分散にも使用で
きる様な、通常使用する有機溶剤である。乾燥後、ＩＲ
放射線感応性層は、一般的に層重量が、約０．５〜５．
０μｍ、好ましくは約１．０〜３．０μｍ、に相当する
０．５〜５．０ ｇ／ｍ2、好ましくは１．０〜３．０ｇ
／ｍ2、である。次いで最上層を水溶液または水性分散
液から塗布するが、これらの液は、必要に応じて少量
の、すなわち最上層用塗装溶剤の総重量に対して５重量
％未満の、有機溶剤を含むことができる。
【００１９】本発明は最後に、本発明の記録材料からオ
フセット印刷用の印刷版を製造するための方法にも関す
る。この方法では、記録材料をまず赤外放射線で像様露
光し、次いで従来の水性アルカリ現像剤中、温度２０〜
４０℃で現像する。現像の際、存在する水溶性の最上層
も除去される。本発明の方法の別の実施態様では、ＩＲ
放射線による記録の前または後に、ただし現像の前に、
最上層を水で除去する。記録には、レーザーダイオード
（放射最大８３０ｎｍ）またはＮｄ−ＹＡＧレーザー
（放射最大１０６４ｎｍ）を備えた外側または内側ドラ
ム露光装置が特に適している。現像剤は、一般的にＳｉ
Ｏ2のアルカリ金属酸化物に対する比が少なくとも１で
ある。これによって、基材のアルミナ層は決して損傷を
受けない。好ましいアルカリ金属酸化物はＮａ2Ｏおよ
びＫ2Ｏおよびそれらの混合物である。アルカリ金属ケ
イ酸塩に加えて、現像剤は他の成分、例えば緩衝物質、
錯化剤、消泡剤、少量の有機溶剤、腐食防止剤、染料、
界面活性剤、および／またはヒドロトロピー剤、を含む
ことができる。現像は一般的に機械的な処理装置で行な
う。
フセット印刷用の印刷版を製造するための方法にも関す
る。この方法では、記録材料をまず赤外放射線で像様露
光し、次いで従来の水性アルカリ現像剤中、温度２０〜
４０℃で現像する。現像の際、存在する水溶性の最上層
も除去される。本発明の方法の別の実施態様では、ＩＲ
放射線による記録の前または後に、ただし現像の前に、
最上層を水で除去する。記録には、レーザーダイオード
（放射最大８３０ｎｍ）またはＮｄ−ＹＡＧレーザー
（放射最大１０６４ｎｍ）を備えた外側または内側ドラ
ム露光装置が特に適している。現像剤は、一般的にＳｉ
Ｏ2のアルカリ金属酸化物に対する比が少なくとも１で
ある。これによって、基材のアルミナ層は決して損傷を
受けない。好ましいアルカリ金属酸化物はＮａ2Ｏおよ
びＫ2Ｏおよびそれらの混合物である。アルカリ金属ケ
イ酸塩に加えて、現像剤は他の成分、例えば緩衝物質、
錯化剤、消泡剤、少量の有機溶剤、腐食防止剤、染料、
界面活性剤、および／またはヒドロトロピー剤、を含む
ことができる。現像は一般的に機械的な処理装置で行な
う。
【００２０】製造した印刷版の耐久性を強化し、それに
よって可能な印刷回数を増加させるために、該印刷版を
高温に短時間加熱（「ベーキング」）することができ
る。これによって印刷版の現像剤、修正組成物およびＵ
Ｖ硬化性印刷インクに対する耐性も増加する。その様な
熱的な後処理は、とりわけＤＥ−Ａ １４４７９６３
（＝ＧＢ−Ａ １１５４７４９）各明細書に記載されて
いる。
よって可能な印刷回数を増加させるために、該印刷版を
高温に短時間加熱（「ベーキング」）することができ
る。これによって印刷版の現像剤、修正組成物およびＵ
Ｖ硬化性印刷インクに対する耐性も増加する。その様な
熱的な後処理は、とりわけＤＥ−Ａ １４４７９６３
（＝ＧＢ−Ａ １１５４７４９）各明細書に記載されて
いる。
【００２１】下記の諸例は、本発明の課題を例示するた
めのものであって、制限するためのものではない。他に
指示がない限り、百分率は重量％であり、比は重量比で
ある。
めのものであって、制限するためのものではない。他に
指示がない限り、百分率は重量％であり、比は重量比で
ある。
【００２２】
【実施例】例１（比較例） 最上層を含まない、ＵＶ／ＶＩＳおよびＩＲ感応性記録
材料（ジアゾ化合物でＵＶ／ＶＩＳ感応性を付与する） 下記の成分から被覆分散液を製造した。２０．０重量部
の、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１モル
と塩化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スル
ホニル１．５モルのエステル、２０．０重量部の、下記
の組成を有するカーボンブラック分散液、３．０重量部
の２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、５７．０重量
部のクレゾール／キシレノール／ホルムアルデヒド ノ
