JPH10142780A - Ｉｒ放射線感光性画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版の製造方法 - Google Patents
Ｉｒ放射線感光性画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版の製造方法Info
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- JPH10142780A JPH10142780A JP9207156A JP20715697A JPH10142780A JP H10142780 A JPH10142780 A JP H10142780A JP 9207156 A JP9207156 A JP 9207156A JP 20715697 A JP20715697 A JP 20715697A JP H10142780 A JPH10142780 A JP H10142780A
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- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 赤外放射線又は熱印刷ヘッドに暴露すること
によりデイジタル画像形成を容易にするため、赤外光及
び熱に敏感な画像形成材料を提供する。 【解決手段】 平版ベースの親水性面上に、（１）フェ
ノール性ヒドロキシ基を有する水不溶性、アルカリ可溶
性又は膨潤性樹脂、（２）潜ブレンステッド酸、及び
（３）酸の影響下に水不溶性、アルカリ可溶性又は膨潤
性樹脂と反応することができる架橋剤を含む画像形成層
を含み、前記画像形成層が赤外吸収剤としてカーボンブ
ラックを含有するＩＲ放射線感光性画像形成材料であ
る。
によりデイジタル画像形成を容易にするため、赤外光及
び熱に敏感な画像形成材料を提供する。 【解決手段】 平版ベースの親水性面上に、（１）フェ
ノール性ヒドロキシ基を有する水不溶性、アルカリ可溶
性又は膨潤性樹脂、（２）潜ブレンステッド酸、及び
（３）酸の影響下に水不溶性、アルカリ可溶性又は膨潤
性樹脂と反応することができる架橋剤を含む画像形成層
を含み、前記画像形成層が赤外吸収剤としてカーボンブ
ラックを含有するＩＲ放射線感光性画像形成材料であ
る。
Description
【０００１】発明の分野 本発明は平版印刷版を製造するための放射線感光性材料
に関する。本発明は更に前記放射線感光性材料から印刷
版を製造する方法に関する。
に関する。本発明は更に前記放射線感光性材料から印刷
版を製造する方法に関する。
【０００２】発明の背景 平版印刷は、或る領域が平版インクを受容することがで
き、一方他の領域は、水で湿潤したときインクを受容し
ない特に作った面から印刷する方法である。インクを受
容する領域は、印刷画像領域を形成し、インクを撥じく
領域は背景領域を形成する。
き、一方他の領域は、水で湿潤したときインクを受容し
ない特に作った面から印刷する方法である。インクを受
容する領域は、印刷画像領域を形成し、インクを撥じく
領域は背景領域を形成する。
【０００３】写真平版の技術において、写真材料は、親
水性背景上の非露光領域で（ポジ作用）又は露光領域で
（ネガ作用）、油性又はグリース性インクに対して画像
に従って受容性にされる。
水性背景上の非露光領域で（ポジ作用）又は露光領域で
（ネガ作用）、油性又はグリース性インクに対して画像
に従って受容性にされる。
【０００４】普通の平版印刷版（サーフェースリソ版又
はプラノグラフィック印刷版とも称される）の製造にお
いて、水に対して親和性を有するか又は化学処理によっ
てかかる親和性を得る支持体は、感光性組成物の薄層で
被覆される。そのための被覆は、ジアゾ化合物、重クロ
ム酸塩増感親水性コロイド及び多くの種類の感光性重合
体を含有する感光性重合体層を含む。特にジアゾ増感シ
ステムが広く使用されている。
はプラノグラフィック印刷版とも称される）の製造にお
いて、水に対して親和性を有するか又は化学処理によっ
てかかる親和性を得る支持体は、感光性組成物の薄層で
被覆される。そのための被覆は、ジアゾ化合物、重クロ
ム酸塩増感親水性コロイド及び多くの種類の感光性重合
体を含有する感光性重合体層を含む。特にジアゾ増感シ
ステムが広く使用されている。
【０００５】かかる感光性層を画像に従って露光した
時、露光された画像領域は不溶性になり、非露光領域は
可溶性のまま残る。次いで版は、非露光領域でのジアゾ
ニウム塩又はジアゾ樹脂を除くため、非露光領域で現像
される。
時、露光された画像領域は不溶性になり、非露光領域は
可溶性のまま残る。次いで版は、非露光領域でのジアゾ
ニウム塩又はジアゾ樹脂を除くため、非露光領域で現像
される。
【０００６】他方で、感光性でなく感熱性である画像形
成材料の使用を含む印刷版を製造する方法が知られてい
る。印刷版を作るための前述した如き感光性画像形成材
料の特定の欠点は、それらを光から遮蔽しなければなら
ないことにある。更にそれらはコンピューター対版画像
形成への適性に劣ることにある。感熱性印刷版プリカー
サー（precursors）へ向う傾向が市場では明らかに見ら
れる。
成材料の使用を含む印刷版を製造する方法が知られてい
る。印刷版を作るための前述した如き感光性画像形成材
料の特定の欠点は、それらを光から遮蔽しなければなら
ないことにある。更にそれらはコンピューター対版画像
形成への適性に劣ることにある。感熱性印刷版プリカー
サー（precursors）へ向う傾向が市場では明らかに見ら
れる。
【０００７】例えば、ＥＰ−Ａ９５２０２２８７１．
０、ＥＰ−Ａ９５２０２２８７２．８、ＥＰ−Ａ９５２
０２２８７３．６及びＥＰ−Ａ９５２０２２８７４．４
には、（１）（ｉ）親水性結合剤中に分散した疎水性熱
可塑性重合体粒子を含む画像形成層を平版ベースの親水
性面上に、そして（ii）光を熱に変えることのできる化
合物（前記化合物は前記画像形成層中又はそれに隣接す
る層中に含まれる）を含む感熱性画像形成材料を光に対
して画像に従って露光し；（２）そしてかくして得られ
た画像に従って露光された材料を淡水で洗うことによっ
て現像する工程を含む平版印刷版を製造する方法が記載
されている。
０、ＥＰ−Ａ９５２０２２８７２．８、ＥＰ−Ａ９５２
０２２８７３．６及びＥＰ−Ａ９５２０２２８７４．４
には、（１）（ｉ）親水性結合剤中に分散した疎水性熱
可塑性重合体粒子を含む画像形成層を平版ベースの親水
性面上に、そして（ii）光を熱に変えることのできる化
合物（前記化合物は前記画像形成層中又はそれに隣接す
る層中に含まれる）を含む感熱性画像形成材料を光に対
して画像に従って露光し；（２）そしてかくして得られ
た画像に従って露光された材料を淡水で洗うことによっ
て現像する工程を含む平版印刷版を製造する方法が記載
されている。
【０００８】ＥＰ−Ａ６２５７２８には、ネガ作用と同
様にポジ作用であることができるＵＶ及びＩＲ感光性で
ある画像形成層を有する平版印刷版が記載されている。
前記画像形成層は、（１）レゾール樹脂、（２）ノボラ
ック樹脂、（３）潜ブレンステッド酸及び（４）ＩＲ吸
収剤を含有する。ＵＶ又はＩＲ（８３０ｎｍ）光で露光
し、続いて現像工程前にベーキング（１００℃で６０
秒）することによって、ネガ作用印刷版が得られる。ポ
ジ作用印刷版を得るための方法は記載されていない。
様にポジ作用であることができるＵＶ及びＩＲ感光性で
ある画像形成層を有する平版印刷版が記載されている。
前記画像形成層は、（１）レゾール樹脂、（２）ノボラ
ック樹脂、（３）潜ブレンステッド酸及び（４）ＩＲ吸
収剤を含有する。ＵＶ又はＩＲ（８３０ｎｍ）光で露光
し、続いて現像工程前にベーキング（１００℃で６０
秒）することによって、ネガ作用印刷版が得られる。ポ
ジ作用印刷版を得るための方法は記載されていない。
【０００９】ＵＳ−Ｐ４７０８９２５には、（１）アル
カリ可溶性ノボラック樹脂及びオニウム塩及び所望によ
りＩＲスペクトル増感染料を含む感光性組成物を含むポ
ジ作用印刷版が記載されている。ＵＶ、可視又はＩＲ光
で露光し、続いてアルカリ溶液での現像工程によって、
ポジ作用印刷版が得られる。前記版は室温取り扱いに対
して敏感である。
カリ可溶性ノボラック樹脂及びオニウム塩及び所望によ
りＩＲスペクトル増感染料を含む感光性組成物を含むポ
ジ作用印刷版が記載されている。ＵＶ、可視又はＩＲ光
で露光し、続いてアルカリ溶液での現像工程によって、