ボラック（RAlnovol SPN 400、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート中４５．３％濃度）、４５
５．０重量部のプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル（ＰＧＭＥ）、および４５５．０重量部のテトラヒド
ロフラン。
材料（ジアゾ化合物でＵＶ／ＶＩＳ感応性を付与する） 下記の成分から被覆分散液を製造した。２０．０重量部
の、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１モル
と塩化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スル
ホニル１．５モルのエステル、２０．０重量部の、下記
の組成を有するカーボンブラック分散液、３．０重量部
の２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、５７．０重量
部のクレゾール／キシレノール／ホルムアルデヒド ノ
ボラック（RAlnovol SPN 400、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート中４５．３％濃度）、４５
５．０重量部のプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル（ＰＧＭＥ）、および４５５．０重量部のテトラヒド
ロフラン。
【００２３】カーボンブラック分散液は下記の成分を含
んでなる。１０．０重量部のカーボンブラック(RPrinte
x 25) 、１０．０重量部のクレゾール／キシレノール／
ホルムアルデヒド ノボラック（RAlnovol SPN 400、Ｐ
ＧＭＥＡ中４５．３％濃度）、２８．８重量部のＰＧＭ
Ｅ、および０．０１重量部のシリコーン油。
んでなる。１０．０重量部のカーボンブラック(RPrinte
x 25) 、１０．０重量部のクレゾール／キシレノール／
ホルムアルデヒド ノボラック（RAlnovol SPN 400、Ｐ
ＧＭＥＡ中４５．３％濃度）、２８．８重量部のＰＧＭ
Ｅ、および０．０１重量部のシリコーン油。
【００２４】この被覆溶液を、塩酸中で粗面化され、硫
酸中で陽極酸化され、ポリビニルホスホン酸で親水性付
与されたアルミニウムホイルに塗布した。１００℃で２
分間乾燥後、層の厚さは２μｍであった。
酸中で陽極酸化され、ポリビニルホスホン酸で親水性付
与されたアルミニウムホイルに塗布した。１００℃で２
分間乾燥後、層の厚さは２μｍであった。
【００２５】次いで、２種類の方法で記録を行なった。 ａ）ＩＲレーザーダイオード片（放射最大８３０ｎｍ、
個々のダイオードの出力４０ｍＷ、書込速度１ｍ／ｓ、
ビーム幅１０μｍ）を備えた外側ドラム露光装置中で、
最終的にデジタルハーフトーンコピーを使用して記録材
料に記録を行なった。 ｂ）通常の真空フレーム中、ハーフトーンコピーの下
で、金属ハロゲン化物でドーピングされた水銀蒸気ラン
プから放射されるＵＶ放射線で、出力５ｋＷ（放射領域
３５０〜４５０ｎｍ）、線量７００ｍＪ／ｃｍ2で記録
材料に記録した。
個々のダイオードの出力４０ｍＷ、書込速度１ｍ／ｓ、
ビーム幅１０μｍ）を備えた外側ドラム露光装置中で、
最終的にデジタルハーフトーンコピーを使用して記録材
料に記録を行なった。 ｂ）通常の真空フレーム中、ハーフトーンコピーの下
で、金属ハロゲン化物でドーピングされた水銀蒸気ラン
プから放射されるＵＶ放射線で、出力５ｋＷ（放射領域
３５０〜４５０ｎｍ）、線量７００ｍＪ／ｃｍ2で記録
材料に記録した。
【００２６】現像は、両方の像様露光済記録材料に対し
て同じ方法で行なった。従来の処理装置を使用し、処理
速度０．４ｍ／分、温度２８℃で、Ｋ2ＳｉＯ3 （規定
度：水中０．８モル／ｌ）および０．２重量％のＯ，
Ｏ’−ビスカルボキシメチルポリエチレングリコール１
０００および０．４重量％のペラルゴン酸を含む水性ケ
イ酸カリウム現像剤を使用して行なった。両方の記録材
料で、６０線スクリーンの２〜９８％の解像が達成され
た。画像背景には、かぶりが無かった。この様にして製
造したオフセット印刷版を使用し、１００，０００部を
超える良好な印刷物が得ることができた。
て同じ方法で行なった。従来の処理装置を使用し、処理
速度０．４ｍ／分、温度２８℃で、Ｋ2ＳｉＯ3 （規定
度：水中０．８モル／ｌ）および０．２重量％のＯ，
Ｏ’−ビスカルボキシメチルポリエチレングリコール１
０００および０．４重量％のペラルゴン酸を含む水性ケ
イ酸カリウム現像剤を使用して行なった。両方の記録材
料で、６０線スクリーンの２〜９８％の解像が達成され
た。画像背景には、かぶりが無かった。この様にして製
造したオフセット印刷版を使用し、１００，０００部を
超える良好な印刷物が得ることができた。
【００２７】白昼光に対する感度を確認するために、記
録材料の試料を、熱的記録の前または後に、ただしいず
れの場合も現像の前に、（ＵＶを含む）白昼光に異なっ
た時間露出した。材料に作用したエネルギーは、光度計
（スペクトル感度３００〜４５０ｎｍ）を使用して測定
したが、約２mJ／平方メートル・分であった。材料は白
昼光中に１分間置いただけで、現像後にも、点範囲のか
なりの損失が観察され、白昼光の中に４分間置いた後で
は、材料には耐性がまったく無く、非露光部分において
も現像剤により攻撃された。
録材料の試料を、熱的記録の前または後に、ただしいず
れの場合も現像の前に、（ＵＶを含む）白昼光に異なっ
た時間露出した。材料に作用したエネルギーは、光度計
（スペクトル感度３００〜４５０ｎｍ）を使用して測定
したが、約２mJ／平方メートル・分であった。材料は白
昼光中に１分間置いただけで、現像後にも、点範囲のか
なりの損失が観察され、白昼光の中に４分間置いた後で
は、材料には耐性がまったく無く、非露光部分において
も現像剤により攻撃された。
【００２８】例２（比較例） 最上層を含まない、ＵＶ／ＶＩＳおよびＩＲ感応性記録
材料（酸形成剤および酸により開裂し得る基を有する重
合体の組合せによるＵＶ感応化）電気化学的に粗面化さ
れ、続いて陽極酸化されたアルミニウムのシートに、下
記成分の分散液をスピンコーティングした。６．７重量
部のポリ（４−ヒドロキシスチレン）（水酸基の３０％
をｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基に転化させ、
１５％を２，３−ジヒドロキシプロポキシ基に転化させ
てある）（先行技術ではないＤＥ−Ａ １９７２９０６
７．１明細書に記載）、０．５重量部の４−パラ−トル
エンメルカプト−２，５−ジエトキシベンゼンジアゾニ
ウムヘキサフルオロリン酸塩、０．０１重量部の、表面
改良剤としてのシリコーン油、１７．０重量部のカーボ
ンブラック分散液（例１と同じ）、４２．０重量部のプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルおよび３４．０
重量部のテトラヒドロフラン。
材料（酸形成剤および酸により開裂し得る基を有する重
合体の組合せによるＵＶ感応化）電気化学的に粗面化さ
れ、続いて陽極酸化されたアルミニウムのシートに、下
記成分の分散液をスピンコーティングした。６．７重量
部のポリ（４−ヒドロキシスチレン）（水酸基の３０％
をｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基に転化させ、
１５％を２，３−ジヒドロキシプロポキシ基に転化させ
てある）（先行技術ではないＤＥ−Ａ １９７２９０６
７．１明細書に記載）、０．５重量部の４−パラ−トル
エンメルカプト−２，５−ジエトキシベンゼンジアゾニ
ウムヘキサフルオロリン酸塩、０．０１重量部の、表面
改良剤としてのシリコーン油、１７．０重量部のカーボ
ンブラック分散液（例１と同じ）、４２．０重量部のプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルおよび３４．０
重量部のテトラヒドロフラン。
【００２９】１００℃で１分間乾燥後、層重量は１．８
〜２．２ｇ／ｍ2であった。この様にして製造した記録
材料を、Ｎｄ−ＹＡＧレーザー（波長１０６４ｎｍ、出
力１０ｍＷ）を使用して熱的に記録した。露光部分で、
層の一部がガスの発生のために剥離し、露光装置を汚染
した。
〜２．２ｇ／ｍ2であった。この様にして製造した記録
材料を、Ｎｄ−ＹＡＧレーザー（波長１０６４ｎｍ、出
力１０ｍＷ）を使用して熱的に記録した。露光部分で、
層の一部がガスの発生のために剥離し、露光装置を汚染
した。
【００３０】次いで材料を下記の成分を含んでなる現像
液中、２８℃で１分間現像した。５．５重量部のケイ酸
ナトリウム九水和物、３．４重量部のリン酸三ナトリウ
ム十二水和物、０．４重量部のリン酸一ナトリウム（無
水）および９０．７重量部の脱イオン水。
液中、２８℃で１分間現像した。５．５重量部のケイ酸
ナトリウム九水和物、３．４重量部のリン酸三ナトリウ
ム十二水和物、０．４重量部のリン酸一ナトリウム（無