ポジ作用印刷版が得られる。前記版は室温取り扱いに対
して敏感である。
【００１０】発明の概要 本発明の目的は、赤外放射線又は熱印刷ヘッドに露出す
ることによってデイジタル画像形成を容易にするため赤
外光及び熱に敏感である画像形成材料を提供することに
ある。
ることによってデイジタル画像形成を容易にするため赤
外光及び熱に敏感である画像形成材料を提供することに
ある。
【００１１】本発明の別の目的は、室光取り扱いを容易
にするように可視放射線に対して非感光性である画像形
成材料を提供することにある。
にするように可視放射線に対して非感光性である画像形
成材料を提供することにある。
【００１２】本発明の別の目的は、前記画像形成材料を
用い高品質のポジ作用平版印刷版を好都合な方法で得る
ための方法を提供することにある。
用い高品質のポジ作用平版印刷版を好都合な方法で得る
ための方法を提供することにある。
【００１３】本発明の更に別の目的は、以下の説明から
明らかになるであろう。
明らかになるであろう。
【００１４】本発明によれば、（１）フェノール性ヒド
ロキシ基を有する水不溶性、アルカリ可溶性又は膨潤性
樹脂、（２）潜ブレンステッド酸、及び（３）酸の影響
下で、水不溶性、アルカリ可溶性又は膨潤性樹脂と反応
できる架橋剤を含む画像形成層を、平版ベースの親水性
面上に含むＩＲ放射線感光性画像形成材料であり、前記
画像形成層が、赤外吸収剤としてカーボンブラック顔料
を含有することを特徴とするＩＲ放射線感光性画像形成
材料を提供する。
ロキシ基を有する水不溶性、アルカリ可溶性又は膨潤性
樹脂、（２）潜ブレンステッド酸、及び（３）酸の影響
下で、水不溶性、アルカリ可溶性又は膨潤性樹脂と反応
できる架橋剤を含む画像形成層を、平版ベースの親水性
面上に含むＩＲ放射線感光性画像形成材料であり、前記
画像形成層が、赤外吸収剤としてカーボンブラック顔料
を含有することを特徴とするＩＲ放射線感光性画像形成
材料を提供する。
【００１５】本発明によれば、（ａ）前述した如き画像
形成材料をＩＲ光又は熱に対して画像に従って又は情報
に従って露出し、（ｂ）前記露出した画像形成材料を加
熱して、非露出領域において低下した溶解性を与え、
（ｃ）露出領域を除去し、これによって平版印刷版を形
成するため、前記露出し、加熱した画像形成材料を水性
アルカリ性現像溶液で現像する工程を含むポジ作用平版
印刷版を得る方法も提供する。
形成材料をＩＲ光又は熱に対して画像に従って又は情報
に従って露出し、（ｂ）前記露出した画像形成材料を加
熱して、非露出領域において低下した溶解性を与え、
（ｃ）露出領域を除去し、これによって平版印刷版を形
成するため、前記露出し、加熱した画像形成材料を水性
アルカリ性現像溶液で現像する工程を含むポジ作用平版
印刷版を得る方法も提供する。
【００１６】発明の詳述 ＵＶ及びＩＲ及び熱で記録することができ、高品質の平
版印刷版を作る画像形成材料は、前述した如き画像形成
材料を用いる本発明の方法により得ることができること
を見出した。
版印刷版を作る画像形成材料は、前述した如き画像形成
材料を用いる本発明の方法により得ることができること
を見出した。
【００１７】ポジ作用版としてそれを利用するために
は、活性放射線に対して画像に従って露光する工程、非
露光領域における低下した溶解性を与えるため版を加熱
する工程及び露光領域を除去するため水性アルカリ性処
理溶液と接触させる工程を必要とする。フェノール性ヒ
ドロキシ基を有する水不溶性、アルカリ可溶性または膨
潤性樹脂及び架橋剤の両者を使用することが必須要件で
ある。
は、活性放射線に対して画像に従って露光する工程、非
露光領域における低下した溶解性を与えるため版を加熱
する工程及び露光領域を除去するため水性アルカリ性処
理溶液と接触させる工程を必要とする。フェノール性ヒ
ドロキシ基を有する水不溶性、アルカリ可溶性または膨
潤性樹脂及び架橋剤の両者を使用することが必須要件で
ある。
【００１８】本発明者は、本発明が機能する方法につい
ての理論的説明によって拘束されるのを望まぬのである
が、版の非露光領域の加熱をしたとき生ずる酸触媒され
た化学的増幅機構に基づいていると信ぜられる。この機
構は樹脂の混合物を硬化することによって非露光領域の
溶解度を低下させる。
ての理論的説明によって拘束されるのを望まぬのである
が、版の非露光領域の加熱をしたとき生ずる酸触媒され
た化学的増幅機構に基づいていると信ぜられる。この機
構は樹脂の混合物を硬化することによって非露光領域の
溶解度を低下させる。
【００１９】露光領域における機構は完全には解らな
い。カーボンブラックと赤外光露光の結果として形成さ
れる酸の知られざる相互作用が暗示される。
い。カーボンブラックと赤外光露光の結果として形成さ
れる酸の知られざる相互作用が暗示される。
【００２０】ポジ作用版としての版の機能化は、フェノ
ール性ヒドロキシ基を有する水不溶性、アルカリ可溶性
又は膨潤性樹脂及び架橋剤の混合物に臨界的に依存して
いる、何故なら何れかの化合物単独の使用は有用な現像
された画像を提供しないからである。
ール性ヒドロキシ基を有する水不溶性、アルカリ可溶性
又は膨潤性樹脂及び架橋剤の混合物に臨界的に依存して
いる、何故なら何れかの化合物単独の使用は有用な現像
された画像を提供しないからである。
【００２１】カーボンブラック顔料は、組成物を赤外放
射線に感光性にし、赤外帯域で放出するレーザーに露出
することによって画像形成できる直接レーザーアドレス
可能版として有用な印刷版を作る。カーボンブラック顔
料として、赤外波長帯域で吸収する全ての普通の種類の
ものを使用できる。カーボン顔料は結晶質状態にあるも
ののみならずアモルファスでもあることができる。好ま
しくは、カーボンブラック顔料の数平均直径は、０．０
１〜１μｍの範囲であり、更に好ましくは０．１〜０．
５μｍの範囲である。市場で入手できるカーボンブラッ
ク顔料の例には、ＣＯＲＡＸ Ｌ６、ＦＡＲＢＲＵＳＳ
ＦＷ ２００、ＳＰＥＣＩＡＬＳＣＨＷＡＲＺ ４
Ａ、ＳＰＥＣＩＡＬＳＣＨＷＡＲＺ ２５０、及びＰＲ
ＩＮＴＥＸＵがある。
射線に感光性にし、赤外帯域で放出するレーザーに露出
することによって画像形成できる直接レーザーアドレス
可能版として有用な印刷版を作る。カーボンブラック顔
料として、赤外波長帯域で吸収する全ての普通の種類の
ものを使用できる。カーボン顔料は結晶質状態にあるも
ののみならずアモルファスでもあることができる。好ま
しくは、カーボンブラック顔料の数平均直径は、０．０
１〜１μｍの範囲であり、更に好ましくは０．１〜０．
５μｍの範囲である。市場で入手できるカーボンブラッ
ク顔料の例には、ＣＯＲＡＸ Ｌ６、ＦＡＲＢＲＵＳＳ
ＦＷ ２００、ＳＰＥＣＩＡＬＳＣＨＷＡＲＺ ４
Ａ、ＳＰＥＣＩＡＬＳＣＨＷＡＲＺ ２５０、及びＰＲ
ＩＮＴＥＸＵがある。
【００２２】本発明による好適な架橋剤には、メラミン
−フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−ホ
ルムアルデヒド樹脂及びレゾール樹脂がある。これらの
樹脂は、Occidental Chemical Corporation 及び Ash
land - Sud Chemie , Gmbhから市場で入手できる。
−フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−ホ
ルムアルデヒド樹脂及びレゾール樹脂がある。これらの
樹脂は、Occidental Chemical Corporation 及び Ash
land - Sud Chemie , Gmbhから市場で入手できる。
【００２３】更に好ましいのはアミノ架橋剤である。本
発明によるアミノ架橋剤には、アミノ基含有物質及びホ
ルムアルデヒドの縮合によって得られる化合物がある。
前記アミノ架橋剤はアミノ窒素に結合した対をなした官
能基を有する。３種の最も普通の対をなした基には次の
もの、−Ｎ（ＣＨ2 ＯＲ）2 、−Ｎ（ＣＨ2 ＯＨ）ＣＨ
2 ＯＲ、−Ｎ（Ｈ）ＣＨ2 ＯＲとして表わすことができ
る。式中Ｒは一般にメチル基、エチル基、ブチル基又は
イソブチル基の如き低分子量アルキル基である。
発明によるアミノ架橋剤には、アミノ基含有物質及びホ
ルムアルデヒドの縮合によって得られる化合物がある。
前記アミノ架橋剤はアミノ窒素に結合した対をなした官
能基を有する。３種の最も普通の対をなした基には次の
もの、−Ｎ（ＣＨ2 ＯＲ）2 、−Ｎ（ＣＨ2 ＯＨ）ＣＨ
2 ＯＲ、−Ｎ（Ｈ）ＣＨ2 ＯＲとして表わすことができ
る。式中Ｒは一般にメチル基、エチル基、ブチル基又は
イソブチル基の如き低分子量アルキル基である。
【００２４】最も好ましくは前記アミノ架橋剤には、メ
ラミン−ホルムアルデヒド樹脂、（チオ）尿素−ホルム
アルデヒド樹脂、グアナミン−ホルムアルデヒド樹脂、
ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂、及びグリコ
ールウリル−ホルムアルデヒド樹脂がある。前記化合物
の幾つかは、Dyno Cyanamidからの登録商標ＣＹＭＥＬ
又はＤＹＮＯＭＩＮ及び Sanwa Chemical Co. Ltd.か
らの登録商標ＮＩＫＡＬＡＣで市場で入手できる。
ラミン−ホルムアルデヒド樹脂、（チオ）尿素−ホルム
アルデヒド樹脂、グアナミン−ホルムアルデヒド樹脂、
ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂、及びグリコ
ールウリル−ホルムアルデヒド樹脂がある。前記化合物
の幾つかは、Dyno Cyanamidからの登録商標ＣＹＭＥＬ
又はＤＹＮＯＭＩＮ及び Sanwa Chemical Co. Ltd.か
らの登録商標ＮＩＫＡＬＡＣで市場で入手できる。
【００２５】本発明との関連において画像形成層で使用
するために好適なフェノール性ヒドロキシ基を有する樹
脂には、例えばＡＬＮＯＶＯＬ（Reichold Hoechst の
登録商標）、及びＤＵＲＥＺ（OxyChem の登録商標）の
如き合成ノボラック樹脂、ＭＡＲＵＫ ＬＹＮＣＵＲ
Ｍ（Dyno Cyanamidの登録商標）の如き合成ポリビニル
フェノール、及び例えばヒドロキシエチル（メタ）アク
リレートから出発して合成できるポリ（メタ）アクリレ
ートのフェノール性ヒドロキシ官能化誘導体がある。
するために好適なフェノール性ヒドロキシ基を有する樹
脂には、例えばＡＬＮＯＶＯＬ（Reichold Hoechst の
登録商標）、及びＤＵＲＥＺ（OxyChem の登録商標）の
如き合成ノボラック樹脂、ＭＡＲＵＫ ＬＹＮＣＵＲ
Ｍ（Dyno Cyanamidの登録商標）の如き合成ポリビニル
フェノール、及び例えばヒドロキシエチル（メタ）アク
リレートから出発して合成できるポリ（メタ）アクリレ
ートのフェノール性ヒドロキシ官能化誘導体がある。
【００２６】本発明の放射線感光性組成物の第四の必須
成分は、潜ブレンステッド酸である。“潜ブレンステッ
ド酸”なる語は、分解によってブレンステッド酸を形成
するプリカーサーを称する。ブレンステッド酸は、架橋
剤及びフェノール性ヒドロキシ基を有する樹脂の間のマ
トリックス形成反応を触媒とすると信ぜられる。この目
的のために好適であるブレンステッド酸の代表例には、
スルホン酸例えばトリフルオロメタンスルホン酸及びヘ
キサフルオロリン酸がある。
成分は、潜ブレンステッド酸である。“潜ブレンステッ
ド酸”なる語は、分解によってブレンステッド酸を形成
するプリカーサーを称する。ブレンステッド酸は、架橋
剤及びフェノール性ヒドロキシ基を有する樹脂の間のマ
トリックス形成反応を触媒とすると信ぜられる。この目
的のために好適であるブレンステッド酸の代表例には、
スルホン酸例えばトリフルオロメタンスルホン酸及びヘ
キサフルオロリン酸がある。
【００２７】イオン潜ブレンステッド酸が本発明におい
て使用するのに好適である。これらの例にはオニウム
塩、特にヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、
セレノニウム、ジアゾニウム及びアルソニウム塩を含
む。
て使用するのに好適である。これらの例にはオニウム
塩、特にヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、
セレノニウム、ジアゾニウム及びアルソニウム塩を含
む。
【００２８】有用なイオン潜ブレンステッド酸には、式 Ｘ+ Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ4 Ｗ- によって表わされるものを含む。
【００２９】Ｘが沃素であるとき、その時にはＲ3 及び
Ｒ4 は孤立電子対であり、Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ独立
にアリール基又は置換アリール基である。ＸがＳ又はＳ
ｅであるとき、その時にはＲ4 は孤立電子対であり、Ｒ
1 ，Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立にアリール基、置換ア
リール基、脂肪族基又は置換脂肪族基であることができ
る。ＸがＰ又はＡｓであるとき、そのときにはＲ1 ，Ｒ
2 ，Ｒ3 及びＲ4 はそれぞれ独立にアリール基、置換ア
リール基、脂肪族基又は置換脂肪族基であることができ
る。ＷはＢＦ4 ，ＣＦ3 ＳＯ3 ，ＳｂＦ6 ，ＣＣｌ3 Ｃ
Ｏ2 ，ＣｌＯ4，ＡｓＦ6 ，ＰＦ6 ，又はｐＨが３未満
である任意の相当する酸であることができる。
Ｒ4 は孤立電子対であり、Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ独立
にアリール基又は置換アリール基である。ＸがＳ又はＳ
ｅであるとき、その時にはＲ4 は孤立電子対であり、Ｒ
1 ，Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立にアリール基、置換ア
リール基、脂肪族基又は置換脂肪族基であることができ
る。ＸがＰ又はＡｓであるとき、そのときにはＲ1 ，Ｒ
2 ，Ｒ3 及びＲ4 はそれぞれ独立にアリール基、置換ア
リール基、脂肪族基又は置換脂肪族基であることができ
る。ＷはＢＦ4 ，ＣＦ3 ＳＯ3 ，ＳｂＦ6 ，ＣＣｌ3 Ｃ
Ｏ2 ，ＣｌＯ4，ＡｓＦ6 ，ＰＦ6 ，又はｐＨが３未満
である任意の相当する酸であることができる。
【００３０】ＵＳ−Ｐ４７０８９２５に記載されたオキ
ウム塩の何れもが、本発明における潜ブレンステッド酸
として利用できる。これらには、ヨードニウム、スルホ
ニウム、ホスホニウム、ブロモニウム、クロロニウム、
オキシスルホオキソニウム、オキシスルホニウム、スル
ホオキソニウム、セレノニウム、テルロニウム、及びア
ルソニウム塩を含む。
ウム塩の何れもが、本発明における潜ブレンステッド酸
として利用できる。これらには、ヨードニウム、スルホ
ニウム、ホスホニウム、ブロモニウム、クロロニウム、
オキシスルホオキソニウム、オキシスルホニウム、スル
ホオキソニウム、セレノニウム、テルロニウム、及びア
ルソニウム塩を含む。
【００３１】潜ブレンステッド酸としてジアゾニウム塩
の使用が、本発明において特に好ましい。
の使用が、本発明において特に好ましい。
【００３２】特に有用なオニウム塩の特別の例には：ジ
フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ト
リフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、フェニルメチル−ｏ−ジアノベンジルスルホニウム
トリフルオロメタンスルホネート、及び２−メトキシ−
４−アミノフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフ
ェートを含む。
フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ト
リフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、フェニルメチル−ｏ−ジアノベンジルスルホニウム
トリフルオロメタンスルホネート、及び２−メトキシ−
４−アミノフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフ
ェートを含む。
【００３３】非イオン潜ブレンステッド酸も本発明にお
いて使用するのに好適である。これらの例には、式 ＲＣＨ2 Ｘ，ＲＣＨＸ2 ，ＲＣＸ3 ，Ｒ（ＣＨ2 Ｘ）2
及びＲ（ＣＨ2 Ｘ）3 （式中ＸはＣｌ，Ｂｒ，Ｆ又はＣＦ3 ＳＯ3 であり、Ｒ
は芳香族基又は脂肪族基である）の化合物を含む。
いて使用するのに好適である。これらの例には、式 ＲＣＨ2 Ｘ，ＲＣＨＸ2 ，ＲＣＸ3 ，Ｒ（ＣＨ2 Ｘ）2
及びＲ（ＣＨ2 Ｘ）3 （式中ＸはＣｌ，Ｂｒ，Ｆ又はＣＦ3 ＳＯ3 であり、Ｒ
は芳香族基又は脂肪族基である）の化合物を含む。
【００３４】更に別の好適な非イオン潜ブレンステッド
酸には、ＥＰ−Ａ６７２９５４に記載された如きハロア