水）および９０．７重量部の脱イオン水。
【００３１】例３ （例１と同様であるが、最上層を含む）ポリビニルアル
コール（平均重合度Ｐw約１０００）７重量部および脱
イオン水９３重量部からなる溶液１００ｇに、下記の染
料またはＵＶ吸収剤を下記の量で加える。 例番号 添加剤 Ｃ．Ｉ．番号 量［ｇ］ ３ａ Astrazon Yellow 3G ４８０８５ ２．５ ３ｂ Acid Orange GG １６２３０ ２．５ ３ｃ RVitasyn Tartrazin X90 １９１４０ ３．０ ３ｄ Fluorescent Yellow T Acid Yellow 245 ２．０ ３ｅ RBlankophor PSG Fluorescent Brightener 113 ０．４ ３ｆ)* （添加剤なし） − − )*＝比較実験
コール（平均重合度Ｐw約１０００）７重量部および脱
イオン水９３重量部からなる溶液１００ｇに、下記の染
料またはＵＶ吸収剤を下記の量で加える。 例番号 添加剤 Ｃ．Ｉ．番号 量［ｇ］ ３ａ Astrazon Yellow 3G ４８０８５ ２．５ ３ｂ Acid Orange GG １６２３０ ２．５ ３ｃ RVitasyn Tartrazin X90 １９１４０ ３．０ ３ｄ Fluorescent Yellow T Acid Yellow 245 ２．０ ３ｅ RBlankophor PSG Fluorescent Brightener 113 ０．４ ３ｆ)* （添加剤なし） − − )*＝比較実験
【００３２】こうして得た最上層を例１から得た記録材
料にそれぞれ塗布し、１００℃で２分間乾燥させた。乾
燥した最上層の重量は、約２〜３ｇ／ｍ2であった。得
られた材料を、例１ａ）に記載する様に、ＩＲ感応性層
放射線で記録し、続いて現像を例１に準じて行なった。
こうして得られた印刷版は、すべての重要な特性、特に
品質および安定性、において例１から得た版と同等であ
った。
料にそれぞれ塗布し、１００℃で２分間乾燥させた。乾
燥した最上層の重量は、約２〜３ｇ／ｍ2であった。得
られた材料を、例１ａ）に記載する様に、ＩＲ感応性層
放射線で記録し、続いて現像を例１に準じて行なった。
こうして得られた印刷版は、すべての重要な特性、特に
品質および安定性、において例１から得た版と同等であ
った。
【００３３】例１ｂ）に記載する様に通常の露光を行な
える様にするために、最上層を予め通常の水道水で洗い
流した。現像後に得られた印刷版は、例１ｂ）の版と事
実上差が無かった。
える様にするために、最上層を予め通常の水道水で洗い
流した。現像後に得られた印刷版は、例１ｂ）の版と事
実上差が無かった。
【００３４】白昼光に対する感度を確認するために、最
上層を有する記録材料を、ＵＶを含む白色光に異なった
時間露出した。例３ａ〜３ｅは、６分後でも耐性の損失
を示さなかった。試料３ａ〜３ｄの場合、現像後に白色
光に１２分間露出した後でも、点範囲に損失は見られな
かった。３ｆによる記録材料は、僅か２分後にかなりの
点損失を示した。
上層を有する記録材料を、ＵＶを含む白色光に異なった
時間露出した。例３ａ〜３ｅは、６分後でも耐性の損失
を示さなかった。試料３ａ〜３ｄの場合、現像後に白色
光に１２分間露出した後でも、点範囲に損失は見られな
かった。３ｆによる記録材料は、僅か２分後にかなりの
点損失を示した。
【００３５】例４ （例２と同様であるが、最上層を含む）例３ｃまたは３
ｆの被覆溶液を例２の記録材料に塗布し、乾燥させた。
１００℃で２分間乾燥させた後、最上層の重量はやはり
約２〜３ｇ／ｍ2であった。比較例２と対照的に、ＩＲ
露光中に成分はまったく除去されなかった。
ｆの被覆溶液を例２の記録材料に塗布し、乾燥させた。
１００℃で２分間乾燥させた後、最上層の重量はやはり
約２〜３ｇ／ｍ2であった。比較例２と対照的に、ＩＲ
露光中に成分はまったく除去されなかった。
【００３６】例５ ５．０重量部のポリビニルピロリドン（RLuviskol K3
0)、１０．０重量部の、ビニルピロリドン単位７０％お
よび酢酸ビニル単位３０％を含んでなる共重合体、水中
５０％濃度（RLuviskol VA73W)、５．０重量部のRDuasy
n Saeuregelb XX(Acid Yellow 23、Ｃ．Ｉ．１９１４
０）および ８０．０重量部の脱イオン水 の溶液を、例２の記録材料に塗布し、１００℃で２分間
乾燥させた。乾燥後、層重量は２．５ｇ／ｍ2であっ
た。この記録材料を例１ａに記載する様にして熱的に記
録した。例１に示す光条件下での白色光に対する安定性