ルキル置換ｓ−トリアジン、Polymer Sci. ２５巻、５
７３頁（１９８７年）に S. Hayase 等によって発表さ
れた如きｏ−ニトロベンジル系保護基を有するフォト酸
発生剤、ｏ−キノンジアジド； Polmer Preprints（日
本）、３５巻、８号に M. Tunooka 等によって発表され
た如きイミノスルホネートによって、ＪＰ−Ｐｉ ６１
−１６６５４４に記載されたジスルホン化合物によっ
て、α−スルホニルオキシケトン、α−ヒドロキシメチ
ルベンゾインスルホネート、ニトロベンジルスルホメー
ト、α−スルホニルアセトフェノン及びスルホニルイミ
ドによって代表される光分解を受けてスルホン酸を発生
する化合物（これらの潜化合物の製造は文献で良く知ら
れている）；Tetrahedron Letters１７巻、１４４５頁
（１９７５年）に M. Rubinstein 等によって発表され
た如き、ニトロベンジルホスフェート又はホスホネー
ト、J. Org. Chem. ５９巻、３８９０頁（１９９４年）
に M. Pirrung 及び S. Shuey によって発表された如き
ベンゾインホスフェート及びホスホネート、ピレンメチ
ルホスフェートもしくはホスホネート、イミノホスフェ
ートもしくはホスホネート、及びイミドホスフェートも
しくはホスホネート（これら最後の化合物の製造は文献
で良く知られている）によって代表される光分解を受け
たときホスホン酸、部分エステル化リン酸もしくはリン
酸を発生する化合物がある。
酸には、ＥＰ−Ａ６７２９５４に記載された如きハロア
ルキル置換ｓ−トリアジン、Polymer Sci. ２５巻、５
７３頁（１９８７年）に S. Hayase 等によって発表さ
れた如きｏ−ニトロベンジル系保護基を有するフォト酸
発生剤、ｏ−キノンジアジド； Polmer Preprints（日
本）、３５巻、８号に M. Tunooka 等によって発表され
た如きイミノスルホネートによって、ＪＰ−Ｐｉ ６１
−１６６５４４に記載されたジスルホン化合物によっ
て、α−スルホニルオキシケトン、α−ヒドロキシメチ
ルベンゾインスルホネート、ニトロベンジルスルホメー
ト、α−スルホニルアセトフェノン及びスルホニルイミ
ドによって代表される光分解を受けてスルホン酸を発生
する化合物（これらの潜化合物の製造は文献で良く知ら
れている）；Tetrahedron Letters１７巻、１４４５頁
（１９７５年）に M. Rubinstein 等によって発表され
た如き、ニトロベンジルホスフェート又はホスホネー
ト、J. Org. Chem. ５９巻、３８９０頁（１９９４年）
に M. Pirrung 及び S. Shuey によって発表された如き
ベンゾインホスフェート及びホスホネート、ピレンメチ
ルホスフェートもしくはホスホネート、イミノホスフェ
ートもしくはホスホネート、及びイミドホスフェートも
しくはホスホネート（これら最後の化合物の製造は文献
で良く知られている）によって代表される光分解を受け
たときホスホン酸、部分エステル化リン酸もしくはリン
酸を発生する化合物がある。
【００３５】更に前記感光性酸プリカーサーが、重合体
の主鎖又は側鎖中に導入された化合物も使用できる。そ
れらの例には、例えば J. Am. Chem. Soc. １０４巻、
５５８６頁（１９８２年）に M. E. Woodhouse 等によ
って発表された化合物； J.Imaging Sci. ３０巻（５
号）、２１８頁（１９８６年）に S. P. Pappas 等によ
って発表された化合物を含む。
の主鎖又は側鎖中に導入された化合物も使用できる。そ
れらの例には、例えば J. Am. Chem. Soc. １０４巻、
５５８６頁（１９８２年）に M. E. Woodhouse 等によ
って発表された化合物； J.Imaging Sci. ３０巻（５
号）、２１８頁（１９８６年）に S. P. Pappas 等によ
って発表された化合物を含む。
【００３６】前述した如く、本発明の放射線感光性組成
物の４種の必須成分は、架橋剤、フェノール性ヒドロキ
シ基を有する樹脂、潜ブレンステッド酸及びカーボンブ
ラック顔料である。所望によって組成物中に混入できる
他の成分には、着色剤、安定剤、追加増感剤、露出指示
薬及び界面活性剤を含む。
物の４種の必須成分は、架橋剤、フェノール性ヒドロキ
シ基を有する樹脂、潜ブレンステッド酸及びカーボンブ
ラック顔料である。所望によって組成物中に混入できる
他の成分には、着色剤、安定剤、追加増感剤、露出指示
薬及び界面活性剤を含む。
【００３７】本発明の印刷版における画像形成層の厚さ
は広く変えることができる。代表的には、０．２５〜１
０μｍ、更に好ましくは０．７５〜５μｍの範囲での乾
燥厚さが好適である。
は広く変えることができる。代表的には、０．２５〜１
０μｍ、更に好ましくは０．７５〜５μｍの範囲での乾
燥厚さが好適である。
【００３８】放射線感光性画像形成材料を形成するた
め、架橋剤、フェノール性ヒドロキシ基を有する樹脂、
潜ブレンステッド酸及びカーボンブラック顔料は、適切
な割合で好適な溶媒中に溶解又は分散させ、スピンコー
ティング又はホッパーコーティングの如き良く知られた
被覆法を用いて支持体上に被覆する。好ましい溶媒に
は、アセトン、メチルエチルケトン及び１−メトキシ−
２−プロパノールを含む。
め、架橋剤、フェノール性ヒドロキシ基を有する樹脂、
潜ブレンステッド酸及びカーボンブラック顔料は、適切
な割合で好適な溶媒中に溶解又は分散させ、スピンコー
ティング又はホッパーコーティングの如き良く知られた
被覆法を用いて支持体上に被覆する。好ましい溶媒に
は、アセトン、メチルエチルケトン及び１−メトキシ−
２−プロパノールを含む。
【００３９】架橋剤は、被覆組成物中に、好ましくは
０．５〜１０重量％、更に好ましくは１〜６重量％、最
も好ましくは１．５〜４．０重量％の量で混入する。
０．５〜１０重量％、更に好ましくは１〜６重量％、最
も好ましくは１．５〜４．０重量％の量で混入する。
【００４０】フェノール性ヒドロキシ基を有する樹脂
は、被覆組成物中に、好ましくは１．０〜２０重量％、
更に好ましくは３．５〜９重量％、最も好ましくは５．
０〜７．５重量％の量で混入する。
は、被覆組成物中に、好ましくは１．０〜２０重量％、
更に好ましくは３．５〜９重量％、最も好ましくは５．
０〜７．５重量％の量で混入する。
【００４１】潜ブレンステッド酸は、被覆組成物中に、
好ましくは０．１〜２重量％、更に好ましくは０．２５
〜０．９重量％、最も好ましくは０．３５〜０．７０重
量％の量で混入する。
好ましくは０．１〜２重量％、更に好ましくは０．２５
〜０．９重量％、最も好ましくは０．３５〜０．７０重
量％の量で混入する。
【００４２】カーボンブラック顔料は、被覆組成物中
に、好ましくは０．１〜５．０重量％、更に好ましくは
０．５〜３．５重量％、最も好ましくは１．０〜２．５
重量％の量で混入する。
に、好ましくは０．１〜５．０重量％、更に好ましくは
０．５〜３．５重量％、最も好ましくは１．０〜２．５
重量％の量で混入する。
【００４３】層を乾燥するのに好適な条件には、２０℃
〜１５０℃の範囲での温度で、０．５〜１０分間加熱す
ることを含む。
〜１５０℃の範囲での温度で、０．５〜１０分間加熱す
ることを含む。
【００４４】本発明の一実施態様によれば、平版ベース
は陽極酸化したアルミニウム支持体であることができ
る。特に好ましい平版ベースは電気化学的に粒子化し、
陽極酸化したアルミニウム支持体である。本発明によれ
ば、陽極酸化アルミニウム支持体は、その表面の親水性
を改良するため処理するとよい。例えばアルミニウム支
持体は、例えば９５℃の高温でケイ酸ナトリウム溶液で
その面を処理することによってシリケート化するとよ
い。或いは酸化アルミニウム面を、更に無機弗化物を含
有していてもよいホスフェート溶液で処理することを含
むホスフェート処理を適用できる。更に酸化アルミニウ
ム面は、くえん酸又はくえん酸塩溶液で洗うことができ
る。この処理は、室温で行ってもよい、或いは約３０〜
５０℃の僅かに高温で行うこともできる。興味ある処理
は、ＤＥ−ＯＳ２６０７２０７に記載された如く、ポリ
ビニルホスホン酸で酸化アルミニウム面を処理すること
を含む。別の興味ある処理は、重炭酸塩溶液で酸化アル
ミニウム面を洗うことを含む。これらの後処理の一つ以
上は、単独で又は組合せて行うことができることは更に
明らかである。
は陽極酸化したアルミニウム支持体であることができ
る。特に好ましい平版ベースは電気化学的に粒子化し、
陽極酸化したアルミニウム支持体である。本発明によれ
ば、陽極酸化アルミニウム支持体は、その表面の親水性
を改良するため処理するとよい。例えばアルミニウム支
持体は、例えば９５℃の高温でケイ酸ナトリウム溶液で
その面を処理することによってシリケート化するとよ
い。或いは酸化アルミニウム面を、更に無機弗化物を含
有していてもよいホスフェート溶液で処理することを含
むホスフェート処理を適用できる。更に酸化アルミニウ
ム面は、くえん酸又はくえん酸塩溶液で洗うことができ
る。この処理は、室温で行ってもよい、或いは約３０〜
５０℃の僅かに高温で行うこともできる。興味ある処理
は、ＤＥ−ＯＳ２６０７２０７に記載された如く、ポリ
ビニルホスホン酸で酸化アルミニウム面を処理すること
を含む。別の興味ある処理は、重炭酸塩溶液で酸化アル
ミニウム面を洗うことを含む。これらの後処理の一つ以
上は、単独で又は組合せて行うことができることは更に
明らかである。
【００４５】本発明との関連における別の実施態様によ
れば、平版ベースは架橋した親水性層を設けた、例えば
紙又はプラスチックフィルムの如き可撓性支持体を含
む。特に好適な架橋した親水性層は、ホルムアルデヒ
ド、グリオキサール、ポリイソシアネート又は加水分解
したテトラ−アルキルオルソシリケートの如き架橋剤で
架橋した親水性結合剤から得ることができる。
れば、平版ベースは架橋した親水性層を設けた、例えば
紙又はプラスチックフィルムの如き可撓性支持体を含
む。特に好適な架橋した親水性層は、ホルムアルデヒ
ド、グリオキサール、ポリイソシアネート又は加水分解
したテトラ−アルキルオルソシリケートの如き架橋剤で
架橋した親水性結合剤から得ることができる。
【００４６】親水性結合剤として、例えばビニルアルコ
ール、アクリルアミド、メチロールアクリルアミド、メ
チロールメタクリルアミド、アクリル酸、メタクリル
酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチル
メタクリレート、のホモポリマー及びコポリマー又は無
水マレイン酸／ビニルメチルエーテル共重合体の如き親
水性（共）重合体を使用できる。使用する（共）重合体
又は（共）重合体混合物の親水性度は、少なくとも６０
重量％程度、好ましくは８０重量％に加水分解したポリ
ビニルアセテートの親水性度と同じか、それより大であ
るのが好ましい。
ール、アクリルアミド、メチロールアクリルアミド、メ
チロールメタクリルアミド、アクリル酸、メタクリル
酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチル
メタクリレート、のホモポリマー及びコポリマー又は無
水マレイン酸／ビニルメチルエーテル共重合体の如き親
水性（共）重合体を使用できる。使用する（共）重合体
又は（共）重合体混合物の親水性度は、少なくとも６０
重量％程度、好ましくは８０重量％に加水分解したポリ
ビニルアセテートの親水性度と同じか、それより大であ
るのが好ましい。
【００４７】架橋剤、特にテトラアルキルオルソシリケ
ートの量は、親水性結合剤１重量部について少なくとも
０．２重量部、好ましくは０．５〜５重量部、更に好ま
しくは１．０〜３重量部である。
ートの量は、親水性結合剤１重量部について少なくとも
０．２重量部、好ましくは０．５〜５重量部、更に好ま
しくは１．０〜３重量部である。
【００４８】本発明の実施態様に従って使用する平版ベ
ース中の架橋した親水性層は、層の機械的強度及び多孔
度を増大する物質も含有するのが好ましい。このために
はコロイドシリカを使用できる。使用するコロイドシリ
カは、例えば４０ｎｍ以下、例えば２０ｎｍの平均粒度
を有するコロイドシリカの市場で入手できる水分散液の
形であることができる。更にコロイドシリカより大なる
大きさの不活性粒子、、例えば J. Colloid and Inte
rface Sci. Vol.２６，（１９６８年）６２〜６９頁に
記載されている如き Stoeber により作られたシリカ、
又はアルミナ粒子、又は二酸化チタンもしくは他の重金
属酸化物の粒子である少なくとも１００ｎｍの平均直径
を有する粒子を加えることができる。これらの粒子を混
入することによって、架橋した親水性層の面は、顕微鏡
的な丘及び谷（これは背景領域での水のための貯蔵場所
として作用する）からなる均一な粗い組織が与えられ
る。
ース中の架橋した親水性層は、層の機械的強度及び多孔
度を増大する物質も含有するのが好ましい。このために
はコロイドシリカを使用できる。使用するコロイドシリ
カは、例えば４０ｎｍ以下、例えば２０ｎｍの平均粒度
を有するコロイドシリカの市場で入手できる水分散液の
形であることができる。更にコロイドシリカより大なる
大きさの不活性粒子、、例えば J. Colloid and Inte
rface Sci. Vol.２６，（１９６８年）６２〜６９頁に
記載されている如き Stoeber により作られたシリカ、
又はアルミナ粒子、又は二酸化チタンもしくは他の重金
属酸化物の粒子である少なくとも１００ｎｍの平均直径
を有する粒子を加えることができる。これらの粒子を混
入することによって、架橋した親水性層の面は、顕微鏡
的な丘及び谷（これは背景領域での水のための貯蔵場所
として作用する）からなる均一な粗い組織が与えられ
る。
【００４９】この実施態様による平版ベースにおける架
橋親水性層の厚さは、０．２〜２５μｍの範囲で変える
ことができ、１〜１０μｍであるのが好ましい。
橋親水性層の厚さは、０．２〜２５μｍの範囲で変える
ことができ、１〜１０μｍであるのが好ましい。
【００５０】本発明により使用するのに好適な架橋親水
性層の特定の例は、ＥＰ−Ａ６０１２４０、ＧＢ−Ｐ１
４１９５１２、ＦＲ−Ｐ２３００３５４、ＵＳ−Ｐ３９
７１６６０、ＵＳ−Ｐ４２８４７０５及びＥＰ−Ａ５１
４４９０に記載されている。
性層の特定の例は、ＥＰ−Ａ６０１２４０、ＧＢ−Ｐ１
４１９５１２、ＦＲ−Ｐ２３００３５４、ＵＳ−Ｐ３９
７１６６０、ＵＳ−Ｐ４２８４７０５及びＥＰ−Ａ５１
４４９０に記載されている。
【００５１】本発明の実施態様との関連において平版ベ
ースの可撓性支持体として、プラスチックフィルム、例
えば下塗したポリエチレンテレフタレートフィルム、セ
ルロースアセテートフィルム、ポリスチレンフィルム、
ポリカーボネートフィルム等を使用することが特に好ま
しい。プラスチックフィルム支持体は不透明又は透明で
あることができる。
ースの可撓性支持体として、プラスチックフィルム、例
えば下塗したポリエチレンテレフタレートフィルム、セ
ルロースアセテートフィルム、ポリスチレンフィルム、
ポリカーボネートフィルム等を使用することが特に好ま
しい。プラスチックフィルム支持体は不透明又は透明で
あることができる。
【００５２】接着改良層を設けたポリエステルフィルム
支持体を使用するのが特に好ましい。本発明により使用
するのに特に好適な接着改良層は、ＥＰ−Ａ６１９５２
４、ＥＰ−Ａ６２０５０２、及びＥＰ−Ａ６１９５２５
に記載された如き親水性結合剤及びコロイドシリカを含
む。好ましくは、接着改良層中のシリカの量は、２００
ｍｇ／ｍ2 〜７５０ｍｇ／ｍ2 である。更にシリカ対親
水性結合剤の比は１より大であるのが好ましく、コロイ
ドシリカの表面積は少なくとも３００ｍ2 ／ｇであるの
が好ましく、少なくとも５００ｍ2 ／ｇであるのが更に
好ましい。
支持体を使用するのが特に好ましい。本発明により使用
するのに特に好適な接着改良層は、ＥＰ−Ａ６１９５２
４、ＥＰ−Ａ６２０５０２、及びＥＰ−Ａ６１９５２５
に記載された如き親水性結合剤及びコロイドシリカを含
む。好ましくは、接着改良層中のシリカの量は、２００
ｍｇ／ｍ2 〜７５０ｍｇ／ｍ2 である。更にシリカ対親
水性結合剤の比は１より大であるのが好ましく、コロイ
ドシリカの表面積は少なくとも３００ｍ2 ／ｇであるの
が好ましく、少なくとも５００ｍ2 ／ｇであるのが更に
好ましい。
【００５３】本発明の平版印刷版は、スペクトルの近赤
外帯域で放射線を放出するレーザーダイオードで露光で
きる。かかるレーザーダイオードは、低原価及び低エネ
ルギー消費の両方の利点を提供する。
外帯域で放射線を放出するレーザーダイオードで露光で
きる。かかるレーザーダイオードは、低原価及び低エネ
ルギー消費の両方の利点を提供する。
【００５４】特に好適な露光装置は、７５０〜１５００
ｎｍで最高出力を有するレーザー又はレーザーダイオー