は少なくとも１５分間であった。
0)、１０．０重量部の、ビニルピロリドン単位７０％お
よび酢酸ビニル単位３０％を含んでなる共重合体、水中
５０％濃度（RLuviskol VA73W)、５．０重量部のRDuasy
n Saeuregelb XX(Acid Yellow 23、Ｃ．Ｉ．１９１４
０）および ８０．０重量部の脱イオン水 の溶液を、例２の記録材料に塗布し、１００℃で２分間
乾燥させた。乾燥後、層重量は２．５ｇ／ｍ2であっ
た。この記録材料を例１ａに記載する様にして熱的に記
録した。例１に示す光条件下での白色光に対する安定性
は少なくとも１５分間であった。
【００３７】例６ （耐引っ掻き性の測定）例１の記録材料（最上層なし）
および例３ｃの記録材料（最上層あり）を、それらの耐
引っ掻き性に関して、Oesterle傷耐性試験機(Erichsen
傷耐性試験機モデル４３５）を使用して検査した。現像
後の画像層に目に見える傷を形成する、試験ディスクに
作用する力の強度をそれぞれの場合に測定した。
および例３ｃの記録材料（最上層あり）を、それらの耐
引っ掻き性に関して、Oesterle傷耐性試験機(Erichsen
傷耐性試験機モデル４３５）を使用して検査した。現像
後の画像層に目に見える傷を形成する、試験ディスクに
作用する力の強度をそれぞれの場合に測定した。
【００３８】例１の材料の場合、現像後の画像部分に目
に見える損傷を与えるのに１Ｎの力で十分であった。例
３ｃの材料の場合、２０Ｎの力をかけても、アルミニウ
ム基材の変形は起こったが、現像後の画像部分で層に対
する損傷は検出されなかった。
に見える損傷を与えるのに１Ｎの力で十分であった。例
３ｃの材料の場合、２０Ｎの力をかけても、アルミニウ
ム基材の変形は起こったが、現像後の画像部分で層に対
する損傷は検出されなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヘルムート、ハベルハウアー ドイツ連邦共和国タウヌスシュタイン、ル ートウィッヒ‐シャウス‐シュトラーセ、 １ (72)発明者 アンドレアス、エルゼサール ドイツ連邦共和国イドシュタイン、アドル フ‐コルピング‐ベーク、13 (72)発明者 ハンス‐ヨアヒム、シュロセール ドイツ連邦共和国ビースバーデン、アム、 ローゼンガーテン、２アー (72)発明者 フリッツ‐フェオ、グラブレイ ドイツ連邦共和国ケルクハイム、ヒューゲ ルシュトラーセ、46
Claims (16)
- 【請求項１】基材、およびＩＲ放射線を吸収する成分を
含有し、赤外放射線の作用により水性アルカリ現像剤に
対して可溶化するか、または少なくとも膨潤し得る様に
なる放射線感応性で水溶性の層を有する記録材料であっ
て、前記放射線感応性層の上に、白色光に対しては不透
明であるが、ＩＲ領域における放射線に対しては透明で
あり、水または水溶液で除去できる最上層が存在するこ
とを特徴とする記録材料。 - 【請求項２】放射線感応性層が、ＵＶ／ＶＩＳ領域にお
いても像様識別する様に十分に感応化されている、請求
項１に記載の記録材料。 - 【請求項３】ＩＲ放射線を吸収する成分がカーボンブラ
ック顔料である、請求項１に記載の記録材料。 - 【請求項４】カーボンブラック顔料がバインダーで分散
されている、請求項３に記載の記録材料。 - 【請求項５】ＩＲ吸収性成分の量が、それぞれの場合に
層の不揮発成分の総重量に対して０．５〜３０重量％で
ある、請求項１に記載の記録材料。 - 【請求項６】最上層が、少なくとも１種の水溶性有機重
合体状バインダーおよび少なくとも１種の、ＵＶ／ＶＩ
Ｓ領域における放射線を吸収する成分を含む、請求項１
に記載の記録材料。 - 【請求項７】ＵＶ／ＶＩＳ放射線を吸収する成分が３０
０〜５００ｎｍの領域に吸収極大を有する、請求項６に
記載の記録材料。 - 【請求項８】ＵＶ／ＶＩＳ放射線を吸収する成分が染料
または顔料である、請求項７に記載の記録材料。 - 【請求項９】ＵＶ／ＶＩＳ放射線を吸収する成分の量
が、それぞれの場合に最上層の不揮発成分の総重量に対
して５〜５０重量％である、請求項７に記載の記録材
料。 - 【請求項１０】最上層が、基準材料としての白紙に対し
て測定して、少なくとも２．０の光学密度を有する、請
求項１に記載の記録材料。 - 【請求項１１】最上層の厚さが５μｍまでである、請求
項１に記載の記録材料。 - 【請求項１２】基材が、アルミニウムホイルまたはシー
ト、またはアルミニウムホイルおよびポリエステルフィ
ルムを含んでなるラミネートである、請求項１に記載の