ドである。かかる装置は典型的には、露光領域で潜ブレ
ンステッド酸を分解でき、これによってそれを加熱によ
る架橋に対して無効にすることができる。加熱による潜
ブレンステッド酸の分解からの生成物は、主として強酸
であり、これは比露光領域で樹脂を架橋するのに有効
で、これによって水性アルカリ性現像溶液中での溶解度
を変える。
ｎｍで最高出力を有するレーザー又はレーザーダイオー
ドである。かかる装置は典型的には、露光領域で潜ブレ
ンステッド酸を分解でき、これによってそれを加熱によ
る架橋に対して無効にすることができる。加熱による潜
ブレンステッド酸の分解からの生成物は、主として強酸
であり、これは比露光領域で樹脂を架橋するのに有効
で、これによって水性アルカリ性現像溶液中での溶解度
を変える。
【００５５】前述した如く、画像に従って露光された版
は、後露光ベーク又はＰＥＢと称される工程で加熱す
る。加熱工程は、非露光領域で熱架橋を誘起するに充分
な高さである温度で行う。この温度は、潜ブレンステッ
ド酸の熱安定性、及びフェノール性ヒドロキシ基を有す
る水不溶性、アルカリ可溶性又は膨潤性樹脂の種類、及
び架橋剤の種類によって決まる。代表的なこの温度は、
１５〜３００秒の間で、７０℃〜２００℃の範囲であ
る。更に好ましくは加熱は、８０℃〜１５０℃の範囲の
温度で３０〜９０秒の間である。ＰＥＢが完了した後、
版は、露光領域が除去されるまで水性アルカリ性現像溶
液で手で処理するか又は機械処理する。これには代表的
には３０〜１２０秒を要する。好ましい水性アルカリ性
現像溶液は、メタケイ酸ナトリウムの６重量％水性溶液
の如きケイ酸塩溶液である。このために好適な市場で入
手しうるケイ酸塩溶液には、Eastman Kodak Company
によって市販されているＫＯＤＡＫ ＡＱＵＡ−ＩＭＡ
ＧＥ ＰＯＳＩＴＩＶＥ ＤＥＶＥＬＯＰＥＲ ＭＸ−
１４０６−１、又は Fuji Company によって市販され
ている Fuji PS −プレート現像液ＤＰ−５がある。水
性アルカリ性現像溶液と接触させた後、版は通常アラビ
ヤゴムの如き仕上剤で処理する。
は、後露光ベーク又はＰＥＢと称される工程で加熱す
る。加熱工程は、非露光領域で熱架橋を誘起するに充分
な高さである温度で行う。この温度は、潜ブレンステッ
ド酸の熱安定性、及びフェノール性ヒドロキシ基を有す
る水不溶性、アルカリ可溶性又は膨潤性樹脂の種類、及
び架橋剤の種類によって決まる。代表的なこの温度は、
１５〜３００秒の間で、７０℃〜２００℃の範囲であ
る。更に好ましくは加熱は、８０℃〜１５０℃の範囲の
温度で３０〜９０秒の間である。ＰＥＢが完了した後、
版は、露光領域が除去されるまで水性アルカリ性現像溶
液で手で処理するか又は機械処理する。これには代表的
には３０〜１２０秒を要する。好ましい水性アルカリ性
現像溶液は、メタケイ酸ナトリウムの６重量％水性溶液
の如きケイ酸塩溶液である。このために好適な市場で入
手しうるケイ酸塩溶液には、Eastman Kodak Company
によって市販されているＫＯＤＡＫ ＡＱＵＡ−ＩＭＡ
ＧＥ ＰＯＳＩＴＩＶＥ ＤＥＶＥＬＯＰＥＲ ＭＸ−
１４０６−１、又は Fuji Company によって市販され
ている Fuji PS −プレート現像液ＤＰ−５がある。水
性アルカリ性現像溶液と接触させた後、版は通常アラビ
ヤゴムの如き仕上剤で処理する。
【００５６】得られる印刷刷りの数は、原則的に後現像
ベーク工程の使用によって決まる。かかるベーク工程を
使用しないと、代表的に版は６００００〜７００００の
刷りを提供するが、２５０℃で５分間の後現像ベークを
すると、代表的には３０００００〜３５００００の刷り
を与える。摩耗が検出される前に達成できる刷りの数
は、被覆重量の増大によっても増大させることができ
る。
ベーク工程の使用によって決まる。かかるベーク工程を
使用しないと、代表的に版は６００００〜７００００の
刷りを提供するが、２５０℃で５分間の後現像ベークを
すると、代表的には３０００００〜３５００００の刷り
を与える。摩耗が検出される前に達成できる刷りの数
は、被覆重量の増大によっても増大させることができ
る。
【００５７】本発明の印刷版は、赤外感光性であるか
ら、赤外帯域で放出するレーザーダイオードの如き好適
な赤外放射線源を用いて連続又はハーフトーン画像を形
成するために好都合に利用できる。
ら、赤外帯域で放出するレーザーダイオードの如き好適
な赤外放射線源を用いて連続又はハーフトーン画像を形
成するために好都合に利用できる。
【００５８】下記実施例は本発明を示すが、本発明をこ
れらに限定するものではない。全て部、百分率及び比は
他に特記せぬ限り重量による。
れらに限定するものではない。全て部、百分率及び比は
他に特記せぬ限り重量による。
【００５９】実施例 １ 平版ベースの製造 厚さ０．２０ｍｍのアルミニウム箔を、５０℃で５ｇ／
ｌの水酸化ナトリウムを含有する水性溶液中に浸漬し、
脱イオン水中で洗って脱グリースした。次に箔を、３５
℃の温度で、４ｇ／ｌの塩酸、４ｇ／ｌのハイドロボリ
ックアシッド（hydroboric acid）及び５ｇ／ｌのアル
ミニウムイオンを含有する水性溶液中で交流を用いて、
１２００Ａ／ｍ2 の電流密度を用い電気化学的に粒子化
し、０．５μｍの平均中心線粗さＲａを有する表面分布
状態を形成した。
ｌの水酸化ナトリウムを含有する水性溶液中に浸漬し、
脱イオン水中で洗って脱グリースした。次に箔を、３５
℃の温度で、４ｇ／ｌの塩酸、４ｇ／ｌのハイドロボリ
ックアシッド（hydroboric acid）及び５ｇ／ｌのアル
ミニウムイオンを含有する水性溶液中で交流を用いて、
１２００Ａ／ｍ2 の電流密度を用い電気化学的に粒子化
し、０．５μｍの平均中心線粗さＲａを有する表面分布
状態を形成した。
【００６０】脱イオン水で洗った後、アルミニウム箔
を、１８０秒間６０℃で３００ｇ／ｌの硫酸を含有する
水性溶液で蝕刻し、３０秒間２５℃で脱イオン水で洗っ
た。
を、１８０秒間６０℃で３００ｇ／ｌの硫酸を含有する
水性溶液で蝕刻し、３０秒間２５℃で脱イオン水で洗っ
た。
【００６１】箔は続いて、２００ｇ／ｌの硫酸を含有す
る水性溶液中で、４５℃の温度で、約１０Ｖの電圧及び
１５０Ａ／ｍ2 の電流密度で約３００秒間陽極酸化を受
けさせ、Ａｌ2 Ｏ3 ３．００ｇ／ｍ2 の陽極酸化フィ
ルムを形成した、次いで脱イオン水で洗い、２０ｇ／ｌ
の重炭酸ナトリウムを含有する溶液で、４０℃で３０秒
間後処理し、続いて２０℃で１２０秒間脱イオン水で洗
い、乾燥した。
る水性溶液中で、４５℃の温度で、約１０Ｖの電圧及び
１５０Ａ／ｍ2 の電流密度で約３００秒間陽極酸化を受
けさせ、Ａｌ2 Ｏ3 ３．００ｇ／ｍ2 の陽極酸化フィ
ルムを形成した、次いで脱イオン水で洗い、２０ｇ／ｌ
の重炭酸ナトリウムを含有する溶液で、４０℃で３０秒
間後処理し、続いて２０℃で１２０秒間脱イオン水で洗
い、乾燥した。
【００６２】カーボンブラック分散液ＣＢＤ−１の製造 ボールミル中で８０ｇメチルエチルケトン中に２０ｇの
ＭＡＲＵＫＡ ＬＹＮＣＵＲ Ｍ Ｈ−２（Maruzen C
o.からのポリビニルフェノールのホモポリマー）を溶解
し、１３．３３ｇのＣＯＲＡＸ Ｌ６（Degussa のカー
ボンブラック顔料）及び０．５ｇのＳＯＬＳＰＥＲＳＥ
２４０００ ＧＲ（Zneca Resins からの分散助剤）
を加えて、カーボンブラック分散液を作った。７２時間
ミリングした後、分散液を使用に供した。
ＭＡＲＵＫＡ ＬＹＮＣＵＲ Ｍ Ｈ−２（Maruzen C
o.からのポリビニルフェノールのホモポリマー）を溶解
し、１３．３３ｇのＣＯＲＡＸ Ｌ６（Degussa のカー
ボンブラック顔料）及び０．５ｇのＳＯＬＳＰＥＲＳＥ
２４０００ ＧＲ（Zneca Resins からの分散助剤）
を加えて、カーボンブラック分散液を作った。７２時間
ミリングした後、分散液を使用に供した。
【００６３】画像形成材料の製造 １０重量％のメタノールと９０重量％のメチルエチルケ
トンの１０重量％溶液から、平版アルミニウムベース上
にＩＲ感光性層を、２０μｍの湿潤層厚さで被覆した。
形成された乾燥ＩＲ感光性層は次の組成を有していた：
６２重量％のＭＡＲＵＫＡ ＬＹＮＣＵＲ Ｍ Ｈ−２
（Maruzen Co.からのポリビニルフェノールのホモポリ
マー）、１９重量％のＣＹＭＥＬ３０３（DynoCyanamid
からのヘキサメトキシメチルメラミン）、５重量％の
ＴＲＩＡＺＩＮＥ Ｓ（P. C. A. S. からの２，４，６
−（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン）、及び１４
重量％のカーボンブラック顔料。
トンの１０重量％溶液から、平版アルミニウムベース上
にＩＲ感光性層を、２０μｍの湿潤層厚さで被覆した。
形成された乾燥ＩＲ感光性層は次の組成を有していた：
６２重量％のＭＡＲＵＫＡ ＬＹＮＣＵＲ Ｍ Ｈ−２
（Maruzen Co.からのポリビニルフェノールのホモポリ
マー）、１９重量％のＣＹＭＥＬ３０３（DynoCyanamid
からのヘキサメトキシメチルメラミン）、５重量％の
ＴＲＩＡＺＩＮＥ Ｓ（P. C. A. S. からの２，４，６
−（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン）、及び１４
重量％のカーボンブラック顔料。
【００６４】印刷版の製造 ＩＲ感光性画像形成材料に、１０５０ｎｍで放出する走
査ＮｄＹＩｆレーザー（走査速度１．１ｍ／秒、スポッ
トサイズ１５μｍ、及び版面での出力を７５ｍＷから４
２０ｍＷに変化させた）処理を受けさせた。画像形成
後、版を、オーヴン中で１５０秒間１２５℃で加熱し、
室温に冷却した。次いで画像形成材料を Fuji PS −版
現像液で処理して、露光領域を除去し、ポジ作用平版印
刷版を得た。平版ベース上に得られた画像は、普通に使
用されるインク及びファンテン液を用いる普通のオフセ
ット印刷機で印刷するのに使用できた。すぐれたコピー
が得られた。
査ＮｄＹＩｆレーザー（走査速度１．１ｍ／秒、スポッ
トサイズ１５μｍ、及び版面での出力を７５ｍＷから４
２０ｍＷに変化させた）処理を受けさせた。画像形成
後、版を、オーヴン中で１５０秒間１２５℃で加熱し、
室温に冷却した。次いで画像形成材料を Fuji PS −版
現像液で処理して、露光領域を除去し、ポジ作用平版印
刷版を得た。平版ベース上に得られた画像は、普通に使
用されるインク及びファンテン液を用いる普通のオフセ
ット印刷機で印刷するのに使用できた。すぐれたコピー
が得られた。
【００６５】実施例 ２ 実施例１の平版印刷版と同じ方法で平版印刷版を作っ
た、但し、画像形成材料に、１０６４ｎｍで放出する走
査ＮｄＹＡＧレーザー（走査速度１００ｍ／秒、スポッ
トサイズ１４μｍ、版面での出力は１ｍＷから４ｍＷへ
変化させた）処理を受けさせたことが異なる。実施例１
に記載した結果と同じ結果が達成された。
た、但し、画像形成材料に、１０６４ｎｍで放出する走
査ＮｄＹＡＧレーザー（走査速度１００ｍ／秒、スポッ
トサイズ１４μｍ、版面での出力は１ｍＷから４ｍＷへ
変化させた）処理を受けさせたことが異なる。実施例１
に記載した結果と同じ結果が達成された。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ 7/039 ６０１ 7/039 ６０１ (72)発明者 ジョアン・ヴェルメールシュ ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内 (72)発明者 ペテル・アンドリク ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内
Claims (10)
- 【請求項１】 （１）フェノール性ヒドロキシ基を有す
る水不溶性、アルカリ可溶性又は膨潤性樹脂、（２）潜
ブレンステッド酸、及び（３）酸の影響下に、水不溶
性、アルカリ可溶性又は膨潤性樹脂と反応し得る架橋剤
を含む画像形成層を、平版ベースの親水性面上に含むＩ
Ｒ放射線感光性画像形成材料において、前記画像形成層
が赤外吸収剤としてカーボンブラックを含有することを
特徴とするＩＲ放射線感光性画像形成材料。 - 【請求項２】 前記架橋剤がアミノ架橋剤であることを
特徴とする請求項１のＩＲ放射線感光性画像形成材料。 - 【請求項３】 前記アミノ架橋剤が、メラミン−ホルム
アルデヒド樹脂、（チオ）尿素−ホルムアルデヒド樹
脂、グアナミン−ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナ
ミン−ホルムアルデヒド樹脂及びグリコールウリル−ホ
ルムアデヒド樹脂からなる群から選択した化合物である
ことを特徴とする請求項２のＩＲ放射線感光性画像形成
材料。 - 【請求項４】 前記フェノール性ヒドロキシ基を有する
水不溶性、アルカリ可溶性又は膨潤性樹脂が、ノボラッ
ク樹脂、フェノール性ヒドロキシ官能化ポリ（メタ）ア
クリレート又はポリビニルフェノール樹脂であることを
特徴とする請求項１〜３の何れか１項のＩＲ放射線感光
性画像形成材料。 - 【請求項５】 前記潜ブレンステッド酸が、イオン潜ブ
レンステッド酸であることを特徴とする請求項１〜４の
何れか１項のＩＲ放射線感光性画像形成材料。 - 【請求項６】 前記イオン潜ブレンステッド酸が、ヨー
ドニウム、スルホニウム、セレノニウム、ジアゾニウム
又はアルソニウム塩であることを特徴とする請求項５の
ＩＲ放射線感光性画像形成材料。 - 【請求項７】 前記潜ブレンステッド酸が、非イオン潜
ブレンステッド酸であることを特徴とする請求項１〜４
の何れか１項のＩＲ放射線感光性画像形成材料。 - 【請求項８】 前記非イオン潜ブレンステッド酸がハロ
アルキル置換ｓ−トリアジンであることを特徴とする請
求項７のＩＲ放射線感光性画像形成材料。 - 【請求項９】 前記平版ベースが、陽極酸化アルミニウ
ムであるか又は上に架橋した親水性層を有する可撓性支
持体を含むことを特徴とする請求項１〜８の何れか１項
のＩＲ放射線感光性画像形成材料。 - 【請求項１０】 （ａ）請求項１〜９の何れか１項の画
像形成材料をＩＲ光又は熱に画像に従って又は情報に従
って露出し、 （ｂ）前記露出した画像形成材料を加熱して非露出領域
での低下した溶解性を与え、 （ｃ）露出された領域を除去し、これによって平版印刷
版を形成するため、前記露出されかつ加熱された画像形
成材料を現像する工程を特徴とするネガ作用平版印刷版
を製造する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP19960202052 EP0819980B1 (en) | 1996-07-19 | 1996-07-19 | An IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| DE96202052.5 | 1996-07-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10142780A true JPH10142780A (ja) | 1998-05-29 |
Family
ID=8224210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9207156A Pending JPH10142780A (ja) | 1996-07-19 | 1997-07-15 | Ｉｒ放射線感光性画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0819980B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10142780A (ja) |
| DE (1) | DE69608679D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11160860A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型画像形成材料 |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2153986C2 (ru) | 1996-04-23 | 2000-08-10 | Хорселл Грэфик Индастриз Лимитед | Термочувствительная композиция и способ ее применения для изготовления литографической печатной формы |
| US6117610A (en) | 1997-08-08 | 2000-09-12 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use |