記録材料。 - 【請求項１３】アルミニウム表面が機械的および／また
は電気化学的に粗面化され、陽極酸化されている、請求
項１２に記載の記録材料。 - 【請求項１４】オフセット印刷用の印刷版の製造法であ
って、請求項１に記載の記録材料を赤外放射線で像様露
光し、次いで従来の水性アルカリ現像剤で温度２０〜４
０℃で現像することを特徴とする方法。 - 【請求項１５】記録に赤外レーザーが使用される、請求
項１４記載の方法。 - 【請求項１６】記録の後に、ただし現像の前に、最上層
が水で除去される、請求項１４記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19739299A DE19739299A1 (de) | 1997-09-08 | 1997-09-08 | Weißlicht-unempfindliches, thermisch bebilderbares Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck |
| DE19739299.7 | 1997-09-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11149162A true JPH11149162A (ja) | 1999-06-02 |
Family
ID=7841596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10254363A Withdrawn JPH11149162A (ja) | 1997-09-08 | 1998-09-08 | 白色光に非感応性の熱的に記録し得る材料、およびオフセット印刷用の印刷版の製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6165685A (ja) |
| EP (1) | EP0900652B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11149162A (ja) |
| DE (2) | DE19739299A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001181221A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-07-03 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 潜伏性酸供与体としてのヨードニウム塩 |
| US6558787B1 (en) | 1999-12-27 | 2003-05-06 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Relation to manufacture of masks and electronic parts |
| JP2005225107A (ja) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版およびそれを用いる平版印刷方法 |
| JP2007272138A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Nippon Zeon Co Ltd | レジストパターン形成方法及び感光性樹脂組成物 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6969635B2 (en) | 2000-12-07 | 2005-11-29 | Reflectivity, Inc. | Methods for depositing, releasing and packaging micro-electromechanical devices on wafer substrates |
| DE19729067A1 (de) * | 1997-07-08 | 1999-01-14 | Agfa Gevaert Ag | Infrarot-bebilderbares Aufzeichnungsmaterial und daraus hergestellte Offsetdruckplatte |
| JP3775634B2 (ja) * | 1999-02-22 | 2006-05-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
| DE10022786B4 (de) * | 1999-05-12 | 2008-04-10 | Kodak Graphic Communications Gmbh | Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte |
| JP3741353B2 (ja) * | 1999-12-22 | 2006-02-01 | 富士写真フイルム株式会社 | 感熱性平版印刷用原板 |
| JP2004252201A (ja) * | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| JP4048133B2 (ja) * | 2003-02-21 | 2008-02-13 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版 |
| JP2004252285A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版 |
| JP4299639B2 (ja) * | 2003-07-29 | 2009-07-22 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料 |
| JP2005099284A (ja) * | 2003-09-24 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物及び平版印刷版原版 |
| ATE397529T1 (de) * | 2004-03-26 | 2008-06-15 | Presstek Inc | Druckglieder mit löslichkeitsübergangsschichten und verwandte verfahren |
| CN102365584B (zh) | 2009-01-29 | 2014-07-30 | 迪吉福来克斯有限公司 | 用于在光聚合物表面上产生光掩模的工艺 |
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| JP3213311B2 (ja) * | 1989-03-30 | 2001-10-02 | ピージーアイ グラフィックス イメージング エルエルシー | 近赤外レーザー吸収コーティング並びにカラーイメージング及びプルーフィングにおけるその使用方法 |
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-
1997
- 1997-09-08 DE DE19739299A patent/DE19739299A1/de not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-09-02 DE DE59804861T patent/DE59804861D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-09-02 EP EP98116561A patent/EP0900652B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-09-08 US US09/149,044 patent/US6165685A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-09-08 JP JP10254363A patent/JPH11149162A/ja not_active Withdrawn
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|---|---|
| EP0900652A3 (de) | 1999-03-17 |
| US6165685A (en) | 2000-12-26 |
| EP0900652A2 (de) | 1999-03-10 |
| EP0900652B1 (de) | 2002-07-24 |
| DE19739299A1 (de) | 1999-03-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050830 |
|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A761 | Written withdrawal of application |
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