| US5919601A (en) * | 1996-11-12 | 1999-07-06 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Radiation-sensitive compositions and printing plates |
| US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
| US6063544A (en) * | 1997-03-21 | 2000-05-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working printing plate and method of providing a positive image therefrom using laser imaging |
| WO1999001796A2 (en) | 1997-07-05 | 1999-01-14 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Pattern-forming methods |
| US6261740B1 (en) | 1997-09-02 | 2001-07-17 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Processless, laser imageable lithographic printing plate |
| US6060217A (en) * | 1997-09-02 | 2000-05-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal lithographic printing plates |
| DE19739302A1 (de) * | 1997-09-08 | 1999-03-11 | Agfa Gevaert Ag | Positiv arbeitendes IR-sensitives Gemisch, damit hergestelltes thermisch bebilderbares Aufzeichnungsmaterial sowie Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck |
| GB2335283B (en) | 1998-03-13 | 2002-05-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to pattern-forming methods |
| GB2335282B (en) * | 1998-03-13 | 2002-05-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to pattern-forming methods |
| JP3761359B2 (ja) * | 1999-07-08 | 2006-03-29 | 東京応化工業株式会社 | グラビア印刷版材の製造方法 |
| US6706466B1 (en) | 1999-08-03 | 2004-03-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
| US6251559B1 (en) | 1999-08-03 | 2001-06-26 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings |
| US6550989B1 (en) * | 1999-10-15 | 2003-04-22 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Apparatus and methods for development of resist patterns |
| US6458511B1 (en) | 2000-06-07 | 2002-10-01 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging |
| US6864040B2 (en) | 2001-04-11 | 2005-03-08 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal initiator system using leuco dyes and polyhalogene compounds |
| US6596460B2 (en) | 2000-12-29 | 2003-07-22 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Polyvinyl acetals having azido groups and use thereof in radiation-sensitive compositions |
| US6899994B2 (en) | 2001-04-04 | 2005-05-31 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments |
| US7592128B2 (en) | 2001-04-04 | 2009-09-22 | Eastman Kodak Company | On-press developable negative-working imageable elements |
| US7056639B2 (en) | 2001-08-21 | 2006-06-06 | Eastman Kodak Company | Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid |
| US6723489B2 (en) | 2002-01-30 | 2004-04-20 | Kodak Polychrome Graphics Llp | Printing form precursors |
| US6790590B2 (en) | 2003-01-27 | 2004-09-14 | Kodak Polychrome Graphics, Llp | Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0483693B1 (en) * | 1990-10-29 | 1998-12-30 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive colored resin composition, colored image formation method of color filter, and formation method of black matrix |
| GB2273366B (en) * | 1992-11-18 | 1996-03-27 | Du Pont | Forming images on radiation-sensitive plates |
| US5491046A (en) * | 1995-02-10 | 1996-02-13 | Eastman Kodak Company | Method of imaging a lithographic printing plate |
-
1996
- 1996-07-19 DE DE69608679T patent/DE69608679D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-07-19 EP EP19960202052 patent/EP0819980B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-07-15 JP JP9207156A patent/JPH10142780A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11160860A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型画像形成材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0819980B1 (en) | 2000-05-31 |
| EP0819980A1 (en) | 1998-01-21 |
| DE69608679D1 (de) | 2000-07-06 |
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